JP2008034648A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】パーティクルおよびミストの基板への付着を防止することが可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】塗布装置100は、箱形の処理チャンバ1を備える。この処理チャンバ1の4つの側面には、スリット1aがそれぞれ設けられている。処理チャンバ1を取り囲むように箱形のハウジング2が設けられている。処理チャンバ1とハウジング2との間に空間SPが形成される。ハウジング2の上部には、空間SP内にダウンフローを形成するためのファンフィルタユニットFFUが設けられている。ファンフィルタユニットFFUに供給された空気は、当該ファンフィルタユニットFFUにより清浄化され、空間SPに供給される。空間SPに供給された空気は、処理チャンバ1の各スリット1aを介して当該処理チャンバ1内に供給される。これにより、処理チャンバ1内に竜巻状の気流が発生される。
【選択図】図1
【解決手段】塗布装置100は、箱形の処理チャンバ1を備える。この処理チャンバ1の4つの側面には、スリット1aがそれぞれ設けられている。処理チャンバ1を取り囲むように箱形のハウジング2が設けられている。処理チャンバ1とハウジング2との間に空間SPが形成される。ハウジング2の上部には、空間SP内にダウンフローを形成するためのファンフィルタユニットFFUが設けられている。ファンフィルタユニットFFUに供給された空気は、当該ファンフィルタユニットFFUにより清浄化され、空間SPに供給される。空間SPに供給された空気は、処理チャンバ1の各スリット1aを介して当該処理チャンバ1内に供給される。これにより、処理チャンバ1内に竜巻状の気流が発生される。
【選択図】図1
Description
本発明は、基板に処理を行う基板処理装置に関する。
半導体デバイス、液晶ディスプレイ等の製造工程におけるフォトリソグラフィー工程では、最初に、基板上にレジスト膜が形成される。そして、基板上に形成されたレジスト膜が所定のパターンで露光される。次に、上記のように露光処理が施された基板に現像処理を行うことにより、基板上にレジストパターンが形成される。
一般的に、基板上にレジスト膜を形成する方法として、スピンコート法が広く用いられている。
スピンコート法による成膜を行う装置(以下、塗布装置と呼ぶ)は、主として、基板の周囲を囲うように配置された処理カップと、当該処理カップを囲うように配置された処理ユニットとを備える(例えば、特許文献1参照)。
このような塗布装置では、処理ユニットの上部からファン等により温度および湿度が制御された清浄な空気を導入することによって基板の周囲の雰囲気を制御するとともに、底部から強制的に排気を行うことにより基板の周囲の雰囲気を強制的に排気する。
特開2000−24575号公報
上記塗布装置において処理を行うのに適した温度および湿度を維持するために、基板の上方から当該基板に向けて、空気制御ユニット(ACU)により十分な量の空気を供給する。
しかしながら、供給された空気が基板の中央部から周縁部に流れ、処理カップの底部から排気される際に、基板の周縁部において上記空気の流れと基板の回転による気流との摩擦によって乱流が発生する。
その結果、発生した乱流により処理カップの内面等に付着しているパーティクル(粉塵)および処理カップ内に浮遊しているレジスト液のミスト(微小液滴)が散乱する。これにより、散乱したパーティクルが基板に付着する場合がある。その結果、基板の処理不良が発生する。
本発明の目的は、パーティクルおよびミストの基板への付着を防止することが可能な基板処理装置を提供することである。
(1)本発明に係る基板処理装置は、基板に処理を行う基板処理装置であって、基板を保持しつつ回転させる基板保持手段と、基板保持手段により保持された基板上に処理液を供給する処理液供給手段と、基板保持手段により回転される基板の接線方向または当該接線方向と平行な方向に気体を噴出する3つ以上の噴出口を有する気体噴出手段と、基板保持手段、処理液供給手段および気体噴出手段を収容する筐体とを備えたものである。
本発明に係る基板処理装置においては、基板は基板保持手段により保持されつつ回転される。基板保持手段により保持された基板上に処理液が処理液供給手段により供給される。
また、気体噴出手段の3つ以上の噴出口によって、基板保持手段により回転される基板の接線方向または当該接線方向と平行な方向に気体が噴出される。基板保持手段、処理液供給手段および気体噴出手段は筐体内に収容される。
このように、基板に処理が行われる際に、基板保持手段により回転される基板の接線方向または当該接線方向と平行な方向に気体が噴出されることによって、筐体内の基板の上方に竜巻状の気流を発生させることが可能となる。それにより、基板の周辺における雰囲気と基板の回転により生じる気流との摩擦によって発生する乱流を当該竜巻状の気流により吸収することが可能となる。これにより、乱流が除去される。
このような構成により、筐体内に設けられた各種部材に付着しているパーティクル(粉塵)および当該筐体内に浮遊するミスト(微小液滴)が乱流により散乱することが防止される。したがって、パーティクルが基板に付着することが防止される。
また、従来までは、上記乱流の影響を考慮して、基板を高速で回転させることは困難であったが、本発明に係る基板処理装置を用いることによって、基板を高速で回転させた場合でも、竜巻状の気流を発生させることにより乱流を除去することが可能となる。
したがって、基板の高速回転によるレジスト液の塗布処理の短時間化を図ることができるとともに、形成すべきレジスト膜の膜厚調整を目的とした基板の回転数の許容範囲を大きくすることができる。
処理液が塗布液であってもよい。この場合、基板上に塗布膜を形成する場合に、上記乱流の影響により基板上の塗布膜の周縁部において斑(風きり斑)が発生すること、および当該塗布膜の周縁部の膜厚が厚くなってしまうことが防止される。これにより、基板上に均一な膜厚を有する塗布膜が形成される。
処理液が現像液、リンス液または洗浄液であってもよい。この場合、基板の現像処理、現像処理後のリンス処理または洗浄処理を行う場合においても、基板保持手段により回転される基板の接線方向または当該接線方向と平行な方向に気体が噴出されることによって、筐体内の基板の上方に竜巻状の気流を発生させることが可能となる。それにより、基板の周辺における雰囲気と基板の回転により生じる気流との摩擦によって発生する乱流を当該竜巻状の気流により吸収することが可能となる。これにより、乱流が除去される。
このような構成により、筐体内に設けられた各種部材に付着しているパーティクルおよび当該筐体内に浮遊するミストが乱流により散乱することが防止される。したがって、パーティクルが基板に付着することが防止されることによって、現像処理、リンス処理または洗浄処理が良好に実施される。
(2)基板処理装置は、基板保持手段を取り囲むように設けられかつ上部開口を有し、基板上に供給された処理液が外方に飛散することを防止するための飛散防止部材をさらに備え、気体噴出手段の噴出口は、飛散防止部材の上部開口の上方に螺旋状の気流が発生するように配置されてもよい。
この場合、基板上に供給された処理液が外方に飛散することを防止するための飛散防止部材が基板保持手段を取り囲むように設けられる。気体噴出手段の噴出口は、飛散防止部材の上部開口の上方に螺旋状の気流が発生するように配置される。それにより、基板の上方における雰囲気と基板の回転により生じる気流との摩擦によって発生する乱流を上記螺旋状の気流により吸収することが可能となる。これにより、乱流が除去される。
このような構成により、飛散防止部材の内壁等に付着しているパーティクルおよび当該飛散防止部材で取り囲まれた空間内に浮遊するミストが乱流により散乱することが防止される。したがって、パーティクルが基板に付着することが防止される。
(3)気体噴出手段は、筐体内に気体を供給する気体供給手段と、飛散防止部材の上部開口の上方の空間を取り囲むように設けられた気流形成室とを含み、気流形成室は、3つ以上の噴出口を有してもよい。
この場合、気体供給手段により筐体内に気体が供給される。また、飛散防止部材の上部開口の上方の空間を取り囲むように気体形成室が設けられる。そして、気体形成室は3つ以上の噴出口を有している。これにより、筐体内に供給された気体は、気体形成室の3つ以上の噴出口から基板の上方に導入される。このような構成により、基板の上方に良好な竜巻状の気流を発生させることが可能となる。
(4)気体供給手段は、気体の温度および湿度を制御する気体制御手段と、気体制御手段により温度および湿度が制御された気体を清浄化する気体清浄化手段とを含んでもよい。
この場合、気体制御手段により温度および湿度が制御された気体が気体清浄化手段により清浄化される。これにより、基板の処理の種類に応じた所望の温度および湿度を有し、清浄化された気体が、筐体内および気体形成室内に供給される。
(5)気体噴出手段は、飛散防止部材の上部開口の上方の空間の周囲に配置された3つ以上の噴出部材を含み、3つ以上の噴出部材の各々は、噴出口を有してもよい。
この場合、3つ以上の噴出部材が飛散防止部材の上部開口の上方の空間の周囲に配置される。また、3つ以上の噴出部材の各々は、噴出口を有している。これにより、3つ以上の噴出部材の各噴出口から気体が基板の上方に供給される。このような構成により、基板の上方に良好な竜巻状の気流を発生させることが可能となる。
(6)噴出口の各々は、上下方向に延びるスリット状に形成されてもよい。このように、噴出口の各々が上下方向に延びるスリット状に形成されていることにより、噴出口の各々から噴出される気体の旋回力が増し、良好な竜巻状の気流を発生させることが可能となる。
(7)噴出口の各々は、上下方向に並ぶ複数の孔を含んでもよい。この場合、上下方向に並ぶ複数の孔から気体が噴出される。また、上下方向に複数の孔を並べることにより、上下方向に延びるスリット状の上述の噴出口に類似した噴出口を形成できる。このような構成により、旋回力が増した良好な竜巻状の気流を発生させることができる。
(8)3つ以上の噴出口は、基板保持手段により回転される基板の回転中心に関して等角度間隔で配置されてもよい。
このような構成により、さらに旋回力が増した信頼性の高い竜巻上の気流を発生させることが可能となる。
(9)基板処理装置は、基板保持手段の下方から筐体の外部に気体を排出する排気手段をさらに備えてもよい。
この場合、筐体内に設けられた各種部材に付着しているパーティクルおよび当該筐体内に浮遊するミストが乱流により散乱した場合でも、竜巻状の気流によりパーティクルおよびミストを吸収することができる。そして、パーティクルおよびミストを吸収した竜巻状の気流を排気手段により筐体の外部に排出することができる。これにより、パーティクルおよびミストの除去装置が不要となる。
本発明に係る基板処理装置によれば、パーティクルおよびミストの基板への付着を防止することが可能となる。
以下、本発明に係る基板処理装置の一例として塗布装置について図面を参照しながら説明する。
以下の説明において、基板とは、半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、PDP(プラズマディスプレイパネル)用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等をいう。
(1)第1の実施の形態
(1−1)塗布装置の全体構成
最初に、第1の実施の形態に係る塗布装置の構成について図面を参照しながら説明する。
(1−1)塗布装置の全体構成
最初に、第1の実施の形態に係る塗布装置の構成について図面を参照しながら説明する。
図1は、第1の実施の形態に係る塗布装置の全体構成を示す断面図である。
図1に示すように、塗布装置100は、箱形の処理チャンバ1を備える。この処理チャンバ1の4つの側面には、例えば長さ260mmおよび幅4mmのスリット1aがそれぞれ設けられている。なお、図1においては、断面図の関係上、他の3つのスリット1aは図示されていない。
また、処理チャンバ1を取り囲むように箱形のハウジング2が設けられている。処理チャンバ1と上記ハウジング2との間に空間SPが形成される。
ハウジング2の上部には、上記空間SP内にダウンフロー(下降流)を形成するためのファンフィルタユニットFFUが設けられている。ファンフィルタユニットFFUは、ファンおよびフィルタから構成される。
ファンフィルタユニットFFUには、ダクト3の一端が接続され、当該ダクト3の他端は空気制御装置(ACU)4に接続されている。このような構成により、空気制御装置4において所定の温度および湿度に制御された空気が、ダクト3を介してファンフィルタユニットFFUに供給される。そして、ファンフィルタユニットFFUに供給された空気は、当該ファンフィルタユニットFFUにより清浄化され、空間SPに供給される。
空間SPに供給された空気は、処理チャンバ1の各スリット1aを介して当該処理チャンバ1内に供給される。なお、処理チャンバ1内に供給された空気の作用および効果については後述する。
処理チャンバ1内には、処理対象である基板Wを水平に保持するとともに基板Wの中心を通る鉛直な回転軸の周りで回転させるための吸着式のスピンチャック21が設けられている。
このスピンチャック21は、チャック回転駆動機構22によって回転される回転軸23の上端に固定されている。また、スピンチャック21は、上部および下部が開口された処理カップ24内に収容されている。
なお、本実施の形態では、吸着式のスピンチャック21を用いているが、基板Wの周縁部を保持する端縁保持式のスピンチャックを用いてもよい。
また、処理チャンバ1内には、各種レジスト液を基板W上に供給するレジスト液供給ノズル50,51,52が設けられている。
本実施の形態では、スピンチャック21により回転される基板W上にレジスト液供給ノズル50,51,52のいずれかによりレジスト液が供給される(以下、塗布処理と呼ぶ)。それにより、基板W上にレジスト膜が形成される。
ハウジング2の一側面の略中央部には、開口部25が形成されている。この開口部25には、搬入搬出用シャッタ26が取り付けられている。図示しない駆動部により搬入搬出用シャッタ26を駆動することにより開口部25の開閉が行われる。
同様に、処理チャンバ1の一側面の略中央部において上記開口部25に対応する位置には、開口部27が形成されている。この開口部27には、搬入搬出用シャッタ28が取り付けられている。図示しない駆動部により搬入搬出用シャッタ28を駆動することにより開口部27の開閉が行われる。
このような構成において、搬入搬出用シャッタ26,28により開口部25,27が開状態にされることによって、基板Wが処理チャンバ1内に搬入および当該処理チャンバ1内から搬出される。
ここで、レジスト液の塗布処理の際には、上述したように、ファンフィルタユニットFFUからの空気が、空間SPを介して処理チャンバ1の各スリット1a(本実施の形態では、4つ)から当該処理チャンバ1内に供給される。それにより、基板Wの上方に、当該基板Wの回転方向と同方向に旋回する竜巻状の気流を発生させることが可能となる。ここで、竜巻状の気流とは、螺旋状に旋回する気流をいう。
このように発生された竜巻状の気流は、基板Wの上方から処理カップ24の下方へと進行し、処理チャンバ1の下部に設けられた排気管29を介してハウジング2の外部へ排出される。
(1−2)処理チャンバにおける各スリットの位置
次に、処理チャンバ1における各スリット1aの位置について図面を参照しながら説明する。
次に、処理チャンバ1における各スリット1aの位置について図面を参照しながら説明する。
図2は、処理チャンバ1における各スリット1aの位置について示す説明図である。なお、図2(a)は、処理チャンバ1における各スリット1aの位置を示す斜視図であり、図2(b)は、図2(a)におけるP面断面図である。
図2(a)に示すように、スリット1aは、処理チャンバ1の4つの側面の所定の位置にそれぞれ設けられる。なお、各スリット1aの上記所定の位置については後述する。
図2(b)に示すように、処理チャンバ1の4つの側面にスリット1aをそれぞれ設けることによって、各スリット1aから処理チャンバ1内に導入された空気が竜巻状の気流を形成する。
図3は、処理チャンバ1における各スリット1aの位置の好ましい例を示す説明図である。
図3に示すように、処理チャンバ1の4つの側面において各スリット1aは、以下のように設けられる。すなわち、各スリット1aは、基板Wの接線の延長線が処理チャンバ1の内壁に垂直に交差する位置にそれぞれ設けられる。このような構成により、基板Wの回転方向と同方向に旋回する良好な竜巻状の気流を処理チャンバ1内に発生させることが可能となる。
(1−3)第1の実施の形態における効果
このように、ハウジング2内に処理チャンバ1を配置した2重構造を採用するとともに、当該処理チャンバ1に4つのスリット1aを設けた塗布装置100を用いることによって、以下のような効果が奏される。
このように、ハウジング2内に処理チャンバ1を配置した2重構造を採用するとともに、当該処理チャンバ1に4つのスリット1aを設けた塗布装置100を用いることによって、以下のような効果が奏される。
塗布装置100においてレジスト液の塗布処理を行う際に、処理チャンバ1内に竜巻状の気流を発生させることによって、ファンフィルタユニットFFUから供給された空気と基板Wの回転による気流との摩擦によって発生する乱流を当該竜巻状の気流により吸収することが可能となる。それにより、乱流が除去される。
これにより、処理カップ24の内面等に付着しているパーティクル(粉塵)および処理カップ24内に浮遊するミスト(微小液滴)が乱流により散乱することが防止される。したがって、パーティクルが基板Wに付着することが防止される。
また、上記のような構成により、上記乱流の影響により基板W上のレジスト膜の周縁部において斑(風きり斑)が発生すること、および当該レジスト膜の周縁部の膜厚が厚くなってしまうことが防止される。これにより、基板W上に均一な膜厚を有するレジスト膜が形成される。
さらに、従来までは、上記乱流の影響を考慮して、基板Wを高速で回転させることは困難であったが、本実施の形態に係る塗布装置100を用いることによって、基板Wを高速で回転させた場合でも、竜巻状の気流を発生させることにより乱流を除去することが可能となる。
したがって、基板Wの高速回転による塗布処理の短時間化を図ることができるとともに、形成すべきレジスト膜の膜厚調整を目的とした基板Wの回転数の許容範囲を大きくすることができる。
(2)第2の実施の形態
(2−1)塗布装置の全体構成
次に、第2の実施の形態に係る塗布装置の構成について図面を参照しながら説明する。
(2−1)塗布装置の全体構成
次に、第2の実施の形態に係る塗布装置の構成について図面を参照しながら説明する。
図4は、第2の実施の形態に係る塗布装置の全体構成を示す断面図である。
図4に示すように、第2の実施の形態に係る塗布装置101の構成が上述の第1の実施の形態に係る塗布装置100の構成と異なる点は以下の点である。
塗布装置101においては、ハウジング2内に処理チャンバ1は設けられていない。すなわち、本実施の形態に係る塗布装置101は2重構造を有していないとともに、スリット1aも有していない。
また、処理カップ24上に複数(本実施の形態では、4本(後述))の空気噴出バー30が設けられている。
(2−2)空気噴出バーの構成
次いで、処理カップ24上に設けられる複数の空気噴出バー30の構成およびその配置について説明する。
次いで、処理カップ24上に設けられる複数の空気噴出バー30の構成およびその配置について説明する。
図5は、空気噴出バー30の構成およびその配置を示す模式図である。なお、図5(a)は空気噴出バー30を示す斜視図であり、図5(b)は図5(a)の上面図である。
図5(a)に示すように、処理カップ24は、断面円形の本体部24aと、当該本体部24a上に設けられた断面円形の開口部24bとを備える。本体部24aの直径は開口部24bの直径よりも大きくなっている。これにより、本体部24a上に環状の上面部24cが形成されている。
この上面部24c上に4つの空気噴出バー30が起立した状態でそれぞれ設けられている。各空気噴出バー30には、複数の噴出孔30aが当該空気噴出バー30の長さ方向に沿ってほぼ等間隔で並ぶようにそれぞれ設けられている。
ここで、図5(b)に示すように、各空気噴出バー30は、処理カップ24の上面部24c上に基板Wの回転中心に関してほぼ90°間隔で設けられることが好ましい。
そして、各空気噴出バー30の各噴出孔30aは、基板Wの接線と平行な方向にそれぞれ開口されている。また、各空気噴出バー30の各噴出孔30aは、図示しない空気供給源にそれぞれ接続されている。これにより、各空気噴出バー30によって基板Wの接線と平行な方向に空気をそれぞれ噴出することができる。例えば、4つの空気噴出バー30による空気の噴出量は、処理カップ24の下方から排出される排気量と等しい量、または当該排気量以上の量となる。
このような構成により、基板Wの回転方向と同方向に旋回する良好な竜巻状の気流を基板Wの上方に発生させることが可能となる。
(2−3)第2の実施の形態における効果
このように、処理カップ24上に4つの空気噴出バー30を設けた塗布装置101を用いることによって、以下のような効果が奏される。
このように、処理カップ24上に4つの空気噴出バー30を設けた塗布装置101を用いることによって、以下のような効果が奏される。
第1に、塗布装置101において基板Wにレジスト液の塗布処理を行う際に、処理カップ24の上方に竜巻状の気流を発生させることによって、ファンフィルタユニットFFUから供給された空気と基板Wの回転による気流との摩擦によって発生する乱流を当該竜巻状の気流により吸収することが可能となる。それにより、乱流が除去される。
これにより、処理カップ24の内面等に付着しているパーティクル(粉塵)が乱流により散乱することが防止される。したがって、パーティクルが基板Wに付着することが防止される。
また、上記のような構成により、上記乱流の影響により基板W上のレジスト膜の周縁部において斑(風きり斑)が発生すること、および当該レジスト膜の膜厚が厚くなってしまうことが防止される。これにより、基板W上に均一な膜厚を有するレジスト膜が形成される。
さらに、従来までは、上記乱流の影響を考慮して、基板Wを高速で回転させることは困難であったが、本実施の形態に係る塗布装置101を用いることによって、基板Wを高速で回転させた場合でも、竜巻状の気流を発生させることにより乱流を除去することが可能となる。
したがって、基板Wの高速回転による塗布処理の短時間化を図ることができるとともに、形成すべきレジスト膜の膜厚調整を目的とした基板Wの回転数の許容範囲を大きくすることができる。
(3)他の実施の形態
図6は、第1の実施の形態に係る塗布装置100における処理チャンバ1の他の例を示す断面図である。
図6は、第1の実施の形態に係る塗布装置100における処理チャンバ1の他の例を示す断面図である。
第1の実施の形態における箱形の処理チャンバ1の代わりに、図6に示すように、円筒形の処理チャンバ11を用いてもよい。
本例の処理チャンバ11の側面には、4つのスリット11aが基板Wの回転中心に関してほぼ90°間隔で設けられる。そして、各スリット11aには処理チャンバ11の内周面から内方へ向くように供給管11bが接続されている。
各供給管11bの先端部は、基板Wの接線の方向と同じ方向にそれぞれ屈曲し、空気が一定の方向(時計周りまたは反時計周り)にそれぞれ供給されるような方向に開口されている。
なお、図6においては、処理チャンバ11の側面上にほぼ90°間隔で4つのスリット11aとこれらに対応する4つの供給管11bとをそれぞれ設けることとしたが、これに限定されるものではなく、処理チャンバ11の側面上に例えば120°間隔で3つのスリット11aとこれらに対応する3つの供給管11bとをそれぞれ設けてもよく、あるいは5つ以上のスリット11aおよび供給管11bをそれぞれ設けてもよい。
このような構成により、基板Wの回転方向と同方向に旋回する良好な竜巻状の気流を基板Wの上方に発生させることが可能となる。
また、上記第2の実施の形態においては、処理カップ24の上面部24c上にほぼ90°間隔で4つの空気噴出バー30をそれぞれ設けることとしたが、これに限定されるものではなく、上記上面部24c上に例えば120°間隔で3つの空気噴出バー30をそれぞれ設けてもよく、あるいは5つ以上の空気噴出バー30を設けてもよい。
また、上記第1および第2の実施の形態においては、塗布処理として基板W上にレジスト膜を形成する場合について説明したが、これに限定されるものではなく、例えば反射防止膜等の他の成膜時においても塗布装置100,101を用いることが可能である。
また、上記第1および第2の実施の形態においては、ファンフィルタユニットFFUにより空気を供給することとしたが、これに限定されるものではなく、例えば窒素ガス等の不活性ガスを供給してもよい。
また、上記第1の実施の形態における各スリット1aの代わりに上下方向に配置された複数の孔を設けてもよい。
さらに、上記第2の実施の形態における各空気噴出バー30の複数の噴出孔30aの代わりに上下方向に延びるスリットを設けてもよい。
(4)他の基板処理装置への適用例
本発明は、塗布装置に限らず、以下に示すように、種々の基板処理装置に適用可能である。
本発明は、塗布装置に限らず、以下に示すように、種々の基板処理装置に適用可能である。
(4−1)現像装置
現像装置では、図1または図4のレジスト液供給ノズル50,51,52の代わりに現像液供給ノズルおよびリンス液供給ノズルが設けられる。
現像装置では、図1または図4のレジスト液供給ノズル50,51,52の代わりに現像液供給ノズルおよびリンス液供給ノズルが設けられる。
現像装置では、回転される基板W上に現像液供給ノズルにより現像液が供給される(以下、現像処理と呼ぶ)。その後、基板Wが静止状態で一定時間保持される。それにより、別工程による露光後の基板W上のレジスト膜の現像処理が行われる。
そして、リンス液供給ノズルにより回転される基板上にリンス液が供給され、現像の進行が停止される。最後に、基板が高速で回転されることにより基板が乾燥される。
現像装置においても、基板Wの現像処理またはリンス処理を行う際に、処理チャンバ1内に竜巻状の気流を発生させることによって、ファンフィルタユニットFFUから供給された空気と基板Wの回転による気流との摩擦によって発生する乱流を当該竜巻状の気流により除去することが可能となる。
これにより、処理カップ24の内面等に付着しているパーティクルおよび処理カップ24内に浮遊するミスト(微小液滴)が乱流により散乱することが防止される。それにより、パーティクルおよび処理カップ24内に浮遊するミスト(微小液滴)が基板Wに付着することが防止される。したがって、基板Wの現像処理およびリンス処理を良好に実施することが可能となる。
(4−2)洗浄装置
洗浄装置では、図1または図4のレジスト液供給ノズル50,51,52の代わりに洗浄液供給ノズルおよびリンス液供給ノズルが設けられる。
洗浄装置では、図1または図4のレジスト液供給ノズル50,51,52の代わりに洗浄液供給ノズルおよびリンス液供給ノズルが設けられる。
洗浄装置では、回転される基板W上に洗浄液供給ノズルにより洗浄液が供給される(以下、洗浄処理と呼ぶ)。それにより、基板Wの洗浄処理が行われる。
その後、リンス液供給ノズルにより回転される基板上にリンス液が供給され、洗浄液が洗い流される。最後に、基板が高速で回転されることにより基板が乾燥される。
洗浄装置においても、基板Wの洗浄処理を行う際に、処理チャンバ1内に竜巻状の気流を発生させることによって、ファンフィルタユニットFFUから供給された空気と基板Wの回転による気流との摩擦によって発生する乱流を当該竜巻状の気流により除去することが可能となる。
これにより、処理カップ24の内面等に付着しているパーティクルおよび処理カップ24内に浮遊するミスト(微小液滴)が乱流により散乱することが防止される。それにより、パーティクルおよび処理カップ24内に浮遊するミスト(微小液滴)が基板Wに付着することが防止される。したがって、基板Wの洗浄処理を良好に実施することが可能となる。
(5)請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応関係
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
上記実施の形態においては、スピンチャック21が基板保持手段に相当し、レジスト液供給ノズル50,51,52が処理液供給手段に相当し、スリット1a,11aおよび空気噴出バー30が気体噴出手段に相当し、ハウジング2が筐体に相当し、処理カップ24が飛散防止部材に相当し、スリット1a,11aおよび噴出孔30aが噴出口に相当し、ファンフィルタユニットFFU、ダクト3および空気制御装置4が気体供給手段に相当し、処理チャンバ1,11が気流形成室に相当し、空気制御装置4が気体制御手段に相当し、ファンフィルタユニットFFUが気体清浄化手段に相当し、空気噴出バー30が噴出部材に相当し、排気管29が排気手段に相当する。
本発明に係る塗布装置は、半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、PDP用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等の種々の基板に所定の処理を行うため等に利用することができる。
1,11 処理チャンバ
1a,11a スリット
2 ハウジング
3 ダクト
4 空気制御装置(ACU)
11b 供給管
21 スピンチャック
22 チャック回転駆動機構
24 処理カップ
24a 本体部
24b 開口部
24c 上面部
29 排気管
30 空気噴出バー
30a 噴出孔
50,51,52 レジスト液供給ノズル
100,101 塗布装置
FFU ファンフィルタユニット
SP 空間
W 基板
1a,11a スリット
2 ハウジング
3 ダクト
4 空気制御装置(ACU)
11b 供給管
21 スピンチャック
22 チャック回転駆動機構
24 処理カップ
24a 本体部
24b 開口部
24c 上面部
29 排気管
30 空気噴出バー
30a 噴出孔
50,51,52 レジスト液供給ノズル
100,101 塗布装置
FFU ファンフィルタユニット
SP 空間
W 基板
Claims (9)
- 基板に処理を行う基板処理装置であって、
基板を保持しつつ回転させる基板保持手段と、
前記基板保持手段により保持された基板上に処理液を供給する処理液供給手段と、
前記基板保持手段により回転される基板の接線方向または当該接線方向と平行な方向に気体を噴出する3つ以上の噴出口を有する気体噴出手段と、
前記基板保持手段、前記処理液供給手段および気体噴出手段を収容する筐体とを備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 前記基板保持手段を取り囲むように設けられかつ上部開口を有し、基板上に供給された処理液が外方に飛散することを防止するための飛散防止部材をさらに備え、
前記気体噴出手段の噴出口は、前記飛散防止部材の上部開口の上方に螺旋状の気流が発生するように配置されることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。 - 前記気体噴出手段は、
前記筐体内に気体を供給する気体供給手段と、
前記飛散防止部材の前記上部開口の上方の空間を取り囲むように設けられた気流形成室とを含み、
前記気流形成室は、前記3つ以上の噴出口を有することを特徴とする請求項2記載の基板処理装置。 - 前記気体供給手段は、
気体の温度および湿度を制御する気体制御手段と、前記気体制御手段により温度および湿度が制御された気体を清浄化する気体清浄化手段とを含むことを特徴とする請求項3記載の基板処理装置。 - 前記気体噴出手段は、
前記飛散防止部材の前記上部開口の上方の空間の周囲に配置された3つ以上の噴出部材を含み、
前記3つ以上の噴出部材の各々は、前記噴出口を有することを特徴とする請求項2記載の基板処理装置。 - 前記噴出口の各々は、上下方向に延びるスリット状に形成されたことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記噴出口の各々は、上下方向に並ぶ複数の孔を含むことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記3つ以上の噴出口は、前記基板保持手段により回転される基板の回転中心に関して等角度間隔で配置されたことを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記基板保持手段の下方から前記筐体の外部に気体を排出する排気手段をさらに備えたことを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の基板処理装置。
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- 2007-07-26 US US11/828,514 patent/US7926439B2/en not_active Expired - Fee Related
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