JP2008047867A - 第四級アンモニウム塩の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】本発明は、収率が高く、反応の操作が簡単であり、原料を容易に得ることができるアルミニウム電解コンデンサ又はスーパーキャパシター用第四級アンモニウム塩の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、炭酸モノアルキルエステルの第四級アンモニウム塩と、テトラフルオロ硼酸などのフッ素錯酸アンモニウム塩とを適当な溶剤の中で反応させて得るが、製造の過程中、ハロゲン元素が導入されなく、また、Ｈ₂Ｏを加入しなくても良い。
【選択図】なし

Description

本発明は、第四級塩の製造方法に係り、特に、アルミニウム電解コンデンサ、スーパーキャパシター用第四級アンモニウム塩の製造方法に関する。

従来、テトラフルオロアルミニウム酸、テトラフルオロ硼酸、ヘキサフルオロリン酸の第四級塩は、アルミニウム電解コンデンサ及びスーパーキャパシターによく使用され、これらコンデンサの電解液の電解質として導電率が高いため、これで製造した部品も良好な性能を有する。
特開平５−２８６９８１号公報（森田化学）に開示されたように、氷水浴中で（Ｃ₂Ｈ₅）４ＮＢｒを無水フッ化水素酸と反応させて（Ｃ₂Ｈ₅）４ＮＦ・ｎＨＦを製造し、また、１７０℃でＨＦを蒸発して（Ｃ₂Ｈ₅）４ＮＦ・２ＨＦを得て、メタノール溶液（ＢＦ₃含量５１％）と反応させ、次に１５０℃まで加熱してメタノールと残りＨＦを除去させ、更にメタノールで再結晶することにより製造される。

また、特開平１１−３１０５５５号公報（三井化学）に開示されたように、氷水浴中で炭酸モノアルキルエステルトリエチル-メチルアンモニウムを無水ＨＦと反応させて（Ｃ₂Ｈ₅）４ＮＦ・ｎＨＦを製造し、以下操作は前記特開平５−２８６９８１号公報と同じである。
特開平１１−３１０５５５号公報（三井化学）においては、２５℃で炭酸モノアルキルエステルトリエチル−メチルアンモニウムを４２％テトラフルオロ硼酸の水溶液と反応させ、また６０℃、７０ｍｍＨｇで濃縮させて８０％トリエチル−メチルテトラフルオロ硼酸アンモニウムを製造し、次にイソプロピルアルコールを入れてトリエチル−メチルテトラフルオロ硼酸アンモニウムを析出して、真空中で乾燥することにより製造される。

また、特開２０００−１６９９５号公報（三菱化学）の製造方法も前記特開平１１−３１０５５５号公報と大体同じである。
また、特開２００１−３４８３８８号公報に開示されたように、塩素化テトラエチルアンモニウム（又は臭素化テトラエチルアンモニウム）を３０％ＨＢＦ４メタノール溶液と反応させ、次に０℃まで冷却させてテトラフルオロ硼酸を析出して、結晶を１０５℃で乾燥することにより製造される。

前記特開平５−２８６９８１号公報及び前記特開２００１−３４８３８８号公報は、いずれも塩素化（又は臭素化）第四級アンモニウム塩を原料としたが、アルミニウム電解コンデンサ、スーパーキャパシター用の電解質に対してはＣｌ^-又はＢｒ^-を全部１ｐｐｍ以下に制御しなければならなく、このような製造方法の要求を満たすためにはかなり複雑な操作が掛かる。そして、前記特開平５−２８６９８１号公報におけるＢＦ３メタノール溶液及び特開２００１−３４８３８８号公報におけるＨＢＦ４メタノール溶液に対しては全部無水が要求されるため、原料の入手が難しくなる。

また、前記特開平１１−３１０５５５号公報等においても、必ず無水ＨＦと反応させなければならないので、設備要求が高く操作が複雑になり、更に、無水ＨＦは強い腐食性及び毒性を有している。
また、前記特開平１１−３１０５５５号公報においては、必ず４２％ＨＢＦ₄水溶液を使用しなければならないので、多量の水分が加えられて、Ｈ₂Ｏの除去工程が非常に煩わしくなる。

特開平５−２８６９８１号公報 特開平１１−３１０５５５号公報 特開２０００−１６９９５号公報 特開２００１−３４８３８８号公報

以上問題点に鑑みて、本発明の目的はアルミニウム電解コンデンサ、スーパーキャパシター用第四級アンモニウム塩の製造方法を提供することであり、炭酸モノアルキルエステル類第四級アンモニウム塩、テトラフルオロ硼酸などのフッ素錯酸アンモニウム塩を極性溶剤の中で反応させるし、また、無水ＨＦが要らなくなり、Ｈ₂ＯとＣｌ^-、Ｂｒ^-を引き込まなくても良くなる。
なお、フッ素錯酸アンモニウム塩とは、フッ素と酸が複合反応（complex reaction）して形成されたフッ素錯酸基の陰イオンとアンモニウム塩の陽イオンとが結合して形成された物質をいう。

本発明を実現するために、第四級アンモニウム塩と溶剤を配合させて、濃度２０〜４０％の溶液を調製し、該溶液の中にアンモニウム塩を入れて２４〜４８時間回流させ、次に溶剤を除去して製品を得るが、ここで、前記第四級アンモニウム塩と前記アンモニウム塩のモル比は１：１である。
また、前記第四級アンモニウム塩は炭酸モノアルキルエステル類第四級アンモニウム塩を含み、前記アンモニウム塩はフッ素錯酸アンモニウム塩を含む。
また、前記第四級アンモニウム塩の陰イオン即ち炭酸モノアルキルエステルの陰イオンは、一般式：

で表され、式中、Ｒ₁は炭素数≦５のアルキル基を示し、好ましくはメチル基を示す。

また、前記第四級アンモニウム塩の陽イオンは、一般式：

で表され、式中、Ｒ₂は炭素数≦５の炭化水素基、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅は炭素数１〜２０の炭化水素基を示し、これらＲ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅のいずれか両者が互いに連結されて環状を形成しても良い。

また、前記第四級アンモニウム塩の陽イオンはイミダゾールオニウム塩の陽イオンを更に含み、これが一般式：

で表され、式中、Ｒ₆、Ｒ₈は炭素数≦５の炭化水素基、Ｒ₇、Ｒ₉、Ｒ₁₀はＨ原子又は炭素数≦５の炭化水素基を示し、これらＲ₆、Ｒ₇、Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₀のいずれか両者が互いに連結されて環状を形成しても良い。

また、前記第四級アンモニウム塩の陽イオンは、第四級イミダゾリンオニウム又は第四級ピリミジンオニウム又は第四級アミジンオニウムの陽イオンを更に含み、これが一般式：

で表され、式中、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₄、Ｒ₁₅は炭素数≦５の炭化水素基、Ｒ₁₃はＨ原子又は炭素数≦５の炭化水素基を示し、これらＲ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃、Ｒ₁₄、Ｒ₁₅のいずれか両者が互いに連結されて環状を形成しても良い。

また、前記第四級アンモニウム塩の陽イオンは第四級ピリジル又は第四級ピロールの塩の陽イオンを更に含み、この中で、前記第四級ピリジル塩が、一般式：

で表され、式中、Ｒ₁₆は炭素数１〜５の炭化水素基を示し、ピリジル環に炭化水素基又はアルコキシ基又はエーテル基又はケトン基の置換基が含まれても良く、Ｒ₁₆がメチル基を示すことが好ましく、
前記第四級ピロール塩が、一般式：

で表され、式中、Ｒ₁₇は炭素数１〜５の炭化水素基を示し、ピロール環に炭化水素基又はアルコキシ基又はエーテル基又はケトン基の基群が含まれても良く、好ましくはＲ₁₇がメチル基を示す。

また、前記第四級アンモニウム塩の陽イオンは第四級ホスホニウム塩の陽イオンを更に含み、これが一般式：

で表され、式中、Ｒ₁₈は炭素数≦５の炭化水素基、Ｒ₁₉、Ｒ₂₀、Ｒ₂₁は炭素数１〜２０の炭化水素基を示し、これらＲ₁₈、Ｒ₁₉、Ｒ₂₀、Ｒ₂₁のいずれか両者が互いに連結されて環状を形成しても良い。
そして、前記アンモニウム塩の陰イオンは、テトラフルオロ硼酸の陰イオン、又はヘキサフルオロリン酸の陰イオン、又はテトラフルオロアルミニウム酸の陰イオン、又はヘキサフルオロヒ酸の陰イオン、又はヘキサフルオロアンチモン酸の陰イオンを含む。

また、前記アンモニウム塩の陽イオンは以下陽イオンの一種を含み、これが一般式：

で表され、式中、Ｒ₂₂、Ｒ₂₃、Ｒ₂₄はＨ原子又は炭素数１〜３の炭化水素基を示し、これらＲ₂₂、Ｒ₂₃、Ｒ₂₄のいずれか両者が互いに連結されても良い。
なお、前記溶剤は、アルコール系、又はニトリル系、又はアミド系、又はラクトン系、又は無機酸エステル系、又はアミン系、又はスルホン系、又はエーテル系、又はホスホアミド系を含み、好ましくはメタノール、又はエタノール、又はアセトニトリル、又はＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを含む。

また、本発明に関する方法は、炭酸モノアルキルエステル類第四級アンモニウム塩とテトラフルオロ硼酸アンモニウム又はヘキサフルオロリン酸アンモニウムとを、メタノール又はエタノール又はアセトニトリル又はＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの溶液の中で反応させるステップも含めている。

従来の技術と比べ、本発明は、両種の塩（ＡとＢ）に対して複分解反応を行うことにより製造して得られるが、塩Ａが炭酸モノアルキルエステル類第四級アンモニウム塩であり、塩Ｂがテトラフルオロ硼酸（又はヘキサフルオロリン酸）等であるフッ素錯酸アンモニウム塩を極性溶剤の中で反応させ、また、無水ＨＦが要らなく、Ｈ₂ＯとＣｌ^-、Ｂｒ^-を引き込まないことができる。本発明の方法によると、操作が簡単で、原料の入手が容易になり、製品中のＨ₂ＯとＣｌ^-、Ｂｒ^-に対する制御が易くなる。

以下実施例に基づいて、本発明をより詳細に説明する。
本発明の実施形態は、両種の塩（ＡとＢ）を用いて複分解反応を行うことにより得られ、即ち、塩Ａが炭酸モノアルキルエステル類第四級アンモニウム塩であり、塩Ｂがテトラフルオロ硼酸等のフッ素錯酸アンモニウム塩であるが、これらを極性溶剤中で反応させる。

本発明の実施形態に用いられる塩Ａの陰イオン、即ち炭酸モノアルキルエステルの陰イオンを一般式：

で表し、式中、Ｒ₁は炭素数≦５のアルキル基であるが、メチル基であることが好ましい。

また、本発明の実施形態に用いられる塩Ａの陽イオンを以下一般式：

で表し、式中、Ｒ₂は炭素数≦５の炭化水素基であり、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅は炭素数１〜２０の炭化水素基であって、これらＲ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅のいずれか両者が互いに連結されて環状を形成することもできる。
塩Ａの陽イオンとして、例えば、テトラメチルアンモニウム基、トリメチル‐エチルアンモニウム基、ジメチルジエチルアンモニウム基、トリエチル‐メチルアンモニウム基、トリプロピル‐メチルアンモニウム基、トリブチル‐メチルアンモニウム基、トリオクチル‐メチルアンモニウム基、テトラエチルアンモニウム基、トリメチル‐プロピルアンモニウム基、トリメチルフェニルアンモニウム基などが挙げられる。

そして、本発明の実施形態に用いられる塩Ａの陽イオンが、第四級イミダゾールオニウムの陽イオンであることができて、これを一般式：

で表し、式中、Ｒ₆、Ｒ₈は炭素数≦５の炭化水素基であり、Ｒ₇、Ｒ₉、Ｒ₁₀はＨ原子又は炭素数≦５の炭化水素基であって、これらＲ₆、Ｒ₇、Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₀のいずれか両者が互いに連結されて環状を形成することもできる。
この種類の陽イオンとして、例えば、１，２，３‐トリメチルイミダゾールオニウム、１，２，３，４‐テトラメチルイミダゾールオニウム、１，３‐ジメチル‐２‐エチルイミダゾールオニウム、１‐メチル‐２，３‐ジエチルイミダゾールオニウム、１，２，３‐トリメチル‐４‐エチルイミダゾールオニウム等が挙げられ、勿論、当類オニウム塩のイオンはこれらに限らず、またいろいろ種類を挙げることができる。

また、本発明の実施形態に用いられる塩Ａの陽イオンが、第四級イミダゾリンオニウム、又は第四級ピリミジンオニウム、又は第四級アミジンオニウムの陽イオンであることができて、これを一般式：

で表し、式中、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₄、Ｒ₁₅は炭素数≦５の炭化水素基であり、Ｒ₁₃はＨ原子又は炭素数≦５の炭化水素基であって、これらＲ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃、Ｒ₁₄、Ｒ₁₅のいずれか両者が互いに連結されて環状を形成することもできる。
この種類の陽イオとして、例えば、１，２，３，４‐テトラメチルイミダゾリンオニウム、２，３‐ジメチル‐１‐ジエチルイミダゾリンオニウム、１，２，３，４‐テトラメチルピリミジンオニウム、１，３‐ジエチルイミダゾールオニウム等が挙げられ、勿論、当類化合物として、またいろいろを挙げることができる。

そして、本発明の実施形態に用いられる塩Ａの陽イオンが、第四級ピリジル又は第四級ピロールの塩の陽イオンであることができて、該第四級ピリジル塩を一般式：

で表し、式中、Ｒ₁₆は炭素数１〜５の炭化水素基であり、ピリジル環に炭化水素基又はアルコキシ基又はエーテル基又はケトン基の置換基を含むことができるし、Ｒ₁₆がメチル基であることが好ましい。
また、該第四級ピロール塩を一般式：

で表し、式中、Ｒ₁₇は炭素数１〜５の炭化水素基であり、ピロール環に炭化水素基又はアルコキシ基又はエーテル基又はケトン基の基群を含むことができるし、Ｒ₁₇がメチル基であることが好ましい。

そして、本発明の実施形態に用いられる塩Ａの陽イオンが、第四級ホスホニウム塩の陽イオンであることができて、これを一般式：

で表し、式中、Ｒ₁₈は炭素数≦５の炭化水素基であり、Ｒ₁₉、Ｒ₂₀、Ｒ₂₁は炭素数１〜２０の炭化水素基であって、これらＲ₁₈、Ｒ₁₉、Ｒ₂₀、Ｒ₂₁のいずれか両者が互いに連結されて環状を形成することもできる。
この種類の陽イオとして、例えば、トリフェニル‐メチルホスホニウム、トリブチル‐メチルホスホニウム、トリフェニル‐エチルホスホニウム、トリブチル‐エチルホスホニウム等が挙げられる。
なお、本発明の実施形態に用いられる塩Ｂの陰イオンが、テトラフルオロ硼酸の陰イオン、ヘキサフルオロリン酸の陰イオン、テトラフルオロアルミニウム酸の陰イオンであっても良く、又はヘキサフルオロヒ酸の陰イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸の陰イオンであっても良い。

また、該塩Ｂの陽イオンが以下陽イオンの一種であって、これを一般式：

で表し、式中、Ｒ₂₂、Ｒ₂₃、Ｒ₂₄はＨ原子又は炭素数１〜３の炭化水素基であり、これらＲ₂₂、Ｒ₂₃、Ｒ₂₄のいずれか両者が互いに連結されて環状を形成することもできる。
この種類の塩Ｂの陽イオンとして、例えば、ＮＨ⁴⁺、ＣＨ₃ＮＨ³⁺、（ＣＨ₃）₂ＮＨ²⁺、（ＣＨ₃）₃ＮＨ⁺、Ｃ₂Ｈ₅ＮＨ³⁺、（Ｃ₂Ｈ₅）₂ＮＨ²⁺などが挙げられ、この中でＮＨ⁴⁺であることが好ましい。

なお、本発明の実施形態において、塩Ａと塩Ｂの反応に用いられる溶剤は、Ｈ₂Ｏ又は非水極性溶剤であり、非水極性溶剤としては、例えば、アルコール系、ニトリル系、アミド系、ラクトン系、無機酸エステル系、アミン系、スルホン系、エーテル系、ホスホアミド系などが挙げられ、メタノール、エタノール、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の低沸点の溶剤が好ましい。

そして、本発明の実施形態に用いられる塩Ａは、炭酸エステルと対応する化合物を反応させて得られるが、これに関する周知の特許文献によれば、塩Ａを容易に得る。
本発明の実施形態においては、前記溶剤で塩Ａを２０〜４０％の溶液に配合させて、塩Ｂを加えて２４〜４８時間回流（沸騰）させ、次に前記溶剤を除去して製品を得る。
ここで、塩Ａと塩Ｂのモル比を１：１にさせる。

（実施例１）
炭酸モノエチルエステル‐メチルトリエチルアンモニウム４０％メタノール溶液を３００ｇ（０．６３ｍｏｌ）取って、１０００ｍｌ量の三口フラスコの中に入れて、テトラフルオロ硼酸アンモニウムを６６ｇ（０．６３ｍｏｌ）加え、次にこれを２４時間回流させて、溶剤を除去すると、１１５ｇの製品即ちメチルトリエチルテトラフルオロ硼酸アンモニウムが得られ、収率が９０％になる。

（実施例２）
炭酸モノエチルエステル‐メチルトリエチルアンモニウム４０％メタノール溶液を３００ｇ（０．６３ｍｏｌ）取って、１０００ｍｌ量の三口フラスコの中に入れて、ヘキサフルオロリン酸アンモニウムを１０３ｇ（０．６３ｍｏｌ）加え、次にこれを２４時間回流させて、溶剤を除去すると、１４１ｇの製品即ちメチルトリエチルヘキサフルオロリン酸アンモニウムが得られ、収率が８６％になる。

（実施例３）
炭酸モノエチルエステル１，２，３‐トリメチルイミダソールオニウム塩４０％メタノール溶液を３００ｇ（０．６５ｍｏｌ）取って、１０００ｍｌ量の三口フラスコの中に入れて、テトラフルオロ硼酸アンモニウムを６８ｇ（０．６５ｍｏｌ）加え、次にこれを２４時間回流させて、溶剤を除去すると、１１３ｇの製品即ちテトラフルオロ硼酸‐１，２，３‐トリメチルイミダソールオニウム塩が得られ、収率が８８％になる。

Claims (10)

1. アルミニウム電解コンデンサまたはスーパーキャパシター用第四級アンモニウム塩の製造方法であって、
   ａ．第四級アンモニウム塩と溶剤を配合させて、濃度２０〜４０％の溶液を調製するステップと、
   ｂ．該溶液の中にアンモニウム塩を入れて２４〜４８時間回流させ、次に溶剤を除去して製品を得るステップとを含み、
   ここで、前記第四級アンモニウム塩と前記アンモニウム塩のモル比が１：１である、
   ことを特徴とする第四級アンモニウム塩の製造方法。
2. 前記第四級アンモニウム塩が炭酸モノアルキルエステル類第四級アンモニウム塩を含み、前記アンモニウム塩がフッ素錯酸アンモニウム塩を含む、ことを特徴とする請求項１記載の第四級アンモニウム塩の製造方法。
3. 前記第四級アンモニウム塩の陰イオン、即ち炭酸モノアルキルエステルの陰イオンが、一般式：
   

   

   （式中、Ｒ₁は炭素数≦５のアルキル基を示し、好ましくはメチル基を示す）で表され、
   前記第四級アンモニウム塩の陽イオンが、一般式：
   

   

   （式中、Ｒ₂は炭素数≦５の炭化水素基、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅は炭素数１〜２０の炭化水素基を示し、これらＲ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅のいずれか両者が互いに連結されて環状を形成しても良い）で表される、ことを特徴とする請求項１又は２記載の第四級アンモニウム塩の製造方法。
4. 前記第四級アンモニウム塩の陽イオンが、イミダゾールオニウム塩の陽イオンを更に含み、これが一般式：
   

   

   （式中、Ｒ₆、Ｒ₈は炭素数≦５の炭化水素基、Ｒ₇、Ｒ₉、Ｒ₁₀はＨ原子又は炭素数≦５の炭化水素基を示し、これらＲ₆、Ｒ₇、Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₀のいずれか両者が互いに連結されて環状を形成しても良い）で表される、ことを特徴とする請求項３記載の第四級アンモニウム塩の製造方法。
5. 前記第四級アンモニウム塩の陽イオンが、第四級イミダゾリンオニウム、又は第四級ピリミジンオニウム、又は第四級アミジンオニウムの陽イオンを更に含み、これが一般式：
   

   

   （式中、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₄、Ｒ₁₅は炭素数≦５の炭化水素基、Ｒ₁₃はＨ原子又は炭素数≦５の炭化水素基を示し、これらＲ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃、Ｒ₁₄、Ｒ₁₅のいずれか両者が互いに連結されて環状を形成しても良い）で表される、ことを特徴とする請求項３記載の第四級アンモニウム塩の製造方法。
6. 前記第四級アンモニウム塩の陽イオンが、第四級ピリジル又は第四級ピロールの塩の陽イオンを更に含み、この中で、
   前記第四級ピリジル塩が、一般式：
   

   

   （式中、Ｒ₁₆は炭素数１〜５の炭化水素基を示し、ピリジル環に炭化水素基又はアルコキシ基又はエーテル基又はケトン基の置換基が含まれても良く、Ｒ₁₆がメチル基を示すことが好ましい）で表され、
   前記第四級ピロール塩が、一般式：
   

   

   （式中、Ｒ₁₇は炭素数１〜５の炭化水素基を示し、ピロール環に炭化水素基又はアルコキシ基又はエーテル基又はケトン基の基群が含まれても良く、好ましくはＲ₁₇がメチル基を示す）で表される、ことを特徴とする請求項３記載の第四級アンモニウム塩の製造方法。
7. 前記第四級アンモニウム塩の陽イオンが、第四級ホスホニウム塩の陽イオンを更に含み、これが一般式：
   

   

   （式中、Ｒ₁₈は炭素数≦５の炭化水素基、Ｒ₁₉、Ｒ₂₀、Ｒ₂₁は炭素数１〜２０の炭化水素基を示し、これらＲ₁₈、Ｒ₁₉、Ｒ₂₀、Ｒ₂₁のいずれか両者が互いに連結されて環状を形成しても良い）で表される、ことを特徴とする請求項３記載の第四級アンモニウム塩の製造方法。
8. 前記アンモニウム塩の陰イオンが、テトラフルオロ硼酸の陰イオン、又はヘキサフルオロリン酸の陰イオン、又はテトラフルオロアルミニウム酸の陰イオン、又はヘキサフルオロヒ酸の陰イオン、又はヘキサフルオロアンチモン酸の陰イオンを含み、
   前記アンモニウム塩の陽イオンが以下陽イオンの一種を含み、これが一般式：
   

   

   （式中、Ｒ₂₂、Ｒ₂₃、Ｒ₂₄はＨ原子又は炭素数１〜３の炭化水素基を示し、これらＲ₂₂、Ｒ₂₃、Ｒ₂₄のいずれか両者が互いに連結されても良い）で表される、ことを特徴とする請求項１又は２記載の第四級アンモニウム塩の製造方法。
9. 前記溶剤がアルコール系、又はニトリル系、又はアミド系、又はラクトン系、又は無機酸エステル系、又はアミン系、又はスルホン系、又はエーテル系、又はホスホアミド系を含み、好ましくはメタノール、又はエタノール、又はアセトニトリル、又はＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを含む、ことを特徴とする請求項１記載の第四級アンモニウム塩の製造方法。
10. 該方法が、炭酸モノアルキルエステル類第四級アンモニウム塩とテトラフルオロ硼酸アンモニウム又はヘキサフルオロリン酸アンモニウムとを、メタノール又はエタノール又はアセトニトリル又はＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの溶液の中で反応させるステップを含む、ことを特徴とする請求項１又は２記載の第四級アンモニウム塩の製造方法。