JP2008026093A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008026093A5 JP2008026093A5 JP2006197590A JP2006197590A JP2008026093A5 JP 2008026093 A5 JP2008026093 A5 JP 2008026093A5 JP 2006197590 A JP2006197590 A JP 2006197590A JP 2006197590 A JP2006197590 A JP 2006197590A JP 2008026093 A5 JP2008026093 A5 JP 2008026093A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- film
- amorphous
- layer
- multilayer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 13
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 10
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006197590A JP2008026093A (ja) | 2006-07-20 | 2006-07-20 | 多層膜反射鏡およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006197590A JP2008026093A (ja) | 2006-07-20 | 2006-07-20 | 多層膜反射鏡およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008026093A JP2008026093A (ja) | 2008-02-07 |
| JP2008026093A5 true JP2008026093A5 (enExample) | 2009-09-03 |
Family
ID=39116878
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006197590A Pending JP2008026093A (ja) | 2006-07-20 | 2006-07-20 | 多層膜反射鏡およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2008026093A (enExample) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011073157A1 (en) * | 2009-12-15 | 2011-06-23 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Reflective optical element for euv lithography |
| CN105088154B (zh) * | 2010-06-25 | 2018-05-18 | 佳能安内华股份有限公司 | 溅射设备、膜沉积方法和控制装置 |
| KR102051730B1 (ko) * | 2018-01-12 | 2019-12-04 | 한양대학교 산학협력단 | 스페이서 패턴 및 위상변위 패턴을 포함하는 위상변위 마스크 및 그 제조 방법 |
| US11275300B2 (en) | 2018-07-06 | 2022-03-15 | Applied Materials Inc. | Extreme ultraviolet mask blank defect reduction |
| TWI818151B (zh) | 2019-03-01 | 2023-10-11 | 美商應用材料股份有限公司 | 物理氣相沉積腔室及其操作方法 |
| JP7596908B2 (ja) * | 2021-04-20 | 2024-12-10 | 株式会社デンソー | 半導体ウェハ、圧電素子、および半導体ウェハの製造方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001027700A (ja) * | 1999-07-14 | 2001-01-30 | Nikon Corp | 多層膜反射鏡、多層膜反射鏡の製造方法、多層膜反射鏡の応力の制御方法および露光装置 |
| US6228512B1 (en) * | 1999-05-26 | 2001-05-08 | The Regents Of The University Of California | MoRu/Be multilayers for extreme ultraviolet applications |
| JP4461652B2 (ja) * | 2001-07-31 | 2010-05-12 | 株式会社ニコン | 多層膜反射鏡及び多層膜反射鏡の製造方法 |
| JP4356696B2 (ja) * | 2003-06-02 | 2009-11-04 | 株式会社ニコン | 多層膜反射鏡及びx線露光装置 |
| JP2005049122A (ja) * | 2003-07-30 | 2005-02-24 | Nikon Corp | 多層膜反射鏡及び露光装置 |
-
2006
- 2006-07-20 JP JP2006197590A patent/JP2008026093A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4926523B2 (ja) | 反射型マスクブランクス及び反射型マスク並びに半導体装置の製造方法 | |
| JP2017181571A5 (enExample) | ||
| JP2022069683A5 (enExample) | ||
| JP2010500776A5 (enExample) | ||
| CN109669318A (zh) | 极紫外(euv)光刻掩模 | |
| JP2016048379A5 (ja) | マスクブランク用基板の製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、反射型マスクブランクの製造方法、反射型マスクの製造方法、透過型マスクブランクの製造方法、透過型マスクの製造方法、及び半導体装置の製造方法 | |
| JP2008209873A5 (enExample) | ||
| WO2015012151A1 (ja) | 多層反射膜付き基板、euvリソグラフィー用反射型マスクブランク、euvリソグラフィー用反射型マスク及びその製造方法、並びに半導体装置の製造方法 | |
| JP2008181112A5 (enExample) | ||
| JP2010206156A5 (ja) | 反射型マスクブランク、反射型マスクブランクの製造方法及び反射型マスクの製造方法 | |
| JP2009511308A5 (enExample) | ||
| WO2008018247A1 (en) | Transmission type polarizing element, and complex polarizing plate using the element | |
| US20200369000A1 (en) | Functional element and method of manufacturing functional element, and electronic apparatus | |
| JP2022551240A (ja) | 多層体光学偽造防止素子及びその製造方法 | |
| JP2007134464A5 (enExample) | ||
| JP2006178312A5 (enExample) | ||
| JP2024024687A5 (enExample) | ||
| JP2008026093A5 (enExample) | ||
| CN107615111B (zh) | 层叠体及其制造方法 | |
| JP2009272317A5 (enExample) | ||
| KR20220146493A (ko) | 펠리클막, 펠리클, 막, 그래핀 시트 및 그 제조 방법 | |
| CN102621601B (zh) | 一种平面像场超分辨成像透镜的制备方法 | |
| CN118915231A (zh) | 衍射光波导及其制备方法和增强现实显示装置 | |
| JP4926522B2 (ja) | 反射型マスクブランクス及び反射型マスク並びに半導体装置の製造方法 | |
| JP5084603B2 (ja) | 偏光子及び液晶プロジェクタ |