JP2008007610A - 有機無機複合体及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 式(I)
RnSiX4−n・・・(I)
(式中、Rは、式中のSiに炭素原子が直接結合するような有機基を表し、Xは、水酸基又は加水分解性基を表す。nは1又は2を表す。)で表される有機ケイ素化合物の縮合物を主成分とし、金属キレート化合物、金属有機酸塩化合物、2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物、それらの加水分解物、及びそれらの縮合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の350nm以下の波長の光に感応する光感応性化合物、及び/又はそれから誘導される化合物を含有するポリシロキサン系複合体表面に、光触媒層を備えたことを特徴とする有機無機複合体、及びその製造方法である。
【選択図】図1
Description
〔1〕式(I)
RnSiX4−n・・・(I)
(式中、Rは、式中のSiに炭素原子が直接結合するような有機基を表し、Xは、水酸基又は加水分解性基を表す。nは1又は2を表し、nが2のとき、Rは同一であっても異なっていてもよく、(4−n)が2以上のとき、Xは同一であっても異なっていてもよい。)で表される有機ケイ素化合物の縮合物を主成分とし、金属キレート化合物、金属有機酸塩化合物、2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物、それらの加水分解物、及びそれらの縮合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の350nm以下の波長の光に感応する光感応性化合物、及び/又はそれから誘導される化合物を含有するポリシロキサン系複合体表面に、光触媒層を備えたことを特徴とする有機無機複合体や、〔2〕金属キレート化合物が、水酸基若しくは加水分解性基を有することを特徴とする上記〔1〕に記載の有機無機複合体や、〔3〕金属有機酸塩化合物が、水酸基若しくは加水分解性基を有することを特徴とする上記〔1〕又は〔2〕に記載の有機無機複合体や、〔4〕2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物の加水分解物及び/又は縮合物が、2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物1モルに対して、0.5モル以上の水を用いて加水分解した生成物であることを特徴とする上記〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の有機無機複合体や、〔5〕金属キレート化合物の加水分解物及び/又は縮合物が、金属キレート化合物1モルに対して、5〜100モルの水を用いて加水分解した生成物であることを特徴とする上記〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載の有機無機複合体に関する。
RnSiX4−n・・・(I)
(式中、Rは、式中のSiに炭素原子が直接結合するような有機基を表し、Xは、水酸基又は加水分解性基を表す。nは1又は2を表し、nが2のとき、Rは同一であっても異なっていてもよく、(4−n)が2以上のとき、Xは同一であっても異なっていてもよい。)で表される有機ケイ素化合物の縮合物を主成分とし、層表面から深さ方向10nmにおける層表面部の炭素含有量が、層裏面から深さ方向10nmにおける層裏面部の炭素含有量の80%以下であるポリシロキサン系層上に、光触媒層を備えたことを特徴とするポリシロキサン系薄膜や、〔18〕ポリシロキサン系層の表面から所定深さまで炭素含有量が漸次増加していることを特徴とする上記〔17〕に記載のポリシロキサン系薄膜や、〔19〕炭素含有量が漸次増加している深さが、層厚の5〜80%であることを特徴とする上記〔18〕に記載のポリシロキサン系薄膜に関する。
RnSiX4−n・・・(I)
(式中、Rは、式中のSiに炭素原子が直接結合するような有機基を表し、Xは、水酸基又は加水分解性基を表す。nは1又は2を表し、nが2のとき、Rは同一であっても異なっていてもよく、(4−n)が2以上のとき、Xは同一であっても異なっていてもよい。)で表される有機ケイ素化合物及び/又はその縮合物と、金属キレート化合物、金属有機酸塩化合物、2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物、それらの加水分解物、及びそれらの縮合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の光感応性化合物とを含有するポリシロキサン系複合体形成用組成物を乾燥し、ポリシロキサン系複合体を形成するポリシロキサン系複合体形成工程と、前記ポリシロキサン系複合体表面に、光触媒を含有する光触媒層形成用組成物を塗布し乾燥して光触媒層を形成する光触媒層形成工程と、前記ポリシロキサン系複合体に対して、350nm以下の波長の光を照射するUV光照射工程とを有することを特徴とする有機無機複合体の製造方法や、〔33〕UV照射工程が、ポリシロキサン系複合体形成工程後、光触媒層形成工程の前に行われることを特徴とする上記〔32〕に記載の有機無機複合体の製造方法に関する。
ジイソプロポキシビスアセチルアセトナートチタン(日本曹達株式会社製、T−50 酸化チタン換算固形分量16.5重量%)89.7gを工業用エタノール172.9gに溶解後、イオン交換水33.3g(10倍モル/TiO2のモル)を攪拌しながらゆっくり滴下し加水分解した。1日後に溶液を濾過し、酸化チタン換算固形分量5.0wt%の黄色透明なTiO2ナノ粒子液(A−1)を得た。平均粒子径は4.1nmで単分散性であった。
5.0wt%のTiO2ナノ粒子溶液(A−1)300g、及びビニルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製、KBM−1003)250.4gを室温で30分間攪拌して得られた溶液と、5.0wt%のTiO2ナノ粒子溶液(A−1)300g、及び3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製、KBM−403)399.26gを室温で30分攪拌して得られた溶液とを、所定比率で混合した溶液を調製した(B−1溶液)。ビニルトリメトキシシラン:3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン=7:3(モル比)に、元素比(Ti:Si)は(1:9)に、固形分量(RSiO1.5(Rは、ビニル基又は3−グリシドキシプロピル基)+TiO2)は32.5wt%とした。
光触媒層コート液としては、ビストレイターNDC−137C(日本曹達株式会社製、SiO2と光触媒TiO2含有品、固形分量8重量%)をエタノールで固形分量1wt%になるように希釈して使用した(C−1溶液)。
UV/オゾン洗浄したポリカーボネート(PC)基板にコーティング液(B−1)を、バーコーター(Rod No.12)で塗布し、温風循環乾燥器中で120℃で30分間乾燥した(D−1膜)。続いて、コンベアタイプ高圧水銀灯(アイグラフィックス製、160W/cm、ランプ高10cm、照射時間5秒)を用いてUV光を照射し、シラン系ハードコート膜(E−1膜)を得た。図1に、E−1膜についてのESCAによる膜成分を表す図を示す。膜厚は、3〜4μmで、ESCAでの深さ方向の炭素の元素分析では、膜表面(正確には、表面から10nm深さ)の炭素含有量は、膜裏面(正確には、裏面から10nm深さ)の炭素含有量を100%とした時の約60%であり、炭素含有量が少ない表面層の厚さは約300nmであった。
実施例1と同様にD−1膜を作製した。この膜上にUV照射前に、コーティング液(C−1)を、バーコーター(Rod No.5)で塗布し、温風循環乾燥器中で120℃で30分間乾燥した。その後、実施例1と同様に、コンベアタイプ高圧水銀灯(アイグラフィックス製、160W/cm、ランプ高10cm、照射時間5秒)を用いてUV光を照射し、光触媒層+ポリシロキサン系ハードコート層の2層膜(F−2膜)を得た。
実施例2で作製した乾燥膜を、アイスーパー超耐候性試験機(アイグラフィックス社製SUV)のUV光(紫外線強度90mW/cm2)を8時間照射し、光触媒層+ポリシロキサン系ハードコート層の2層膜(F−3膜)を得た。
1.碁盤目テープ剥離試験
JIS K5600に準拠し、塗膜に1mm間隔の切り込みを縦横11本ずつ入れて100個の碁盤目を作成した。各試料にセロテープ(登録商標)を貼り付け、指の腹で複数回擦り付けて密着させた後テープを引き剥がし、塗膜が剥離せずに残存した格子の目数で評価した。
テーバー式磨耗試験機(東洋テスター工業株式会社製、TABER’S Abration Tester)に磨耗輪(CS−10F)を装着し、荷重500gの条件下で500回転試験を行った後のヘイズ率を測定した。
ラビングテスター(太平理科工業製 RUBBING TESTER)にスチールウール#0000を装着し、荷重500gの条件で30往復させた後のヘイズ率を測定した。
自動接触角計(協和界面科学株式会社製、Drop Master700及び滑落法キット DM−SA)を用いて、膜製造直後のイオン交換水の接触角を測定した。また、スチールウール試験後の膜に365nmのUV光をブラックライト(FL15BLB、東芝製、強度1mW/cm2)を5時間照射し、その後に、イオン交換水の接触角を測定した。なお、測定値は、5測定点の平均値をとした。
Claims (39)
- 式(I)
RnSiX4−n・・・(I)
(式中、Rは、式中のSiに炭素原子が直接結合するような有機基を表し、Xは、水酸基又は加水分解性基を表す。nは1又は2を表し、nが2のとき、Rは同一であっても異なっていてもよく、(4−n)が2以上のとき、Xは同一であっても異なっていてもよい。)で表される有機ケイ素化合物の縮合物を主成分とし、金属キレート化合物、金属有機酸塩化合物、2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物、それらの加水分解物、及びそれらの縮合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の350nm以下の波長の光に感応する光感応性化合物、及び/又はそれから誘導される化合物を含有するポリシロキサン系複合体表面に、光触媒層を備えたことを特徴とする有機無機複合体。 - 金属キレート化合物が、水酸基若しくは加水分解性基を有することを特徴とする請求項1に記載の有機無機複合体。
- 金属有機酸塩化合物が、水酸基若しくは加水分解性基を有することを特徴とする請求項1又は2に記載の有機無機複合体。
- 2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物の加水分解物及び/又は縮合物が、2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物1モルに対して、0.5モル以上の水を用いて加水分解した生成物であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の有機無機複合体。
- 金属キレート化合物の加水分解物及び/又は縮合物が、金属キレート化合物1モルに対して、5〜100モルの水を用いて加水分解した生成物であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の有機無機複合体。
- 金属有機酸塩化合物の加水分解物及び/又は縮合物が、金属有機酸塩化合物1モルに対して、5〜100モルの水を用いて加水分解した生成物であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の有機無機複合体。
- 金属キレート化合物が、β−ケトカルボニル化合物、β−ケトエステル化合物、又はα−ヒドロキシエステル化合物であることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の有機無機複合体。
- 加水分解性基が、炭素数1〜4のアルコキシ基又は炭素数1〜6のアシルオキシ基であることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の有機無機複合体。
- 金属化合物、金属キレート化合物又は金属有機酸塩化合物における金属が、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、ケイ素、ゲルマニウム、インジウム、スズ、タンタル、亜鉛、タングステン、鉛からなる群から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の有機無機複合体。
- 式(I)のRが、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数2〜10のアルケニル基又は炭素数1〜10のエポキシアルキル基であることを特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載の有機無機複合体。
- ポリシロキサン系複合層の表面に光触媒層を備えた薄膜であることを特徴とする請求項1〜10に記載の有機無機複合体。
- ポリシロキサン系複合層の層表面から深さ方向10nmにおける層表面部の炭素含有量が、ポリシロキサン系複合層の層裏面から深さ方向10nmにおける層裏面部の炭素含有量の80%以下の薄膜であることを特徴とする請求項11に記載の有機無機複合体。
- ポリシロキサン系複合層の層表面から所定深さまで炭素含有量が漸次増加していることを特徴とする請求項11又は12に記載の有機無機複合体。
- 炭素含有量が漸次増加している深さが、層厚の5〜80%であることを特徴とする請求項13に記載の有機無機複合体。
- 炭素含有量が漸次増加している深さが、50〜2000nmであることを特徴とする請求項13又は14に記載の有機無機複合体。
- ガラス基板に形成したときの、JIS K 5600−5−4鉛筆法に規定する鉛筆硬度が、5H以上の薄膜であることを特徴とする請求項11〜15のいずれかに記載の有機無機複合体。
- 式(I)
RnSiX4−n・・・(I)
(式中、Rは、式中のSiに炭素原子が直接結合するような有機基を表し、Xは、水酸基又は加水分解性基を表す。nは1又は2を表し、nが2のとき、Rは同一であっても異なっていてもよく、(4−n)が2以上のとき、Xは同一であっても異なっていてもよい。)で表される有機ケイ素化合物の縮合物を主成分とし、層表面から深さ方向10nmにおける層表面部の炭素含有量が、層裏面から深さ方向10nmにおける層裏面部の炭素含有量の80%以下であるポリシロキサン系層上に、光触媒層を備えたことを特徴とするポリシロキサン系薄膜。 - ポリシロキサン系層の表面から所定深さまで炭素含有量が漸次増加していることを特徴とする請求項17に記載のポリシロキサン系薄膜。
- 炭素含有量が漸次増加している深さが、層厚の5〜80%であることを特徴とする請求項18に記載のポリシロキサン系薄膜。
- 炭素含有量が漸次増加している深さが、50〜2000nmであることを特徴とする請求項18又は19に記載のポリシロキサン系薄膜。
- ガラス基板に形成したときの、JIS K 5600−5−4鉛筆法に規定する鉛筆硬度が、5H以上であることを特徴とする請求項17〜20のいずれかに記載のポリシロキサン系薄膜。
- ポリシロキサン系層が、金属キレート化合物、金属有機酸塩化合物、2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物、それらの加水分解物、及びそれらの縮合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の350nm以下の波長の光に感応する光感応性化合物、及び/又はそれから誘導される化合物を含有することを特徴とする請求項17〜21のいずれかに記載のポリシロキサン系薄膜。
- 金属キレート化合物が、水酸基若しくは加水分解性基を有することを特徴とする請求項22に記載のポリシロキサン系薄膜。
- 金属有機酸塩化合物が、水酸基若しくは加水分解性基を有することを特徴とする請求項22又は23に記載のポリシロキサン系薄膜。
- 2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物の加水分解物及び/又は縮合物が、2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物1モルに対して、0.5モル以上の水を用いて加水分解した生成物であることを特徴とする請求項22〜24のいずれかに記載のポリシロキサン系薄膜。
- 金属キレート化合物の加水分解物及び/又は縮合物が、金属キレート化合物1モルに対して、5〜100モルの水を用いて加水分解した生成物であることを特徴とする請求項22〜25のいずれかに記載のポリシロキサン系薄膜。
- 金属有機酸塩化合物の加水分解物及び/又は縮合物が、金属有機酸塩化合物1モルに対して、5〜100モルの水を用いて加水分解した生成物であることを特徴とする請求項22〜26のいずれかに記載のポリシロキサン系薄膜。
- 金属キレート化合物が、β−ケトカルボニル化合物、β−ケトエステル化合物、又はα−ヒドロキシエステル化合物であることを特徴とする請求項22〜27のいずれかに記載のポリシロキサン系薄膜。
- 加水分解性基が、炭素数1〜4のアルコキシ基又は炭素数1〜6のアシルオキシ基であることを特徴とする請求項22〜28のいずれかに記載のポリシロキサン系薄膜。
- 金属化合物、金属キレート化合物又は金属有機酸塩化合物における金属が、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、ケイ素、ゲルマニウム、インジウム、スズ、タンタル、亜鉛、タングステン、鉛からなる群から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項22〜29のいずれかに記載のポリシロキサン系薄膜。
- 式(I)のRが、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数2〜10のアルケニル基又は炭素数1〜10のエポキシアルキル基であることを特徴とする請求項17〜30のいずれかに記載のポリシロキサン系薄膜。
- 式(I)
RnSiX4−n・・・(I)
(式中、Rは、式中のSiに炭素原子が直接結合するような有機基を表し、Xは、水酸基又は加水分解性基を表す。nは1又は2を表し、nが2のとき、Rは同一であっても異なっていてもよく、(4−n)が2以上のとき、Xは同一であっても異なっていてもよい。)で表される有機ケイ素化合物及び/又はその縮合物と、金属キレート化合物、金属有機酸塩化合物、2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物、それらの加水分解物、及びそれらの縮合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の光感応性化合物とを含有するポリシロキサン系複合体形成用組成物を乾燥し、ポリシロキサン系複合体を形成するポリシロキサン系複合体形成工程と、
前記ポリシロキサン系複合体表面に、光触媒を含有する光触媒層形成用組成物を塗布し乾燥して光触媒層を形成する光触媒層形成工程と、
前記ポリシロキサン系複合体に対して、350nm以下の波長の光を照射するUV光照射工程とを有することを特徴とする有機無機複合体の製造方法。 - UV光照射工程が、ポリシロキサン系複合体形成工程後、光触媒層形成工程の前に行われることを特徴とする請求項32に記載の有機無機複合体の製造方法。
- UV光照射工程が、ポリシロキサン系複合体形成工程及び光触媒層形成工程の後に行われることを特徴とする請求項32に記載の有機無機複合体の製造方法。
- UV光照射工程において、照射する光が、150〜350nmの範囲のいずれかの波長の光を主成分とする光であることを特徴とする請求項32〜34のいずれかに記載の有機無機複合体の製造方法。
- UV光照射工程において、照射する光が、250〜310nmの範囲のいずれかの波長の光を主成分とする光であることを特徴とする請求項35に記載の有機無機複合体の製造方法。
- 有機ケイ素化合物の縮合物の平均粒径が、10nm以下であることを特徴とする請求項32〜36のいずれかに記載の有機無機複合体の製造方法。
- 光感応性化合物の平均粒径が、10nm以下であることを特徴とする請求項32〜37のいずれかに記載の有機無機複合体の製造方法。
- 光感応性化合物の金属原子が、式(I)で表される有機ケイ素化合物及び/又はその縮合物におけるケイ素原子に対して、0.01〜0.5モル当量含有されていることを特徴とする請求項32〜38のいずれかに記載の有機無機複合体の製造方法。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010235639A (ja) * | 2009-03-30 | 2010-10-21 | Kimoto & Co Ltd | 硬化性組成物、硬化物及び積層体 |
WO2010122182A1 (es) | 2009-04-24 | 2010-10-28 | Fundacion Labein | Procedimiento para obtener revestimientos fotocatalíticos sobre sustratos metálicos |
US9523880B2 (en) | 2013-02-20 | 2016-12-20 | Toppan Printing Co., Ltd. | Transparent conductive film, and touch panel and display device having the same |
US11415885B2 (en) | 2019-10-15 | 2022-08-16 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Semiconductor photoresist composition, and method of forming patterns using the composition |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11267516A (ja) * | 1997-11-07 | 1999-10-05 | Nippon Soda Co Ltd | 光触媒担持フィルムをラミネート加工してなる金属板 |
JP2000190415A (ja) * | 1998-12-28 | 2000-07-11 | Orient Chem Ind Ltd | 有機―無機多層材料及びその製造方法 |
JP2001088240A (ja) * | 1999-07-16 | 2001-04-03 | Toray Ind Inc | 光触媒性能を有する積層体 |
JP2002060689A (ja) * | 2000-08-21 | 2002-02-26 | Nihon Yamamura Glass Co Ltd | 光触媒を固定する方法および組成物 |
JP2004188886A (ja) * | 2002-12-13 | 2004-07-08 | Dainippon Printing Co Ltd | 親水性を有する光触媒積層体 |
JP2005199607A (ja) * | 2004-01-16 | 2005-07-28 | Nippon Soda Co Ltd | 光触媒担持構造体 |
JP2005336466A (ja) * | 2004-04-30 | 2005-12-08 | Univ Nihon | 硬質膜、及び硬質膜製造方法 |
JP2006116461A (ja) * | 2004-10-22 | 2006-05-11 | Jsr Corp | 可視光光触媒層を有する積層体および可視光光触媒コーティングフィルム |
-
2006
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Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11267516A (ja) * | 1997-11-07 | 1999-10-05 | Nippon Soda Co Ltd | 光触媒担持フィルムをラミネート加工してなる金属板 |
JP2000190415A (ja) * | 1998-12-28 | 2000-07-11 | Orient Chem Ind Ltd | 有機―無機多層材料及びその製造方法 |
JP2001088240A (ja) * | 1999-07-16 | 2001-04-03 | Toray Ind Inc | 光触媒性能を有する積層体 |
JP2002060689A (ja) * | 2000-08-21 | 2002-02-26 | Nihon Yamamura Glass Co Ltd | 光触媒を固定する方法および組成物 |
JP2004188886A (ja) * | 2002-12-13 | 2004-07-08 | Dainippon Printing Co Ltd | 親水性を有する光触媒積層体 |
JP2005199607A (ja) * | 2004-01-16 | 2005-07-28 | Nippon Soda Co Ltd | 光触媒担持構造体 |
JP2005336466A (ja) * | 2004-04-30 | 2005-12-08 | Univ Nihon | 硬質膜、及び硬質膜製造方法 |
JP2006116461A (ja) * | 2004-10-22 | 2006-05-11 | Jsr Corp | 可視光光触媒層を有する積層体および可視光光触媒コーティングフィルム |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010235639A (ja) * | 2009-03-30 | 2010-10-21 | Kimoto & Co Ltd | 硬化性組成物、硬化物及び積層体 |
WO2010122182A1 (es) | 2009-04-24 | 2010-10-28 | Fundacion Labein | Procedimiento para obtener revestimientos fotocatalíticos sobre sustratos metálicos |
US9523880B2 (en) | 2013-02-20 | 2016-12-20 | Toppan Printing Co., Ltd. | Transparent conductive film, and touch panel and display device having the same |
US11415885B2 (en) | 2019-10-15 | 2022-08-16 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Semiconductor photoresist composition, and method of forming patterns using the composition |
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Publication number | Publication date |
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