JP2008039724A - 半導体装置および半導体内部状態観測装置 - Google Patents

半導体装置および半導体内部状態観測装置 Download PDF

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雅博 石井
Takeshi Nakayama
武司 中山
Tomoyuki Imoto
智幸 井本
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Abstract

【課題】システムLSIの動作不具合の原因の一つに内部の電源電圧不安定あるが、近年の高速化、低電圧化によってこの傾向はさらに進む。しかしながらLSI内部の電源不安定を観測する手段の不足により、動作不具合と電源不安定の相関を把握するのが極めて困難である。
【解決手段】システムLSI内部の各機能ブロック電源端子位置の電源揺れが一定量を越えたらトリガー信号を発生する回路を抵抗分圧とコンパレータの内蔵により構成し、トリガー信号をシステムLSIの内部信号観測制御回路に入力することで、電源揺れ時の各種内部状態をSOC外部へ出力する。
【選択図】図1

Description

本発明は複数の機能ブロックを有するシステムLSIのデバッグに活用する半導体内部状態観測装置に関するものである。
近年システムLSIは大規模、複雑化が進み、そのシステムデバッグは加速度的に困難になってきている。システムLSIは通常複数の機能ブロックを持っており、デバッグに当たってはそれぞれのブロック状態やブロック同士を接続する信号線の状態を観測する必要がある。一方、システムLSIの動作電源電圧は製造プロセスの微細化に応じて低電圧化し1Vを切るレベルに達してきている。このため従来の3.3Vなどでは問題にならなかったシステムLSI内部の電源の揺れがシステムLSIの動作不良として顕在化するようになってきている。さらにシステムLSI内部では電源が一定に揺れているのではなく、例えば消費電力が大きい機能ブロックがフル動作している箇所は揺れ幅が大きく、フルに動作していても消費電力が元々少ない機能ブロックの箇所は揺れ幅が小さくなる。また、周囲の機能ブロックや、外部からシステムLSIへの電源接続方法などの諸条件により、システムLSI内部の電源揺れは複雑を極めている。このような状況の中で高い信頼性を持ったシステムLSIを開発していく必要があり、特に電源の揺れにより発生する動作不具合について発生箇所、時間の特定を正確に行う必要がある。
このような課題に対し従来の解決方法として特許文献1が提案されている。図2は従来の解決方法を示す。図2において2001はシステムLSIに相当する半導体装置、2002は機能ブロックの一つであるCPU、2003,2004は同じくAV処理部、ストリーム処理部、2005はデバッグ回路に相当する内部観測制御部、2008はシステムLSIの電源を監視する電圧比較部である。この様なデバッグ回路では、電源揺れ監視部がシステムLSI内のある特定位置一箇所の電源のみを監視し、一定量以上の揺れが発生した場合システムLSI内部のデバッグ回路に対しトリガー信号を発行し解析を行う。
特開昭62−175842号公報
しかしながら前述のような構成では、ある一箇所の電源を監視しているだけであるため、複雑に揺れるシステムLSI内部の電圧を正確に捕捉できない。これため不要なトリガー発行や必要時にトリガーが発行できないため正確なデバッグが行えないという課題を有していた。
本発明は上記従来の課題を解決するもので、大幅なコストアップなしで、電源の揺れに起因する動作不具合に対し十分なデバッグ情報をシステムLSI外部へ出力する装置を提供することを目的とする。
前記従来の課題を解決するために、本発明の半導体内部状態観測装置は、信号線によって接続される複数の機能ブロックと前記機能ブロックへ電源を供給するための電源端子部およびグランド端子部と前記機能ブロックの動作状況や前記信号線の動作状況などの半導体装置が動作する事によって生じる様々なデバッグ情報を収集し前記デバッグ情報を選択的に出力する内部観測制御部を持つ半導体装置において、前記機能ブロックの電源入力部に印加される電圧をモニタする電圧モニタ信号と、基準電圧であるリファレンス電圧信号と、前記電圧モニタ信号と前記リファレンス電圧信号が入力され前記電圧モニタ信号が前記リファレンス電圧信号と一致した場合に前期内部観測制御部に対して前記一致信号を出力するコンパレータをもつ。
本構成によって、特定の機能ブロックが存在する箇所の電源の揺れを観測できるため、特定の機能ブロックで起こった動作不具合情報をシステムLSI外部へ出力することが可能な半導体内部状態観測装置を実現することができる。
本発明の半導体内部状態観測装置によれば、各機能ブロック毎に電源の揺れによる動作不具合が観測できるため、不具合の原因特定や限界性能確認が容易に行えるようになる。また、大幅な端子数の増加や回路規模の増加も不要なため、LSIコストアップも最小限にとどめることが可能となる。
以下本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。
(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1における半導体内部状態観測装置のブロック図である。
図1において、1001はシステムLSIに代表される複数の内部ブロックで構成された半導体装置、1002は半導体装置1001の内部ブロックの一つであるCPU、1003は半導体装置1001の内部ブロックの一つでAV処理を行うAV処理部、1004は半導体装置1001の内部ブロックの一つでストリーム処理を行うストリーム処理部、1005は内部ブロック間の接続信号と、内部ブロックからのデバッグ信号を内部状態信号として受け取り、要求に応じてシステムLSI外部へ送出すべきデータを出力すると共に、半導体装置1001内部のデバッグ機能の設定を行う内部観測制御部、1006は複数の内部ブロックを相互接続する内部バス、1007は半導体装置1001内部の各内部ブロックに電源を供給する電源パス、1008は半導体装置1001の電源端子である電源端子部、1009は半導体装置1001内部の各内部ブロックのグランドに接続されるグランドパス、1010は半導体装置1001のグランド端子であるグランド端子部、1011は半導体装置1001の外部からリファレンス電圧が供給される端子であるIO-B、1012は内部観測制御部1005の半導体装置1001外部との入出力用端子であるIO-A、1013は各内部ブロックの電源入力部分の電圧モニタ信号が接続され内部観測制御部1005からの制御信号によっていずれか1系統を選択するセレクタ-A、1014は各内部ブロックのグランド入力部分の電圧モニタ信号が接続され内部観測制御部1005からの制御信号によっていずれか1系統を選択するセレクタ-B、1015は電源パス1007とIO-B 1011から供給されるリファレンス電圧とを選択するセレクタ-D、1016はセレクタ-D 1015からの出力が複数の抵抗によって複数経路として接続されたセレクタ-C、1017はセレクタ-Cの出力とリファレンス電圧を選択するセレクタ-E、1018と1019はペアで抵抗分圧回路を構成するH抵抗とL抵抗、1020は電圧比較を行い電圧が一致したときに一致信号を出力するコンパレータ、1021は内部観測制御部から出力され各セレクタを制御する制御信号、1022は内部観測制御部に入力される各内部ブロックからのデバッグ信号、1023は内部ブロックの電源入力部分である電源入力部、1024は内部ブロックのグランド入力部分であるグランド入力部、1101は半導体装置1001の外部にあり、半導体装置1001と接続され相互に連携してデバッグを行うロジックアナライザやオシロスコープ等に代表される情報解析部、1102は情報解析部1101の内部で半導体装置1001へのリファレンス電圧を生成するリファレンス電圧生成部、1103は情報解析部1101の内部で半導体装置1001からのデバッグ情報を処理したり、半導体装置1001に対してデバッグ動作の設定信号を出力したりする情報処理部である。
このように構成された半導体内部状態観測装置は、電源端子部1008から入力される電源が電源パス1007を通ってCPU1002、AV処理部1003、ストリーム処理部1004などの内部ブロックへ供給される。元の電源は同じであるが半導体装置の実動作中は各内部ブロックの動作は個別に行われるためCPU1002の電源入力部1023とAV処理部1003のそれとでは電圧レベル、電圧の揺れレベルが全く異なっている。それぞれの電圧レベル、揺れを示す電源モニタ信号はセレクタ-A 1013に接続され、ここで、内部観測制御部1005は観測・解析したい内部ブロックを選択し、制御信号をセレクタ-A 1013に出力する。これにより複数の内部ブロックの中から一つのブロックのみの詳細解析が可能となる。解析したい内部ブロックの選択は、内部観測制御部1005に対して半導体装置1001内部で動作中のプログラム、例えばアプリケーションプログラムなどからの設定や、半導体装置1001の外部にある情報解部析1101からのコントロール信号によって行うことができる。セレクタ-A 1013で選択された電源モニタ信号はコンパレータ1020の一方の入力端子に入力される。コンパレータ1020のもう一方の入力端子には、電圧の閾値を入力する。例えば電源モニタ信号が1.0V中心で揺れる電圧の場合、閾値としては0.8Vを入力する。この場合コンパレータは電源モニタ信号が0.8Vまで低下、揺れた場合に検出信号を内部観測制御部1005に対して出力する。ここで閾値電圧の入力は、様々なデバッグを想定して複数の入力手段を選択できるようにしている。
選択は次のように行う。電源端子部1008付近の電源あるいは外部からのリファレンス電圧をセレクタ-D 1015に接続し、内部観測制御部1005からの制御信号によっていずれかを選択し、選択された電圧を利用して抵抗分圧によって生成する。抵抗分圧に必要なグランドレベルは各内部ブロックのグランド入力部1024からのグランドモニタ信号あるいは半導体装置1001のグランド端子部1010付近のグランドパスからセレクタ-B 1014で選択して使用する。セレクタ-B 1014での選択は内部観測制御部1005からの制御信号によって行う。セレクタ-Dから出力された電圧は抵抗分圧の高電圧側の抵抗であるH抵抗1018に接続される。H抵抗はそれぞれ抵抗値の異なる複数の抵抗で構成されており、内部観測制御部1005からの制御信号によってセレクタ-Cでいずれかを選択することで異なる閾値を選択することが可能である。例えばセレクタ-D 1015の出力が1.0Vであり、セレクタ-B 1014で選択された電圧が接続される抵抗分圧用の抵抗であるL抵抗1019が10KΩである場合、複数のH抵抗1018のうちの1KΩのものを選択するとリファレンス電圧は0.9Vとなる。同様に2KΩを選択すると0.8Vとなる。このように選択された抵抗分圧後の電圧をセレクタ-E 1017へ入力する。セレクタ-E 1017には半導体装置1001の外部から入力される電圧も接続されており、内部観測制御部1005からの制御信号によっていずれかを選択できる。セレクタ-E 1017の出力はコンパレータ1020へ閾値として入力される。
このようにコンパレータ1020に入力された閾値と電源モニタ信号の電圧レベルが一致した場合、例えば0.8Vになったと認識された場合、コンパレータ1020はトリガー信号を内部観測制御部1005へ出力する。内部観測制御部1005はトリガー信号が入力された時点を基準に、捕捉しているデバッグ信号に対し加工、蓄積等の作業を行いIO-A 1012を通して内部情報として半導体装置1001外部へ出力する。出力された内部情報は情報解析部1101に入力され、より詳細な解析を行う。
以上により、外部から任意に調整可能な閾値設定や半導体装置1001内部のみで数種類の閾値を生成することが可能となり様々な動作解析を行うことが可能となる。
また、電源、グランド共に各内部ブロック付近からモニタしているため、精度の高い解析が可能となる。
さらに、外部のリファレンス電圧を情報解析部1101内部のリファレンス電圧生成部1102で生成することもできる。この場合、情報処理部1103と連携することにより、半導体装置1001の動作中にダイナミックにリファレンス電圧を変化させたり、情報処理部1103が内部観測制御部1005に出力するコントロール信号に応じたリファレンス電圧を設定したりすることが可能となり、よりきめ細かい動作解析を行うことが可能となる。
なお、本実施の形態ではコンパレータは1個のみとしてあるが、複数搭載し異なった条件のトリガー信号を活用できるようにしてもよい。
本発明にかかる半導体内部状態観測装置は、システムLSI内部の電源揺れ状態と内部動作状態を関連付けた内部状態信号を半導体外部へ出力する機構を有し、半導体が正しい動作を行っているかの検証手法として有用である。また性能改善システム調整等の用途にも応用できる。
本発明の実施の形態1における半導体内部監視装置のブロック図 従来の実施の形態における半導体内部監視装置のブロック図
符号の説明
1001 半導体装置
1002 CPU
1003 AV処理部
1004 ストリーム処理部
1005 内部観測制御部
1006 内部バス
1007 電源パス
1008 電源端子部
1009 グランドパス
1010 グランド端子部
1011 IO-B
1012 IO-A
1013 セレクタ-A
1014 セレクタ-B
1015 セレクタ-D
1016 セレクタ-C
1017 セレクタ-E
1018 H抵抗
1019 L抵抗
1020 コンパレータ
1021 制御信号
1022 デバッグ信号
1023 電源入力部
1024 グランド入力部
1101 情報解析部
1102 リファレンス電圧生成部
1103 情報処理部
2001 半導体装置
2002 CPU
2003 AV処理部
2004 ストリーム処理部
2005 内部信号制御部
2006 内部バス
2007 電源パス
2008 電圧比較部
2009 IO-A
2010 IO-D

Claims (12)

  1. 信号線によって接続される複数の機能ブロックと、
    前記機能ブロックへ電源を供給するための電源端子部およびグランド端子部と、
    前記機能ブロックの電源入力部に印加される電圧をモニタする電圧モニタ信号と基準電圧であるリファレンス電圧信号とが入力され、前記電圧モニタ信号が前記リファレンス電圧信号と一致した場合に、一致信号を出力するコンパレータと、
    前記一致信号をトリガーとしてデバッグ情報を収集し、前記デバッグ情報を選択的に出力する内部観測制御部と、
    を備えた半導体装置。
  2. 前記内部観測制御部からの制御信号によって、複数の機能ブロックの電圧モニタ信号のうちいずれかを選択し、前記コンパレータに出力する第1のセレクタを更に備えた請求項1記載の半導体装置。
  3. 前記リファレンス電圧信号を、前記電源入力部の電圧とグランド入力部の電圧とから抵抗分圧で生成する抵抗分圧用回路を更に備えたことを特徴とする請求項1または2記載の半導体装置。
  4. 前記リファレンス電圧信号を、前記半導体装置外部から供給される外部リファレンス電圧と前記グランド入力部の電圧とから抵抗分圧で生成する抵抗分圧用回路を更に備えたことを特徴とする請求項1または2記載の半導体装置。
  5. 前記内部観測制御部からの制御信号によって、前記電源入力部の電圧と前記外部リファレンス電圧のいずれかを選択し、前記抵抗分圧用回路へ出力する第2のセレクタを更に備えたことを特徴とする請求項3または4記載の半導体装置。
  6. 前記抵抗分圧用回路が抵抗値の異なる複数の抵抗で構成され、
    前記内部観測制御部からの制御信号によって、いずれかの抵抗を選択する第3のセレクタを更に備えたことを特徴とする請求項3〜5のいずれかに記載の半導体装置。
  7. 前記内部観測制御部からの制御信号によって、前記外部リファレンス電圧と前記抵抗分圧で生成される電圧のいずれかを選択し、前記コンパレータへ出力する第4のセレクタを更に備えたことを特徴とする請求項3〜6のいずれかに記載の半導体装置。
  8. 前記抵抗分圧用回路は、前記複数の機能ブロックのグランド入力部からのグランドモニタ信号を入力とすることを特徴とする請求項3〜7のいずれかに記載の半導体装置。
  9. 前記内部観測制御部からの制御信号によって、前記複数の機能ブロックからのグランドモニタ信号のうちいずれかを選択し、前記抵抗分圧用回路に出力する第5のセレクタを更に備えたことを特徴とする請求項8記載の半導体装置。
  10. 請求項1〜9のいずれかに記載の半導体装置から外部に出力されるデバッグ情報を処理する情報処理部を備えた半導体内部状態観測装置。
  11. 前記半導体装置が参照する外部リファレンス電圧を生成するリファレンス電圧生成部を更に備えたことを特徴とする請求項10記載の半導体内部状態観測装置。
  12. 前記情報処理部が、前記半導体装置の内部観測制御部に対し、動作条件設定用コントロール信号を出力することを特徴とする請求項10または11記載の半導体内部状態観測装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2012210582A (ja) * 2011-03-31 2012-11-01 Toray Ind Inc 複合半透膜およびその製造方法

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