JP2007532613A - ハロゲン化気体化合物の検出または定量のために使用される、化合物、メソ構造化多孔性ハイブリッド有機−無機材料および感知器 - Google Patents
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Abstract
それはまた、これらの化合物が、その中で、共有結合またはイオン共有結合によってグラフトされるMPHOIMに、これらのMPHOIMを製造するためのプロセスに、そしてまたハロゲン化気体の化合物の検出および定量のための、かつこれらのMPHOIMを感知材料として含む化学感知器に関する。
本発明は、とりわけ、マイクロエレクトロニクス分野で使われるハロゲン化気体化合物、特にハロゲン化ホウ素錯体の検出および定量に適用される。
Description
X1およびY1は、互いに無関係に、酸素または硫黄原子あるいは=NH基を示す;
Y2は、−OH、−SHまたは−NH2基を示す;
u、vおよびwは、互いに無関係に、0または1であるが、u、vおよびwの少なくとも一つは0以外である;
U、VおよびWは、互いに無関係に、1個以上の環を持つアリールまたはヘテロアリール基を表し、各々は5員または6員の環構成子を持つ;
R1、R2およびR3の少なくとも一つは、一つの基−(Z)zKを表す[この式において、
*zは0または1であり、Zは、C3〜C6環状の、あるいは、C1〜C6線状または分岐状の、飽和または不飽和の二価炭化水素基を表し、この炭化水素基は、任意に、1個以上の酸素、窒素または硫黄原子を含む;そして
*Kは、
・基−Si(Cl)m(OR4)n(R5)p(この式において、
−mおよびnは0〜3の範囲の整数であり、pは0〜2の範囲の整数であり、m+nは1、2または3に等しく、m+n+pは3に等しい;
−R4およびR5は、互いに無関係に、C3〜C6環状の、あるいは、C1〜C6線状または分岐状の、飽和または不飽和の炭化水素基であり、この炭化水素基は、任意に、1個以上の酸素、窒素または硫黄原子、もしくは、5員または6員環を持つアリールまたはヘテロアリール基を含む)か;
・または、金属錯体形成基;
を表す]、
そして、式中、基−(Z)zKを表さないR1、R2およびR3のそれまたはそれらは、存在するならば、水素またはハロゲン原子、−CNまたは−NO2基、あるいは、C3〜C6環状の、あるいは、C1〜C6線状または分岐状の、飽和または不飽和の炭化水素基(この炭化水素基は、任意に、1個以上の酸素、窒素または硫黄原子、もしくは、5員または6員環を持つアリールまたはヘテロアリール基を含む)を表す;
ただし、UおよびWが両方ともフェニル基を表し、vが0であり、R2が水素原子を表し、X1およびY1が両方とも酸素原子を表し、またはX1が酸素原子を表し、Y2が−OH基を表すとき、R1およびR3の一つは、一つの基−O(CH2)3−Si(OR4)n(R5)p以外である)}
の少なくとも一つに相当する化合物である。
・第1に、ハロゲン化気体化合物と反応すること、および後者と錯体を作ることが可能であり、一般式(I)中の集合体X1=C1−C2H−C3=Y1に、および、一般式(II)中の集合体X1=C1−C2=C3−Y2に相当し、そして、作られた錯体が蛍光を発し、したがって、蛍光定量法または吸光光度法によって検出可能であるような風に、少なくとも一つのアリールまたはヘテロアリール基(U、Vおよび/またはWと表される)に共役する官能基;ならびに
・第二に、共有結合またはイオン−共有結合によって、MPHOIM中の該化合物のグラフトを可能にし、R1、R2およびR3の少なくとも一つを構成する、基−(Z)zKの文字Kに相当する、少なくとも一つの官能基、
を含むという特徴を持つ。
・vが0であり、uおよびwが1であるか、(この場合、UおよびWは、両方とも、1個以上の環をもつアリールかヘテロアリール基を表し、各々は、5個か6個の環構成子を持ち、X1、Y1、Y2、R1、R2およびR3は上に規定された通りである);
・あるいは、uおよびvが0であり、wが1である(この場合には、Wだけは1個以上の5員または6員環を持つアリールまたはヘテロアリール基を表し、X1、Y1、Y2、R1、R2およびR3は、上に規定した通りである)]
の少なくとも一つに相当する。
X1およびY1は両方とも酸素原子を表し、Y2は−OH基を表す;
vは0であり、uおよびwは1である;
UおよびWはフェニル基を表す;
R1は水素またはハロゲン原子、−CNまたは−NO2基、C3〜C6環状の、あるいはC1〜C6線状または分岐状の、飽和または不飽和の炭化水素基を表し、この炭化水素基は、任意に、1個以上の酸素、窒素または硫黄原子、もしくは、5員または6員環を持つアリールまたはヘテロアリール基を含み、R2は水素原子を表し、
一方、R3は基−(Z)zK(zは1であり、ZはC1〜C3線状の、飽和または不飽和の二価炭化水素基を表し、Kは上に規定した通りである)を表す]
の少なくとも一つに相当する。
X1およびY1は両方とも酸素原子を表し、Y2は−OH基を表す;
uおよびvは0であり、wは1である;
Wはフェニル基を表す;
R1は水素またはハロゲン原子、−CNまたは−NO2基、C3〜C6環状、またはC1〜C6線状または分岐状の、飽和または不飽和の炭化水素基を表し、この炭化水素基は、任意に、1個以上の酸素、窒素または硫黄原子、もしくは、5員または6員環を持つアリールまたはヘテロアリール基を含み、R2は水素原子を表し、一方、R3は、基−(Z)zK(この式において、zは1であり、ZはC1〜C3線状、飽和または不飽和の二価炭化水素基を表し、Kは上に規定した通りである)を表す]
の少なくとも一つに相当する。
a) 下の一般式(III):
M(Cl)q(OR6)r (III)
(式中、
Mは、上に規定した通りである;
qおよびrは0からNの原子価までの範囲にある整数であるが、q+rはこの原子価に等しい;
R6は有機基を表す)
の少なくとも1種の金属化合物の、水、有機溶剤および酸の混合物の溶液の中での、加水分解、
X1およびY1は、互いに無関係に、酸素または硫黄原子あるいは=NH基を表す;
Y2は、−OH、−SHまたは−NH2基を表す;
u、vおよびwは、互いに無関係に、0または1であるが、u、vおよびwのうちの少なくとも一つは0以外である;
U、VおよびWは、互いに無関係に、1個以上の環(各々は、5個または6個の環構成子をもつ)を持つアリールまたはヘテロアリール基を表す;
R1、R2およびR3の少なくとも一つは、基−(Z)zKを表し、この式において、zは0または1であり、ZはC3〜C6環状、あるいはC1〜C6線状または分岐状の、飽和または不飽和の二価炭化水素基を表し、この炭化水素基は、任意に、1個以上の酸素、窒素または硫黄原子である;そして、式中
*ステップa)で使用された一般式(III)の化合物において、Mがシリコンまたはアルミニウムであるとき、Kは、式中mおよびnが0〜3の範囲の整数であり、pは0〜2の範囲の整数であり、m+nは1、2または3に等しく、m+n+pは3に等しい基−Si(Cl)m(OR4)n(R5)pを表す;R4およびR5は、互いに無関係に、C3〜C6環状、あるいは、C1〜C6線状または分岐状の、飽和または不飽和の炭化水素基を表し、この炭化水素基は、任意に、1個以上の酸素、窒素または硫黄原子を、もしくは、5員または6員環を持つアリールまたはヘテロアリール基を含む;一方、
*ステップa)で使用された一般式(III)の化合物において、Mがシリコン以外の金属であるとき、Kは金属錯体形成基を表す;
そして、式中、基−(Z)zKを表さないR1、R2およびR3のそれまたはそれらは、存在するとすれば、水素またはハロゲン原子、−CNまたは−NO2基、C3〜C6環状の、あるいは、C1〜C6線状または分岐状の、飽和または不飽和の炭化水素基を表し、この炭化水素基は、任意に、1個以上の酸素、窒素または硫黄原子を含み、もしくは、5員または6員環を持つアリールまたはヘテロアリール基を含む]
の少なくとも一つに相当する少なくとも1種の化合物との反応、
(ステップa)、b)およびc)は、同時に行われることが可能である)
を含むゾル−ゲルタイププロセスによって得られるMPHOIMである。
M1、M2、...、Mnは互いに異なる金属を表す;
q1およびr1は、0からM1の原子価までの範囲の整数であり、q1+r1はこの原子価に等しい;
q2およびr2は、0からM2の原子価までの範囲の整数であり、q2+r2はこの原子価に等しい;
qnおよびrnは、0からMnの原子価までの範囲の整数であり、qn+rnはこの原子価に等しい;そして
R6、R7、...、Rnは、互いに無関係に、有機基を表す)
の加水分解を含む。
X1およびY1は、互いに無関係に、酸素または硫黄原子、あるいは=NH基を表す;
Y2は、−OH、−SHまたは−NH2基を表す;
u、vおよびwは、互いに無関係に、0または1であるが、u、vおよびwのうちの少なくとも一つは0以外である;
U、VおよびWは、互いに無関係に、1個以上の環を持つアリールまたはヘテロアリール基を表し、各々が5個または6個の環構成子を持つ;
R1、R2およびR3の少なくとも一つは、基−(Z)zK[この式において、
*zは0または1であり、Zは、C3〜C6環状の、あるいはC1〜C6線状または分岐状の、飽和または不飽和の、二価炭化水素基を表し、この炭化水素基は、任意に1個以上の酸素、窒素または硫黄原子を含む;および
*Kは、
・基−Si(Cl)m(OR4)n(R5)p(この式において、
−mおよびnは、0〜3の範囲にある整数であり、pは0〜2の範囲にある整数であり、m+nが1、2または3に等しく、m+nは3に等しい;
−R4およびR5は、互いに無関係に、C3〜C6環状の、あるいは、C1〜C6線状または分岐状の、飽和または不飽和の炭化水素基を指し、この炭化水素基は、任意に、1個以上の酸素、窒素または硫黄原子、もしくは、5員または6員環を持つアリールまたはヘテロアリール基を含む)か、
・あるいは、金属−錯体形成基;
を表す]、
そして、式中、基−(Z)zKを表さないR1、R2およびR3のそれまたはそれらは、存在するならば、水素またはハロゲン原子を、−CNまたは−NO2基を、C3〜C6環状の、あるいはC1〜C6線状または分岐状の、飽和または不飽和の炭化水素基を表し、この炭化水素基は、任意に、1個以上の酸素、窒素または硫黄原子を含み、もしくは、5員または6員環を持つアリールまたはヘテロアリール基を含む}
の少なくとも一つに相当する化合物の、ハロゲン化気体化合物の、特にハロゲン化ホウ素錯体、とりわけBF3およびBCl3の検出または定量のためのプローブ分子としての、使用である。
下の特定の化学式(Ia):
化合物5は、「シンセシス(Synthesis)」、1991年、p.195−197に、V.V.ポピク(Popic)、S.M.コルネエフ(Korneev)、V.A.ニコラエフ(Nicolaev)、I.K.コロビッチナ(Korobitsyna)によって記述された方法に従って、4−ブロモアセトフェノン(2.99g、15mmol)を安息香酸メチル(4.08g、30mmol)と反応させることによって調製する。こうして、化合物5の2.59g(8.6mmol)を得る。
新たに蒸留したジメチルホルムアミド(DME)20ml、トリエチルアミン2.8ml(20.0mmol)およびトリエトキシビニルシラン1.7ml(8.0mmol)を、アルゴンの下で、化合物5 2.0g(6.6mmol)、酢酸パラジウム5.9mg(0.026mmol)およびトリ−o−トルイルホスフィン、P(o−C6H4CH3)3、48.0mg(0.16mmol)を入れた、二首のフラスコに添加する。得られた溶液を100℃に加熱し、この温度で18時間放置し、その後、反応混合物を周囲温度に戻るまで放置し、濾過する。溶媒を真空下で蒸発させ、得られた不均質な残渣をジエチルエーテルに溶解させる。溶媒の濾過および蒸発の後、化合物1(高粘度のオレンジ油の形である)の2.5g(5.7mmol)を87%の収率で得る。
13C NMR(CDCl3、δppm):18.3、58.7、93.2、121.1、127.0、127.2、127.5、128.7、132.5、135.4、135.5、141.4、147.7、184.8、186.0;
29Si NMR(CDCl3、δppm):−57.2(s);
FT−IR(KBr、νmax/cm−1):2975、2888、1603、1077、960、821、769;
質量分析(Fab)(M+H)+:計算値:413.1821;実測値:413.1784;
元素分析:計算値:C=66.96%、H=6.84%;実測値:C=67.24%、H=6.86%。
下の特定化学式(Ib):
化合物6は、「シンセシス(Synthesis)」、 1991年、p.195−197にV.V.ポピク(Popic)、S.M.コルネエフ(Korneev)、V.A.ニコラエフ(Nicolaev)、I.K.コロヴィッチナ(Korobitsyna)によって記述された方法に従って、4−ブロモアセトフェノン(4.98g、25mmol)を酢酸エチル(4.41g、50mmol)と反応させることによって調製する。こうして、化合物6の4.88 g(20.3mmol)を得る。
新たに蒸留しDMF40ml、トリエチルアミン8.7ml(63mmol)およびトリエトキシビニルシラン5.45ml(25.7mmol)を、アルゴンの下で、化合物6 5.0g(20.9mmol)、酢酸パラジウム14mg(0.063mmol)および P(o−C6H4CH3)375mg(0.25mmol)の入っている二首のフラスコに添加する。得られた溶液を100℃に加熱し、この温度で18時間放置する。その後、反応混合物を周囲温度に戻るまで放置し、濾過する。溶媒を真空下で蒸発させ、得られた不均質な残渣をジエチルエーテルに溶解する。溶媒の濾過と蒸発の後、化合物2の6.84g(19.5mmol)(それは高粘度のオレンジ油の形をしている)を93%の収率で得る。
13C NMR(CDCl3、8ppm):18.2、25.9、58.7、96.7、121.0、126.9、127.3、134.7、141.2、147.7、182.3、194.0;
FT−IR(KBr、νmax/cm−1):2975、2926、2887、1606、1295、1167、1080、962、829、783;
質量分析(Fab) (M+H)+:計算値:351.1627;実測値:351.1617。
本発明に従ったMPHOIMを、前もって加水分解されたテトラエトキシシラン(TEOS)の溶液から合成ゾルを調製し、ついで、こうして得たゾルを化合物1または2の濃厚溶液と反応させることによって生成させる。
一方、最高のHCl含量を持つゾルは、それを調製した翌日に、そして3〜4日までに(それが4℃で保存されるならばより長い期間)使用する。
ハロゲン化気体化合物の検出のための感知器の感知物質として、本発明に従ったMPHOIMの有用性を示すために、仏国特許出願公開(A2)第840547号明細書の図1に示された装置と同一の装置によって、上の実施例3で得られた、およびプローブ分子として化合物1(任意に、そのエノール形との平衡にある)を含む、MPHOIMの薄膜をBF3で処理する。
ストッパーは、それ自体、その下端にアースコーン(ground cone)(これは、後者の密封閉鎖を提供するためにキュベットにあるアースソケットにはめ込むことができる)、およびその上端に真空タップ(vacuum tap)を含む。加えて、このストッパーに、真空システムに接合することができるエルボーチューブを側面に具備している。
キュベットの下部に付けられているテフロン(登録商標)シリンダーは、それが、支持体の一つのまたは両方の表面を覆っている薄膜を、それが備えている溝によって、垂直に保つことを可能にする。
各薄膜中に存在する後者と化合物1の間の反応を、一定の間隔で(すなわち1時間毎に)この被膜に対する吸収および蛍光スペクトルを採集することによって光学的にモニターする。
図1:BF3が存在しない場合(曲線A)、および、この被膜中に存在する化合物1の、BF3との完全な反応(反応時間=3時間)の後(曲線B)、に得られた、(構造は立方晶系であり、プローブ分子として化合物1からなる)薄膜の吸光度スペクトルの展開、およびこの被膜の示差吸光度(曲線C=曲線B−曲線A);
図2:356nmの励起波長に関して、BF3が存在しない場合(曲線A)、薄膜に存在する化合物1の、BF3との部分反応(反応時間=1時間)および完全反応(反応時間=3時間)の後(曲線IおよびC)、に得られた(立方晶構造をもちプローブ分子としての化合物1からなる)薄膜に対して得られた蛍光スペクトルの展開;
図3:BF3が存在しない場合に(曲線A)、およびこの被膜に存在する化合物1の、BF3との完全反応(反応時間=8時間)の後に(曲線B)得られた、(ラメラ構造を持ち、プローブ分子として、(部分的にエノール形の)化合物1からなる)薄膜の吸光度スペクトルの展開;
図4:356nmの励起波長に関してBF3の不在における(曲線A)、および、被膜中に存在する化合物1の、BF3との完全反応(反応時間=8時間)の後に、それぞれ、356nm(曲線B)および375nm(曲線C)の励起波長に関しての、(ラメラ構造を持ち、プローブ分子として化合物1からなる)薄膜の蛍光スペクトルの展開。
Claims (26)
- 下の一般式(I)および(II):
X1およびY1は、互いに無関係に、酸素または硫黄原子あるいは=NH基を表す;
Y2は、−OH、−SHまたは−NH2基を表す;
u、vおよびwは、互いに無関係に、0または1であるが、u、vおよびwの少なくとも一つは0以外である;
U、VおよびWは、互いに無関係に、1個以上の環を持つアリールまたはヘテロアリール基(各々は、5員または6員環をもつ)を表す;
R1、R2およびR3の少なくとも一つは、基−(Z)zKを表す[この式において、
*zは0または1であり、Zは、C3〜C6環状の、あるいはC1〜C6線状または分岐状の、飽和または不飽和の、二価炭化水素基を表し、この炭化水素基は、任意に1個以上の酸素、窒素または硫黄原子を含む;そして
*Kは、
・基−Si(Cl)m(OR4)n(R5)p(この式において、
−mおよびnは、0〜3の範囲にある整数であり、pは0〜2の範囲にある整数であり、m+nが1、2または3に等しく、m+nは3に等しい;
−R4およびR5は、互いに無関係に、C3〜C6環状の、あるいは、C1〜C6線状または分岐状の、飽和または不飽和の炭化水素基を指し、この炭化水素基は、任意に、1個以上の酸素、窒素または硫黄原子、もしくは、5員または6員環を持つアリールまたはヘテロアリール基を含む)、
・または金属錯体形成基、
を表す]:
そして、式中、基−(Z)zKを表さないR1、R2およびR3のそれまたはそれらは、存在するならば、水素またはハロゲン原子を、−CNまたは−NO2基を、C3〜C6環状の、あるいはC1〜C6線状または分岐状の、飽和または不飽和の炭化水素基を表し、この炭化水素基は、任意に、1個以上の酸素、窒素または硫黄原子を含み、もしくは、5員または6員環を持つアリールまたはヘテロアリール基を含む;
ただし、UおよびWが両方ともフェニル基を表し、vが0であり、R2が水素原子を表し、X1およびY1が両方とも酸素原子を表し、またはX1が酸素原子を表し、Y2が−OH基を表すとき、R1およびR3の一つは、基−O(CH2)3−Si(OR4)n(R5)p以外である}
の少なくとも一つに相当する化合物。 - X1およびY1が酸素原子を表し、Y2は−OH基を表し、u、v、w、U、V、W、R1、R2およびR3が上に規定される通りである、一般式(I)および(II)の少なくとも一つに相当する、請求項1に記載の化合物。
- vが0であり、uおよびwが1であり、かつU、V、W、X1、Y1、Y2、R1、R2およびR3が上に規定された通りである、一般式(I)および(II)の少なくとも一つに相当する、請求項1または請求項2に記載の化合物。
- uおよびvが0であり、wが1であり、かつW、X1、Y1、Y2、R1、R2およびR3が上に規定された通りである、一般式(I)および(II)の少なくとも一つに相当する、請求項1または請求項2に記載の化合物。
- R1、R2およびR3の少なくとも一つを構成する基−(Z)zKのKが、基−SiCl3、−SiCl2(OR4)、−SiCl(OR4)2および−Si(OR4)3(ここで、R4は、C1〜C6、好ましくはC1〜C3、さらに良くは、C2、のアルキル基である)から選択された基を示す、請求項1〜4のいずれか1項に記載の化合物。
- R1、R2およびR3の少なくとも一つを構成する基−(Z)zKのKが、−OH、−COOH、−NH2、=NOH、−SH、−PO3H2、−PO2H、=O、=S、=N−、−NH−および−NH2から選択された数個の官能基で置換された、C3〜C6環状の、あるいは、C1〜C6線状または分岐状の、飽和または不飽和の、炭化水素基を示す、請求項1〜4のいずれか1項に記載の化合物。
- 一般式(I)および(II)の少なくとも一つに相当する化合物であって、式中、
X1およびY1が両方とも酸素原子を表し、Y2が−OH基を表し、
vが0であり、uおよびwが1であり、
UおよびWがフェニル基を表し、
R1が、水素またはハロゲン原子、−CNまたは−NO2基、C3〜C6環状、あるいはC1〜C6線状または分岐状の、飽和または不飽和の炭化水素基を表し(この炭化水素基は、任意に、1個以上の酸素、窒素または硫黄原子、もしくは、5員または6員環を持つアリールまたはヘテロアリール基を含む)、R2が水素原子を表し、一方、R3が、基−(Z)zK(この式において、zは1であり、ZはC1〜C3線状、飽和または不飽和の二価炭化水素基を表し、Kは上に規定した通りである)を表す、
請求項1〜6のいずれか1項に記載の化合物。 - 1−フェニル−3−[4−(2−トリエトキシシリルビニル)フェニル]プロパン−1,3−ジオンである、請求項7に記載の化合物。
- 一般式(I)および(II)の少なくとも一つに相当する化合物であって、式中、
X1およびY1は両方とも酸素原子を表し、Y2は−OH基を表し、
uおよびvは0であり、wは1であり、
Wはフェニル基を表し、R1は水素またはハロゲン原子、−CNまたは−NO2基、C3〜C6環状、あるいはC1〜C6線状または分岐状の、飽和または不飽和の炭化水素基を表し(この炭化水素基は、任意に、1個以上の酸素、窒素または硫黄原子、もしくは、5員または6員環を持つアリールまたはヘテロアリール基を含む)、R2は水素原子を表し、一方、R3は、基−(Z)zK(この式において、zは1であり、ZはC1〜C3線状、飽和または不飽和の二価炭化水素基を表し、Kは上に規定した通りである)を表す、請求項1〜6のいずれか1項に記載の化合物。 - 1−[4−(2−トリエトキシシリルビニル)フェニル]ブタン−1,3−ジオンである、請求項9に記載の化合物。
- a)水、有機溶剤および酸の混合物の溶液の中での、下の一般式(III):
M(Cl)q(OF6)r (III)
(この式において、
Mは金属であり、
qおよびrは0からNの原子価までの範囲にある整数であるが、q+rはこの原子価に等しく、そして
R6は有機基を表す)
の少なくとも一つの金属化合物の加水分解:
b)水、前記有機溶剤および前記酸に加えて、界面活性剤を含む混合物の溶液中での、ステップa)で得られた生成品の縮合反応;
c)ステップb)で得られた生成物の、下に表された一般式(I)および(II):
X1およびY1は、互いに無関係に、酸素または硫黄原子あるいは=NH基を表す;
Y2は、−OH、−SHまたは−NH2基を表す;
u、vおよびwは、互いに無関係に、0または1であるが、u、vおよびwのうちの少なくとも一つは0以外である;
U、VおよびWは、互いに無関係に、1個以上の環(各々は、5個または6個の環構成子をもつ)を持つアリールまたはヘテロアリール基を表す;
R1、R2およびR3の少なくとも一つは、基−(Z)zKを表し(この式において、zは0または1であり、ZはC3〜C6環状、あるいはC1〜C6線状または分岐状の、飽和または不飽和の二価炭化水素基を表す)、この炭化水素基は、任意に、1個以上の酸素、窒素または硫黄原子を含む;そして、式中、
*Mがステップa)で使用された一般式(III)の化合物のシリコンまたはアルミニウムであるとき、Kは、基−Si(Cl)m(OR4)n(R5)pを表す(この式において、mおよびnが0〜3の範囲の整数であり、pは0〜2の範囲の整数であり、m+nは1、2または3に等しく、m+n+pは3に等しい;
R4およびR5は、互いに無関係に、C3〜C6環状、あるいは、C1〜C6線状または分岐状の、飽和または不飽和の炭化水素基を表し、この炭化水素基は、任意に、1個以上の酸素、窒素または硫黄原子を、もしくは、5員または6員環を持つアリールまたはヘテロアリール基を含む);一方、
*Mがステップa)で使用された一般式(III)の化合物のシリコン以外の金属であるとき、Kは金属錯体形成基を表す;
そして、式中、基−(Z)zKを表さないR1、R2およびR3のそれまたはそれらは、存在するならば、水素またはハロゲン原子、−CNまたは−NO2基、C3〜C6環状の、あるいは、C1〜C6線状または分岐状の、飽和または不飽和の炭化水素基を表し、この炭化水素基は、任意に、1個以上の酸素、窒素または硫黄原子を含み、もしくは、5員または6員環を持つアリールまたはヘテロアリール基を含む]
の少なくとも一つに相当する少なくとも1種の化合物との反応:
d)ステップc)で得られた生成物の熱処理;
(ステップa)、b)およびc)は同時に遂行されることが可能である)
を含むゾル−ゲルタイププロセスによって得られるメソ構造化多孔性ハイブリッド有機−無機材料。 - 一般式(III)の化合物の金属Mがシリコン、アルミニウム、ジルコニウム、チタン、ニオブ、イットリウム、バナジウムおよびセリウムから選択される、一つのプロセスによって得られる、請求項11に記載のメソ構造化多孔性ハイブリッド有機−無機材料。
- 一般式(III)の化合物の有機基R6がC1〜C6の、好ましくはC1〜C3の、より良くはC2の、アルキル基である、一つのプロセスによって得られる、請求項11または請求項12に記載のメソ構造化多孔性ハイブリッド有機−無機材料。
- 一般式(III)の化合物の金属Mがシリコンであるプロセスによって得られる、請求項11〜13のいずれか1項に記載のメソ構造化多孔性ハイブリッド有機−無機材料。
- 一般式(I)および(II)の少なくとも一つに相当する化合物の、R1、R2およびR3の少なくとも一つを構成する基−(Z)zKのKが、基−SiCl3、−SiCl2(OR4)、−SiCl(OR4)2および−Si(OR4)3(ここで、R4は、C1〜C6、好ましくはC1〜C3、さらに良くはC2、のアルキル基である)から選択された基を表すプロセスによって得られる、請求項14に記載のメソ構造化多孔性ハイブリッド有機−無機材料。
- ステップa)が有機溶剤としてアルコール、好ましくはエタノール、および酸として塩酸を使い、かつ一般式(III)の化合物の溶液を加熱することによって、遂行されるプロセスによって得られる、請求項11〜15のいずれか1項に記載のメソ構造化多孔性ハイブリッド有機−無機材料。
- ステップb)が界面活性剤として臭化セチルトリメチルアンモニウムを使って周囲温度で遂行されるプロセスによって得られる、請求項11〜16のいずれか1項に記載のメソ構造化多孔性ハイブリッド有機−無機材料。
- ステップc)が、有機溶媒の溶液にした一般式(I)および(II)の少なくとも一つに相当する化合物を、周囲温度で、ステップb)で得られた生成物と反応させることによって遂行されるプロセスによって得られる、請求項11〜17のいずれか1項に記載のメソ構造化多孔性ハイブリッド有機−無機材料。
- ステップd)において、熱処理がステップc)から得られる生成物を120〜160℃の温度に24〜72時間委ねることに存するプロセスによって得られる、請求項11〜18のいずれか1項に記載のメソ構造化多孔性ハイブリッド有機−無機材料。
- ステップc)とステップd)の間に、加えて、ステップc)で得られた生成物が薄膜の形に作られるステップを含むプロセスによって得られる、請求項11〜19のいずれか1項に記載のメソ構造化多孔性ハイブリッド有機−無機材料。
- ステップa)が一般式(III)の数種の化合物:M1(Cl)q1(OR6)r1、M2(Cl)q2(OR7)r2、...、Mn(Cl)qn(ORn)rn(この式において、
M1、M2、...、Mnは互いに異なる金属を表す;
q1およびr1は、0からM1の原子価の範囲にある整数であり、q1+r1はこの原子価に等しい;
q2およびr2は、0からM2の原子価の範囲にある整数であり、q2+r2はこの原子価に等しい;
qnおよびrnは、0からM2の原子価の範囲にある整数であり、qn+rnはこの原子価に等しい;および
R6、R7、...、Rnは、互いに無関係に、有機基を表す)
の加水分解を含む一つのプロセスによって得られる、請求項11〜20のいずれか1項に記載のメソ構造化多孔性ハイブリッド有機−無機材料。 - ハロゲン化気体の化合物の検出または定量のための感知器の中で感知物質として使用される、メソ構造化多孔性ハイブリッド有機−無機材料(これは、請求項11〜21のいずれか1項で規定された通りである)を製造するプロセス。
- 請求項11〜21のいずれか1項で規定されたメソ構造化多孔性ハイブリッド有機−無機材料を感知物質として含む、ハロゲン化気体化合物の検出または定量のために使われる感知器。
- ハロゲン化ホウ素錯体、特にBF3およびBCl3、の検出または定量のための、請求項23に記載の感知器。
- 下の一般式(I)および(II)
X1およびY1は、互いに無関係に、酸素または硫黄原子あるいは=NH基を表す;
Y2は、−OH、−SHまたは−NH2基を表す;
u、vおよびwは、互いに無関係に、0または1であるが、u、vおよびwの少なくとも一つは0以外である;
U、VおよびWは、互いに無関係に、1個以上の環を持つアリールまたはヘテロアリール基(各々は、5員または6員環をもつ)を表す;
R1、R2およびR3の少なくとも一つは、基−(Z)zKを表し、式中:
*zは0または1であり、Zは、C3〜C6環状の、あるいはC1〜C6線状または分岐状の、飽和または不飽和の、二価炭化水素基を表し、この炭化水素基は、任意に1個以上の酸素、窒素または硫黄原子を含む;そして
*Kは、
・基−Si(Cl)m(OR4)n(R5)p(この式において、
−mおよびnは、0〜3の範囲にある整数であり、pは0〜2の範囲にある整数であり、m+nが1、2または3に等しく、m+nは3に等しい;
−R4およびR5は、互いに無関係に、C3〜C6環状の、あるいは、C1〜C6線状または分岐状の、飽和または不飽和の炭化水素基を指し、この炭化水素基は、任意に、1個以上の酸素、窒素または硫黄原子、もしくは、5員または6員環を持つアリールまたはヘテロアリール基を含む)か、
・または金属錯体形成基;
を表し、
そして、式中、基−(Z)zKを表さないR1、R2およびR3のそれまたはそれらは、存在するならば、水素またはハロゲン原子を、−CNまたは−NO2基を、C3〜C6環状の、あるいはC1〜C6線状または分岐状の、飽和または不飽和の炭化水素基を表し、この炭化水素基は、任意に、1個以上の酸素、窒素または硫黄原子を含み、もしくは、5員または6員環を持つアリールまたはヘテロアリール基を含む]
の少なくとも一つに相当する化合物の、ハロゲン化気体の化合物の検出または定量のためのプローブ分子としての使用。 - ハロゲン化ホウ素錯体、とりわけBF3およびBCl3の検出または定量のための、請求項25に記載の使用。
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