JP2008003457A - 電子写真感光体、及びそれを用いた画像形成方法 - Google Patents

Abstract

【課題】機械的耐久性、電気安定性及び画像安定性に優れる感光体、該感光体を有する画像形成装置及びプロセスカートリッジ並びに該感光体を用いる画像形成方法の提供。
【解決手段】導電性支持体上に、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより得られるグラフト共重合体及びフィラーを含有する感光層を有する感光体。該フィラーとしてはフラーレン、カーボンブラック、ダイヤモンド微粒子、非晶質カーボン微粒子、カーボンナノチューブ等の炭素微粒子を用いることが好ましい。
【選択図】図２

Description

本発明は、電子写真感光体、その製造方法、電子写真感光体における表面保護層の形成方法、表面保護層塗工液、画像形成装置、プロセスカートリッジ及び画像形成方法に関するものである。

一般に、「電子写真方法」とは、光導電性の感光体をまず暗所で例えばコロナ放電によって帯電させ、次いで像露光し、露光部のみの電荷を選択的に散逸せしめて静電潜像を得、この潜像部を染料、顔料などの着色剤と高分子物質などの結合剤とから構成される検電微粒子（トナー）で現像し可視化して画像を形成するようにした画像形成法の一つである。
このような電子写真方法において感光体に要求される基本的な特性としては
（１）暗所で適当な電位に帯電できること、
（２）暗所において電荷の散逸が少ないこと、
（３）光照射によって速やかに電荷を散逸できること、
などが挙げられる。

従来、電子写真方法において使用される感光体としては、導電性支持体上にセレンないしセレン合金を主体とする感光層を設けたもの、酸化亜鉛、硫化カドミウムなどの無機系光導電材料をバインダー中に分散させたもの、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールとトリニトロフルオレノンあるいはアゾ顔料などの有機光導電材料とを用いたもの、及び非晶質シリコン系材料を用いたもの等が一般に知られているが、近年では、コストの低さ、感光体設計の自由度の高さ、低公害性等から有機系電子写真感光体が広く利用されるようになってきている。

有機系電子写真感光体には、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）に代表される光導電性樹脂型、ＰＶＫ−ＴＮＦ（２，４，７−トリニトロフルオレノン）に代表される電荷移動錯体型、フタロシアニン−バインダーに代表される顔料分散型、電荷発生物質と電荷輸送物質とを組み合わせて用いる機能分離型の感光体などが知られており、特に機能分離型の感光体が注目されている。

この機能分離型の感光体における静電潜像形成のメカニズムは、感光体を帯電した後光照射すると、光は透明な電荷輸送層を通過し、電荷発生層中の電荷発生物質により吸収され、光を吸収した電荷発生物質は電荷担体を発生し、この電荷担体は電荷輸送層に注入され、帯電によって生じている電界にしたがって電荷輸送層中を移動し、感光体表面の電荷を中和することにより静電潜像を形成するものである。機能分離型感光体においては、主に紫外部に吸収を持つ電荷輸送物質と、主に可視部に吸収を持つ電荷発生物質とを組み合わせて用いることが知られており、上記基本特性を充分に満たすものが得られている。
近年、電子写真プロセスの高速化、小型化が進むなか、感光体に対して上記特性以外に長期繰返し使用に際しても高画質を保つことの出来る信頼性及び高耐久性が強く要求される様になっている。

感光体は、電子写真プロセスにおいて、様々な機械的、化学的負荷を受けている。このような負荷により、感光体は、摩耗し、膜厚の減少による異常画像が発生する。感光体の耐久性を向上させる手段として、感光体にフィラーを添加する技術、感光層の表面にフィラーを分散させた表面保護層を設ける技術が、特許文献１〜５に開示されている。
フィラーを含有する感光体において、高耐久化、高画質化、高安定化のためには、フィラーの分散状態が非常に重要である。

膜中にフィラーが不均一な状態又はフィラー凝集体が存在した場合、膜の透明性が低下し、フィラーによって書き込み光が散乱され、電荷発生が不均一になり、画像特性が低下する。さらに、このような状態では、感光層中で発生した電荷が感光体の表面に輸送される際にも、フィラーにより電荷輸送が妨げられ、感光体の表面で電位ムラが発生し、画像特性が低下する。また、感光体の表面にフィラー凝集体が存在する場合、クリーニング不良、クリーニングブレードの欠損等の問題も発生する。
これらの問題は、フィラーの凝集を低減した分散性の高い塗工液を調製することにより解消される。さらに、塗工液は、フィラーの分散安定性を高くすることが重要である。フィラーの分散安定性が低い塗工液は、長期間の保存に問題があるだけではなく、製膜途中においても、フィラーが沈降し、安定した感光体の作製が不可能となる。

膜中のフィラーの分散及び凝集状態、塗工液の分散安定性を改善する手法として、塗工液中に分散剤を添加する技術が、特許文献６、７に開示されている。
これらの分散剤は、極性を有するフィラーの表面を修飾し、塗工液中における溶媒や樹脂に対する分散性が向上し、分散性及び分散安定性が向上する。そして、これらの分散剤を含有する塗工液を用いて作製された感光体は、膜中でフィラーが均一に分散され、耐摩耗性及び画像特性が向上する。

また、特許文献８には、フィラーの表面に電荷輸送部分が連結基でグラフト結合され、優れた耐摩耗性を有する画像形成部材が得られることが開示されている。しかしながら、電荷輸送部分及びフィラー部分に連結基又は固着基を導入し反応させるため、材料の多様性への対応に難点がある。
また特許文献９には、フラーレン類を含有する電子写真感光体が開示されているが、有機溶剤に溶解させて使用するためその含有量が制限されフラーレン類の特性を十分引き出していない。
また特許文献１０には、フラーレン類を含有するオーバーコート層をもつ電子写真像形成部材が開示されているが、フラーレンの分散が十分ではないためその含有量および膜厚が制限されフラーレン類の特性を十分引き出しているとはいえない。

このように感光体表面にフィラーを含有させることにより、感光体の高耐久化がはかられたが、いまだアモルファスシリコン感光体に比べて、機械的耐久性は低い。今後さらなる高速化、小型化が進むことから、これまで以上の有機感光体の高耐久化が望まれている。

特開平１−２０５１７１号公報 特開平７−３３３８８１号公報 特開平８−１５８８７号公報 特開平８−１２３０５３号公報 特開平８−１４６６４１号公報 特開２００３−１４９８４９号公報 特開２００２−２６８２５７号公報 特開２００６−６３３４１号公報 特開平７−９２７０４号公報 特許第３４４１０９９号

本発明は、上記の従来技術が有する問題に鑑み、機械的耐久性、電気安定性及び画像安定性に優れる感光体、該感光体を有する画像形成装置及びプロセスカートリッジ並びに該感光体を用いる画像形成方法を提供することを目的とする。
すなわち、本発明は以下に記載するとおりの感光体、画像形成装置、プロセスカートリッジ及び画像形成方法である。

（１）導電性支持体上に少なくとも感光層を有する感光体において、該感光層は、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより得られるグラフト共重合体及びフィラーを含有することを特徴とする電子写真感光体。
（２）前記感光層は、電荷発生層及び電荷輸送層が積層されており、該電荷輸送層は、前記グラフト共重合体及びフィラーを含有することを特徴とする上記（１）に記載の電子写真感光体。
（３）導電性支持体上に少なくとも感光層及び表面保護層が積層されている感光体において、該表面保護層は、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより得られるグラフト共重合体及びフィラーを含有することを特徴とする電子写真感光体。
（４）前記感光層は、電荷発生層及び電荷輸送層が積層されていることを特徴とする上記（３）に記載の電子写真感光体。
（５）前記表面保護層は、電荷輸送物質をさらに含有することを特徴とする上記（３）又は（４）に記載の電子写真感光体。
（６）前記フィラーは、炭素微粒子であることを特徴とする上記（１）〜（５）のいずれかに記載の電子写真感光体。
（７）前記炭素微粒子は、フラーレンであることを特徴とする請求項６に記載の感光体。
（８）上記（１）〜（７）のいずれかに記載の電子写真感光体を少なくとも有することを特徴とする画像形成装置。
（９）上記（１）〜（７）のいずれかに記載の電子写真感光体を少なくとも有することを特徴とするプロセスカートリッジ。
（１０）上記（１）〜（７）のいずれかに記載の電子写真感光体を用いて画像を形成することを特徴とする画像形成方法。

本発明によれば、機械的耐久性、電気安定性及び画像安定性に優れる感光体、該感光体を有する画像形成装置及びプロセスカートリッジ並びに該感光体を用いる画像形成方法を提供することができる。

本発明の電子写真感光体（以下、単に感光体とも言う）は、導電性支持体上に少なくとも感光層を有する電子写真感光体において、該感光層が少なくともポリカーボネート樹脂またはポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより得られるグラフト共重合体とフィラーを含有することを特徴とする電子写真感光体、及び、導電性支持体上に少なくとも感光層と表面保護層を積層した構成である電子写真感光体において、該表面保護層が少なくともポリカーボネート樹脂またはポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより得られるグラフト共重合体とフィラーを含有することを特徴とする電子写真感光体である。
このような感光体を用いることにより、機械的耐久性、電気特性、画像特性の全てが良好な画像形成装置を提供することができる。

先ずフィラーを含有する感光体の摩耗メカニズムを説明する。図１に感光体摩耗メカニズムを示す。電子写真プロセスにおいて、感光体は、トナークリーニング部で機械的負荷を受ける。クリーニング部では、トナーやクリーニングブレード、クリーニングブラシが接触し、機械的強度が低い部分から徐々に摩耗する。フィラーを含有した感光体の場合、選択的に樹脂部分から摩耗する。図中の(1)の部分は、表面にフィラーが存在せず、樹脂部分が摩耗する。図中の(2)の部分は、樹脂に比べて高硬度のフィラー部分は、摩耗せず、フィラー周辺部の樹脂が摩耗する。しかし高硬度のフィラーが立体障害となり、樹脂部の摩耗速度は減少する。図中の(3)部は、フィラーが突出した部分である。この部分ではフィラー周辺の樹脂部が徐々に摩耗され、樹脂とフィラー接触面積が減少し、樹脂とフィラーの付着力が低下し、フィラーが離脱する。このような(1)(2)(3)の過程を繰り返すことにより、感光層もしくは表面保護層膜厚は減少する。

ここで感光体の摩耗量は、樹脂成分の機械的強度、フィラーの機械的強度、フィラー量、フィラー径等により、影響を受ける。また図中の(3)過程において、フィラーと樹脂の付着力が感光体の摩耗に大きく寄与し、フィラーと樹脂の親和性を向上させることにより、耐摩耗性は向上する。またフィラーと樹脂の親和性が高くなれば、塗工液中でのフィラーの分散性も向上し、塗工液のフィラー分散安定性や実際にその塗工液を用いて作製した感光層、表面保護層中でのフィラー分散性が向上する。

本発明者らが鋭意検討した結果、フィラーとの親和性が高くなる極性基を有する置換基を樹脂にグラフト重合させることにより、フィラーと樹脂の親和性が高くなることが判明した。特に機械的、化学的耐久性が良好なポリカーボネート、ポリアリレート骨格を有する樹脂が良好であることが判明した．
次に本発明の感光体におけるポリカーボネート樹脂またはポリアリレート樹脂にグラフト重合を行ったグラフト共重合体について説明する。

これまでの長年の検討の中でポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリオレフィンなどのビニル重合体やその共重合体、ポリカーボネート、ポリアリレート（ポリエステル）、フェノキシ、エポキシ、シリコーン樹脂等の熱可塑性樹脂や、熱硬化性樹脂などが用いられてきている。しかし感光体としての製造上の特性、機械的強度、特に耐摩耗性が優れていることからポリカーボネート樹脂またはポリアリレート樹脂およびこれらの構造を有する共重合体が優れていることが明らかになってきている。（特開昭５９−０７１０５７号、特開平１０−２８８８４５号、特開２００６−５３２６２号など）
本発明者らはこの点に注目し、優れた樹脂即ち、ポリカーボネート樹脂またはポリアリレート樹脂およびこれらの構造を有する共重合体に、グラフト重合を行うことによりフィラー分散性を持たせ、フィラーと樹脂との親和性を高くすることにより、機械的強度が向上することを見出し本発明にいたった。

本発明に用いるグラフト重合は、ポリカーボネート樹脂またはポリアリレート樹脂およびこれらの構造を有する共重合体からの水素引き抜き反応を伴うものであり、通常これらは酸素ラジカル、電子線照射、芳香族ケトンへの光照射などを用いることが出来る。これらの中で特に合成的に容易であり、感光体に用いるのに適しているのは、酸素ラジカルを用いる方法である。これは、過酸化物の分解による酸素ラジカルの発生であり、ジアシルパーオキサイド、パーオキシエステル、ハイドロパーオキサイド類を用いることが出来る。

また、グラフト反応させるモノマーとしては、極性基を有するビニルモノマーを用いるのが適している。具体的には、アクリル酸およびそのエステル類、メタクリル酸およびそのエステル類、イタコン酸およびそのエステル類、無水イタコン酸、アクリロニトリル、アクリルアミド、ビニルピリジン、ビニルピロリドン、ビニルピラジン、ビニルイミダゾール、ビニル安息香酸およびそのエステル類、ビニルベンジルクロライド、等を単独または共重合させても良い。さらに共重合させる場合には、スチレン、ビニルトルエンなどの極性基を有さないモノマーを共存させても良い。

水素引き抜き反応は、フェニル核上、フェニル核の置換基、主鎖のアルキル基などの水素と反応する。特に反応のし易さからは、アルキル基を有するものが好ましい。
これらの点から、ポリカーボネート樹脂またはポリアリレート樹脂およびこれらの構造を有する共重合体の原料構成単位に、下記一般式のアルキル基を有するビフェノール化合物またはビスフェノール化合物が含まれることが好ましい。
ＨＯ−Ｘ−ＯＨ
〔式中、Ｘは下記式で表される２価基を示す。〕

〔式中、Ｒ_１０１、Ｒ_１０２、Ｒ_１０３、Ｒ_１０４はハロゲン原子、炭素数１〜６の無置換もしくは置換のアルキル基又は無置換もしくは置換のアリール基（Ｒ１０１、Ｒ_１０２、Ｒ_１０３、Ｒ_１０４が各々複数個存在するときは、同一であっても異なっていてもよい）、ｏ、ｐは０〜４の整数、ｑ、ｒは０〜３の整数、Ｙは単結合、炭素数２〜４の直鎖状のアルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−又は下記式

（式中、Ｒ_１０５はハロゲン原子、炭素数１〜６の無置換もしくは置換アルキル基、炭素数１〜６の無置換もしくは置換のアルコキシ基又は無置換もしくは置換アリール基を示し、Ｒ_１０６、Ｒ_１０７は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６の無置換もしくは置換アルキル基、炭素数１〜６の無置換もしくは置換のアルコキシ基又は無置換もしくは置換アリール基を示し、またＲ_１０６、Ｒ_１０７が結合して炭素数５〜１２の炭素環を形成してもよく、Ｒ_１０８、Ｒ_１０９、Ｒ_１１０、Ｒ_１１１は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６の無置換もしくは置換アルキル基、炭素数１〜６の無置換もしくは置換のアルコキシ基又は無置換もしくは置換アリール基を示す。）で表される２価基を示す。〕

一般式についてさらに詳細に説明する。
Ｒ_１０１、Ｒ_１０２、Ｒ_１０３、Ｒ_１０４の説明中、
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
炭素数１〜６の無置換もしくは置換のアルキル基としては、直鎖、分岐鎖又は環状のアルキル基が挙げられ、これらのアルキル基は、フッ素原子、シアノ基、フェニル基もしくはハロゲン原子又は炭素数１ 〜６の直鎖、分岐鎖もしくは環状のアルキル基で置換されたフェニル基を含有していてもよい。
具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−シアノエチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。
無置換もしくは置換のアリール基としてはフェニル基、ナフチル基を挙げることができ、前記と同様なハロゲン原子、炭素数１〜６の無置換もしくは置換のアルキル基を置換基として有してもよい。

Ｙの説明中、
炭素数２〜４の直鎖状のアルキレン基としては、エチレン、プロピレン、ブチレンを表す。
Ｒ_１０５〜Ｒ_１１１の説明中、
ハロゲン原子、炭素数１〜６の無置換もしくは置換のアルキル基、無置換もしくは置換のアリール基は、Ｒ_１０１、Ｒ_１０２、Ｒ_１０３、Ｒ_１０４の説明と同様である。
炭素数１〜６の置換もしくは無置換のアルコキシ基とは、上記した炭素数１〜６の置換もしくは無置換のアルキル基を有するアルコキシ基を表し、その具体例としてはメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
また、Ｒ_１０６、Ｒ_１０７が結合して形成する炭素数５〜１２の炭素環としては、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロデカン、シクロオクタデカン等を表す。

一般式で表されるジオールの具体例としては、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（２−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス〈４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１−ジメチルプロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（３−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルプロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３−メチルブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ぺンタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４−メチルぺンタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）へキサン、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）へプタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ノナン、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−イソプロピル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−sec−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−tert−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−アリル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロぺンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘプタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ノルボルナン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン、３，３’−ジメチル−４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、３，３’，５，5’−テトラメチル−４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、３，３，３’，３’−テトラメチル−６，６’−ジヒドロキシスピロ（ビス）インダン、３，３’，４，４’−テトラヒドロ−４，４，４’，４’−テトラメチル−２，２’−スピロビ（２Ｈ−１−べンゾピラン）−７，７’−ジオール等が挙げられる。

次にグラフト処理を施したポリカーボネート、ポリアリレートの合成例、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）測定方法を示す。

［合成例１］
（ビニルピリジングラフトビスフェノールＺ型ポリカーボネートの合成）
ビスフェノールＺ型ポリカーボネート（帝人社製ＴＳ２０５０、３．０ｇ）、４−ビニルピリジン（０．３ｇ）、乾燥ＢＰＯ（ベンゾイルパーオキサイド：０．１ｇ）を脱水トルエン（４０ｍｌ）に溶解し、アルゴンガス雰囲気下にて１００℃で５時間加熱撹拌を行った。室温下で放置後、ジクロロメタンで希釈し、メタノールにより再沈殿させてグラフトポリカーボネートを得た。その後、ジクロロメタンに溶解し、水を加え、有機層を水洗した後、再度メタノールにより再沈殿させ単離乾燥し、極薄黄白色のグラフトポリカーボネート（２．９７ｇ）を得た。
ＧＰＣによる重量平均分子量は１４６３００であった。また、Ｈ−ＮＭＲ分析によりグラフト量を測定したところ、６８８ユニットのビスフェノールＺカーボネートに対して、１ユニットのビニルピリジンがグラフトしていた。グラフト量はビニルピリジン環のプロトン４個分の積分値とベンゼン環のプロトン８個分の積分値から計算した。
なお、原料のビスフェノールＺ型ポリカーボネートのＧＰＣによる重量平均分子量は１４７０００であった。

［合成例２］
（アクリル酸グラフトビスフェノールＺ型ポリカーボネートの合成）
ビスフェノールＺ型ポリカーボネート（帝人社製ＴＳ２０５０、３．０ｇ）、アクリル酸（０．３ｇ）、乾燥ＢＰＯ（ベンゾイルパーオキサイド：０．１ｇ）を脱水トルエン（４０ｍｌ）に溶解し、アルゴンガス雰囲気下にて１００℃で５時間加熱撹拌を行った。室温下で放置後、ジクロロメタンで希釈し、メタノールにより再沈殿させてグラフトポリカーボネートを得た。その後、ジクロロメタンに溶解し、水を加え、有機層を水洗した後、再度メタノールにより再沈殿させ単離乾燥し、白色のグラフトポリカーボネート（２．９５ｇ）を得た。
ＧＰＣによる重量平均分子量１４６７００であり、原料のビスフェノールＺ型ポリカーボネートのＧＰＣによる重量平均分子量は１４７０００であった。

［合成例３］
（ビスフェノールＺ型ポリアリレートの合成）
１，１’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（２．６８ｇ、１０ｍｍｏｌ）を反応容器に入れ、４−ターシャル−ブチルフェノール（１５．０ｍｇ、０．１ｍｍｏｌ）と水酸化ナトリウム（１．５２ｇ、３８ｍｍｏｌ）を水（５０ｍｌ）に溶解した後、相間移動触媒であるＢＴＥＡＣ（ベンジルトリエチルアンモニウムクロライド：１３．６ｍｇ、０．０６ｍｍｏｌ）を添加し溶解させた（水相）。別にテラフタル酸クロライドとイソフタル酸クロライドの１：１の混合物（２．０３ｇ、１０．０２ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（４０ｍｌ）に溶解させた（有機相）。反応容器を２０℃に保ち、水相を６５０ｒｐｍで撹拌させながら有機相を添加した。この状態で５時間反応を行った後撹拌を停止し、水相と有機相を分離させた。有機相を酢酸水溶液にて中和し、さらに有機相を３回水洗した。その後メタノールにより再沈殿させ単離乾燥し、白色のポリアリレート樹脂（３．８１ｇ）を得た。重合収率は９５．４％であった。また、ＧＰＣによる重量平均分子量は１５３５００であった。

［合成例４］
（ビニルピリジングラフトビスフェノールＺ型ポリアリレートの合成）
ビスフェノールＺ型ポリアリレート（３．０ｇ）、４−ビニルピリジン（０．３ｇ）、乾燥ＢＰＯ（ベンゾイルパーオキサイド：０．１ｇ）を脱水トルエン（４０ｍｌ）に溶解し、アルゴンガス雰囲気下にて１００℃で５時間加熱撹拌を行った。室温下で放置後、ジクロロメタンで希釈し、メタノールにより再沈殿させてグラフトポリカーボネートを得た。その後、ジクロロメタンに溶解し、水を加え、有機層を水洗した後、再度メタノールにより再沈殿させ単離乾燥し、極薄黄白色グラフトポリアリレート（２．９６ｇ）を得た。
ＧＰＣによる重量平均分子量は１５３２００であった。また、Ｈ−ＮＭＲ分析によりグラフト量を測定したところ、６３５ユニットのビスフェノールＺアリレートに対して、１ユニットのビニルピリジンがグラフトしていた。グラフト量はビニルピリジン環のプロトン４個分の積分値とベンゼン環のプロトン１２個分の積分値から計算した。
なお、原料のビスフェノールＺ型ポリアリレートのＧＰＣによる重量平均分子量は１５３５００であった。

［合成例５］
（アクリル酸グラフトビスフェノールＺ型ポリアリレートの合成）
ビスフェノールＺ型ポリアリレート（３．０ｇ）、アクリル酸（０．３ｇ）、乾燥ＢＰＯ（ベンゾイルパーオキサイド：０．１ｇ）を脱水トルエン（４０ｍｌ）に溶解し、アルゴンガス雰囲気下にて１００℃で５時間加熱撹拌を行った。室温下で放置後、ジクロロメタンで希釈し、メタノールにより再沈殿させてグラフトポリカーボネートを得た。その後、ジクロロメタンに溶解し、水を加え、有機層を水洗した後、再度メタノールにより再沈殿させ単離乾燥し、白色のグラフトポリアリレート（２．９３ｇ）を得た。
ＧＰＣによる重量平均分子量は１５３１００であり、原料のビスフェノールＺ型ポリアリレートのＧＰＣによる重量平均分子量は１５３５００であった。

［合成例６］
（ビスフェノールＥ型ポリカーボネートの合成）
４，４’−エチリジンビスフェノール（４．２８ｇ、２０ｍｍｏｌ）を反応容器に入れ、４−ターシャル−ブチルフェノール（３０．０ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）と水酸化ナトリウム（６．００ｇ、１５０ｍｍｏｌ）とハイドロサルファイト（９．０ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）を水（１２０ｍｌ）のアルカリ水溶液で室温にて溶解させた。次いでトリホスゲン（３．５６ｇ、１２ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１０ｍｌ）に溶解させたトリホスゲン溶液を１５℃で添加し、そのまま１５分間撹拌した。その後、触媒としてトリエチルアミン（２０．２ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を添加し、室温で９０分間反応させた。その後、ジクロロメタンで希釈し、有機相を分離した。この有機相を一度水洗した後、２％塩酸水溶液で洗浄し、さらに、３回水洗した。その後メタノールにより再沈殿させてポリカーボネート樹脂（４．１６ｇ）を得た。重合収率は９７．５％であった。また、ＧＰＣによる重量平均分子量は１５１５００であった。

［合成例７］
（ビニルピリジングラフトビスフェノールＥ型ポリカーボネートの合成）
ビスフェノールＥ型ポリカーボネート（３．０ｇ）、４−ビニルピリジン（０．３ｇ）、乾燥ＢＰＯ（ベンゾイルパーオキサイド：０．１ｇ）を脱水トルエン（４０ｍｌ）に溶解し、アルゴンガス雰囲気下にて１００℃で５時間加熱撹拌を行った。室温下で放置後、ジクロロメタンで希釈し、メタノールにより再沈殿させてグラフトポリカーボネートを得た。その後、ジクロロメタンに溶解し、水を加え、有機層を水洗した後、再度メタノールにより再沈殿させ単離乾燥し、極薄黄白色グラフトポリカーボネート（２．９５ｇ）を得た。
ＧＰＣによる重量平均分子量は１５０５００であった。また、Ｈ−ＮＭＲ分析によりグラフト量を測定したところ、６３０ユニットのビスフェノールＥ型カーボネートに対して、１ユニットのビニルピリジンがグラフトしていた。グラフト量はビニルピリジン環のプロトン４個分の積分値とベンゼン環のプロトン８個分の積分値から計算した。
なお、原料のビスフェノールＥ型ポリカーボネートのＧＰＣによる重量平均分子量は１５１５００であった。

［合成例８］
（テトラブロモビスフェノールＡ型／ビスフェノールＺ型共重合ポリカーボネートの合成）
テトラブロモビスフェノールＡ（５．４３ｇ、１０ｍｍｏｌ）と１，１’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（２．６８ｇ，１０ｍｍｏｌ）を反応容器に入れ、４−ターシャル−ブチルフェノール（３０．０ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）と水酸化ナトリウム（６．００ｇ、１５０ｍｍｏｌ）とハイドロサルファイト（９．０ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）を水（１２０ｍｌ）のアルカリ水溶液で室温にて溶解させた。次いでトリホスゲン（３．５６ｇ、１２ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１０ｍｌ）に溶解させたトリホスゲン溶液を１５℃で添加し、そのまま１５分間撹拌した。その後、触媒としてトリエチルアミン（２０．２ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を添加し、室温で９０分間反応させた。その後、ジクロロメタンで希釈し、有機相を分離した。この有機相を一度水洗した後、２％塩酸水溶液で洗浄し、さらに、３回水洗した。その後メタノールにより再沈殿させてポリカーボネート共重合樹脂（７．８６ｇ）を得た。重合収率は９７．０％であった。また、ＧＰＣによる重量平均分子量は１６１０００であった。

［合成例９］
（アクリル酸グラフトテトラブロモビスフェノールＡ型／ビスフェノールＺ型共重合ポリカーボネートの合成）
テトラブロモビスフェノールＡ型／ビスフェノールＺ型共重合ポリカーボネート（３．０ｇ）、アクリル酸（０．３ｇ）、乾燥ＢＰＯ（ベンゾイルパーオキサイド：０．１ｇ）を脱水トルエン（４０ｍｌ）に溶解し、アルゴンガス雰囲気下にて１００℃で５時間加熱撹拌を行った。室温下で放置後、ジクロロメタンで希釈し、メタノールにより再沈殿させてグラフト共重合ポリカーボネートを得た。その後、ジクロロメタンに溶解し、水を加え、有機層を水洗した後、再度メタノールにより再沈殿させ単離乾燥し、白色のグラフト共重合ポリカーボネート（２．９４ｇ）を得た。
ＧＰＣによる重量平均分子量は１５９５００であり、原料のテトラブロモビスフェノールＡ型／ビスフェノールＺ型共重合ポリカーボネートのＧＰＣによる重量平均分子量は１６１０００であった。

＜ＧＰＣ分析方法＞
ＧＰＣ測定は、東ソー（株）製ＨＬＣ−８１２０型を使用し、プレカラムは東ソー（株）製ＴＳＫｇｒａｎｄｃｏｌｕｍＳｕｐｅｒＨ−Ｈ 、カラムは東ソー（株）製ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒＨ５０００、同Ｈ４０００、同Ｈ３０００、同Ｈ１０００を連結して用いた。温度は４０℃、キャリアはテトラヒドロフラン、流速は０．６ｍｌ／ｍｉｎとした。平均分子量は標準ポリスチレンから算出した。

次に、本発明で用いられる炭素微粒子について説明する。
炭素微粒子は、耐摩耗性の向上あるいは電気的特性の向上の目的で感光層又は表面保護層に添加される。具体的には、カーボンブラック、ダイヤモンド微粒子、非晶質カーボン微粒子、カーボンナノチューブ、フラーレン等が挙げられる。
これらの中でも機械的および電気的耐久性の向上の点から、フラーレンが好ましく、C60フラーレン,C70フラーレン, C76フラーレン, C78フラーレン, C84フラーレン,水素化フラーレン、フッ素化フラーレン、金属含有フラーレンが特に好ましい。これらフィラーは、単独又は２種類以上混合して用いられる。
炭素微粒子の平均一次粒径は、感光層又は表面保護層の光透過率や耐摩耗性の点から、０．５μｍ以下であることが好ましい。炭素微粒子の平均一次粒径が、０．５μｍを超える場合は、分散液中において炭素微粒子の沈降が促進されたり、トナーのフィルミングが発生したりすることがある。

感光層又は表面保護層中の炭素微粒子濃度が高い程、耐摩耗性が高くなるが、８０重量％を超える場合には、感光層又は表面保護層の書き込み光透過率の低下等の副作用を生じることがある。従って、炭素微粒子濃度は、全固形分に対して、通常、８０重量％以下であり、５０重量％以下が好ましい。なお、炭素微粒子濃度の下限値は、通常、５重量％である。

また、他のフィラーと混合して用いても良く、有機フィラーとしては、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素樹脂粉末、シリコーン樹脂粉末等が挙げられ、無機フィラーとしては、銅、スズ、アルミニウム、インジウム等の金属、酸化ケイ素、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化ビスマス、アンチモンをドープした酸化スズ、スズをドープした酸化インジウム等の金属酸化物、チタン酸カリウム等の無機材料が挙げられる。

次に感光体の層構成について説明する。図２は、導電性支持体上にフィラーを含有する感光層を設けた構成例である。図３は、別の感光体の層構成例を示したものであり、導電性支持体上に電荷発生層、フィラーを含有した電荷輸送層を設けたものである。図４は別の感光体の層構成例を示したものであり、導電性支持体上に感光層、フィラーを含有した表面保護層を設けたものである。図５は別の感光体の層構成例を示したものであり、電荷発生層、電荷輸送層、フィラーを含有した表面保護層を設けたものである。またこれらの感光体には、導電性支持体上に、モアレ防止、支持体上から感光層への電荷注入阻止を目的として、下引き層を形成してもかまわない。また本発明では、少なくともフィラーを含有する感光層、電荷輸送層、表面保護層を有していればよく、その他の層等が任意に組み合わされていても構わない。

導電性支持体としては、体積抵抗１０^１０Ω・ｃｍ以下の導電性を示すもの、例えば、アルミニウム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、金、銀、白金などの金属、酸化スズ、酸化インジウムなどの金属酸化物を、蒸着またはスパッタリングにより、フィルム状もしくは円筒状のプラスチック、紙に被覆したもの、あるいは、アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレスなどの板およびそれらを、押し出し、引き抜きなどの工法で素管化後、切削、超仕上げ、研摩などの表面処理した管などを使用することができる。また、エンドレスニッケルベルト、エンドレスステンレスベルトも導電性支持体として用いることができる。

この他、上記支持体上に導電性粉体を適当な結着樹脂に分散して塗工したものも、本発明の導電性支持体として用いることができる。この導電性粉体としては、カーボンブラック、アセチレンブラック、またアルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀などの金属粉、あるいは導電性酸化スズ、ＩＴＯなどの金属酸化物粉体などがあげられる。また、同時に用いられる結着樹脂には、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂などの熱可塑性、熱硬化性樹脂または光硬化性樹脂があげられる。このような導電性層は、これらの導電性粉体と結着樹脂を適当な溶剤、例えば、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、メチルエチルケトン、トルエンなどに分散して塗布することにより設けることができる。
さらに、適当な円筒基体上にポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、塩化ゴム、テフロン（登録商標）などの素材に前記導電性粉体を含有させた熱収縮チューブによって導電性層を設けてなるものも、本発明の導電性支持体として良好に用いることができる。

次に感光層について説明する。感光層は単層でも積層でもよいが、説明の都合上、先ず電荷発生層と電荷輸送層とで構成される場合から述べる。
電荷発生層は、電荷発生物質を主成分とする層である。
電荷発生層には、公知の電荷発生物質を用いることが可能であり、その代表として、モノアゾ顔料、ジスアゾ顔料、トリスアゾ顔料、ペリレン系顔料、ペリノン系顔料、キナクリドン系顔料、キノン系縮合多環化合物、スクアリック酸系染料、他のフタロシアニン系顔料、ナフタロシアニン系顔料、アズレニウム塩系染料等が挙げられ用いられる。これら電荷発生物質は単独でも、２種以上混合してもかまわない。本発明では、特に、アゾ顔料および／またはフタロシアニン顔料が有効に用いられる。特に下記構造式（１）で表されるアゾ顔料、およびチタニルフタロシアニン（特にＣｕＫαの特性Ｘ線（波長１．５１４Å）に対するブラッグ角２θの回折ピーク（±０．２゜）として、少なくとも２７．２゜に最大回折ピークを有するチタニルフタロシアニン）が有効に使用できる。

式中、Ｃｐ₁、Ｃｐ₂はカップラー残基を表し、同一でも異なっていても良い。Ｒ₂₀₁、Ｒ₂₀₂はそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基のいずれかを表し、同一でも異なっていても良い。またＣｐ₁、Ｃｐ₂は下記（２）式で表される。

式中、Ｒ₂₀₃は、水素原子、メチル基、エチル基などのアルキル基、フェニル基などのアリール基を表す。Ｒ₂₀₄、Ｒ₂₀₅、Ｒ₂₀₆、Ｒ₂₀₇、Ｒ₂₀₈はそれぞれ、水素原子、ニトロ基、シアノ基、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子、トリフルオロメチル基、メチル基、エチル基などのアルキル基、メトキシ基、エトキシ基などのアルコキシ基、ジアルキルアミノ基、水酸基を表し、Ｚは置換もしくは無置換の芳香族炭素環または置換もしくは無置換の芳香族複素環を構成するのに必要な原子群を表す。

電荷発生層は、必要に応じて結着樹脂とともに適当な溶剤中にボールミル、アトライター、サンドミル、超音波などを用いて分散し、これを導電性支持体上に塗布し、乾燥することにより形成される。
必要に応じて電荷発生層に用いられる結着樹脂としては、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリスルホン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリアクリルアミド、ポリビニルベンザール、ポリエステル、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリフェニレンオキシド、ポリアミド、ポリビニルピリジン、セルロース系樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等が挙げられる。結着樹脂の量は、電荷発生物質１００重量部に対し０〜５００重量部、好ましくは１０〜３００重量部が適当である。

ここで用いられる溶剤としては、イソプロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチルセルソルブ、酢酸エチル、酢酸メチル、ジクロロメタン、ジクロロエタン、モノクロロベンゼン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、リグロイン等が挙げられるが、特にケトン系溶媒、エステル系溶媒、エーテル系溶媒が良好に使用される。塗布液の塗工法としては、浸漬塗工法、スプレー塗工、ビードコート、ノズルコート、スピナーコート、リングコート等の方法を用いることができる。
電荷発生層の膜厚は、０．０１〜５μｍ程度が適当であり、好ましくは０．１〜２μｍである。

電荷輸送層は、電荷輸送物質および結着樹脂を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを電荷発生層上に塗布、乾燥することにより形成できる。また、必要により可塑剤、レベリング剤、酸化防止剤、フィラー等を添加することもできる。
電荷輸送物質には、正孔輸送物質と電子輸送物質とがある。電荷輸送物質としては、例えばクロルアニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロキサントン、２，４，８−トリニトロチオキサントン、２，６，８−トリニトロ−４Ｈ−インデノ〔１，２−ｂ〕チオフェン−４−オン、１，３，７−トリニトロジベンゾチオフェン−５，５−ジオキサイド、ベンゾキノン誘導体等の電子受容性物質が挙げられる。

正孔輸送物質としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールおよびその誘導体、ポリ−γ−カルバゾリルエチルグルタメートおよびその誘導体、ピレン−ホルムアルデヒド縮合物およびその誘導体、ポリビニルピレン、ポリビニルフェナントレン、ポリシラン、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、モノアリールアミン誘導体、ジアリールアミン誘導体、トリアリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、α−フェニルスチルベン誘導体、ベンジジン誘導体、ジアリールメタン誘導体、トリアリールメタン誘導体、９−スチリルアントラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、ジビニルベンゼン誘導体、ヒドラゾン誘導体、インデン誘導体、ブタジエン誘導体、ピレン誘導体等、ビススチルベン誘導体、エナミン誘導体等その他公知の材料が挙げられる。これらの電荷輸送物質は単独、または２種以上混合して用いられる。また電荷輸送機能とバインダー機能を併せ持つ高分子電荷輸送物質も使用できる。

電荷輸送層が最表層となる場合は、少なくともポリカーボネート樹脂またはポリアリレート樹脂にグラフト重合を行ったグラフト共重合体中にフィラー、電荷輸送物質を含有する。
これらのポリカーボネート樹脂またはポリアリレート樹脂にグラフト重合を行ったグラフト共重合体は、単独でもしくは他のポリカーボネート、ポリアリレートと混合して使用してもかまわない。
電荷輸送層が最表層とならない場合の結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性または熱硬化性樹脂が挙げられる。

電荷輸送物質の量は、結着樹脂１００重量部に対し、２０〜３００重量部、好ましくは４０〜１５０重量部が適当である。また、電荷輸送層の膜厚は解像度・応答性の点から、２５μｍ以下とすることが好ましい。下限値に関しては、使用するシステム（特に帯電電位等）に異なるが、５μｍ以上が好ましい。
ここで用いられる溶剤としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、ジクロロメタン、モノクロロベンゼン、ジクロロエタン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトンなどが用いられる。

本発明の感光体の場合、その電荷輸送層中に可塑剤やレベリング剤を添加してもよい。可塑剤としては、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレートなど一般の樹脂の可塑剤として使用されているものがそのまま使用でき、その使用量は、結着樹脂に対して０〜３０重量％程度が適当である。レベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイルなどのシリコーンオイル類や、側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマーあるいは、オリゴマーが使用され、その使用量は結着樹脂に対して、０〜１重量％が適当である。

次に、感光層が単層構成の場合について述べる。
上述した電荷発生物質を結着樹脂中に分散した感光体が使用できる。単層感光層は、電荷発生物質および電荷輸送物質および結着樹脂を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを塗布、乾燥することによって形成できる。さらに、この感光層には上述した電荷輸送材料を添加した機能分離タイプとしても良く、良好に使用できる。また、必要により、可塑剤やレベリング剤、酸化防止剤等を添加することもできる。

感光層が最表層になる場合は、少なくともポリカーボネート樹脂またはポリアリレート樹脂にグラフト重合を行ったグラフト共重合体中にフィラー、電荷輸送物質、電荷発生物質を含有する。
これらのポリカーボネート樹脂またはポリアリレート樹脂にグラフト重合を行ったグラフト共重合体は、単独でもしくは他のポリカーボネート、ポリアリレートと混合して使用してもかまわない。

感光層が最表層とならない場合の結着樹脂としては、先に電荷輸送層で挙げた結着樹脂をそのまま用いるほかに、電荷発生層で挙げた結着樹脂を混合して用いてもよい。結着樹脂１００重量部に対する電荷発生物質の量は５〜４０重量部が好ましく、電荷輸送物質の量は０〜１９０重量部が好ましくさらに好ましくは５０〜１５０重量部である。単層感光層は、電荷発生物質、結着樹脂を必要ならば電荷輸送物質とともにテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジクロロエタン、シクロヘキサン等の溶媒を用いて分散機等で分散した塗工液を、浸漬塗工法やスプレーコート、ビードコートなどで塗工して形成できる。単層感光層の膜厚は、５〜２５μｍ程度が適当である。

本発明の感光体においては、導電性支持体と感光層との間に下引き層を設けることができる。下引き層は一般には樹脂を主成分とするが、これらの樹脂はその上に感光層を溶剤で塗布することを考えると、一般の有機溶剤に対して耐溶剤性の高い樹脂であることが望ましい。このような樹脂としては、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂、共重合ナイロン、メトキシメチル化ナイロン等のアルコール可溶性樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド−メラミン樹脂、エポキシ樹脂等、三次元網目構造を形成する硬化型樹脂等が挙げられる。また、下引き層にはモアレ防止、残留電位の低減等のために、酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等で例示できる金属酸化物の微粉末顔料を加えてもよい。

この下引き層は前述の感光層の如く適当な溶媒、塗工法を用いて形成することができる。更に本発明では、下引き層として、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、クロムカップリング剤等を使用することもできる。この他、下引き層には、Ａｌ₂Ｏ₃を陽極酸化にて設けたものや、ポリパラキシリレン（パリレン）等の有機物やＳｉＯ₂、ＳｎＯ₂、ＴｉＯ₂、ＩＴＯ、ＣｅＯ₂等の無機物を真空薄膜作成法にて設けたものも良好に使用できる。このほかにも公知のものを用いることができる。下引き層の膜厚は０〜５μｍが適当である。

本発明の感光体においては、感光体の機械的耐久性を向上させることを目的として、表面保護層を感光層の上に設ける。
表面保護層は、少なくともポリカーボネート樹脂またはポリアリレート樹脂にグラフト重合を行ったグラフト共重合体及びフィラーを含有する。また他のポリカーボネート、ポリアリレート樹脂を混合してもかまわない。
これらのポリカーボネート樹脂またはポリアリレート樹脂にグラフト重合を行ったグラフト共重合体は、単独でもしくは他のポリカーボネート、ポリアリレートと混合して使用してもかまわない。

表面保護層膜厚は、１．０〜８．０μｍの範囲であることが好ましい。長期的に繰り返し使用される感光体は、機械的に耐久性が高く、摩耗しにくいものとする。しかし実機内における、帯電部材などから、オゾン及びＮＯｘガスなどが発生し、感光体の表面に付着する。これらの付着物が存在すると、画像流れが発生する。この画像流れを防止するためには、感光層をある一定速度以上で摩耗する必要がある。そのためには、長期的な繰り返し使用を考慮した場合、表面保護層は少なくとも１．０μｍ以上の膜厚であることが好ましい。また表面保護層膜厚が８．０μｍよりも大きい場合は、残留電位上昇や微細ドット再現性の低下が考えられる。

塗工法としては、浸漬塗工法、スプレー塗工、ビードコート、ノズルコート、スピナーコート、リングコート等の方法を用いることができる。
このうち一般的な表面保護層の製膜方法としては、微小開口部を有するノズルより塗料を吐出し、霧化することにより生成した微小液滴を感光層上に付着させて塗膜を形成するスプレー塗工方法が用いられる。
表面保護層の形成方法は、スプレー塗工方法に限定されるものではなく、本発明の膜状態を達成できる塗工方法であればよい。

表面保護層は、残留電位低減、応答性改良のため、電荷輸送物質を含有しても良い。電荷輸送物質は、電荷輸送層の説明のところに記載した材料を用いることができる。電荷輸送物質として、低分子電荷輸送物質を用いる場合には、表面保護層中における濃度傾斜を有しても構わない。耐摩耗性向上のため、表面側を低濃度にすることは有効な手段である。
また、表面保護層には電荷輸送物質としての機能とバインダー樹脂の機能を持った高分子電荷輸送物質も良好に使用される。

本発明においては、耐環境性の改善のため、とりわけ、感度低下、残留電位の上昇を防止する目的で、各層に酸化防止剤、可塑剤、滑剤、紫外線吸収剤、低分子電荷輸送物質およびレベリング剤を添加することが出来る。また塗工液中のフィラー分散性向上のために分散安定剤を添加することができる。これらの化合物の代表的な材料を以下に記す。
各層に添加できる酸化防止剤として、例えば下記のものが挙げられるがこれらに限定されるものではない。

（ａ）フェノ−ル系化合物
２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾ−ル、ブチル化ヒドロキシアニソ−ル、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノ−ル、ｎ−オクタデシル−３−（４’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノ−ル）、２，２’−メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノ−ル）、４，４’−チオビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノ−ル）、４，４’−ブチリデンビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノ−ル）、１，１，３−トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、テトラキス−［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネ−ト］メタン、ビス［３，３’−ビス（４’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアッシド］クリコ−ルエステル、トコフェロ−ル類など。

（ｂ）パラフェニレンジアミン類
Ｎ−フェニル−Ｎ’−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミンなど。
（ｃ）ハイドロキノン類
２，５−ジ−ｔ−オクチルハイドロキノン、２，６−ジドデシルハイドロキノン、２−ドデシルハイドロキノン、２−ドデシル−５−クロロハイドロキノン、２−ｔ−オクチル−５−メチルハイドロキノン、２−（２−オクタデセニル）−５−メチルハイドロキノンなど。
（ｄ）有機硫黄化合物類
ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネ−ト、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネ−ト、ジテトラデシル−３，３’−チオジプロピオネ−トなど。
（ｅ）有機燐化合物類
トリフェニルホスフィン、トリ（ノニルフェニル）ホスフィン、トリ（ジノニルフェニル）ホスフィン、トリクレジルホスフィン、トリ（２，４−ジブチルフェノキシ）ホスフィンなど。

各層に添加できる可塑剤として、例えば下記のものが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
（ａ）リン酸エステル系可塑剤
リン酸トリフェニル、リン酸トリクレジル、リン酸トリオクチル、リン酸オクチルジフェニル、リン酸トリクロルエチル、リン酸クレジルジフェニル、リン酸トリブチル、リン酸トリ−２−エチルヘキシル、リン酸トリフェニルなど。
（ｂ）フタル酸エステル系可塑剤
フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジイソブチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘプチル、フタル酸ジ−２−エチルヘキシル、フタル酸ジイソオクチル、フタル酸ジ−ｎ−オクチル、フタル酸ジノニル、フタル酸ジイソノニル、フタル酸ジイソデシル、フタル酸ジウンデシル、フタル酸ジトリデシル、フタル酸ジシクロヘキシル、フタル酸ブチルベンジル、フタル酸ブチルラウリル、フタル酸メチルオレイル、フタル酸オクチルデシル、フマル酸ジブチル、フマル酸ジオクチルなど。
（ｃ）芳香族カルボン酸エステル系可塑剤
トリメリット酸トリオクチル、トリメリット酸トリ−ｎ−オクチル、オキシ安息香酸オクチルなど。

（ｄ）脂肪族二塩基酸エステル系可塑剤
アジピン酸ジブチル、アジピン酸ジ−ｎ−ヘキシル、アジピン酸ジ−２−エチルヘキシル、アジピン酸ジ−ｎ−オクチル、アジピン酸−ｎ−オクチル−ｎ−デシル、アジピン酸ジイソデシル、アジピン酸ジカプリル、アゼライン酸ジ−２−エチルヘキシル、セバシン酸ジメチル、セバシン酸ジエチル、セバシン酸ジブチル、セバシン酸ジ−ｎ−オクチル、セバシン酸ジ−２−エチルヘキシル、セバシン酸ジ−２−エトキシエチル、コハク酸ジオクチル、コハク酸ジイソデシル、テトラヒドロフタル酸ジオクチル、テトラヒドロフタル酸ジ−ｎ−オクチルなど。
（ｅ）脂肪酸エステル誘導体
オレイン酸ブチル、グリセリンモノオレイン酸エステル、アセチルリシノール酸メチル、ペンタエリスリトールエステル、ジペンタエリスリトールヘキサエステル、トリアセチン、トリブチリンなど。
（ｆ）オキシ酸エステル系可塑剤
アセチルリシノール酸メチル、アセチルリシノール酸ブチル、ブチルフタリルブチルグリコレート、アセチルクエン酸トリブチルなど。

（ｇ）エポキシ可塑剤
エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油、エポキシステアリン酸ブチル、エポキシステアリン酸デシル、エポキシステアリン酸オクチル、エポキシステアリン酸ベンジル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジデシルなど。
（ｈ）二価アルコールエステル系可塑剤
ジエチレングリコールジベンゾエート、トリエチレングリコールジ−２−エチルブチラートなど。
（ｉ）含塩素可塑剤
塩素化パラフィン、塩素化ジフェニル、塩素化脂肪酸メチル、メトキシ塩素化脂肪酸メチルなど。
（ｊ）ポリエステル系可塑剤
ポリプロピレンアジペート、ポリプロピレンセバケート、ポリエステル、アセチル化ポリエステルなど。
（ｋ）スルホン酸誘導体
ｐ−トルエンスルホンアミド、ｏ−トルエンスルホンアミド、ｐ−トルエンスルホンエチルアミド、ｏ−トルエンスルホンエチルアミド、トルエンスルホン−Ｎ−エチルアミド、ｐ−トルエンスルホン−Ｎ−シクロヘキシルアミドなど。
（ｌ）クエン酸誘導体
クエン酸トリエチル、アセチルクエン酸トリエチル、クエン酸トリブチル、アセチルクエン酸トリブチル、アセチルクエン酸トリ−２−エチルヘキシル、アセチルクエン酸−ｎ−オクチルデシルなど。
（ｍ）その他
ターフェニル、部分水添ターフェニル、ショウノウ、２−ニトロジフェニル、ジノニルナフタリン、アビエチン酸メチルなど。

各層に添加できる滑剤としては、例えば下記のものが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
（ａ）炭化水素系化合物
流動パラフィン、パラフィンワックス、マイクロワックス、低重合ポリエチレンなど。
（ｂ）脂肪酸系化合物
ラウリン酸、ミリスチン酸、パルチミン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、ベヘン酸など。
（ｃ）脂肪酸アミド系化合物
ステアリルアミド、パルミチルアミド、オレインアミド、メチレンビスステアロアミド、エチレンビスステアロアミドなど。
（ｄ）エステル系化合物
脂肪酸の低級アルコールエステル、脂肪酸の多価アルコールエステル、脂肪酸ポリグリコールエステルなど。
（ｅ）アルコール系化合物
セチルアルコール、ステアリルアルコール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリグリセロールなど。
（ｆ）金属石けん
ステアリン酸鉛、ステアリン酸カドミウム、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウムなど。
（ｇ）天然ワックス
カルナバロウ、カンデリラロウ、蜜ロウ、鯨ロウ、イボタロウ、モンタンロウなど。
（ｈ）その他
シリコーン化合物、フッ素化合物など。

各層に添加できる紫外線吸収剤として、例えば下記のものが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
（ａ）ベンゾフェノン系
２−ヒドロキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ４−メトキシベンゾフェノンなど。
（ｂ）サルシレート系
フェニルサルシレート、２，４ジ−ｔ−ブチルフェニル３，５−ジ−ｔ−ブチル４ヒドロキシベンゾエートなど。
（ｃ）ベンゾトリアゾール系
（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、（２’−ヒドロキシ５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、（２’−ヒドロキシ５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、（２’−ヒドロキシ３’−ターシャリブチル５’−メチルフェニル）５−クロロベンゾトリアゾールなど。
（ｄ）シアノアクリレート系
エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、メチル２−カルボメトキシ３（パラメトキシ）アクリレートなど。
（ｅ）クエンチャー（金属錯塩系）
ニッケル（２，２’チオビス（４−ｔ−オクチル）フェノレート）ノルマルブチルアミン、ニッケルジブチルジチオカルバメート、ニッケルジブチルジチオカルバメート、コバルトジシクロヘキシルジチオホスフェートなど。
（ｆ）ＨＡＬＳ（ヒンダードアミン）
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、１−［２−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］−４−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕−２，２，６，６−テトラメチルピリジン、８−ベンジル−７，７，９，９−テトラメチル−３−オクチル−１，３，８−トリアザスピロ〔４，５〕ウンデカン−２，４−ジオン、４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンなど。

次に図面を用いて本発明の電子写真方法ならびに電子写真装置を詳しく説明する。
図６は、本発明の電子写真装置を説明するための概略図であり、下記するような変形例も本発明の範疇に属するものである。
図６において、感光体１は、導電性支持体上に、少なくとも感光層と表面保護層が設けた構造を有する。感光体１はドラム状の形状を示しているが、シート状、エンドレスベルト状のものであっても良い。帯電部材（ローラ）８、転写前チャージャー１２、クリーニング前チャージャー１７には、コロトロン、スコロトロン、固体帯電器（ソリッド・ステート・チャージャー）、帯電ローラを始めとする公知の手段が用いられる。帯電部材８は、感光体に対し接触もしくは近接配置したものが良好に用いられる。また、帯電用部材により感光体に帯電を施す際、帯電部材の直流成分に対して交流成分を重畳した電界により感光体に帯電を与えることにより、帯電ムラを低減することが可能で効果的である。

転写手段には、一般に上記の帯電器が使用できるが、図に示されるように転写チャージャーと分離チャージャーを併用したものが効果的である。
また、画像露光部１０、除電ランプ７等の光源には、蛍光灯、タングステンランプ、ハロゲンランプ、水銀灯、ナトリウム灯、発光ダイオード（ＬＥＤ）、半導体レーザー（ＬＤ）、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）などの発光物全般を用いることができる。好ましく発光ダイオード、半導体レーザーが用いられる。そして、所望の波長域の光のみを照射するために、シャープカットフィルター、バンドパスフィルター、近赤外カットフィルター、ダイクロイックフィルター干渉フィルター、色温度変換フィルターなどの各種フィルターを用いることもできる。
かかる光源等は、図６に示される工程の他に光照射を併用した転写工程、除電工程、クリーニング工程、あるいは前露光などの工程を設けることにより、感光体に光が照射される。

さて、現像ユニット１１により感光体１上に現像されたトナーは、転写紙１４に転写されるが、全部が転写されるわけではなく、感光体１上に残存するトナーも生ずる。このようなトナーは、ファーブラシ１８およびクリーニングブラシ１９により、感光体より除去される。クリーニングは、クリーニングブラシだけで行なわれることもあり、クリーニングブラシにはファーブラシ、マグファーブラシを始めとする公知のものが用いられる。
電子写真感光体に正（負）帯電を施し、画像露光を行なうと、感光体表面上には正（負）の静電潜像が形成される。
これを負（正）極性のトナー（検電微粒子）で現像すれば、ポジ画像が得られるし、また正（負）極性のトナーで現像すれば、ネガ画像が得られる。
かかる現像手段には、公知の方法が適用されるし、また、除電手段にも公知の方法が用いられる。

図７には、本発明による電子写真装置の別の例を示す。感光体２１は導電性支持体上に、少なくとも感光層と表面保護層を設けた構造を有する。駆動ローラ２２ａ，２２ｂにより駆動され、帯電器（ローラ）２３による帯電、像露光源２４による像露光、現像（図示せず）、帯電器２３を用いる転写、光源２６によるクリーニング前露光、クリーニングブラシ２７によるクリーニング、光源２８による除電が繰返し行なわれる。図１１においては、感光体２１（勿論この場合は支持体が透光性である）に支持体側よりクリーニング前露光の光照射が行なわれる。

図７に関連して示した前記電子写真プロセスは、本発明における実施形態を例示するものであって、もちろん他の実施形態も可能である。例えば、図７においては支持体側よりクリーニング前露光を行っているが、これは感光層側から行ってもよいし、また、像露光、除電光の照射を支持体側から行ってもよい。
一方、光照射工程は、像露光、クリーニング前露光、除電露光が図示されているが、他に転写前露光、像露光のプレ露光、およびその他公知の光照射工程を設けて、感光体に光照射を行なうこともできる。

以上に示すような画像形成手段は、複写装置、ファクシミリ、プリンター内に固定して組み込まれていてもよいが、プロセスカートリッジの形でそれら装置内に組み込まれてもよい。プロセスカートリッジとは、感光体を内蔵し、他に帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、クリーニング手段、除電手段等を含んだ１つの装置（部品）である。プロセスカートリッジの形状等は多く挙げられるが、一般的な例として、図８に示すものが挙げられる。感光体２５は、導電性支持体上に、少なくとも感光層と表面保護層を設けた構造のものである。

以下本発明を実施例及び比較例により説明するが、これにより本発明の態様が限定されるものではない。

［実施例１］
（下引き層製膜）
アルミニウム製支持体（外径３０ｍｍΦ）に、乾燥後の膜厚が３．５μｍになるように浸漬法で塗工し、下引き層を形成した。
（１）下引き層用塗工液
アルキッド樹脂（ベッコゾール１３０７−６０−ＥＬ：大日本インキ化学工業）
メラミン樹脂（スーパーベッカミンＧ−８２１−６０：大日本インキ化学工業）
酸化チタン（ＣＲ−ＥＬ：石原産業）
メチルエチルケトン
（２）混合比（重量）
アルキッド樹脂／メラミン樹脂／酸化チタン／メチルエチルケトン＝３／２／２０／１００

（感光層製膜）
この下引き層上に、乾燥後の膜厚が２５μｍになるように浸漬法で塗工し、感光層を作製した。
（１）感光層塗工液
合成例１の方法で作製したビニルピリジングラフトビスフェノールＺ型ポリカーボネート（以下、ＶＰ-Ｐｃという。）
下記構造の正孔輸送物質

下記構造の電子輸送物質

オキソチタニウムフタロシアニン
（特にＣｕＫαの特性Ｘ線（波長１．５１４Å）に対するブラッグ角２θの回折ピーク（±０．２゜）として、少なくとも２７．２゜に最大回折ピークを有するオキソチタニウムフタロシアニン）
ダイヤモンド微粒子（ナノダイヤモンド、平均粒径４〜８ｎｍ：北京国瑞昇科技有限公司製）
テトラヒドロフラン
シクロヘキサノン
（２）混合比（重量）
ＶＰ-Ｐｃ／正孔輸送物質／電子輸送物質／フタロシアニン／ダイヤモンド微粒子／テトラヒドロフラン／シクロヘキサノン＝１０／６／４／０．４／４／１００／４

［実施例２］
（下引き層製膜）
アルミニウム製支持体（外径３０ｍｍΦ）に、乾燥後の膜厚が３．５μｍになるように浸漬法で塗工し、下引き層を形成した。
（１）下引き層用塗工液
アルキッド樹脂（ベッコゾール１３０７−６０−ＥＬ：大日本インキ化学工業）
メラミン樹脂（スーパーベッカミンＧ−８２１−６０：大日本インキ化学工業）
酸化チタン（ＣＲ−ＥＬ：石原産業）
メチルエチルケトン
（２）混合比（重量）
アルキッド樹脂／メラミン樹脂／酸化チタン／メチルエチルケトン＝３／２／２０／１００

（電荷発生層製膜）
この下引き層上に、下記構造のアゾ顔料を含む電荷発生層塗工液に浸漬塗工し、加熱乾燥させ、膜厚０．２μｍの電荷発生層を形成した。
（１）電荷発生層用塗工液
下記構造のアゾ顔料

ポリビニルブチラール（ＸＹＨＬ：ＵＣＣ）
２−ブタノン
シクロヘキサノン
（２）混合比（重量）
アゾ顔料／ポリビニルブチラール／２−ブタノン／シクロヘキサノン＝５／１／１００／２００

（電荷輸送層製膜）
この電荷発生層上に実施例１の正孔輸送物質を含む電荷輸送層用塗工液を用いて、浸積塗工し、加熱乾燥させ、膜厚２７μｍの電荷輸送層とした。
（１）電荷輸送層用塗工液
ＶＰ-Ｐｃ
実施例１の電荷（正孔）輸送物質
カーボンナノチューブ（シングルウォール：アルドリッチ製）
テトラヒドロフラン
（２）混合比（重量）
ＶＰ-Ｐｃ／電荷輸送物質／カーボンナノチューブ／テトラヒドロフラン＝１０／１０／３／１１０

［実施例３］
（下引き層製膜）
アルミニウム製支持体（外径３０ｍｍΦ）に、乾燥後の膜厚が３．５μｍになるように浸漬法で塗工し、下引き層を形成した。
（１）下引き層用塗工液
アルキッド樹脂（ベッコゾール１３０７−６０−ＥＬ：大日本インキ化学工業）
メラミン樹脂（スーパーベッカミンＧ−８２１−６０：大日本インキ化学工業）
酸化チタン（ＣＲ−ＥＬ：石原産業）
メチルエチルケトン
（２）混合比（重量）
アルキッド樹脂／メラミン樹脂／酸化チタン／メチルエチルケトン＝３／２／２０／１００
（電荷発生層製膜）
この下引き層上に、実施例２のアゾ顔料を含む電荷発生層塗工液に浸漬塗工し、加熱乾燥させ、膜厚０．２μｍの電荷発生層を形成した。
（１）電荷発生層用塗工液
実施例２のアゾ顔料
ポリビニルブチラール（ＸＹＨＬ：ＵＣＣ）
２−ブタノン
シクロヘキサノン
（２）混合比（重量）
アゾ顔料／ポリビニルブチラール／２−ブタノン／シクロヘキサノン＝５／１／１００／２００

（電荷輸送層製膜）
この電荷発生層上に実施例１の電荷（正孔）輸送物質を含む電荷輸送層用塗工液を用いて、浸積塗工し、加熱乾燥させ、膜厚２２μｍの電荷輸送層とした。
（１）電荷輸送層用塗工液
ビスフェノールＺ型ポリカーボネート（ＴＳ２０５０：帝人、以下、Ｚ-Ｐｃという）
実施例１の電荷（正孔）輸送物質
テトラヒドロフラン
（２）混合比（重量）
ポリカーボネート／電荷輸送物質／テトラヒドロフラン＝１／１／１０
（表面保護層製膜）
この電荷輸送層上に下記表面保護層層用塗工液を用いて、スプレー塗工を行い、１５０℃、２０分、加熱乾燥させ、膜厚５μｍの表面保護層とした。
（１）表面保護層用塗工液
合成例２の方法で作製したアクリル酸グラフトビスフェノールＺ型ポリカーボネート（以下、ＡＣ-Ｐｃという）
Ｚ-Ｐｃ
電荷輸送層に用いた低分子電荷輸送物質
アルミナ微粒子（ＡＡ０３：住友化学製）
フラーレン（Ｃ60とＣ70混合物：東京化成製）
テトラヒドロフラン
シクロヘキサノン
（２）混合比（重量）
ＡＣ-Ｐｃ／Ｚ-Ｐｃ／電荷輸送物質／アルミナ微粒子／フラーレン／テトラヒドロフラン／シクロヘキサノン＝1／３／３／１／２／１７０／５０

［実施例４］
下記表面保護層塗工条件で塗工すること以外は、全て実施例３と同じにして、感光体を作製した．
（１）表面保護層用塗工液
ＶＰ-Ｐｃ
Ｚ-Ｐｃ
実施例１の電荷（正孔）輸送物質
フラーレン（Ｃ60：東京化成製）
テトラヒドロフラン
シクロヘキサノン
（２）混合比（重量）
ＶＰ-Ｐｃ／Ｚ-Ｐｃ／電荷輸送物質／フラーレン／テトラヒドロフラン／シクロヘキサノン＝０．５／３．５／３／３／１７０／５０

［実施例５］
下記表面保護層塗工条件で塗工すること以外は、全て実施例３と同じにして、感光体を作製した．
（１）表面保護層用塗工液
合成例４の方法で作製したビニルピリジングラフトビスフェノールＺ型ポリアリレート（以下、ＶＰ-Ｐａという）
合成例３の方法で作製したビスフェノールＺ型ポリアリレート（Ｚ-Ｐａ）
実施例１の電荷（正孔）輸送物質
フラーレン（Ｃ70：東京化成製）
テトラヒドロフラン
シクロヘキサノン
（２）混合比（重量）
ＶＰ-Ｐａ／Ｚ-Ｐａ／電荷輸送物質／フラーレン／テトラヒドロフラン／シクロヘキサノン＝０．５／３．５／４／３／１７０／５０

［比較例１］
感光層塗工液を下記条件にすること以外は、全て実施例１と同じにして感光体を作製した．
（１）感光層塗工液
ビスフェノールＺ型ポリカーボネート（Ｚ-Ｐｃ）
実施例１の電荷（正孔）輸送物質
実施例１の電荷（電子）輸送物質
オキソチタニウムフタロシアニン
（特にＣｕＫαの特性Ｘ線（波長１．５１４Å）に対するブラッグ角２θの回折ピーク（±０．２゜）として、少なくとも２７．２゜に最大回折ピークを有するオキソチタニウムフタロシアニン）
ダイヤモンド微粒子（ナノダイヤモンド、平均粒径4〜8nm：北京国瑞昇科技有限公司製）
テトラヒドロフラン
（２）混合比（重量）
Ｚ-Ｐｃ／正孔輸送物質／電子輸送物質／フタロシアニン／ダイヤモンド微粒子／テトラヒドロフラン
＝１０／６／４／０．４／４／１００

［比較例２］
感光層塗工液を下記条件にすること以外は、全て実施例１と同じにして感光体を作製した．
（１）感光層塗工液
ビスフェノールＺ型ポリカーボネート（Ｚ-Ｐｃ）
実施例１の電荷（正孔）輸送物質
実施例１の電荷（電子）輸送物質
オキソチタニウムフタロシアニン
（特にＣｕＫαの特性Ｘ線（波長１．５１４Å）に対するブラッグ角２θの回折ピーク（±０．２゜）として、少なくとも２７．２゜に最大回折ピークを有するオキソチタニウムフタロシアニン）
ダイヤモンド微粒子（ナノダイヤモンド、平均粒径4〜8nm：北京国瑞昇科技有限公司製）
分散剤（NIKKOL TAMNS-10：日光ケミカルズ）
テトラヒドロフラン
シクロヘキサノン
（２）混合比（重量）
Ｚ-Ｐｃ／正孔輸送物質／電子輸送物質／フタロシアニン／ダイヤモンド微粒子／分散剤／テトラヒドロフラン／シクロヘキサノン＝１０／６／４／０．４／４／０．０５／１００／４

［比較例３］
電荷輸送層塗工液を下記条件にすること以外は、全て実施例２と同じにして感光体を作製した．
（１）電荷輸送層用塗工液
Ｚ-Ｐｃ
実施例１の電荷（正孔）輸送物質
カーボンナノチューブ（シングルウォール：アルドリッチ製）
テトラヒドロフラン
（２）混合比（重量）
Ｚ-Ｐｃ／電荷輸送物質／カーボンナノチューブ／テトラヒドロフラン＝１０／１０／３／１１０

［比較例４］
電荷輸送層塗工液を下記条件にすること以外は、全て実施例２と同じにして感光体を作製した．
（１）電荷輸送層用塗工液
Ｚ-Ｐｃ
実施例１の電荷（正孔）輸送物質
カーボンナノチューブ（シングルウォール：アルドリッチ製）
分散剤（NIKKOL TAMNS-10：日光ケミカルズ）
テトラヒドロフラン
（２）混合比（重量）
Ｚ-Ｐｃ／電荷輸送物質／カーボンナノチューブ／分散剤／テトラヒドロフラン＝１０／１０／３／０．０４／１１０

［比較例５］
下記表面保護層塗工条件で塗工すること以外は、全て実施例３と同じにして、感光体を作製した．
（１）表面保護層用塗工液
Ｚ-Ｐｃ
実施例１の電荷（正孔）輸送物質
アルミナ微粒子（ＡＡ０３：住友化学製）
フラーレン（Ｃ60とＣ70混合物：東京化成製）
テトラヒドロフラン
シクロヘキサノン
（２）混合比（重量）
Ｚ-Ｐｃ／電荷輸送物質／アルミナ微粒子／フラーレン／テトラヒドロフラン／シクロヘキサノン＝４／３／１／２／１７０／５０

［比較例６］
下記表面保護層塗工条件で塗工すること以外は、全て実施例３と同じにして、感光体を作製した．
（１）表面保護層用塗工液
Ｚ-Ｐｃ
実施例１の電荷（正孔）輸送物質
アルミナ微粒子（ＡＡ０３：住友化学）
フラーレン（Ｃ60とＣ70混合物：東京化成製）
分散剤（ＢＹＫＰ１０４：ビックケミー）
テトラヒドロフラン
シクロヘキサノン
（２）混合比（重量）
Ｚ-Ｐｃ／電荷輸送物質／アルミナ微粒子／フラーレン／分散剤／テトラヒドロフラン／シクロヘキサノン＝４／３／１／２／０．０６／１７０／５０

［比較例７］
下記表面保護層塗工条件で塗工すること以外は、全て実施例３と同じにして、感光体を作製した．
（１）表面保護層用塗工液
Ｚ-Ｐｃ
実施例１の電荷（正孔）輸送物質
フラーレン（Ｃ60：東京化成製）
テトラヒドロフラン
シクロヘキサノン
（２）混合比（重量）
Ｚ-Ｐｃ／電荷輸送物質／フラーレン／テトラヒドロフラン／シクロヘキサノン＝４／３／３／１７０／５０

［比較例８］
下記表面保護層塗工条件で塗工すること以外は、全て実施例３と同じにして、感光体を作製した．
（１）表面保護層用塗工液
Ｚ-Ｐｃ
実施例１の電荷（正孔）輸送物質
フラーレン（Ｃ60：東京化成製）
分散剤（NIKKOL TAMNS-10：日光ケミカルズ）
テトラヒドロフラン
シクロヘキサノン
（２）混合比（重量）
Ｚ-Ｐｃ／電荷輸送物質／フラーレン／分散剤／テトラヒドロフラン／シクロヘキサノン＝４／３／３／０．０３／１７０／５０

［比較例９］
下記表面保護層塗工条件で塗工すること以外は、全て実施例３と同じにして、感光体を作製した．
（１）表面保護層用塗工液
合成例３の方法で作製したビスフェノールＺ型ポリアリレート（以下、Ｚ-Ｐａという）
実施例１の電荷（正孔）輸送物質
フラーレン（Ｃ70：東京化成製）
テトラヒドロフラン
シクロヘキサノン
（２）混合比（重量）
Ｚ-Ｐａ／電荷輸送物質／フラーレン／テトラヒドロフラン／シクロヘキサノン＝４／４／３／１７０／５０

［比較例１０］
下記表面保護層塗工条件で塗工すること以外は、全て実施例３と同じにして、感光体を作製した．
（１）表面保護層用塗工液
Ｚ-Ｐａ
実施例１の電荷（正孔）輸送物質
フラーレン（Ｃ70：東京化成製）
分散剤（NIKKOL TAMNS-5：日光ケミカルズ）
テトラヒドロフラン
シクロヘキサノン
（２）混合比（重量）
ＶＰ-Ｐａ／電荷輸送物質／フラーレン／分散剤／テトラヒドロフラン／シクロヘキサノン＝４／４／３／０．０３／１７０／５０

［比較例１１］
表面保護層を設けず、電荷輸送層膜厚を２７μｍとすること以外は、全て実施例３と同じにして感光体を作製した。

これらの実施例３〜５、比較例５〜１０の表面保護層塗工液の微粒子分散安定性評価を行うために、沈降試験を行った。沈降管（１０ｍｌ）に１０ｍｌの表面保護層塗工液を入れ、１時間静置した。1時間後の沈降管中の液の懸濁状態を観察した。結果を表１に示す。

次に実施例で作製した感光体を、画像露光光源を６５５ｎｍの半導体レーザー（ポリゴン・ミラーによる書き込み）に改造したイマジオＮＥＯ２７１を用いて、１０万枚（Ａ４）通紙試験を行った。そして、初期及びラン後のハーフトーン画像特性評価、摩耗量を測定した。摩耗量は、感光体上の２０点の膜厚を渦電流式膜厚計（ＦｉｓｈｅｒscopeＭＭＳ）で測定し、初期からの膜厚減少量を求めた。結果を表２、３に示す。

本発明の感光体は、長期的使用における機械的耐久性に優れるとともに、電気安定性、画像安定性に優れるので、電子写真用の感光体として好適に使用することができる。

感光体が摩耗するメカニズムを模式的に示す図である。 導電性支持体上にフィラーを含有する感光層を設けた感光体の構成例を示す図である。 導電性支持体上に電荷発生層、フィラーを含有した電荷輸送層を設けた感光体の構成例を示す図である。 導電性支持体上に感光層、フィラーを含有した表面保護層を設けた感光体の構成例を示す図である。 導電性支持体上に電荷発生層、電荷輸送層、フィラーを含有した表面保護層を設けた感光体の構成例を示す図である。 本発明の画像形成装置の一構成例を示す図である。 本発明の画像形成装置の他の構成例を示す図である。 本発明のプロセスカートリッジの一構成例を示す図である。

Claims (10)

1. 導電性支持体上に少なくとも感光層を有する感光体において、
   該感光層は、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより得られるグラフト共重合体及びフィラーを含有することを特徴とする電子写真感光体。
2. 前記感光層は、電荷発生層及び電荷輸送層が積層されており、
   該電荷輸送層は、前記グラフト共重合体及びフィラーを含有することを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体。
3. 導電性支持体上に少なくとも感光層及び表面保護層が積層されている電子写真感光体において、該表面保護層は、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂に極性基を有するモノマーをグラフト重合することにより得られるグラフト共重合体及びフィラーを含有することを特徴とする電子写真感光体。
4. 前記感光層は、電荷発生層及び電荷輸送層が積層されていることを特徴とする請求項３に記載の電子写真感光体。
5. 前記表面保護層は、電荷輸送物質をさらに含有することを特徴とする請求項３又は４に記載の電子写真感光体。
6. 前記フィラーは、炭素微粒子であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の電子写真感光体。
7. 前記炭素微粒子は、フラーレンであることを特徴とする請求項６に記載の電子写真感光体。
8. 請求項１乃至７のいずれか一項に記載の電子写真感光体を少なくとも有することを特徴とする画像形成装置。
9. 請求項１乃至７のいずれか一項に記載の電子写真感光体を少なくとも有することを特徴とするプロセスカートリッジ。
10. 請求項１乃至７のいずれか一項に記載の電子写真感光体を用いて画像を形成することを特徴とする画像形成方法。
    

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