JP2008053248A - 有機半導体材料並びにそれを用いた有機半導体素子及び電界効果トランジスタ - Google Patents
有機半導体材料並びにそれを用いた有機半導体素子及び電界効果トランジスタ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008053248A JP2008053248A JP2006217278A JP2006217278A JP2008053248A JP 2008053248 A JP2008053248 A JP 2008053248A JP 2006217278 A JP2006217278 A JP 2006217278A JP 2006217278 A JP2006217278 A JP 2006217278A JP 2008053248 A JP2008053248 A JP 2008053248A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optionally substituted
- organic
- semiconductor material
- mentioned
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Abstract
Description
本発明は、有機半導体材料及びそれを用いた有機半導体素子に関するものである。
近年、有機半導体の研究とともに、従来よりSi材料が用いられているトランジスタなどの半導体素子に、有機半導体材料を用いる検討がなされている。有機半導体材料は、比較的低い温度での蒸着が可能であり、溶液化することにより、インクジェット方式などの印刷法によって半導体層を形成することができる。従って、Si材料を用いる場合に比べ、簡単なプロセスで半導体素子を作製することが可能である。
特許文献1においては、このような半導体材料として、ポリアリールアミンまたはチオフェン構造を含むポリマーが提案されている。
しかしながら、従来の有機半導体材料は、キャリア移動度が十分ではなく、従来より、より高いキャリア移動度を有する有機半導体材料が求められている。
特開2005−513788号公報
本発明の目的は、キャリア移動度が高い有機半導体材料及びそれを用いた有機半導体素子を提供することにある。
本発明の有機半導体材料は、2級または3級アミンの構造を有するアミン単位と、チオフェン環の構造を有するチオフェン単位からなることを特徴としている。
本発明によれば、キャリア移動度の高い半導体材料とすることができ、有機トランジスタ素子に用いた場合に、優れたトランジスタ特性を得ることができる。
本発明の有機半導体材料は、好ましくは、アミン単位が、以下の構造を有することを特徴としている。
(式中、R1、R2及びR3は、水素、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルコキシ基、置換されてもよいエーテル基、または置換されてもよいアリール基であり、互いに同一または異なっていてもよい。)
置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルコキシ基、及び置換されてもよいアリール基において、その置換基は、酸素、窒素、ケイ素、リン、硫黄等の元素を含む置換基であってもよい。また、アリール基としては、フェニル基、ナフチル基などが挙げられる。
置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルコキシ基、及び置換されてもよいアリール基において、その置換基は、酸素、窒素、ケイ素、リン、硫黄等の元素を含む置換基であってもよい。また、アリール基としては、フェニル基、ナフチル基などが挙げられる。
本発明の有機半導体材料は、好ましくは、以下の構造を有することを特徴としている。
(式中、R1、R2及びR3は、水素、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルコキシ基、置換されてもよいエーテル基、または置換されてもよいアリール基であり、互いに同一または異なっていてもよい。)
また、本発明の有機半導体材料は、アミン単位が、以下の構造を有していてもよい。
また、本発明の有機半導体材料は、アミン単位が、以下の構造を有していてもよい。
(式中、R1〜R6は、水素、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルコキシ基、置換されてもよいエーテル基、または置換されてもよいアリール基であり、互いに同一または異なっていてもよい。)
また、本発明の有機半導体材料は、好ましくは、チオフェン単位が、以下の構造を有していることを特徴としている。
また、本発明の有機半導体材料は、好ましくは、チオフェン単位が、以下の構造を有していることを特徴としている。
(式中、Rは、水素、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルコキシ基、置換されてもよいエーテル基、または置換されてもよいアリール基である。nは、1から20までの整数である。)
本発明の有機半導体材料は、その化学構造が、非対称であってもよいし、対称であってもよい。
本発明の有機半導体材料は、その化学構造が、非対称であってもよいし、対称であってもよい。
また、化学構造の末端にアルキル基、アルコキシ基、エーテル基等の炭化水素を主とする置換基が置換されていてもよい。化学構造の末端にチオフェン単位が存在する場合、チオフェン単位にアルキル基、アルコキシ基、エーテル基等が置換されていてもよい。アルキル基の炭素数は2以上であることが好ましい。アルキル基の炭素数を2以上とすることにより、有機溶剤に溶解し易い有機半導体材料とすることができる。
本発明に従う有機半導体材料としては、以下に示す構造を有するものが挙げられる。
(式中、R1〜R5は、水素、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルコキシ基、置換されてもよいエーテル基、または置換されてもよいアリール基であり、互いに同一または異なっていてもよい。m及びnは、1から20までの整数である。)
また、本発明に従う有機半導体材料としては、以下に示す構造を有するものが挙げられる。
また、本発明に従う有機半導体材料としては、以下に示す構造を有するものが挙げられる。
(式中、R1〜R9は、水素、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルコキシ基、置換されてもよいエーテル基、または置換されてもよいアリール基であり、互いに同一または異なっていてもよい。m及びnは、1から20までの整数である。)
また、本発明に従う有機半導体材料としては、以下に示す構造を有するものが挙げられる。
また、本発明に従う有機半導体材料としては、以下に示す構造を有するものが挙げられる。
(式中、R1〜R6は、水素、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルコキシ基、置換されてもよいエーテル基、または置換されてもよいアリール基であり、互いに同一または異なっていてもよい。m及びnは、1から20までの整数である。)
また、本発明に従う有機半導体材料としては、以下に示す構造を有するものが挙げられる。
また、本発明に従う有機半導体材料としては、以下に示す構造を有するものが挙げられる。
(式中、Arは、置換されてもよいアリール基を示し、R1〜R7は、水素、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルコキシ基、置換されてもよいエーテル基、または置換されてもよいアリール基を示し、互いに同一または異なっていてもよい。x、y、及びzは、各ユニットのモル分率を示す。)
Arで示すアリール基としては、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、テトラセン、ペンタセン、フルオレン、カルバゾール等の芳香族や縮合環化合物等が挙げられる。
Arで示すアリール基としては、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、テトラセン、ペンタセン、フルオレン、カルバゾール等の芳香族や縮合環化合物等が挙げられる。
本発明に従う有機半導体材料の具体例としては、以下のものが挙げられる。
本発明の有機半導体材料におけるアミン単位は、以下に示す構造を有するものであってもよい。
(式中、R1〜R4は、水素、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルコキシ基、または置換されてもよいアリール基であり、互いに同一または異なっていてもよい。)
(式中、R1〜R8は、水素、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルコキシ基、置換されてもよいエーテル基、または置換されてもよいアリール基であり、互いに同一または異なっていてもよい。)
また、本発明の有機半導体材料において、チオフェン単位は、以下に示す構造を有するものであってもよい。なお、以下に示す構造式において、R1〜R3は、水素、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルコキシ基、置換されてもよいエーテル基、または置換されてもよいアリール基であり、互いに同一または異なっていてもよい。また、nは1から20までの整数である。
また、本発明の有機半導体材料において、チオフェン単位は、以下に示す構造を有するものであってもよい。なお、以下に示す構造式において、R1〜R3は、水素、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルコキシ基、置換されてもよいエーテル基、または置換されてもよいアリール基であり、互いに同一または異なっていてもよい。また、nは1から20までの整数である。
本発明の有機半導体素子は、上記本発明の有機半導体材料を用いたことを特徴としている。
本発明の有機トランジスタは、上記本発明の有機半導体材料を用いたことを特徴としている。
本発明の電界効果トランジスタは、電荷輸送性材料層と、該電荷輸送性材料層に直接または間接に接するゲート電極とを備え、ゲート電極及び電荷輸送性材料層の間に電界を印加することにより、電荷輸送性材料層中の電流を制御する電界効果トランジスタであり、電荷輸送性材料層を上記本発明の有機半導体材料から形成したことを特徴としている。
本発明の有機半導体材料は、キャリア移動度が高く、有機半導体素子に用いた場合に、良好な半導体特性を得ることができる。
以下、本発明を具体的な実施例により説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
(合成実施例1)
4,4′−ジ(5′′′−n−ヘキシル−テトラチオフェン−2−イル)−N,N′−ビス〔4−(1,1−ジメチルエチル)フェニル〕−N,N′−ビス(1,4−フェニレンジイル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン(TPD−n−ヘキシル−T4)〔化合物1〕
4,4′−ジ(5′′′−n−ヘキシル−テトラチオフェン−2−イル)−N,N′−ビス〔4−(1,1−ジメチルエチル)フェニル〕−N,N′−ビス(1,4−フェニレンジイル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン(TPD−n−ヘキシル−T4)〔化合物1〕
機械式攪拌機を備え、窒素ライン及び真空ラインに接続可能な乾燥した気密性反応容器に、N,N′−ビス〔4−(1,1−ジメチルエチル)フェニル〕−N,N′−ビス(1,4−フェニレンジイル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン−4,4′−ビス(4,4,5,5,−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン(426mg、0.5mmol)、2,5′−ジブロモ−ビチオフェン(324mg、1mmol)、鈴木カップリング触媒、トルエン5ml、テトラエチルアンモニウムヒドロキサイド(20重量%)8mlを添加し反応させた。反応容器は減圧−窒素置換の操作を3回繰り返し、その後95℃に加熱した。反応は95℃で窒素雰囲気下約4時間行った。次に、5−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)5′−N−ヘキシル―2,2′−ビチオフェン(395mg、1.05mmol)を添加した後、95℃で窒素雰囲気下においてさらに5時間反応させた。
生成物を冷却した後、200mlのメタノール中に滴下して、生成物を沈殿させた。次に、メタノールで3回洗浄した。真空乾燥した後、生成物を10mlのクロロホルムに溶解させ、シリカゲルを充填したカラムクロマトグラフィで精製した。溶媒をロータリーエバポレーターで除去して適量まで濃縮した後、200mlのメタノールに滴下して生成物を沈殿させた。沈殿物をメタノールで3回洗浄し、真空乾燥した。最終生成物として黄色の粉末が得られた。収率は58%であった。
(合成実施例2)
4,4′−ジ(5′′′−n−ヘキシル−ビチオフェン−2−イル)−N,N′−ビス〔4−(1,1−ジメチルエチル)フェニル〕−N,N′−ビス(1,4−フェニレンジイル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン(TPD−n−ヘキシル−T2)〔化合物2〕
4,4′−ジ(5′′′−n−ヘキシル−ビチオフェン−2−イル)−N,N′−ビス〔4−(1,1−ジメチルエチル)フェニル〕−N,N′−ビス(1,4−フェニレンジイル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン(TPD−n−ヘキシル−T2)〔化合物2〕
機械式攪拌機を備え、窒素ライン及び真空ラインに接続可能な乾燥した気密性反応容器に、N,N′−ビス〔4−(1,1−ジメチルエチル)フェニル〕−N,N′−ビス(1,4−フェニレンジイル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン−4,4′−ビス(4,4,5,5,−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン(426mg、0.5mmol)、5−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)−5′−N−ヘキシル−2,2′−ビチオフェン(395mg、1.05mmol)、鈴木カップリング触媒、トルエン5ml、テトラエチルアンモニウムヒドロキサイド(20重量%)8mlを添加し反応させた。反応容器は減圧−窒素置換の操作を3回繰り返し、その後95℃に加熱した。反応は95℃で窒素雰囲気下約6時間行った。
生成物を冷却した後、200mlのメタノール中に滴下して、生成物を沈殿させた。次に、メタノールで3回洗浄した。真空乾燥した後、生成物を10mlのクロロホルムに溶解させ、シリカゲルを充填したカラムクロマトグラフィで精製した。溶媒をロータリーエバポレーターで除去して適量まで濃縮した後、200mlのメタノールに滴下して生成物を沈殿させた。沈殿物をメタノールで3回洗浄し、真空乾燥した。最終生成物として黄色の粉末が得られた。収率は58%であった。
(合成実施例3)
ジ(5′′′−n−ヘキシル−ビチオフェン−2−イル)−トリス〔N,N′−ビス〔4−(1,1−ジメチルエチル)フェニル〕−N,N′−ビス(1,4−フェニレンジイル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン〕(3TPD−4T2)−n−ヘキシル−T2)〔化合物3〕
ジ(5′′′−n−ヘキシル−ビチオフェン−2−イル)−トリス〔N,N′−ビス〔4−(1,1−ジメチルエチル)フェニル〕−N,N′−ビス(1,4−フェニレンジイル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン〕(3TPD−4T2)−n−ヘキシル−T2)〔化合物3〕
機械式攪拌機を備え、窒素ライン及び真空ラインに接続可能な乾燥した気密性反応容器に、N,N′−ビス〔4−(1,1−ジメチルエチル)フェニル〕−N,N′−ビス(1,4−フェニレンジイル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン−4,4′−ビス(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン(426mg、0.5mmol)、2,5′−ジブロモ−ビチオフェン(217mg、0.67mmol)、鈴木カップリング触媒、トルエン5ml、テトラエチルアンモニウムヒドロキサイド(20重量%)8mlを添加し反応させた。反応容器は減圧−窒素置換の操作を3回繰り返し、その後95℃に加熱した。反応は95℃で窒素雰囲気下約4時間行った。次に、5−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)−5′−N−ヘキシル−2,2′−ビチオフェン(135mg、0.357mmol)を添加した後、95℃で窒素雰囲気下においてさらに5時間反応させた。
生成物を冷却した後、200mlのメタノール中に滴下して、生成物を沈殿させた。次に、メタノールで3回洗浄した。真空乾燥した後、生成物を10mlのクロロホルムに溶解させ、シリカゲルを充填したカラムクロマトグラフィで精製した。溶媒をロータリーエバポレーターで除去して適量まで濃縮した後、200mlのメタノールに滴下して生成物を沈殿させた。沈殿物をメタノールで3回洗浄し、真空乾燥した。最終生成物として黄色の粉末が得られた。収率は75%であった。
(合成実施例4)
ポリ〔(9,9−ジオクチルフルオレン−2,7−ジイル)−コ−(ビチオフェン−2,5′−ジイル)−コ−N,N′ビス〔4−(1,1−ジメチルエチル)フェニル〕−N,N′−ビス(1,4−フェニレンジイル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン〕(PF8−T2(50%)−TPD(25%))〔化合物4〕
ポリ〔(9,9−ジオクチルフルオレン−2,7−ジイル)−コ−(ビチオフェン−2,5′−ジイル)−コ−N,N′ビス〔4−(1,1−ジメチルエチル)フェニル〕−N,N′−ビス(1,4−フェニレンジイル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン〕(PF8−T2(50%)−TPD(25%))〔化合物4〕
機械式攪拌機を備え、窒素ライン及び真空ラインに接続可能な乾燥した気密性反応容器に、N,N′−ビス〔4−(1,1−ジメチルエチル)フェニル〕−N,N′−ビス(1,4−フェニレンジイル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン−4,4′−ビス(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン(213mg、0.25mmol)、9.9−ジオクチルフルオレン−2,7−ビス(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン(160.5mg、0.25mmol)、2,5′−ジブロモ−ビチオフェン(157mg、0.5mmol)、鈴木カップリング触媒、トルエン5ml、テトラエチルアンモニウムヒドロキサイド(20重量%)8mlを添加し反応させた。反応容器は減圧−窒素置換の操作を3回繰り返し、その後95℃に加熱した。反応は95℃で窒素雰囲気下約3時間行った。次に、フェニルボロン酸61mgを加え、さらに2時間95℃で反応を続けた。その後、約0.12mlのブロモベンゼンを添加した後、95℃で窒素雰囲気下においてさらに2時間反応させた。
生成物を冷却した後、300mlのメタノール中に滴下して、生成物を沈殿させた。次に、メタノールで3回洗浄した。真空乾燥した後、生成物を10mlのトルエンに溶解させ、シリカゲルを充填したカラムクロマトグラフィで精製した。溶媒をロータリーエバポレーターで除去して適量まで濃縮した後、300mlのメタノールに滴下して生成物を沈殿させた。沈殿物をメタノールで3回洗浄し、真空乾燥した。最終生成物として褐色の粉末が得られた。収率は90%であった。得られたポリマーの数平均分子量(Mn)は1.2×104であり、重量平均分子量(Mw)は3.5×104であり、Mw/Mnは2.9であった。
(合成実施例5)
ポリ〔(2−デカノキシルベンゼン−1,4−ジイル)−コ−(ビチオフェン−2,5′−ジイル)−コ−N,N′−ビス〔4−(1,1−ジメチルエチル)フェニル〕−N,N′−ビス(1,4−フェニレンジイル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン)〕(DOP−T2(50%)−TPD(25%))〔化合物5〕
ポリ〔(2−デカノキシルベンゼン−1,4−ジイル)−コ−(ビチオフェン−2,5′−ジイル)−コ−N,N′−ビス〔4−(1,1−ジメチルエチル)フェニル〕−N,N′−ビス(1,4−フェニレンジイル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン)〕(DOP−T2(50%)−TPD(25%))〔化合物5〕
機械式攪拌機を備え、窒素ライン及び真空ラインに接続可能な乾燥した気密性反応容器に、N,N′−ビス〔4−(1,1−ジメチルエチル)フェニル〕−N,N′−ビス(1,4−フェニレンジイル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン−4,4′−ビス(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン(213mg、0.25mmol)、2−デカノキシルベンゼン−1,4−ビス(4,4,5,5,−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン(121.4mg、0.25mmol)、2,5′−ジブロモ−ジチオフェン(157mg、0.5mmol)、鈴木カップリング触媒、トルエン5ml、テトラエチルアンモニウムヒドロキサイド(20重量%)8mlを添加し反応させた。反応容器は減圧−窒素置換の操作を3回繰り返し、その後95℃に加熱した。反応は95℃で窒素雰囲気下約3時間行った。次に、フェニルボロン酸61mgを加え、さらに2時間95℃で反応を続けた。その後、約0.12mlのブロモベンゼンを添加した後、95℃で窒素雰囲気下においてさらに2時間反応させた。
生成物を冷却した後、300mlのメタノール中に滴下して、生成物を沈殿させた。次に、メタノールで3回洗浄した。真空乾燥した後、生成物を10mlのトルエンに溶解させ、シリカゲルを充填したカラムクロマトグラフィで精製した。溶媒をロータリーエバポレーターで除去して適量まで濃縮した後、300mlのメタノールに滴下して生成物を沈殿させた。沈殿物をメタノールで3回洗浄し、真空乾燥した。最終生成物として褐色の粉末が得られた。収率は75%であった。得られたポリマーの数平均分子量(Mn)は1.2×104であり、重量平均分子量(Mw)は2.8×104であり、Mw/Mnは2.3であった。
(合成実施例6)
ジ(5′′′−n−ヘキシル−ビチオフェン−2−イル)−トリス〔N,N′−ビス〔4−(1,1−ジメチルエチル)フェニル〕−N,N′−ビス(1,4−フェニレンジイル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン−アルト−(チオフェン−2,5−ジイル)〕(3TPD−4T)−n−ヘキシル−T2)〔化合物6〕
ジ(5′′′−n−ヘキシル−ビチオフェン−2−イル)−トリス〔N,N′−ビス〔4−(1,1−ジメチルエチル)フェニル〕−N,N′−ビス(1,4−フェニレンジイル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン−アルト−(チオフェン−2,5−ジイル)〕(3TPD−4T)−n−ヘキシル−T2)〔化合物6〕
機械式攪拌機を備え、窒素ライン及び真空ラインに接続可能な乾燥した気密性反応容器に、N,N′−ビス〔4−(1,1−ジメチルエチル)フェニル〕−N,N′−ビス(1,4−フェニレンジイル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン−4,4′−ビス(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン(426mg、0.5mmol)、2,5−ジヨードチオフェン(225mg、0.67mmol)、鈴木カップリング触媒、トルエン5ml、テトラエチルアンモニウムヒドロキサイド(20重量%)8mlを添加し反応させた。反応容器は減圧−窒素置換の操作を3回繰り返し、その後95℃に加熱した。反応は95℃で窒素雰囲気下約4時間行った。次に、5−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)−5′−N−ヘキシル−2,2′−ビチオフェン(135mg、0.357mmol)を添加した後、95℃で窒素雰囲気下においてさらに5時間反応させた。
生成物を冷却した後、200mlのメタノール中に滴下して、生成物を沈殿させた。次に、メタノールで3回洗浄した。真空乾燥した後、生成物を10mlのクロロホルムに溶解させ、シリカゲルを充填したカラムクロマトグラフィで精製した。溶媒をロータリーエバポレーターで除去して適量まで濃縮した後、200mlのメタノールに滴下して生成物を沈殿させた。沈殿物をメタノールで3回洗浄し、真空乾燥した。最終生成物として黄色の粉末が得られた。収率は85%であった。
(合成実施例7)
ジ(ビチオフェン−2−イル)−トリス〔N,N′−ビス〔4−(1,1−ジメチルエチル)フェニル〕−N,N′−ビス(1,4−フェニレンジイル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン−アルト−(チオフェン−2,5−ジイル)〕(3TPD−4T)−T2)〔化合物7〕
ジ(ビチオフェン−2−イル)−トリス〔N,N′−ビス〔4−(1,1−ジメチルエチル)フェニル〕−N,N′−ビス(1,4−フェニレンジイル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン−アルト−(チオフェン−2,5−ジイル)〕(3TPD−4T)−T2)〔化合物7〕
機械式攪拌機を備え、窒素ライン及び真空ラインに接続可能な乾燥した気密性反応容器に、N,N′−ビス〔4−(1,1−ジメチルエチル)フェニル〕−N,N′−ビス(1,4−フェニレンジイル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン−4,4′−ビス(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン(426mg、0.5mmol)、2,5−ジヨードチオフェン(225mg、0.67mmol)、鈴木カップリング触媒、トルエン5ml、テトラエチルアンモニウムヒドロキサイド(20重量%)8mlを添加し反応させた。反応容器は減圧−窒素置換の操作を3回繰り返し、その後95℃に加熱した。反応は95℃で窒素雰囲気下約4時間行った。次に、5−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)−2,2′−ビチオフェン(104mg、0.357mmol)を添加した後、95℃で窒素雰囲気下においてさらに5時間反応させた。
生成物を冷却した後、200mlのメタノール中に滴下して、生成物を沈殿させた。次に、メタノールで3回洗浄した。真空乾燥した後、生成物を10mlのクロロホルムに溶解させ、シリカゲルを充填したカラムクロマトグラフィで精製した。溶媒をロータリーエバポレーターで除去して適量まで濃縮した後、200mlのメタノールに滴下して生成物を沈殿させた。沈殿物をメタノールで3回洗浄し、真空乾燥した。最終生成物として黄色の粉末が得られた。収率は42%であった。
(合成実施例8)
ポリ〔(9,9−ジオクチルフルオレン−2,7−ジイル)−コ−(チオフェン−2,5−ジイル)−コ−(N,N′−ビス〔4−(1,1−ジメチルエチル)フェニル〕−N,N′−ビス(1,4−フェニレンジイル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン)〕(PF8−T(50%)−TPD(25%))〔化合物8〕
ポリ〔(9,9−ジオクチルフルオレン−2,7−ジイル)−コ−(チオフェン−2,5−ジイル)−コ−(N,N′−ビス〔4−(1,1−ジメチルエチル)フェニル〕−N,N′−ビス(1,4−フェニレンジイル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン)〕(PF8−T(50%)−TPD(25%))〔化合物8〕
機械式攪拌機を備え、窒素ライン及び真空ラインに接続可能な乾燥した気密性反応容器に、N,N′−ビス〔4−(1,1−ジメチルエチル)フェニル〕−N,N′−ビス(1,4−フェニレンジイル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン−4,4′−ビス(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン(213mg、0.25mmol)、9.9−ジオクチルフルオレン−2,7−ビス(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン(160.5mg、0.25mmol)、2,5′−ジヨード−チオフェン(168mg、0.5mmol)、鈴木カップリング触媒、トルエン5ml、テトラエチルアンモニウムヒドロキサイド(20重量%)8mlを添加し反応させた。反応容器は減圧−窒素置換の操作を3回繰り返し、その後95℃に加熱した。反応は95℃で窒素雰囲気下約3時間行った。次に、フェニルボロン酸61mgを加え、さらに2時間95℃で反応を続けた。その後、約0.12mlのブロモベンゼンを添加した後、95℃で窒素雰囲気下においてさらに2時間反応させた。
生成物を冷却した後、300mlのメタノール中に滴下して、生成物を沈殿させた。次に、メタノールで3回洗浄した。真空乾燥した後、生成物を10mlのトルエンに溶解させ、シリカゲルを充填したカラムクロマトグラフィで精製した。溶媒をロータリーエバポレーターで除去して適量まで濃縮した後、300mlのメタノールに滴下して生成物を沈殿させた。沈殿物をメタノールで3回洗浄し、真空乾燥した。最終生成物として黄色のファイバーが得られた。収率は90%であった。得られたポリマーの数平均分子量(Mn)は3.2×104であり、重量平均分子量(Mw)は7.5×104であり、Mw/Mnは2.34あった。
(合成実施例9)
ポリ〔(2−デカノキシルベンゼン−1,4−ジイル)−コ−(チオフェン−2,5−ジイル)−コ−(N,N′−ビス〔4−(1,1−ジメチルエチル)フェニル〕−N,N′−ビス(1,4−フェニレンジイル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン)〕(PF8−T(50%)−TPD(25%))〔化合物9〕
ポリ〔(2−デカノキシルベンゼン−1,4−ジイル)−コ−(チオフェン−2,5−ジイル)−コ−(N,N′−ビス〔4−(1,1−ジメチルエチル)フェニル〕−N,N′−ビス(1,4−フェニレンジイル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン)〕(PF8−T(50%)−TPD(25%))〔化合物9〕
機械式攪拌機を備え、窒素ライン及び真空ラインに接続可能な乾燥した気密性反応容器に、N,N′−ビス〔4−(1,1−ジメチルエチル)フェニル〕−N,N′−ビス(1,4−フェニレンジイル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン−4,4′−ビス(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン(213mg、0.25mmol)、2−デカノキシルベンゼン−1,4−ビス(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン(121.4mg、0.25mmol)、2,5′−ジヨード−チオフェン(168mg、0.5mmol)、鈴木カップリング触媒、トルエン5ml、テトラエチルアンモニウムヒドロキサイド(20重量%)8mlを添加し反応させた。反応容器は減圧−窒素置換の操作を3回繰り返し、その後95℃に加熱した。反応は95℃で窒素雰囲気下約3時間行った。次に、フェニルボロン酸61mgを加え、さらに2時間95℃で反応を続けた。その後、約0.12mlのブロモベンゼンを添加した後、95℃で窒素雰囲気下においてさらに2時間反応させた。
生成物を冷却した後、300mlのメタノール中に滴下して、生成物を沈殿させた。次に、メタノールで3回洗浄した。真空乾燥した後、生成物を10mlのトルエンに溶解させ、シリカゲルを充填したカラムクロマトグラフィで精製した。溶媒をロータリーエバポレーターで除去して適量まで濃縮した後、300mlのメタノールに滴下して生成物を沈殿させた。沈殿物をメタノールで3回洗浄し、真空乾燥した。最終生成物として黄色の粉末が得られた。収率は81%であった。得られたポリマーの数平均分子量(Mn)は1.8×104であり、重量平均分子量(Mw)は4.1×104であり、Mw/Mnは2.44であった。
(合成実施例10)
4,4′−ジ(5′′′′−n−ヘキシル−ペンタチオフェン−2−イル)−N,N′−ビス〔4−(1,1−ジメチルエチル)フェニル〕−N,N′−ビス(1,4−フェニレンジイル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン(TPD−n−ヘキシル−T5)〔化合物10〕
4,4′−ジ(5′′′′−n−ヘキシル−ペンタチオフェン−2−イル)−N,N′−ビス〔4−(1,1−ジメチルエチル)フェニル〕−N,N′−ビス(1,4−フェニレンジイル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン(TPD−n−ヘキシル−T5)〔化合物10〕
機械式攪拌機を備え、窒素ライン及び真空ラインに接続可能な乾燥した気密性反応容器に、4,4′−ジブロモ−N,N′−ビス〔4−(1,1−ジメチルエチル)フェニル〕−N,N′−ビス(1,4−フェニレンジイル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン(379mg、0.5mmol)、5,5′−ジ(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)−2,2′−ビチオフェン(418mg、1mmol)、鈴木カップリング触媒、トルエン5ml、テトラエチルアンモニウムヒドロキサイド(20重量%)8mlを添加し反応させた。反応容器は減圧−窒素置換の操作を3回繰り返し、その後95℃に加熱した。反応は95℃で窒素雰囲気下約3時間行った。次に、2,5−ジヨードチオフェン(336mg、1mmol)を加え、95℃でさらに3時間反応を続けた。さらに、5−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)−5′N−ヘキシル−2,2,′−ビチオフェン(395mg、1.05mmol)を添加した後、95℃で窒素雰囲気下においてさらに4時間反応させた。
生成物を冷却した後、200mlのメタノール中に滴下して、生成物を沈殿させた。次に、メタノールで3回洗浄した。真空乾燥した後、生成物を10mlのクロロホルムに溶解させ、シリカゲルを充填したカラムクロマトグラフィで精製した。溶媒をロータリーエバポレーターで除去して適量まで濃縮した後、200mlのメタノールに滴下して生成物を沈殿させた。沈殿物をメタノールで3回洗浄し、真空乾燥した。最終生成物として黄色の粉末が得られた。収率は43%であった。
(合成実施例11)
4,4′−ジ(5′′′′−n−ヘキシル−ペンタチオフェン−2−イル)トリフェニルアミン〔化合物11〕
4,4′−ジ(5′′′′−n−ヘキシル−ペンタチオフェン−2−イル)トリフェニルアミン〔化合物11〕
機械式攪拌機を備え、窒素ライン及び真空ラインに接続可能な乾燥した気密性反応容器に、4,4′−ジブロモ−トリフェニルアミン(202mg、0.5mmol)、5,5′−ジ(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)−2,2′−ビチオフェン(418mg、1mmol)、鈴木カップリング触媒、トルエン5ml、テトラエチルアンモニウムヒドロキサイド(20重量%)8mlを添加し反応させた。反応容器は減圧−窒素置換の操作を3回繰り返し、その後95℃に加熱した。反応は95℃で窒素雰囲気下約3時間行った。次に、2,5−ジヨードチオフェン(336mg、1mmol)を加え、95℃でさらに3時間反応を続けた。さらに、5−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)−5′N−ヘキシル−2,2,′−ビチオフェン(395mg、1.05mmol)を添加した後、95℃で窒素雰囲気下においてさらに4時間反応させた。
生成物を冷却した後、200mlのメタノール中に滴下して、生成物を沈殿させた。次に、メタノールで3回洗浄した。真空乾燥した後、生成物を10mlのクロロホルムに溶解させ、シリカゲルを充填したカラムクロマトグラフィで精製した。溶媒をロータリーエバポレーターで除去して適量まで濃縮した後、200mlのメタノールに滴下して生成物を沈殿させた。沈殿物をメタノールで3回洗浄し、真空乾燥した。最終生成物として褐色の粉末が得られた。収率は20%であった。
(合成実施例12)
4,4′−ジ(5′′′′−n−ヘキシル−ペンタチオフェン−2−イル)−N,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(1,4−フェニレンジイル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン〔化合物12〕
4,4′−ジ(5′′′′−n−ヘキシル−ペンタチオフェン−2−イル)−N,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(1,4−フェニレンジイル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン〔化合物12〕
機械式攪拌機を備え、窒素ライン及び真空ラインに接続可能な乾燥した気密性反応容器に、4,4′−ジブロモ−N,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(1,4−フェニレンジイル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン(323mg、0.5mmol)、5,5′−ジ(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)−2,2′−ビチオフェン(418mg、1mmol)、鈴木カップリング触媒、トルエン5ml、テトラエチルアンモニウムヒドロキサイド(20重量%)8mlを添加し反応させた。反応容器は減圧−窒素置換の操作を3回繰り返し、その後95℃に加熱した。反応は95℃で窒素雰囲気下約3時間行った。次に、2,5−ジヨードチオフェン(336mg、1mmol)を加え、95℃でさらに3時間反応を続けた。さらに、5−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)−5′N−ヘキシル−2,2,′−ビチオフェン(395mg、1.05mmol)を添加した後、95℃で窒素雰囲気下においてさらに4時間反応させた。
生成物を冷却した後、200mlのメタノール中に滴下して、生成物を沈殿させた。次に、メタノールで3回洗浄した。真空乾燥した後、生成物を10mlのクロロホルムに溶解させ、シリカゲルを充填したカラムクロマトグラフィで精製した。溶媒をロータリーエバポレーターで除去して適量まで濃縮した後、200mlのメタノールに滴下して生成物を沈殿させた。沈殿物をメタノールで3回洗浄し、真空乾燥した。最終生成物として褐色の粉末が得られた。収率は25%であった。
(合成実施例13)
ポリ〔(ビチオフェン−2,5−ジイル)−コ−(N,N′−ビス〔4−(1,1−ジメチルエチル)フェニル〕−N,N′−ビス(1,4−フェニレンジイル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン)〕〔化合物13〕
ポリ〔(ビチオフェン−2,5−ジイル)−コ−(N,N′−ビス〔4−(1,1−ジメチルエチル)フェニル〕−N,N′−ビス(1,4−フェニレンジイル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン)〕〔化合物13〕
機械式攪拌機を備え、窒素ライン及び真空ラインに接続可能な乾燥した気密性反応容器に、N,N′−ビス〔4−(1,1−ジメチルエチル)フェニル〕−N,N′−ビス(1,4−フェニレンジイル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン−4,4′−ビス(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン(426mg、0.5mmol)、2,5−ジブロモ−ビチオフェン(157mg、0.5mmol)、鈴木カップリング触媒、トルエン5ml、テトラエチルアンモニウムヒドロキサイド(20重量%)8mlを添加し反応させた。反応容器は減圧−窒素置換の操作を3回繰り返し、その後95℃に加熱した。反応は95℃で窒素雰囲気下3時間行った。次に、フェニルボロン酸61mgを加え、さらに2時間95℃で反応を続けた。その後約0.12mlのブロモベンゼンを添加した後、95℃で窒素雰囲気下においてさらに2時間反応させた。
生成物を冷却した後、300mlのメタノール中に滴下して、生成物を沈殿させた。次に、メタノールで3回洗浄した。真空乾燥した後、生成物を10mlのトルエンに溶解させ、シリカゲルを充填したカラムクロマトグラフィで精製した。溶媒をロータリーエバポレーターで除去して適量まで濃縮した後、300mlのメタノールに滴下して生成物を沈殿させた。沈殿物をメタノールで3回洗浄し、真空乾燥した。最終生成物として褐色の粉末が得られた。収率は75%であった。得られたポリマーの数平均分子量(Mn)は9600であり、重量平均分子量(Mw)は16700であり、Mw/Mnは1.74であった。
〔有機トランジスタの作製:実施例1〜9及び比較例1〕
上記で作製した有機半導体材料を用いて、MOS型電界効果トランジスタを作製した。
上記で作製した有機半導体材料を用いて、MOS型電界効果トランジスタを作製した。
図1は作製したMOS型電界効果トランジスタの構造を示す模式的断面図である。図1に示すように、シリコンウェハ1の上に絶縁膜2を設け、絶縁膜2の上に有機半導体膜3を形成し,有機半導体膜3の上に所定の距離離してソース電極4及びドレイン電極5を形成している。
図2は、ソース電極4及びドレイン電極5を示す平面図である。図2に示すように、ソース電極4とドレイン電極5の間の距離Lをチャネル長とし、ソース電極4及びドレイン電極5のそれぞれの幅をチャネル幅Wとしている。
図1に示す有機トランジスタにおいては、n型にドープされたシリコンウェハ1をゲート電極としている。このシリコンウェハ1の上に、膜厚100nmの二酸化ケイ素からなる絶縁膜2が形成されている。シリコンウェハ1は、2−プロパノール、アセトン、イオン交換水、メタノールの順で、超音波洗浄を行った後、紫外線・オゾン処理により表面を清浄化してから用いた。絶縁膜2の上には有機半導体膜3が形成されている。
有機半導体膜3は以下のようにして形成した。有機溶剤で有機半導体材料を溶液とし、絶縁膜2の表面にこの溶液をスピンコートし、真空オーブン中で減圧下、80℃で1時間ベークして、有機溶剤を除去した。これにより、膜厚100nm〜150nmの有機半導体膜3を形成した。
有機半導体膜3の上には、真空蒸着により、金からなるソース電極4及びドレイン電極5を形成した。
シリコンウェハ1からなるゲート電極1、ソース電極4、及びドレイン電極5の3端子間のトランジスタ特性を、アジレント社製の4156C型高精度半導体パラメータアナライザを用いて、室温(約27℃)で評価した。
(実施例1)
化合物1を用いて有機半導体膜3を形成し、得られた有機トランジスタの特性を上記のようにして評価した。チャネル長Lは0.1mmであり、チャネル幅Wは1mmである。
化合物1を用いて有機半導体膜3を形成し、得られた有機トランジスタの特性を上記のようにして評価した。チャネル長Lは0.1mmであり、チャネル幅Wは1mmである。
図3は、V−I特性を示す図である。オン/オフ比は57であり、移動度は1.44×10-4cm2/VSであり、良好なトランジスタ特性が得られた。
(実施例2)
化合物2を用いて有機半導体膜3を形成し、得られた有機トランジスタの特性を上記のようにして評価した。チャネル長Lは0.1mmであり、チャネル幅Wは1mmである。
化合物2を用いて有機半導体膜3を形成し、得られた有機トランジスタの特性を上記のようにして評価した。チャネル長Lは0.1mmであり、チャネル幅Wは1mmである。
図4は、V−I特性を示す図である。オン/オフ比は167であり、移動度は4.7×10-4cm2/VSであり、良好なトランジスタ特性が得られた。
(実施例3)
化合物3を用いて有機半導体膜3を形成し、得られた有機トランジスタの特性を上記のようにして評価した。チャネル長Lは0.07mmであり、チャネル幅Wは1mmである。
化合物3を用いて有機半導体膜3を形成し、得られた有機トランジスタの特性を上記のようにして評価した。チャネル長Lは0.07mmであり、チャネル幅Wは1mmである。
図5は、V−I特性を示す図である。オン/オフ比は87であり、移動度は1.6×10-4cm2/VSであり、良好なトランジスタ特性が得られた。
(実施例4)
化合物4を用いて有機半導体膜3を形成し、得られた有機トランジスタの特性を上記のようにして評価した。チャネル長Lは0.2mmであり、チャネル幅Wは1mmである。
化合物4を用いて有機半導体膜3を形成し、得られた有機トランジスタの特性を上記のようにして評価した。チャネル長Lは0.2mmであり、チャネル幅Wは1mmである。
図6は、V−I特性を示す図である。オン/オフ比は16であり、移動度は1.04×10-4cm2/VSであり、良好なトランジスタ特性が得られた。
(比較例1)
以下に示す構造式で表されるP3HTを用いて、上記実施例と同様にして有機トランジスタを作製した。
以下に示す構造式で表されるP3HTを用いて、上記実施例と同様にして有機トランジスタを作製した。
チャネル長Lは0.2mmであり、チャネル幅Wは1mmである。
図7は、V−I特性を示す図である。オン/オフ比は3.6と低い値であり、移動度は7.4×10-4cm2/VSであった。
(実施例5)
その他の化合物5〜9を用いて、有機半導体膜3を形成し、有機トランジスタを作製し、その結果を表1に示した。
その他の化合物5〜9を用いて、有機半導体膜3を形成し、有機トランジスタを作製し、その結果を表1に示した。
(実施例6)
化合物10を用いて有機半導体膜3を形成し、得られた有機トランジスタの特性を上記のようにして評価した。チャネル長Lは0.2mmであり、チャネル幅Wは1mmである。
化合物10を用いて有機半導体膜3を形成し、得られた有機トランジスタの特性を上記のようにして評価した。チャネル長Lは0.2mmであり、チャネル幅Wは1mmである。
図8は、V−I特性を示す図である。オン/オフ比は44であり、移動度は2.88×10-2cm2/VSであり、良好なトランジスタ特性が得られた。
(実施例7)
化合物11を用いて有機半導体膜3を形成し、得られた有機トランジスタの特性を上記のようにして評価した。チャネル長Lは0.2mmであり、チャネル幅Wは10mmである。
化合物11を用いて有機半導体膜3を形成し、得られた有機トランジスタの特性を上記のようにして評価した。チャネル長Lは0.2mmであり、チャネル幅Wは10mmである。
図9は、V−I特性を示す図である。オン/オフ比は246であり、移動度は5.65×10−3cm2/VSであり、良好なトランジスタ特性が得られた。
(実施例8)
化合物12を用いて有機半導体膜3を形成し、得られた有機トランジスタの特性を上記のようにして評価した。チャネル長Lは0.05mmであり、チャネル幅Wは1mmである。
化合物12を用いて有機半導体膜3を形成し、得られた有機トランジスタの特性を上記のようにして評価した。チャネル長Lは0.05mmであり、チャネル幅Wは1mmである。
図10は、V−I特性を示す図である。オン/オフ比は108であり、移動度は6.67×10−3cm2/VSであり、良好なトランジスタ特性が得られた。
(実施例9)
化合物13を用いて有機半導体膜3を形成し、得られた有機トランジスタの特性を上記のようにして評価した。チャネル長Lは、0.2mmであり、チャネル幅Wは1mmである。
化合物13を用いて有機半導体膜3を形成し、得られた有機トランジスタの特性を上記のようにして評価した。チャネル長Lは、0.2mmであり、チャネル幅Wは1mmである。
図11は、V−I特性を示す図である。オン/オフ比は6.9であり、移動度は4.6×10−5cm2/VSであり、良好なトランジスタ特性が得られた。
以上のことから明らかなように、本発明に従う有機半導体材料を用いて有機半導体膜を形成した有機トランジスタにおいては良好なトランジスタ特性が得られている。従って、本発明に従う有機半導体材料は高いキャリア移動度を有し、有機トランジスタに用いた場合に良好なトランジスタ特性を与えるものである。
1…ゲート電極
2…絶縁膜
3…有機半導体膜
4…ソース電極
5…ドレイン電極
2…絶縁膜
3…有機半導体膜
4…ソース電極
5…ドレイン電極
Claims (29)
- 2級または3級アミンの構造を有するアミン単位と、チオフェン環の構造を有するチオフェン単位からなることを特徴とする有機半導体材料。
- 化学構造が非対称であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の有機半導体材料。
- 化学構造の末端に炭化水素を主成分とする置換基が置換されていることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の有機半導体材料。
- 化学構造の末端のチオフェン単位にアルキル基が置換されていることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の有機半導体材料。
- 前記アルキル基の炭素数が2以上であることを特徴とする請求項7または8に記載の有機半導体材料。
- 請求項1〜26のいずれか1項に記載の有機半導体材料を用いたことを特徴とする有機半導体素子。
- 請求項1〜26のいずれか1項に記載の有機半導体材料を用いたことを特徴とする有機トランジスタ。
- 電荷輸送性材料層と、該電荷輸送性材料層に直接または間接に接するゲート電極とを備え、前記ゲート電極及び前記電荷輸送性材料層の間に、電界を印加することにより、前記電荷輸送性材料層中の電流を制御する電界効果トランジスタにおいて、
前記電荷輸送性材料層を、請求項1〜26のいずれか1項に記載の有機半導体材料から形成したことを特徴とする電界効果トランジスタ。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006217278A JP2008053248A (ja) | 2005-08-29 | 2006-08-09 | 有機半導体材料並びにそれを用いた有機半導体素子及び電界効果トランジスタ |
US11/507,607 US7781757B2 (en) | 2005-08-24 | 2006-08-22 | Organic semiconductor material, organic semiconductor element and field effect transistor using the same |
CN200610121831XA CN1921170B (zh) | 2005-08-24 | 2006-08-24 | 有机半导体材料和有机半导体元件以及场效应晶体管 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005248003 | 2005-08-29 | ||
JP2006205832 | 2006-07-28 | ||
JP2006217278A JP2008053248A (ja) | 2005-08-29 | 2006-08-09 | 有機半導体材料並びにそれを用いた有機半導体素子及び電界効果トランジスタ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008053248A true JP2008053248A (ja) | 2008-03-06 |
Family
ID=39237055
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006217278A Pending JP2008053248A (ja) | 2005-08-24 | 2006-08-09 | 有機半導体材料並びにそれを用いた有機半導体素子及び電界効果トランジスタ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008053248A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007092032A (ja) * | 2005-08-30 | 2007-04-12 | Ricoh Co Ltd | アリールアミン重合体 |
WO2014119466A1 (ja) * | 2013-01-29 | 2014-08-07 | 富士フイルム株式会社 | 熱電変換材料、熱電変換素子並びにこれを用いた熱電発電用物品及びセンサー用電源 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07324059A (ja) * | 1993-10-13 | 1995-12-12 | Mita Ind Co Ltd | ベンジジン誘導体およびそれを用いた電子写真感光体 |
JPH10310635A (ja) * | 1997-05-09 | 1998-11-24 | Minolta Co Ltd | 新規スチリル系高分子化合物、その製造方法および用途 |
JP2003267972A (ja) * | 2002-03-11 | 2003-09-25 | Kanagawa Acad Of Sci & Technol | トリス(チエニルフェニル)アミン誘導体と有機el素子 |
WO2004006351A1 (ja) * | 2002-07-05 | 2004-01-15 | Fuji Electric Holdings Co., Ltd. | スイッチング素子 |
JP2004311872A (ja) * | 2003-04-10 | 2004-11-04 | Canon Inc | 有機半導体素子 |
JP2005042004A (ja) * | 2003-07-22 | 2005-02-17 | Fuji Xerox Co Ltd | 正孔輸送性高分子及びそれを用いた有機電界発光素子 |
JP2005506419A (ja) * | 2001-10-25 | 2005-03-03 | ケンブリッジ ディスプレイ テクノロジー リミテッド | 電子光学装置用トリアリールアミン含有モノマー |
JP2005268444A (ja) * | 2004-03-17 | 2005-09-29 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 非線形素子 |
JP2006316224A (ja) * | 2005-05-16 | 2006-11-24 | Mitsui Chemicals Inc | チオフェンを主鎖に含む高分子化合物、および該化合物を含有する有機電界発光素子 |
-
2006
- 2006-08-09 JP JP2006217278A patent/JP2008053248A/ja active Pending
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07324059A (ja) * | 1993-10-13 | 1995-12-12 | Mita Ind Co Ltd | ベンジジン誘導体およびそれを用いた電子写真感光体 |
JPH10310635A (ja) * | 1997-05-09 | 1998-11-24 | Minolta Co Ltd | 新規スチリル系高分子化合物、その製造方法および用途 |
JP2005506419A (ja) * | 2001-10-25 | 2005-03-03 | ケンブリッジ ディスプレイ テクノロジー リミテッド | 電子光学装置用トリアリールアミン含有モノマー |
JP2003267972A (ja) * | 2002-03-11 | 2003-09-25 | Kanagawa Acad Of Sci & Technol | トリス(チエニルフェニル)アミン誘導体と有機el素子 |
WO2004006351A1 (ja) * | 2002-07-05 | 2004-01-15 | Fuji Electric Holdings Co., Ltd. | スイッチング素子 |
JP2004311872A (ja) * | 2003-04-10 | 2004-11-04 | Canon Inc | 有機半導体素子 |
JP2005042004A (ja) * | 2003-07-22 | 2005-02-17 | Fuji Xerox Co Ltd | 正孔輸送性高分子及びそれを用いた有機電界発光素子 |
JP2005268444A (ja) * | 2004-03-17 | 2005-09-29 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 非線形素子 |
JP2006316224A (ja) * | 2005-05-16 | 2006-11-24 | Mitsui Chemicals Inc | チオフェンを主鎖に含む高分子化合物、および該化合物を含有する有機電界発光素子 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
JPN6012032223; Kimihisa Yamamoto et al.: '"Synthesis and Electrochemical Properties of Oligo- andPoly(thienylphenylamine)s"' Macromolecules Vol. 35, 20020614, pp. 5782-5788, American Chemical Society * |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007092032A (ja) * | 2005-08-30 | 2007-04-12 | Ricoh Co Ltd | アリールアミン重合体 |
WO2014119466A1 (ja) * | 2013-01-29 | 2014-08-07 | 富士フイルム株式会社 | 熱電変換材料、熱電変換素子並びにこれを用いた熱電発電用物品及びセンサー用電源 |
JP2014146678A (ja) * | 2013-01-29 | 2014-08-14 | Fujifilm Corp | 熱電変換材料、熱電変換素子並びにこれを用いた熱電発電用物品及びセンサー用電源 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5180498B2 (ja) | 有機半導体材料及びそれを用いた有機トランジスタ | |
US8530889B2 (en) | Carbon nanotube composite, organic semiconductor composite, and field-effect transistor | |
JP5155852B2 (ja) | アリール−エチレン置換芳香族化合物および有機半導体としてのその使用 | |
US7355199B2 (en) | Substituted anthracenes and electronic devices containing the substituted anthracenes | |
JP5220005B2 (ja) | チアゾロチアゾール誘導体およびそれを用いた有機電子素子 | |
JP2005171243A (ja) | キノキサリン環を主鎖に有する有機薄膜トランジスタ用有機半導体高分子 | |
JP2008513544A (ja) | カルボニル官能化チオフェン化合物および関連する装置構造 | |
US7211679B2 (en) | Perfluoroether acyl oligothiophene compounds | |
US20080042129A1 (en) | Organic Thin Film Transistor and Its Fabrication Method | |
KR20100128279A (ko) | 분지형 화합물, 이것을 이용한 유기 박막 및 유기 박막 소자 | |
Zhao et al. | Recent Progress in the Synthesis and Application of Saddle‐shaped Cyclooctatetrathiophenes and Their Derivatives | |
KR101843550B1 (ko) | 유기 반도체 화합물 및 이를 포함하는 트랜지스터와 전자 소자 | |
JP5193443B2 (ja) | 有機半導体材料並びにそれを用いた有機半導体素子及び電界効果トランジスタ | |
Lee et al. | Highly π-extended small molecules with bis (alkylthio) methylene side chains for organic field-effect transistors | |
JP2006319337A (ja) | 新規有機高分子半導体、これを用いた有機高分子半導体薄膜の形成方法及びこれを用いた有機薄膜トランジスタ | |
JP5096731B2 (ja) | 新規な芳香族エンジイン誘導体、これを含む有機半導体製造用の前駆体溶液、その前駆体溶液を用いた有機半導体薄膜およびその製造方法、ならびに電子素子 | |
JP2008053248A (ja) | 有機半導体材料並びにそれを用いた有機半導体素子及び電界効果トランジスタ | |
KR101626363B1 (ko) | 안트라세닐계 교호 공중합체, 그 제조 방법 및 이를 이용한 유기 박막 트랜지스터 | |
JP5987237B2 (ja) | 高分子化合物、それを用いた有機半導体材料、有機トランジスタ及び有機太陽電池 | |
KR101235353B1 (ko) | 싸이에닐렌비닐렌 단위를 포함하는 공중합체 및 이를 이용한 유기 전자소자 | |
US7781757B2 (en) | Organic semiconductor material, organic semiconductor element and field effect transistor using the same | |
JP6252264B2 (ja) | 高分子化合物およびそれを用いた有機半導体素子 | |
JP2007234668A (ja) | 有機半導体材料及びそれを用いた有機半導体素子 | |
JP6143257B2 (ja) | 有機半導体材料及びそれを用いた有機半導体デバイス | |
KR101855404B1 (ko) | 유기반도체 화합물 및 그를 포함하는 유기전자소자 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090803 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120626 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120822 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20130507 |