JP2008021850A - 積層コンデンサ - Google Patents

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Abstract

【課題】バリスタ部を備えており、サージ電流からの保護を確実に果たすことができると共に、焼成より製造されるに際してのチップの変形等が生じ難い、積層コンデンサを提供する。
【解決手段】第1のコンデンサ部3と、第1のコンデンサ部よりも静電容量が大きく、セラミック層を介して重なり合うように第3,第4の内部電極7a〜7e,8a〜8dが重なり合うように配置されている第2のコンデンサ部4とを有し、第1のコンデンサ部3に第2のコンデンサ部4が積層されており、第2のコンデンサ部4の第3の内部電極7a〜7fが第1の外部電極11に接続されており、第4の内部電極8a〜8eが第2の外部電極12に接続されており、第3の内部電極7a〜7fと第1の外部電極11との間、及び第4の内部電極8a〜8eと第2の外部電極12との間のうちの少なくとも一方にバリスタ部9,10が配置されている、積層コンデンサ1。
【選択図】図1

Description

本発明は、サージ電流に対する保護構造が備えられた積層セラミックコンデンサに関し、より詳細には、サージ電流からの保護を図るためのバリスタ部が備えられている積層コンデンサに関する。
パーソナルコンピュータなどの情報機器やエレクトロニクス機器では、部品の組立時や機器の通常の使用時に静電気放電が起こることがある。静電気放電が生じると、電子回路にサージ電流が流入することがある。従って、サージ電流から電子部品を保護することが求められている。
従来、電子回路にバリスタやサージアブソーバーなどのサージ吸収用部品を組み込むことにより、サージ電流の吸収が図られていた。さらに、電子機器の軽薄短小化に伴って、電子部品とサージ吸収用部品とを一体化してなる複合部品が提案されている。
下記の特許文献1には、この種の複合部品の一例が開示されている。図5は、特許文献1に記載の複合チップ型セラミック電子部品を示す模式的正面断面図である。
複合チップ型セラミック電子部品101は、複数のセラミック層を積層し、かつ焼成してなる焼成複合素体102を有する。焼成複合素体102では、コンデンサ部103とバリスタ部104とが、中間層105を介して積層されている。コンデンサ部103には、静電容量を取り出すための複数の第1の内部電極106と複数の第2の内部電極107とが設けられている。第1の内部電極106は、焼成複合素体102の一方の端面102aに引き出されており、第2の内部電極107は、他方の端面102bに引き出されている。第1,第2の内部電極106,107は、コンデンサ部103においてセラミック層を介して重なり合うように配置されている。
他方、バリスタ部104では、電圧非直線抵抗体からなるセラミック焼成体中に、内部電極108,109が配置されている。複数の内部電極108は、焼成複合素体102の端面102aに引き出されており、複数の内部電極109は、端面102bに引き出されている。焼成複合素体102の端面102aを覆うように第1の外部電極110が、端面102bを覆うように第2の外部電極111が形成されている。
製造に際しては、内部電極106が上面に形成された誘電体セラミックグリーンシートと、内部電極107が上面に形成された誘電体セラミックグリーンシートとを適宜の枚数積層し、さらに、中間層を構成するための混合セラミックグリーンシートを適宜の枚数積層し、バリスタ部104を構成するために、内部電極108が上面に形成された電圧非直線抵抗体セラミックスを用いたセラミックグリーンシートと、内部電極109が上面に形成された電圧非直線抵抗体セラミックスを用いたセラミックグリーンシートとを適宜の枚数積層し、積層体を得る。このようにして得られた積層体を焼成することにより、焼成複合素体102が得られている。
上記中間層を構成する混合セラミックグリーンシートとしては、上記誘電体セラミックグリーンシートを構成している誘電体セラミックスと、上記電圧非直線抵抗体セラミックグリーンシートを構成するセラミックスとを混合してなる、すなわち両者の中間の組成となるセラミックグリーンシートが用いられている。
特許文献1に記載の複合チップ型セラミック電子部品では、外部電極110,111間において、上記コンデンサ部103によって静電容量がとり出され、他方、サージ電流が流入した場合には、バリスタ部104によりサージ電流が吸収される。
また、中間層105が上記混合セラミックグリーンシートの焼成体で構成されているので、一体焼成技術により焼成複合素体102を得るにあたって、コンデンサ部103とバリスタ部104の結合一体化が容易であり、結合度が良好であるとされている。
しかしながら、特許文献1に記載の焼成複合素体102を一体焼成技術により得ようとした場合、実際には、コンデンサ部103の焼成時の収縮挙動、中間層105の焼成時の収縮挙動及びバリスタ部104の焼成時の収縮挙動の差により、これらの界面において剥がれが生じたり、焼成複合素体102が変形することがあった。
これに対して、下記の特許文献2では、このような変形を防止し得る技術として、コンデンサ部を構成するセラミック層にガラスを添加しておき、焼結温度を低めることにより、コンデンサ部の焼成時の収縮挙動と、バリスタ部の焼成時の収縮挙動との差を小さくする方法が提案されている。
特開昭63−188905号公報 特開平10−125557号公報
特許文献2では、コンデンサ部を構成するためのセラミック層にガラスを添加しておくことにより焼結温度が低められており、それによって、焼成に際してのコンデンサ部における収縮挙動と、バリスタ部における収縮挙動との差が小さくされていた。
しかしながら、この方法では、コンデンサ部における特性、例えば静電容量のばらつきが大きくなったり、ガラス成分がセラミック積層体の外表面に浮きだし、内部電極と外部電極との電気的接続を阻害するおそれがあるという問題があった。
本発明の目的は、上述した従来技術の欠点を解消し、バリスタ部が備えられた積層コンデンサであって、異種材料の焼成に際しての収縮挙動の差による変形等が生じ難く、高いサージ電圧が加わった場合でも破壊等が生じ難い、信頼性に優れた積層コンデンサを提供することにある。
本発明に係る積層コンデンサは、複数層のセラミック層が積層されかつ一体焼成されてなり、対向する第1の端面及び第2の端面を有するセラミック積層体と、前記第1の端面及び第2の端面上にそれぞれ形成された第1の外部電極及び第2の外部電極とを備え、前記セラミック積層体が、第1の外部電極に電気的に接続されている第1の内部電極と、第1の内部電極とセラミック層を介して対向するように配置されており、第2の外部電極に電気的に接続されている第2の内部電極とを有する第1のコンデンサ部と、第1のコンデンサ部よりも静電容量が大きく、セラミック層を介して重なり合うように配置された第3,第4の内部電極を有する第2のコンデンサ部とを有し、第1のコンデンサ部に第2のコンデンサ部が積層されており、前記第2のコンデンサ部の第3の内部電極が前記第1の外部電極に電気的に接続されており、前記第4の内部電極が前記第2の外部電極に電気的に接続されており、前記第3の内部電極と前記第1の外部電極との間及び前記第4の内部電極と前記第2の外部電極との間の少なくとも一方に配置されているバリスタ部をさらに備えることを特徴とする。
本発明の積層コンデンサでは、好ましくは、前記第3の内部電極と前記第1の外部電極との間及び前記第4の内部電極と前記第2の外部電極との間の双方に前記バリスタ部が配置されている。この場合には、第1の外部電極側から流入したサージ電流及び第2の外部電極側から流入したサージ電流の双方を確実に吸収することができる。
本発明に係る積層コンデンサのある特定の局面では、前記バリスタ部が、前記セラミック積層体の一部を構成しており、前記第2のコンデンサ部と、前記セラミック積層体の第1及び第2の端面の少なくとも一方の端面との間に該バリスタ部を構成するバリスタ材料が配置されている。この場合には、バリスタ部を構成するためのバリスタ生材料を第1,第2のコンデンサ部を構成する未焼成のセラミック積層体とあらかじめ一体化しておき、一体焼成することにより、すなわち一体焼成技術を用いてバリスタ部をも容易に形成することができる。
本発明に係る積層コンデンサの他の特定の局面では、前記バリスタ部が、前記セラミック積層体内に配置されており、前記第2のコンデンサ部が、前記セラミック積層体の対向し合う第1,第2の端面に至るように構成されており、該第2のコンデンサ部において、前記セラミック積層体の第1,第2の端面の少なくとも一方の端面から内部に向かってバリスタ材料が拡散されて前記バリスタ部が構成されている。この場合には、セラミック積層体内にバリスタ部が構成されているものの、バリスタ材料がセラミック積層体の第1,第2の端面部分から内部に向かって拡散されてバリスタ部が構成されているので、第1,第2のコンデンサ部を構成するセラミックグリーンシートを積層して得られた積層体を得た工程の後で、バリスタ材料を拡散するだけで、バリスタ部を容易に形成することができる。
本発明に係る積層コンデンサのさらに他の特定の局面では、前記バリスタ部が、前記セラミック積層体の第1及び第2の端面の少なくとも一方の端面に付与されたバリスタ材料層からなる。この場合には、周知の積層コンデンサの製造方法に従ってセラミック積層体を得た後に、第1及び第2の端面の少なくとも一方の端面にバリスタ材料を、塗布・硬化法、または蒸着もしくはスパッタリングなどの薄膜形成方法などの様々な方法により容易に形成することができる。
本発明に係る積層コンデンサでは、第1のコンデンサ部上に、第1のコンデンサ部よりも静電容量が大きい第2のコンデンサ部が積層されており、第1,第2のコンデンサ部が第1,第2の外部電極間に並列に接続されているため、通常の使用条件下では、第1のコンデンサ部において、静電容量が取り出され、コンデンサとしての機能が果たされる。他方、サージ電流が流れた場合には、バリスタ部の抵抗が急激に低下する。従って、サージ電流がバリスタ部を通過し、サージ電圧が大容量の第2のコンデンサ部に印加されることにより、サージ電流が確実に吸収される。従って、サージ電流からの第1のコンデンサ部の保護を確実に図ることができる。
特に、第1のコンデンサ部は、第2のコンデンサ部よりも静電容量が小さいが、通常、静電容量が小さい積層コンデンサでは、サージ電流による破壊が生じ易い。本発明では、第2のコンデンサ部及びバリスタ部によりサージ電流からの保護が図られるので、低容量の第1のコンデンサ部を確実に保護することが可能となる。
しかも、第1,第2のコンデンサ部が積層されているため、第1,第2のコンデンサ部の接触面積すなわち接合面積は比較的大きいが、第1,第2のコンデンサ部はいずれも誘電体セラミックスからなり、両者の組成は同一もしくは似かよっているため、両者の焼成に際しての収縮挙動差は非常に小さい。また、バリスタ部は、第3の内部電極と第1の外部電極との間及び第4の内部電極と第2の外部電極との間の少なくとも一方に配置されており、バリスタ部と第1,第2のコンデンサ部との接触面積は、コンデンサ部にバリスタ部を積層した従来の構造に比べて著しく小さくされ得る。従って、焼成に際しての収縮挙動の差による積層コンデンサの変形が非常に生じ難い。
よって、本発明によれば、製造に際し、コンデンサ部とバリスタ部との収縮挙動の差による変形や破壊が生じ難く、しかも使用時に、コンデンサとしての機能を十分に果たすことができると共に、サージ電流からの保護を確実に図ることが可能な積層コンデンサを提供することが可能となる。
以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施形態を説明することにより、本発明を明らかにする。
図1は、本発明の第1の実施形態に係る積層コンデンサの正面断面図である。
積層コンデンサ1は、複数のセラミック層を積層し、かつ後述の内部電極材料と一体焼成することにより得られたセラミック積層体2を有する。セラミック積層体2は、対向し合う第1の端面2aと第2の端面2bとを有する。本実施形態では、セラミック積層体2は直方体状の形状を有する。セラミック積層体2内においては、第1のコンデンサ部3上に、第2のコンデンサ部4が積層されている。
第1のコンデンサ部3においては、複数の第1の内部電極5a,5bと、複数の第2の内部電極6a,6bとがセラミック層を介して重なり合うようにかつセラミック積層体2の厚み方向において交互に配置されている。なお、セラミック積層体2の厚み方向とは、内部電極5a,5b,6a,6bの面方向と直交する方向をいうものとし、セラミック積層体2の長さ方向とは、端面2a,2bを結ぶ方向をいうものとする。
複数の第1の内部電極5a,5bは、第1の端面2aに引き出されており、複数の第2の内部電極6a,6bは第2の端面2bに引き出されている。
他方、第2のコンデンサ部4においても、複数の第3の内部電極7a〜7fと、複数の第4の内部電極8a〜8eとがセラミック層を介して重なり合うように、かつセラミック積層体2の上記厚み方向において交互に配置されている。
第2のコンデンサ部4は、第1の端面4aと、第2の端面4bとを有する。第1,第2の端面4a,4b間を結ぶ距離は、第1,第2の端面2a,2b間を結ぶ距離よりも短くされている。すなわち、端面4aは、端面2aよりも内側に位置しており、端面4bは、端面2bよりも内側に位置している。
そして、第2のコンデンサ部4の第1の端面4aの外側には、第1のバリスタ部9が配置されている。第1のバリスタ部9は、第1の端面4aに接触されている。
また、第2のコンデンサ部4の第2の端面4bの外側には、第2のバリスタ部10が配置されている。バリスタ部10は、第2の端面4bに接触されている。第1,第2のバリスタ部9,10は、第1,第2のコンデンサ部3,4と同時に、一体焼成技術で得られており、従って、バリスタ部9,10は、上記セラミック積層体2の一部を構成している。
バリスタ部9,10のセラミック積層体2の長さ方向外側の表面は、上記第1,第2の端面2a,2bの一部をそれぞれ構成している。
上記第1のコンデンサ部3で取り出される静電容量に比べて、第2のコンデンサ部で取り出される静電容量が大きくされている。第1,第2のコンデンサ部3,4を構成するためのセラミック材料としては、適宜の誘電体セラミックスが用いられ得る。すなわち、BaTiO、CaTiO、SrTiOまたはCaZrOなどを用いることができる。また、第1,第2のコンデンサを構成するセラミック材料にはガラス成分が含まれないことが好ましい。
より具体的には、第1のコンデンサ部3は、第1の内部電極が上面に形成された誘電体セラミックグリーンシートと、第2の内部電極が上面に形成された誘電体セラミックグリーンシートとをそれぞれ複数枚積層し、適宜の枚数の無地の誘電体セラミックグリーンシートを積層してなる積層体を用いて製造されている。また、第2のコンデンサ部4も同様に、第3の内部電極が上面に形成された誘電体セラミックグリーンシートと、第4の内部電極が上面に形成された誘電体セラミックグリーンシートとを適宜の枚数交互に積層し、かつ上下に適宜の枚数の無地の誘電体セラミックグリーンシートを積層してなる積層体を用いて製造される。実際には、上記第1のコンデンサ部3を構成するための未焼成のセラミック積層体上に、上記第2のコンデンサ部4を構成するための未焼成のセラミック積層体部分と、第1の,第2のバリスタ部9,10を得るための未焼成の各セラミック積層体とを積層し、厚み方向に加圧して一体化した後、焼成することによりセラミック積層体2を得ることができる。
なお、バリスタ部9,10を構成するバリスタ材料としては、ZnOまたはSrTiOなどの適宜の電圧非直線抵抗特性を有するセラミックスが用いられ得る。このようなセラミック粉末を含有するセラミックグリーンシートを複数枚積層し、未焼成のセラミック積層体を得る。この未焼成のセラミック積層体を、上記のように、第1のコンデンサ部3を構成するための未焼成のセラミック積層体上に第2のコンデンサ部4を構成する未焼成のセラミック積層体と同様に積層すればよい。
もっとも、第1のコンデンサ部4を構成するための未焼成のセラミック積層体を上記積層工程に従って得たのちに、その上面において、第2のコンデンサ部4を構成するための複数枚のセラミックグリーンシートを積層する工程、並びにバリスタ部9,10を構成するためのセラミックグリーンシートを複数枚積層する工程を実施してもよい。その後、得られた積層体の生チップを焼成すればよい。
さらに、第1のコンデンサ部3及び第2のコンデンサ部4を構成する未焼成のセラミック積層体を上記適宜の方法で用意した後に、未焼成の電圧非直線抵抗特性を有するセラミック生チップを第1のコンデンサ部3を得るための未焼成の積層体上に接合してもよい。
上記第1の内部電極5a,5b、第2の内部電極6a,6b第3の内部電極7a〜7f及び第4の内部電極8a〜8eは、適宜の金属により形成することができる。このような金属としては、Ag、Pd、Ag−Pdなど例示することができる。セラミックグリーンシート上に、これらの金属を含有している導電ペーストを適宜の方法で塗布すればよい。この導電ペーストがセラミックグリーンシートと上記一体焼成技術により焼成されるに際して、焼き付けられて、内部電極が形成されることになる。
上記セラミック積層体2では、第2のコンデンサ部4の静電容量が第1のコンデンサ部3の静電容量よりも高くされている。第2のコンデンサ部4の容量を相対的に高くするには、第2のコンデンサ部4において、例えば、第3,第4の内部電極7a〜7f,8a〜8eの積層数を多くしたり、内部電極間に挟まれているセラミック層の厚みをより薄くしたりすればよい。第2のコンデンサ部4によって取り出される静電容量を第1のコンデンサ部3で取り出される静電容量よりも大きくする構造については特に上記構造に限定されるものではない。
第1の端面2aを覆うように、第1の外部電極11が形成されており、第2の端面2bを覆うように第2の外部電極12が形成されている。従って、第1の外部電極11に、第1のバリスタ部9を介して第3の内部電極7a〜7fが接続されており、第2の外部電極12には、第2のバリスタ部10を介して第4の内部電極8a〜8eが接続されている。
また、第1のコンデンサ部3の第1の内部電極5a,5bが第1の外部電極11に、第2の内部電極6a,6bが第2の外部電極12に接続されている。なお、第1,第2の外部電極11,12を構成する材料については特に限定されず、適宜の金属を用いることができる。このような金属としては、Cu、Ni、Ag、Pd、Ag−Pd、Auなどを挙げることができる。積層コンデンサ1が半田により実装される場合には、外部電極11,12は、導電性に優れ、かつ安価なCuからなる電極層上に、Niメッキ膜及びSnメッキ膜を順に積層した構造であることが好ましい。Niメッキ膜により、Cuからなる電極層の半田による腐食を防止することができるとともに、Snメッキ膜により半田付け性を高めることができる。また、Cu電極層とNiメッキ膜との間にAgとエポキシ樹脂を含む樹脂電極層を設けてもよい。たわみ強度が向上する。
導電性接着剤を用いて積層コンデンサ1が実装される場合には、外部電極11,12は、Ag、PdまたはAg−Pdからなることが、比抵抗の経時変化が少ないため好ましい。また、ワイヤーボンディングより実装される場合には、外部電極11,12は、ワイヤーボンディングによる接合性及び導電性に優れているため、Auからなることが好ましい。
第1,第2の外部電極11,12は、本実施形態では、上記導電ペーストの塗布・焼き付けにより形成された電極層上にメッキ膜を形成することにより得られている。もっとも、外部電極11,12は、蒸着、メッキまたはスパッタリング等により形成されていてもよい。さらに、これらの方法を複数種併用して外部電極11,12が形成されていてもよい。
次に、積層コンデンサ1の動作を説明する。
使用に際しては、外部電極11,12が外部と電気的に接続され、通常使用時には、相対的に静電容量の小さい第1のコンデンサ部3が機能し、第2のコンデンサ部4は機能しない。従って、第1のコンデンサ部3による静電容量が取り出される。よって、実装面に近い側に第1のコンデンサ部3が配置されることが望ましい。第1のコンデンサ部3が実装面に相対的に近くループインダクタンスが小さい位置に配置されることにより、ESLを小さくすることができるからである。
また、サージ電流が発生した際には、サージ電流は第1の外部電極11側または第2の外部電極12側から流入することになる。この場合、バリスタ部9またはバリスタ部10の抵抗値が急激に低下し、第2のコンデンサ部4にサージ電流が流れることとなる。従って、第1のコンデンサ部3の破壊が確実に防止される。
他方、第2のコンデンサ部4は、第1のコンデンサ部3に加えて容量が大きいため、第2のコンデンサ部4における第3の内部電極7a〜7fと、第4の内部電極8a〜8eとが対向している部分、すなわちセラミック層を介して重なり合っている内部電極間に加わる電圧は、第1のコンデンサ部3における内部電極間に挟まれたセラミック層に加わる電圧よりも小さく、絶縁破壊は本質的に生じ難い。従って、第2のコンデンサ部4にサージ電流が流れたとしても、第2のコンデンサ部においては絶縁破壊は生じ難い。
また、仮に、第2のコンデンサ部4が絶縁破壊したとしても、次のサージ電流が発生するまでは、第1のコンデンサ部3は通常のコンデンサとしての機能を維持する。従って、積層コンデンサ1は、次のサージ電流が発生するまでは、コンデンサとしての機能を十分に果たす。
なお、サージ電流が第2のコンデンサ部4に流れた後、バリスタ部9,10は抵抗値を回復する。従って、サージ電流の電荷は第2のコンデンサ部4に蓄積されて閉じ込められることになる。この電荷は経時的な自然放電により外部に放電される。
よって、本実施形態によれば、通常使用時は、第1のコンデンサ部3によるコンデンサとしての機能が発揮され、サージ電流が流れた際には、バリスタ部9,10の抵抗値が急激に低下して、第2のコンデンサ部4にサージ電流が流れ、第1のコンデンサ部3の破壊が確実に防止される。しかも、バリスタ部9,10は、第1のコンデンサ部3の上面のほぼ全面に渡って積層されていない。従って、バリスタ部9,10と第1のコンデンサ部3との接合面積が小さくされており、バリスタ部9,10と第2のコンデンサ部4との接合面積も小さくされている。よって、積層コンデンサ部に積層バリスタ部が積層されており、両者の接合面積が大きい従来の構造に比べて、積層コンデンサ1では、一体焼成技術によりセラミック積層体2を得る場合であっても、収縮挙動の差によるチップの変形が生じ難い。
なお、このチップの変形をより確実に防止するには、第1のコンデンサ部3を構成するセラミック材料と、第2のコンデンサ部4を構成するセラミック材料とは、同系のセラミック材料すなわち主成分として用いられるセラミックスが同じ誘電体組成物であることが望ましい。より好ましくは、同一の組成の誘電体セラミック組成物を用いることが望ましい。なお、主成分とは、材料中50重量%以上存在する成分をいうものとする。
また、第1のコンデンサ部3で取り出される静電容量及び第2のコンデンサ部4で取り出される静電容量は特に限定されないが、例えば、サージ電圧が500〜30000Vのサージ電流からの保護を図るには、第1のコンデンサ部の容量は10nF以下であることが好ましく、第2のコンデンサ部の容量は100nF以上であることが望ましい。
図2は、本発明の第2の実施形態に係る積層コンデンサの正面断面図である。第2の実施形態の積層コンデンサ21は、セラミック積層体22を有する。セラミック積層体22は、第1の実施形態のコンデンサ部3と同様に構成された第1のコンデンサ部3を有する。異なるところは、第1のコンデンサ部3上に、第1のコンデンサ部3と同じ平面形状を有する第2のコンデンサ部24が積層されていることにある。セラミック積層体22は、第1,第2のコンデンサ部3,24を一体焼成することにより得られる。
本実施形態では、第1の実施形態のバリスタ部9,10が設けられている部分に至るように、第2のコンデンサ部24が形成されている。第1のコンデンサ部3は、第1の実施形態の場合と同様であるため、同一部分につては、同一の参照番号を付することにより、その説明を省略する。
第2のコンデンサ部24は、第3の外部電極27a〜27dと、第4の外部電極28a〜28dとを有する。第3,第4の外部電極27a〜27d,28a〜28dは、セラミック層を介して重なり合うように配置されている。第3の外部電極27a〜27dがセラミック積層体22の第1の端面22aに引き出されており、第4の内部電極28a〜28dが第2の端面22bに引き出されている。すなわち、第2のコンデンサ部24の一方の端面が、セラミック積層体22の第1の端面22aの一部を構成しており、他方端面が、第2の端面22bの一部を構成していることになる。
本実施形態においても、第2のコンデンサ部24の静電容量が、第1のコンデンサ部3の静電容量よりも高くされている。この第2のコンデンサ部24を相対的に高容量とする構造についても、第1の実施形態の場合と同様に、適宜の手法により達成され得る。
本実施形態では、セラミック積層体22の第2のコンデンサ部24が設けられている部分において、第1,第2の端面22a,22b上に、バリスタ材料層を付与することにより、それぞれ、第1,第2のバリスタ部29,30が設けられている。第1,第2のバリスタ部29,30は、バリスタ材料を塗布し、硬化させることにより形成されている。より具体的には、本実施形態では、電圧非直線抵抗特性を有するセラミックス粉末を含むセラミックペーストを塗布し、焼き付けることにより、第1,第2のバリスタ部29,30が形成されている。
そして、第1,第2の端面22a,22b及びバリスタ材料層29,30の外側表面を覆うように、第1,第2の外部電極31,32が形成されている。外部電極31,32は、第1の実施形態の第1,第2の外部電極11,12と同様にして形成されている。もっとも、バリスタ部29,30は、それぞれ上記第3,第4の内部電極27a〜27d,28a〜28dが端面22a,22bに引き出されている部分に接続されるように形成されている。従って、第3の内部電極27a〜27dは、第1のバリスタ部29を介して第1の外部電極31に接続されている。同様に、第4の内部電極28a〜28dは、第2のバリスタ部30を介して第2の外部電極31に接続されている。
本実施形態の積層コンデンサ21の製造に際しては、周知のセラミック積層コンデンサの製造方法に従って、上面に内部電極パターンが形成された複数枚のセラミックグリーンシートを積層し、適宜無地のセラミックグリーンシートを積層し、生のセラミック積層体を得た後に、セラミック積層体を焼成することにより、セラミック積層体22を得る。しかる後、セラミック積層体22の端面22a,22bの一部に、上記バリスタ材料層を付与し、焼き付けにより、第1,第2のバリスタ部29,30を形成する。さらに、導電ペーストを塗布し、焼き付けることにより、第1,第2の外部電極31,32を形成すればよい。第1,第2の外部電極31,32は、第1の実施形態の場合と同様に、他の電極形成方法により形成されてもよい。
なお、未焼成のセラミック積層体を得た後に、焼成に先立ち、バリスタ材料層を塗布しておき、コンデンサ部3,24の焼成と同一の焼成工程において、第1,第2のバリスタ部29,30が焼成されてもよい。
また、第1,第2の外部電極31,32についてもセラミック積層体22を得るための焼成工程において焼き付けられてもよい。すなわち、セラミック積層体20を焼成するに先立ち、導電ペーストを塗布しておき、セラミック積層体22を得るための焼成工程において、該導電ペーストを焼き付けて外部電極31,32を形成してもよい。
本実施形態の積層コンデンサ21では、セラミック積層体22を得るための積層工程については、周知の積層セラミックコンデンサの製造方法に従って行うことができ、バリスタ部29,30については、上記積層体生チップを得た後、あるいは焼成されたセラミック積層体22を得た後に、バリスタ材料層を塗布し、焼き付けるだけで容易に形成することができる。従って、製造コストの低減を図ることができる。
バリスタ部29,30のように、バリスタ部はセラミック積層体内に配置されず、セラミック積層体の端面に形成されていてもよい。
図3は、第2の実施形態の積層コンデンサ21の変形例を示す正面断面図である。本変形例の積層コンデンサ41では、図2に示した第1のバリスタ部29が省略されている。その他の点については、第2の実施形態の積層コンデンサ21と同様であるため、同一部分については、同一の参照番号を付することにより、その説明を省略する。
本変形例では、第2のバリスタ部30のみが端面22bの外表面に設けられている。この場合、第2の外部電極22側からサージ電流が流れた場合には、バリスタ部30の電圧が急激に低下し、第2のコンデンサ部24によりサージ電流が吸収されることになる。従って、積層コンデンサ41を使用するに際しては、サージ電流が流れている側の線路に外部電極32を接続することが求められる。
しかしながら、通常の電子回路の設計に際しては、積層コンデンサが配置される部分において、サージ電流が流れる方向は明らかである。従って、本変形例の積層コンデンサ41では、サージ電流が流れてくることが予想される線路側に外部電極32を接続すればよい。
本変形例の積層コンデンサ41では、上記のように、使用に際しての方向性を考慮しなければならないため、方向性を示すためのマーキングなどを形成することが望ましい。
本変形例の積層コンデンサ41では、上記のような方向性を考慮して用いる必要はあるものの、一つのバリスタ部のみを設ければよいため、積層コンデンサのコストを低減することができる。
なお、第1の実施形態の積層コンデンサ1においても、本変形例と同様に、第1,第2のバリスタ部9,10のうち一方のバリスタ部のみを用いてもよい。その場合には、バリスタ部が省略された部分においては、第2のコンデンサ部4を延長すればよい。
図4は、本発明の第3の実施形態に係る積層コンデンサを示す正面断面図である。
第4の実施形態に係る積層コンデンサ51では、セラミック積層体52は、第1のコンデンサ部3と、第2のコンデンサ部54とを有する。第1のコンデンサ部3は、第1の実施形態の第1のコンデンサ部3と同様に構成されている。
第2のコンデンサ部54は、複数の第3の内部電極57a〜57dと、複数の第4の内部電極58a〜58dとを有する。第3の内部電極57a〜57dと第4の内部電極58a〜58dとはセラミック積層体52の長さ方向中央部分でセラミック層を介して重なり合うように配置されている。第3の外部電極57a〜57dは、第4の内部電極58a〜58dと重なり合っている部分から第1の端面52a側に向かって延ばされているが、第1の端面52aには至っていない。同様に、第4の内部電極58a〜58dは、第3の内部電極57a〜57dと重なり合っている部分から第2の端面52b側に向かって延ばされているが、第2の端面52bには至っていない。
本実施形態では、第2のコンデンサ部54においては、第1の端面52a側から及び第2の端面52b側からバリスタ材料が拡散されて、第1,第2のバリスタ部59,60が形成されている。このバリスタ材料が拡散されている部分は、第1のバリスタ部59では、端面52aから、第3の内部電極57a〜57dの第1の端面52a側の端部あるいは該端部よりも内側の領域である。同様に、第2のバリスタ部60で、バリスタ材料が拡散されている領域は、第4の内部電極58a〜58dの第2の端面52b側の端部あるいは該端部よりも内側の領域までである。
他方、第1第2の端面52a,52bを覆うように、第1,第2の外部電極11,12が形成されている。外部電極11,12は、第1の実施形態の場合と同様に形成されている。
本実施形態の積層コンデンサ51では、上記のように、セラミック積層体52内に、バリスタ材料を拡散させることにより第1,第2のバリスタ部59,60が形成されている。このように、本発明においては、バリスタ部は、セラミック積層体内にバリスタ材料を拡散させることにより、形成されてもよい。
積層コンデンサ51の製造に際しては、周知の積層セラミックコンデンサの製造方法に従って、第1のコンデンサ部3及び第2のコンデンサ部54を構成するための内部電極パターンが形成された複数枚のセラミックグリーンシート及び無地のセラミックグリーンシートを積層し、積層体生チップを得る。この積層体生チップを焼成することにより、セラミック積層体52を得た後に、上記バリスタ材料を端面52a及び52b側から拡散させる。あるいは、上記積層体生チップの段階で、端面52a,52bからバリスタ材料を拡散させた後に焼成し、セラミック積層体52を得てもよい。
バリスタ材料59,60を拡散させるに際しては、端面52a,52bの表面に、前述したバリスタ材料を塗布し、加熱する方法などの適宜の拡散方法を用いることができる。
本実施形態では、上記のようにして第1,第2のバリスタ部59,60が形成されている。従って、第3の内部電極57a〜57dは、第1のバリスタ部59を介して第1の外部電極11に接続されており、同様に、第4の内部電極58a〜58dは第2のバリスタ部60を介して第2の外部電極12に接続されていることになる。
従って、本実施形態においても、第1の実施形態及び第2の実施形態と同様に、通常使用時には、相対的に静電容量が小さい第1のコンデンサ部3により、コンデンサとしての機能を発揮させることができる。他方、サージ電流が流れてきた場合には、第1または第2のバリスタ部59,60の抵抗が急激に低下し、第2のコンデンサ部54によりサージ電流が吸収されることになる。従って、容量が小さい第1のコンデンサ部3の絶縁破壊を確実に防止することが可能となる。
なお、第3の実施形態の積層コンデンサ51においても、第1,第2のバリスタ部59,60のうち一方のみが備えられていてもよい。
次に、具体的な実験例につき説明する。
第1の実施形態の積層コンデンサ1を以下の要領で作製した。第1のコンデンサ部3においては、BaTiOを主成分とする誘電体セラミックグリーンシートを用意し、内部電極材料としてNiペーストを用いた。内部電極積層数は8枚とし、内部電極間に挟まれたセラミック層の厚みは焼成後で28μmになるように設定し、第1のコンデンサ部3の設計静電容量は10nFとした。
他方、第2のコンデンサ部4については、誘電体セラミックグリーンシートとして第1のコンデンサ部3の場合と同じ材料を用い、内部電極材料についても第1のコンデンサ部3と同じ材料を用いた。但し、内部電極積層数は30倍とし、内部電極間に挟まれたセラミック層の厚みは焼成後で4μmとし、設計静電容量は100nFとした。
第1,第2のバリスタ部9,10は、SrTiOを主成分とするバリスタ材料により形成し、図1における端面4a,4bと、端面2a,2bとの間の距離を4μmとした。外部電極11,12はAgペーストを塗布し、焼き付けることにより形成した。
比較のために、バリスタ部9,10が形成されておらず、第2のコンデンサ部が端面2a,2bに至るように設けられていることを除いては、上記実施形態と同様にして、比較例の積層コンデンサを作製した。
上記実施形態及び比較例の積層コンデンサについて、実施形態のバリスタ部9,10のバリスタ電圧である5kVよりも小さい3kVの電圧を高速パルスで50n秒印加した。しかる後、各積層コンデンサの絶縁抵抗を測定した。
次に、上記実施形態及び比較例の積層コンデンサについて、上記バリスタ部9,10のバリスタ電圧である5kVよりも高い10kVの電圧を高速パルスで50n秒印加した。しかる後、各積層コンデンサの絶縁抵抗を測定した。
一回目のパルス電圧印加後の絶縁抵抗と、二回目のパルス電圧印加後の絶縁抵抗とを比較すると、上記実施形態では、絶縁抵抗に変化はほとんど認められなかったのに対し、比較例の積層コンデンサでは、絶縁抵抗が10000MΩから1〜10Ωに大幅に低下していた。すなわち、比較例の積層コンデンサでは、一回目のパルス電圧は、絶縁破壊電圧よりも低かったが、二階目のパルス電圧は絶縁破壊電圧よりも高かったため、コンデンサとしての機能を失ってしまったことが分かる。
なお、上記実施形態の積層コンデンサでは、チップの反りや変形も認められなかった。
本発明の第1の実施形態に係る積層コンデンサの正面断面図。 本発明の第2の実施形態に係る積層コンデンサの正面断面図。 第2の実施形態の変形例に係る積層コンデンサの正面断面図。 本発明の第3の実施形態に係る積層コンデンサの正面断面図。 従来の複合チップ型セラミック電子部品の正面断面図。
符号の説明
1…積層コンデンサ
2…セラミック積層体
2a,2b…第1,第2の端面
3…第1のコンデンサ部
4…第2のコンデンサ部
4a,4b…第1,第2の端面
5a,5b…第1の内部電極
6a,6b…第2の内部電極
7a〜7f…第3の内部電極
8a〜8e…第4の内部電極
9,10…第1,第2のバリスタ部
11,12…第1,第2の外部電極
21…積層コンデンサ
22…セラミック積層体
22a,22b…第1,第2の端面
24…第2のコンデンサ部
27a〜27d…第3の内部電極
28a〜28d…第4の内部電極
29,30…第1,第2のバリスタ部
31,32…第1,第2の外部電極
41…積層コンデンサ
51…積層コンデンサ
52…セラミック積層体
54…第2のコンデンサ部
52a,52b…第1,第2の端面
57a〜57d…第3の内部電極
58a〜58d…第4の内部電極
59,60…第1,第2のバリスタ部

Claims (5)

  1. 複数層のセラミック層が積層されかつ一体焼成されてなり、対向する第1の端面及び第2の端面を有するセラミック積層体と、
    前記第1の端面及び第2の端面上にそれぞれ形成された第1の外部電極及び第2の外部電極とを備え、
    前記セラミック積層体が、第1の外部電極に電気的に接続されている第1の内部電極と、第1の内部電極とセラミック層を介して対向するように配置されており、前記第2の外部電極に電気的に接続されている第2の内部電極とを有する第1のコンデンサ部と、第1のコンデンサ部よりも静電容量が大きく、セラミック層を介して重なり合うように配置された第3,第4の内部電極を有する第2のコンデンサ部とを有し、第1のコンデンサ部に第2のコンデンサ部が積層されており、
    前記第2のコンデンサ部の第3の内部電極が前記第1の外部電極に電気的に接続されており、前記第4の内部電極が前記第2の外部電極に電気的に接続されており、
    前記第3の内部電極と前記第1の外部電極との間及び前記第4の内部電極と前記第2の外部電極との間の少なくとも一方に配置されているバリスタ部をさらに備えることを特徴とする積層コンデンサ。
  2. 前記第3の内部電極と前記第1の外部電極との間及び前記第4の内部電極と前記第2の外部電極との間の双方に前記バリスタ部が配置されている、請求項1に記載の積層コンデンサ。
  3. 前記バリスタ部が、前記セラミック積層体の一部を構成しており、前記第2のコンデンサ部と、前記セラミック積層体の第1及び第2の端面の少なくとも一方の端面との間に該バリスタ部を構成するバリスタ材料が配置されている、請求項1または2に記載の積層コンデンサ。
  4. 前記バリスタ部が、前記セラミック積層体内に配置されており、前記第2のコンデンサ部が、前記セラミック積層体の対向し合う第1,第2の端面に至るように構成されており、該第2のコンデンサ部において、前記セラミック積層体の第1,第2の端面の少なくとも一方の端面から内部に向かってバリスタ材料が拡散されて前記バリスタ部が構成されている、請求項1または2に記載の積層コンデンサ。
  5. 前記バリスタ部が、前記セラミック積層体の第1及び第2の端面の少なくとも一方の端面に付与されたバリスタ材料層からなる、請求項1または2に記載の積層コンデンサ。



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