JP2008016459A - 堆積膜形成装置および堆積膜の形成方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】堆積膜形成対象物3を収容するための成膜室20と、成膜室20に原料ガスを供給するための原料ガス供給手段5と、原料ガスを堆積種とするための1または複数の発熱体6と、を備えた堆積膜形成装置1において、発熱体6を、原料ガス供給手段5により供給された原料ガスが通過し、通過する原料ガスの少なくとも一部が分解して堆積種となるための内部空間61と、内部空間61に存在する堆積種を堆積膜形成対象物3に向けて放出するための1または複数の放出口62と、を備えたものとした。
【選択図】図1
Description
20,20′ 成膜室
3,3A,3B 平板状基体
30,30A,30B (平板状基体の)被堆積面
5,5′ ガス供給手段
80 円筒状基体
6,6′,6A,6B,6C,6D,6E,70A,70B,70C,70D 発熱体
61 (発熱体の)内部空間
62,62′,62B,71A,71B,75C,75D (発熱体の)放出口
Claims (16)
- 堆積膜形成対象物を収容するための成膜室と、
前記成膜室に原料ガスを供給するための原料ガス供給手段と、
前記原料ガスを堆積種とするための1または複数の発熱体と、
を備えた堆積膜形成装置であって、
前記発熱体は、前記原料ガス供給手段により供給された原料ガスが通過し、通過する原料ガスの少なくとも一部が分解して堆積種となるための内部空間と、前記内部空間に存在する前記堆積種を前記堆積膜形成対象物に向けて放出するための1または複数の放出口と、を備えていることを特徴とする、堆積膜形成装置。 - 前記発熱体は、筒状に形成されている、請求項1に記載の堆積膜形成装置。
- 前記発熱体は、中空ワイヤである、請求項2に記載の堆積膜形成装置。
- 前記中空ワイヤは、線条の形態を有しており、
前記複数の発熱体は、それらの軸心が互いに平行または略平行となるように並んで配置されている、請求項3に記載の堆積膜形成装置。 - 前記堆積膜形成対象物における被堆積面が平面である場合において、
前記複数の発熱体は、前記被堆積面と平行または略平行な同一平面上に並んで配置されている、請求項4に記載の堆積膜形成装置。 - 前記堆積膜形成対象物における被堆積面が円筒面である場合において、
前記複数の発熱体は、前記被堆積面を囲む同心円または略同心円上に並んで配置されている、請求項4に記載の堆積形成装置。 - 前記複数の発熱体は、電気的に直列接続されている、請求項4ないし6のいずれか1つに記載の堆積膜形成装置。
- 前記複数の発熱体は、電気的に並列接続されている、請求項4ないし6のいずれか1つに記載の堆積膜形成装置。
- 前記中空ワイヤは、渦巻状または蛇行状に形成されている、請求項3に記載の堆積膜形成装置。
- 前記発熱体は、外観形状が直方体である、請求項1に記載の堆積膜形成装置。
- 前記複数の放出口は、互いに異なる方向に前記堆積種を放出するための第1および第2放出口群を含んでいる、請求項1ないし請求項10のいずれか1つに記載の堆積膜形成装置。
- 前記発熱体は、融点が1600℃以上に形成されている、請求項1ないし請求項11のいずれか1つに記載の堆積膜形成装置。
- 成膜室に収容された堆積膜形成対象物に堆積膜を形成する方法であって、
発熱体内に形成された内部空間に原料ガスを供給する工程と、
前記発熱体から発せられる熱により、前記内部空間に供給された原料ガスの少なくとも一部を分解して堆積種とする工程と、
前記内部空間に存在する前記堆積種を前記堆積膜形成対象物に向けて放出する工程と、を含むことを特徴とする、堆積膜の形成方法。 - 前記発熱体の発熱温度は1600℃以上2300℃以下である、請求項13に記載の堆積膜の形成方法。
- 環状をなす加熱面で囲まれた空間の一端側より該空間内に原料ガスを供給するとともに、この供給された原料ガスの少なくとも一部を前記加熱面の発する熱により分解して堆積種とし、この堆積種を前記空間の他端側より堆積膜形成対象物に向けて放出することによって、前記堆積膜形成対象物に堆積膜を形成することを特徴とする、堆積膜の形成方法。
- 前記加熱面の発熱温度は1600℃以上2300℃以下である、請求項15に記載の堆積膜の形成方法。
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2576614B2 (ja) * | 1988-12-29 | 1997-01-29 | カシオ計算機株式会社 | 処理装置 |
JPH1154441A (ja) * | 1997-08-01 | 1999-02-26 | Anelva Corp | 触媒化学蒸着装置 |
JP2000073172A (ja) * | 1998-08-27 | 2000-03-07 | Hideki Matsumura | 触媒化学蒸着装置 |
JP2005294559A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Japan Advanced Institute Of Science & Technology Hokuriku | ラジカル発生方法及びラジカル発生器、薄膜堆積装置 |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2576614B2 (ja) * | 1988-12-29 | 1997-01-29 | カシオ計算機株式会社 | 処理装置 |
JPH1154441A (ja) * | 1997-08-01 | 1999-02-26 | Anelva Corp | 触媒化学蒸着装置 |
JP2000073172A (ja) * | 1998-08-27 | 2000-03-07 | Hideki Matsumura | 触媒化学蒸着装置 |
JP2005294559A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Japan Advanced Institute Of Science & Technology Hokuriku | ラジカル発生方法及びラジカル発生器、薄膜堆積装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012015476A (ja) * | 2010-06-30 | 2012-01-19 | Samsung Mobile Display Co Ltd | 基板加工装置 |
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