JP2008044825A - ナノ多孔質材料の形成方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】加水分解性を有する液体シリコン源を主原料とするナノ多孔質材料の形成方法であって、加水分解性を有する液体シリコン源、アルコール類、界面活性剤及び触媒を混合して原料混合溶液を調製する工程と、前記原料混合溶液中の加水分解性を有する液体シリコン源を部分的に加水分解・縮合させ、有機テンプレートとしての界面活性剤のミセルの周囲が部分加水分解縮合物により取り囲まれたゾルを得る工程と、前記ゾルの構造が保持される除去速度で液体成分を除去してゲルを得る工程と、前記ゲルを熱処理する工程とを含むことを特徴とするナノ多孔質材料の形成方法である。
【選択図】図4
Description
従って、本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、細孔の規則性が極めて良好であり且つ比表面積が大きいナノ多孔質材料を大量合成する方法を提供することを目的とする。
実施の形態1.
本発明に係るナノ多孔質材料の形成方法は、加水分解性を有する液体シリコン源、アルコール類、界面活性剤及び触媒を混合して原料混合溶液を調製する工程(原料混合溶液調製工程)と、前記原料混合溶液中の加水分解性を有する液体シリコン源を部分的に加水分解・縮合させ、有機テンプレートとしての界面活性剤のミセルの周囲が部分加水分解縮合物により取り囲まれたゾルを得る工程(ゾル調製工程)と、前記ゾルの構造が保持される除去速度で液体成分を除去してゲルを得る工程(液体成分除去工程)と、前記ゲルを熱処理する工程(熱処理工程)と、を含むことを特徴とするものである。
本発明のナノ多孔質材料の形成方法は、ミクロスケールで加水分解を制御することで反応を均質に進行させており、高規則性をもつメソポーラス構造を得るための本質的な方法であると言える。そのため、合成装置や合成スケールには依存せずに高規則性の無機−有機複合体を得ることができ、この無機−有機複合体から界面活性剤などの有機成分を除去することで、細孔の規則性が極めて良好であり且つ比表面積が大きいナノ多孔質材料を得ることができる。即ち、低コストで簡便な合成装置や合成手順を使用できることになり、優れた特性をもつメソポーラスシリカを低コストで大量に合成することが可能となる。
この工程では、加水分解性を有する液体シリコン源、アルコール類、界面活性剤及び触媒を混合して原料混合溶液を調製する。原料の混合を行う順序は特に限定されるものではないが、まず、アルコール類及び界面活性剤を混合しておき、そこに、加水分解性を有する液体シリコン源及びアルコール類が混合された溶液を添加し、さらに触媒を添加することが好ましい。また、加水分解性を有する液体シリコン源とともに、シリコンのネットワークに取り込まれる金属を含む化合物を原料混合溶液に添加してもよい。通常、この原料混合溶液には、加水分解性を有する液体シリコン源1モルに対して、2モル以上、好ましくは3モル以上、更に好ましくは4モル以上の大過剰の水が含まれる。また、ここで用いる成分の混合比は特に限定されるものではないが、界面活性剤とアルコール類とのモル比は、十分な均質溶液が得られる観点から、1:2〜1:10であることが好ましく、1:3〜1:7であることが更に好ましい。シリコンのネットワークに取り込まれる金属を含む化合物を使用する場合、加水分解性を有する液体シリコン源とシリコンのネットワークに取り込まれる金属を含む化合物とのモル比は、メソポーラス構造の規則性が維持される観点から、99.9:0.1〜80:20であることが好ましく、99.5:0.5〜90:10であることが更に好ましい。また、界面活性剤と加水分解性を有する液体シリコン源とのモル比は、界面活性剤が有機テンプレートとして十分に機能するという観点から、1:10〜1:1であることが好ましく、1:2〜1:6であることが更に好ましい。
この工程では、上記原料混合溶液調製工程で得られた原料混合溶液中の加水分解性を有する液体シリコン源を部分的に加水分解・縮合させ、有機テンプレートとしての界面活性剤のミセルの周囲が部分加水分解縮合物により取り囲まれたゾルを調製する。
このような界面活性剤のミセルの周囲が部分加水分解縮合物により取り囲まれたゾルを得るには、原料混合溶液中の加水分解・縮合反応を制御して、部分加水分解縮合物(低分子量重合体)を調製することが重要である。全く加水分解が進まない状態では液体シリコン源は互いに縮合せず、界面活性剤のミセルの周囲でゾルを形成しない。一方、大きな重合体まで加水分解・縮合が進行すると、加水分解縮合物が界面活性剤のミセルをうまく取り囲むことができなくなって均質なメソポーラス構造が得られなくなる。加水分解・縮合反応は、原料成分と触媒と水との量比、pH、攪拌時間でコントロールすることができる。また、この加水分解・縮合反応は、通常、25℃、大気圧の条件下で進行させるが、反応系内を減圧することによってコントロールすることも可能である。
また、ゾルの状態は、ゾルの比重や粘度でも判定することができる。ゾルの比重により判定する場合、ゾルの比重が0.90〜1.10になるまで、原料混合溶液中の加水分解性を有する液体シリコン源を部分的に加水分解・縮合させればよい。ゾルの比重が0.90未満であると加水分解・縮合が十分に進行しておらず、界面活性剤のミセルの周囲にメソポーラス構造を形成できるゾルが形成されず、一方、1.10を超えると液体シリコン源が界面活性剤のミセルを取り囲むのには大き過ぎるサイズまで重合してしまい、均質なメソポーラス構造が得られない。なお、ここでのゾルの比重は、フローティング式比重計(19本組標準比重計<JIS B 7525>、横田計器製作所製)により25℃で測定された値である。
また、ゾルの粘度により判定する場合、ゾルの粘度が10〜80mPa・sになるまで、原料混合溶液中の加水分解性を有する液体シリコン源を部分的に加水分解・縮合させればよい。ゾルの粘度が、10mPa・s未満であると加水分解が十分に進行しておらず、界面活性剤のミセルの周囲にメソポーラス構造を形成できるゾルが形成されず、一方、80mPa・sを超えると液体シリコン源が界面活性剤のミセルを取り囲むのには大き過ぎるサイズまで重合してしまい、均質なメソポーラス構造が得られない。なお、ここでのゾルの粘度は、B型粘度計(東京計器株式会社製、ローターNo.2)により25℃、30rpmで測定された値である。
この工程では、上記ゾル調製工程で得られたゾルから液体成分を除去してゲルを調製する。この液体成分の除去は、界面活性剤のミセルの周囲が部分加水分解縮合物(低分子量重合体)により取り囲まれたゾル構造が保持された状態で行い、界面活性剤のミセルの周囲で部分加水分解縮合物同士の重合を急速に進行させることが重要である。このようにすることで、均質な加水分解反応が進行して高規則性のゲル(無機−有機複合体)が形成される。
有機テンプレートとしての界面活性剤のミセルの周囲が部分加水分解縮合物により取り囲まれたゾルの構造を保持するためには、液体成分の除去速度をエタノール換算で0.001〜0.5ml/secとすることが好ましく、0.01〜0.1ml/secとすることが更に好ましい。液体成分の除去速度が0.001ml/sec未満であると、残存する液体成分によりゾルの構造が崩れて界面活性剤の位置とは無関係にいたるところで加水分解・縮合反応が進行して、良好なメソポーラス構造が得られないことがある。一方、液体成分の除去速度が0.5ml/secを超えると除去速度自体が十分にコントロールできなくなり実質的な液体の除去が場所によって不均一になることがある。さらには、液体成分の気化熱に相当する熱量が一気にゾルから奪われてしまい、局所的にゾルの温度が低下して、ゾルの状態を保持することができなくなってしまうことがある。
薄膜乾燥法は、ゾルを薄い膜状にしてゾル単位重量あたりの乾燥面積を大きくすることで、所望の液体成分の除去速度を達成することができる。この薄膜乾燥法に用いられる薄膜乾燥装置の一例を図1に示す。図1において、薄膜乾燥装置は、調製されたゾル12をドクターブレード11のような薄膜状に広げる機構と、シート反物13を一定の速度で動かすことができる剥離シート14を有するシート送り機構15と、シート下部にあるヒーター16とを備えており、ドクターブレード11で所定の膜厚に広げられたゾル12は、ヒーター16によって急激に液体成分が除去され、所望のゲル17を得ることができるように構成されている。
噴霧乾燥法は、二流体ノズルなど霧化することができるノズルでゾルを微小な液滴とし、これを加熱した空気が流れている空間に導入することで、所望の液体成分の除去速度を達成することができる。この噴霧乾燥法に用いられる噴霧乾燥装置の一例を図2に示す。図2において、噴霧乾燥装置は、ゾル貯留タンク22、送液ポンプ23及びアトマイザー24から成るゾル導入機構と、熱風フィルタ25、加熱ヒーター26及び送風機27から成る熱風導入機構と、微粒液滴化されたゾルを乾燥するためのチャンバー21と、サイクロン29、ゲル回収容器30、バグフィルター31及び排風機32から成る排気機構とを備えている。この噴霧乾燥装置では、ゾル貯留タンク22に貯留されるゾル12が、送液ポンプ23により一定の量でアトマイザー24に送液され、ここで微粒液滴化されてチャンバー21に導かれる。一方、送風機27から導入された吸気28は加熱ヒーター26で所定の温度に温められ、熱風フィルタ25を介してチャンバー21に熱風として導入され、ゾルの微粒液滴はチャンバー21内を浮遊する間に乾燥されてサイクロン29により捕集され、ゲル17としてゲル回収容器30で回収されるように構成されている。また、蒸発した液体成分を含む排ガスはバグフィルター31を通過した後、排風機32から排気33される。
回転乾燥法は、加熱された回転式ドラム上にゲルが薄く広がって乾燥することで、所望の液体成分の除去速度を達成することができる。この回転乾燥法に用いられる回転乾燥装置の一例を図3に示す。図3において、回転乾燥装置は、ヒーター付き回転ドラム41と、ドラム表面にゾルを供給するためのゾルディップ槽46と、ゲルを掻きとるためのエクレバーブレード45と、これらヒーター付き回転ドラム41、ゾルディップ槽46及びエクレバーブレード45を覆う排気フード43とを備えている。この回転乾燥装置では、ゾルディップ槽46に貯留されるゾル12とヒーター付き回転ドラム41とが接触すると、ドラム表面に広がったゾル12がドラム回転中に乾燥して膜状ゲル44となり、エクレバーブレード45により掻きとられることで、ゲル17を回収することができるように構成されている。また、蒸発した液体成分は排気フード43の上部から排気42される。
この工程では、上記液体成分除去工程で得られたゲル(無機−有機複合体)を熱処理することにより界面活性剤などの有機成分を除去してナノ多孔質材料を得る。ゲルの熱処理は、好ましくは500〜700℃、更に好ましくは550〜650℃の温度で行われる。熱処理温度が500℃未満であると界面活性剤などの有機成分が十分に除去されず、細孔が不均質なものとなることがあり、一方、700℃を超えるとテンプレートにより形成された規則正しい配列が高温のために乱れ、細孔サイズが不均一になってしまうことがある。また、熱処理時間は、通常、2〜10時間である。
<実施例1>
棒状ミセル構造を形成する界面活性剤であるトリメチルアンモニウムクロリドと、エタノールとがモル比で1:5となるように混合して溶液Aを調製した。テトラエチルオルソシリケートとテトラエトキシジルコニウムとがモル比で99:1となるようにエタノールに添加、混合して溶液Bを調製した。次に、テトラエチルオルソシリケートと界面活性剤とのモル比が1.0:0.20となるように溶液Aと溶液Bとを混合し、激しく攪拌した。続いて、この溶液に、テトラエチルオルソシリケート及びテトラエトキシジルコニウムの合計量に対して4倍モルの水が含まれる塩酸水溶液を加えて、原料混合溶液を調製した。混合直後の原料混合溶液のpHは1.5であった。次いで、この原料混合溶液を60分間、25℃のウォーターバス中で攪拌して加水分解・縮合反応を進行させ無色透明のゾルを得た。得られたゾルの粘度は41mPa・sであり、ゾルの比重は1.04であった。
界面活性剤としてのn−ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロリドと、メタノールとがモル比で1:3となるように混合して溶液Aを調製した。テトラメチルオルソシリケートを所定量のエタノールに添加、混合して溶液Bを調製した。次に、テトラメチルオルソシリケートと界面活性剤とのモル比が1.0:0.25となるように溶液Aと溶液Bとを混合し、激しく攪拌した。続いて、この溶液に、テトラメチルオルソシリケートに対して8倍モルの水が含まれる塩酸水溶液を加えて、原料混合溶液を調製した。混合直後の原料混合溶液のpHは3.2であった。次いで、この原料混合溶液を60hPaの減圧下で、90分間、25℃のウォーターバス中で攪拌して加水分解・縮合反応を進行させ無色透明のゾルを得た。得られたゾルの粘度は25mPa・sであり、ゾルの比重は1.01であった。
実施例2と同様の操作を繰り返して無色透明のゾルを得た。図3に示したものと同じ構成の回転乾燥装置(ドラムドライヤー)を使用し、120℃に加熱されたドラムを120rphの速度で回転させることによりゾルディップ槽に貯留されたゾルを順次乾燥させ、膜状の乾燥ゲルを得た。この回転乾燥装置による乾燥においては、ドラムに広げられた膜厚と乾燥されドラムから回収されるゲル重量の関係から、ゾルからの液体成分の除去速度は、エタノール換算で0.05ml/sec相当であった。次に、この粒子状ゲルをアルミナ製の耐熱容器に移し替え、大気中、600℃で4時間加熱処理して実施例3のナノ多孔質材料を得た。
実施例2と同様の操作を繰り返して無色透明のゾルを得た。遠心式真空乾燥装置を使用し、回転ローター上で40hPaの減圧下でゾルを乾燥させた。遠心式のため、ゾルは円錐形のローター上で0.1mm程度の厚みの液膜となり、膜状の乾燥ゲルが得られた。この遠心式真空乾燥装置による乾燥においては、ドラムに広げられた膜厚と乾燥されドラムから回収されるゲル重量の関係から、ゾルからの液体成分の除去速度は、エタノール換算で0.3ml/sec相当であった。次に、この粒子状ゲルをアルミナ製の耐熱容器に移し替え、大気中、650℃で2時間加熱処理して実施例4のナノ多孔質材料を得た。
加水分解・縮合反応をほとんど進行させず、粘度が5mPa・s、比重が0.88である無色透明のゾルを使用すること以外は、実施例1と同様の方法にて乾燥ゲルを得た。得られた乾燥ゲルは加水分解・縮合反応が不十分であったため、粘度の高い透明なゲル片となって回収された。さらにこれを熱処理して界面活性剤を除去し、比較例1のナノ多孔質材料を得た。
加水分解・縮合反応を十分に進ませ、粘度が120mPa・s、比重が1.23であるやや白濁したゾルを使用すること以外は、実施例1と同様の方法にて乾燥ゲルを得た。得られた乾燥ゲルは加水分解・縮合反応が進み過ぎたため、透明なゲル塊となって回収された。さらにこれを熱処理して界面活性剤を除去し、比較例2のナノ多孔質材料を得た。
比較例2のナノ多孔質材料の窒素等温線57を図7に示した。比較例2のナノ多孔質材料では、吸着材1gあたり310ml(STP)程度の飽和吸着量しか得られず、実施例1のナノ多孔質材料の半分程度の吸着性能であった。また、BET法による比表面積は460m2/gであった。また、比較例2のナノ多孔質材料のX線回折パターン58を図8に示した。図8より、比較例2のナノ多孔質材料のX線回折パターンはブロードな形状であり、メソポーラス構造が均質に形成されていないことがわかった。
薄膜乾燥に使用したヒーター温度を300℃にすること以外は、実施例1と同様の方法にて乾燥ゲルを得た。高温で一気に乾燥させたため、液体成分は内部より沸騰するような形で乾燥し、液体成分が沸騰した跡痕である無数の細かい穴をもつ(ゾルの構造が保持されていない)粒子状ゲルとなって回収された。このときのゾルからの液体成分の除去速度は、エタノール換算で3ml/sec相当であった。さらにこれを熱処理して界面活性剤を除去し、比較例3のナノ多孔質材料を得た。
薄膜乾燥装置を使用せずに、ゾルをそのまま室温で24時間放置してゲルを得たこと以外は、実施例1と同様の方法にて乾燥ゲルを得た。加熱なしで放置して得られたゲルは放置した容器の形状のままゲル化し、透明なゲル塊として回収された。放置した前後での重量変化から、ゾルからの液体成分の除去速度は、エタノール換算で0.000001ml/sec相当であった。このゲルを粉砕し、さらに熱処理して界面活性剤を除去し、比較例4のナノ多孔質材料を得た。
噴霧乾燥装置における温度設定を入口温度100℃、出口温度50℃にしたこと以外は、実施例2と同様の方法にて乾燥ゲルを得た。乾燥温度が低いために噴霧された液滴から十分な速度で液体成分が除去されず、半乾燥の粘り気のある粒子状ゲルが回収された。このとき乾燥条件から、ゾルからの液体成分の除去速度は、エタノール換算で0.0002ml/sec相当であった。この粒子状ゲルを熱処理して界面活性剤を除去し、ナノ多孔質材料を得た。
回転乾燥装置におけるドラム温度を250℃にしたこと以外は、実施例3と同様の方法にて乾燥ゲルを得た。温度が高いためにドラムに付着した瞬間に乾燥し、半乾燥の粘り気のある(ゾルの構造が保持されていない)粒子状ゲルが回収された。この粒子状ゲルを熱処理して界面活性剤を除去し、比較例6のナノ多孔質材料を得た。
Claims (10)
- 加水分解性を有する液体シリコン源を主原料とするナノ多孔質材料の形成方法であって、
加水分解性を有する液体シリコン源、アルコール類、界面活性剤及び触媒を混合して原料混合溶液を調製する工程と、
前記原料混合溶液中の加水分解性を有する液体シリコン源を部分的に加水分解・縮合させ、有機テンプレートとしての界面活性剤のミセルの周囲が部分加水分解縮合物により取り囲まれたゾルを得る工程と、
前記ゾルの構造が保持される除去速度で液体成分を除去してゲルを得る工程と、
前記ゲルを熱処理する工程と
を含むことを特徴とするナノ多孔質材料の形成方法。 - 前記ゾルの比重が0.90〜1.05になるまで、前記加水分解性を有する液体シリコン源を部分的に加水分解・縮合させることを特徴とする請求項1に記載のナノ多孔質材料の形成方法。
- 前記ゾルの粘度が10〜80mPa・sになるまで、前記加水分解性を有する液体シリコン源を部分的に加水分解・縮合させることを特徴とする請求項1に記載のナノ多孔質材料の形成方法。
- 前記除去速度は、エタノール換算で0.001〜0.5ml/secであることを特徴とする請求項1〜3の何れか一項に記載のナノ多孔質材料の形成方法。
- 前記液体成分の除去は、薄膜乾燥法、噴霧乾燥法、気流乾燥法、凍結乾燥法、真空乾燥法、噴出流乾燥法、回転乾燥法、円盤乾燥法、オイルドロップ乾燥法又はこれらの組み合わせにより行われることを特徴とする請求項1〜4の何れか一項に記載のナノ多孔質材料の形成方法。
- 前記加水分解性を有する液体シリコン源は、有機ケイ素化合物又はメタケイ酸ナトリウム水溶液であることを特徴とする請求項1〜5の何れか一項に記載のナノ多孔質材料の形成方法。
- 前記界面活性剤は、アルキルアンモニウムハロゲン化合物であることを特徴とする請求項1〜6の何れか一項に記載のナノ多孔質材料の形成方法。
- 前記アルコール類は、メタノール、エタノール、プロパノール又はこれらの混合物であることを特徴とする請求項1〜7の何れか一項に記載のナノ多孔質材料の形成方法。
- 前記触媒は酸触媒であり且つ前記原料混合溶液のpHは5以下であることを特徴とする請求項1〜8の何れか一項に記載のナノ多孔質材料の形成方法。
- 前記熱処理は500〜700℃の温度で行われることを特徴とする請求項1〜9の何れか一項に記載のナノ多孔質材料の形成方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012056820A (ja) * | 2010-09-13 | 2012-03-22 | Kanagawa Univ | メソポーラス金属酸化物の作製方法、及びメソポーラス金属酸化物形成のための補助剤 |
US10185411B2 (en) | 2009-10-19 | 2019-01-22 | Wacom Co., Ltd. | Position detector and position indicator |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002241121A (ja) * | 2000-07-25 | 2002-08-28 | Canon Inc | 細孔を有する構造体の製造方法 |
JP2005104808A (ja) * | 2003-10-02 | 2005-04-21 | Japan Science & Technology Corp | メソ構造シリカ薄膜の製造法 |
JP2005162596A (ja) * | 2003-06-17 | 2005-06-23 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | ナノポーラス体及びその製造方法 |
-
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002241121A (ja) * | 2000-07-25 | 2002-08-28 | Canon Inc | 細孔を有する構造体の製造方法 |
JP2005162596A (ja) * | 2003-06-17 | 2005-06-23 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | ナノポーラス体及びその製造方法 |
JP2005104808A (ja) * | 2003-10-02 | 2005-04-21 | Japan Science & Technology Corp | メソ構造シリカ薄膜の製造法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10185411B2 (en) | 2009-10-19 | 2019-01-22 | Wacom Co., Ltd. | Position detector and position indicator |
JP2012056820A (ja) * | 2010-09-13 | 2012-03-22 | Kanagawa Univ | メソポーラス金属酸化物の作製方法、及びメソポーラス金属酸化物形成のための補助剤 |
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