JP2007525252A - 特に治療用のタブレットを製造するための機械を備えた設備 - Google Patents

特に治療用のタブレットを製造するための機械を備えた設備 Download PDF

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Abstract

本発明は、タブレットを製造するための機械(4)を備えた設備に関するもので、前記機械は少なくとも一つのチャンバ(6)を含む。本発明の設備は、ガスをチャンバ内に放出し、ガスをチャンバの周囲に移動するための手段を含む。

Description

本発明は、タブレット、特に治療や美容で使用するための物質を含むタブレットの製造に関する。例えばイブプロフェンを含むタブレットに関する。
イブプロフェン分子は、軟化点が42℃であり、融点が70℃である。イブプロフェンタブレットは、その間でタブレットを形成する一連のダイ及びパンチを含む機械によって粉体から製造することが一般的である。機械内で圧縮により生じる温度上昇のため、タブレットの製造に使用される原材料が軟化する。これは、タブレットの粉体を機械内に付着させるという問題を生じる。これは、機械の正しい作動にとって有害である。
文献フランス国特許第FR−2 440 188号の図3には、冷却流体を通す内部チャンネルが特定の部品に設けられた、タブレットを製造するための機械が記載されている。このような冷却源は機械の設計及び製造で考慮しなければならない。これは、費用の掛かる変更を行わなければ現存の機械に対して実施することができないためである。図7に示す別の方法では、該文献によれば、機械全体を、温度が制御されるガスで充填した室内に配置することが教示されている。しかしながら、ガスの温度及び従って機械の温度を所望レベルに維持するために費やされるエネルギが非常に大きい。
本発明の一つの目的は、タブレットの製造中の付着の問題を、現存の機械に容易に適合できる源を使用して、エネルギを過度に消費する必要なしに解決することである。
この目的のため、本発明による提案は、少なくとも一つの室を持つタブレットを製造するための機械を含む設備であり、この設備は、ガスを室に注入してこれを室に亘って分配するための手段を含む。
かくして、本発明は、過度の費用を伴わずに現存の機械に容易に適合できる。更に、ガスを室内で循環させることによって、エネルギを過度に消費することなく室を非常に効率的に冷却する。
有利には、前記手段は、ガスの温度を制御するように構成される。
かくして、タブレットを更に効率的に製造するための所望の温度を、特に更に迅速に達成できる。
有利には、前記源がガスの相対湿度を制御するように構成されている。実際、機械、特にタブレットを製造するための装置を取り囲むガスの相対湿度は、製造中の付着をなくすための重要なパラメータである。
本機械は、更に、少なくとも以下の特徴のうちの任意の特徴を備えることができる。
−前記手段は、ガスの温度を制御するように構成されており;
−前記手段は、室内のガスの温度が確実に所定値に達するように、室の上流の所定位置のガスの温度を制御するように構成されており;
−前記手段は、温度が確実に所定値に達するように、室の上流の所定位置のガスの温度を制御するように構成されており;
−前記手段は、ガスを冷却及び/又は加熱するように構成されており;
−前記手段は、少なくとも一つの粒子フィルタを含み;
−前記手段は、例えば室の上流又は下流に配置された少なくとも一つのフィンを含み;
−室は、タブレットを付形するための装置を含み;
−室は、モータを含み;
−室は、電子装置を含み;
−室の数は少なくとも二つであり、機械は、ガスを各室に注入して分配するための複数の源を有し;
−並列の構成によってガスを複数の室に供給するように構成された複数のガス導管を含み;
−前記手段は、複数の室で部分的に共通であり;
−前記手段は、室に取り外し自在であるように連結された少なくとも一つのガス導管を含み;
−室と設備の残り部分との間のガスの流れを遮断するためのストッパを含み;
−前記手段は、様々な非ゼロ流れ値から一つを選択できるようにすることによって、室と関連したガスの流れを制御するように構成されており;
−前記手段は、ガスを室に入れるための少なくとも二つの開口部を持つ、室に配置された拡散ボックスを含み;
−開口部は、拡散ボックスの異なる面に配置されており;
−タブレットは、治療又は美容で使用するための物質を含み;及び
−タブレットは、イブプロフェンを含む。
本発明は、更に、タブレットを製造するための機械の一部分を形成する室にガスを注入し、室に亘って分配されたガス中でタブレットを製造するための方法を提案する。
本発明は、以下の特徴のうちの少なくとも一つを備えることができる。
−ガスの温度を制御し;
−室内のガスの温度が確実に所定値に達するように、室の上流の所定位置でガスの温度を制御し;及び
−温度が所定値に達するように、室の上流の所定位置でガスの温度を制御する。
本発明のこの他の特徴及び利点は、非限定的例として提供される好ましい方法の以下の説明を、添付図面を参照して読むことによりから明らかになるであろう。
以下に説明する本発明の実施形態では、設備2は、イブプロフェンを含む治療用タブレットの製造に使用するための機械4を含む。この機械は、既知の種類の機械である。図1を参照すると、機械4は、従来、タブレットを製造するための装置が収容された圧縮室6、圧縮室内に配置された装置を作動するモータを含むモータユニット8、及び機械の調節を行うための電子装置ユニット10を含む。圧縮室、モータユニット、及び電子装置ユニットは互いに隣接しており、共通のハウジング内に収容されている。このような機械は、例えば、上掲のフランス国特許第FR−2 440 188号に記載された種類の機械であり、その必須エレメントの全てを下文において詳細に説明することはしない。
設備2は、更に、冷却空気を供給することによって機械を冷却するための源を含む。詳細には、上流吸気ファン9を含む。更に、空気の濾過、除湿、及び場合によっては加熱又は冷却を行う空気処理ユニット12が含まれる。更に、下流排気ファン14が含まれる。最後に、設備2の様々な部分に亘ってガスを分配する例えばステンレス鋼製の導管又はシャフト16を含む。かくして、第1共通シャフト16は、空気処理ユニットの下流に配置されており、圧縮室6、モータユニット8、及び電子装置ユニット10の夫々と並列に、アッセンブリに連結された他の三つのシャフトと連通している。これらは、共通のシャフト16と連通しており、このシャフトは、それ自体、下流供給ファン14と連通している。
かくして、わかるように、この設備では、空気はコンプレッサー4の三つの箇所で供給される。圧縮室6への第1供給部は、製造タレットの急速な運動及び摩擦によって発生する熱量を打ち消すために冷却空気を提供するため、製造装置にできるだけ近づけて配置される。
更に、空気は、隣接した圧縮室の方向での熱拡散現象を最小にするため、モータユニット8に供給される。これらの現象は、モータの機械構成要素の加熱による。
最後に、及び同様に、冷却空気を電子装置ユニット10に供給することにより、モータユニット及び圧縮室の方向での熱拡散現象を最小にする。これらの現象は、電気部品及び電子部品の加熱による。
空気処理ユニット12は、好ましくは、コンプレッサー4が置かれた部屋以外の機器室に設置される。このユニットは、吹き出し空気の調整を行うのに使用される。更に、詳細には、空気を濾過、除湿、及び適当な場合には加熱及び/又は冷却することによってその品質を制御する。1500m3 /時の空気流を提供でき且つ350Paの圧力を利用できるCCM20型の循環水式のユニットであってもよい。本例では、このユニットは、新鮮な空気だけで作動する。このことは、既に機械を通過した空気を取り入れないということを意味する。
図2を参照し、このユニット12を形成する様々な装置を左から右に、即ちガスの流れ方向で説明する。空気は、ユニットの左端から進入し、右端から出る。このユニットは、F6型(EN779規格による)粒子フィルタ20を含む。ユニットは、このフィルタ20の下流に、出力が7.8kWの第1電気式熱交換器22を含み、次いで、0℃乃至5℃の冷水で作動する出力が24kWの熱交換器24が設けられている。これに続いて第2冷水熱交換器26が設けられている。次に、出力が15.6kWの電気式熱交換器28が設けられている。ユニットは、これらのエレメントの下流に上述の上流供給ファン9を含む。従って、このファンは、この例では、ユニットに組み込まれ、1500m3 /時の流れを提供し、300Paの利用可能圧力を提供する。その下流に、F8型粒子フィルタ30(EN779規格による)及びH13型粒子フィルタ32(EN1822規格による)が設けられている。
これらのフィルタは全て、詳細には、ガスをタブレットと接触できるようにするためにガスを製薬の用途に適合する程度まで「浄化」する機能を有する。この例では、これらの最後の二つのフィルタの汚れを監視するため、これらのフィルタの位置で圧力差の計測値を常に計測する。
様々な気候データ及び地理的データを使用し、機械の寸法計算を行ってきた。かくして、この目的は、夏期及び冬期の両方で、機械を0Pa乃至30Paの負圧に維持し、圧縮ユニットの温度を25℃に維持し、吹き出し空気の湿度を乾燥空気1kg当たり5g以下に維持することである。冬期における外気条件は、−7℃で相対湿度が70%であると仮定し、夏期における外気条件は、29℃で相対湿度が43%であると仮定する。
ユニット12の各低温熱交換器24、26には、図3に示す冷却ユニット34に連結された共通の冷水回路から供給される。冷却ユニットは、水温の正確さに関して高度の安定性を提供するため、100リットル及び300リットルのヘッダータンクの夫々と関連している。
図1を参照すると、空気はユニット12の下流でシャフト16内を搬送される。このシャフトは、図示のように、三つの部分に別れる。即ち、
−空気を圧縮室6に向かって供給するためのシャフト、
−空気をモータユニット8に向かって供給するためのシャフト、及び
−空気を電子装置ユニット10に向かって供給するためのシャフトを含む。
これらの三つのシャフトの各々の経路には、供給ダンパー36a、36b、及び36cが設けられている。これは、圧縮室に向かう経路では、モータ駆動式ダンパー36aであってもよい。モータユニット及び電子装置ユニットに向かう経路では、ダンパー36b及び36cはモータ駆動式ではない。モータ駆動式ダンパー36aは、機械を停止した場合に圧縮室を吸気システムに関して密封態様で遮断するのに使用される。これは、機械内に存在する粉体によって吸気システムが汚染されないようにするために加えられる製薬上の制約である。これらのダンパーの各々は、関連したシャフト16の各々内の空気の流れを異なる非ゼロ流量値間で変化するように、又は場合によってはシャフトを全体として遮断するように、関連したシャフト16の各々内の空気の流れを変化させるために使用することもできる。シャフト16は、AISI316Lステンレス鋼製である。
これらの三つのシャフトの各々は、ユニット12を収容した部屋内で始まり、コンプレッサー4を収容した部屋で終端する。この部屋は、環境が制御されている。本例では、これらの三つのシャフト16の各々は、取り外し自在の中間部品、及びこの取り外し自在の部品のいずれかの側に夫々配置されており且つ部屋及び機械の夫々に永久的に固定された二つの他の部品即ち上流部品及び下流部品を含む。取り外し自在の区分が設けられていることにより、必要な場合に機械4を、冷却空気を供給する必要なしに得ることができるその本来の形態で使用できる。この場合、機械の基本的性能を保証するため、例えばステンレス鋼製のストッパが、機械と関連した固定シャフトの区分に設置される。
図4及び図5を参照し、圧縮室6での冷却を詳細に説明する。圧縮室6と関連したシャフト16は、室の頂部から到達する。これは、圧縮ダイ39のできるだけ近くに空気を分配するのに使用される。室6内には、薄板金製の矩形の六面体形状の拡散ボックス即ちデフレクター40が配置されている。この拡散ボックスは、シャフト16から到着した空気を受け取る。拡散ボックスは、垂直横面44及び46並びにその下面48及び後面に開口部42を有する。後面は図示していない。これにより、空気を圧縮室の内側に完全に分配するために、空気流を良好に分配できる。この例では、デフレクターの前面49には空気出口開口部が設けられていない。実際、この面は、室6内に向いている。コンプレッサーには、ダイ39の潤滑を一般的に既知のように行うのに使用されるオイル噴霧システムが設けられている。オイルは、非常に揮発性の高い物質である。拡散ボックスのこの面が閉鎖されていない場合には、吹き出し空気により室6内にオイルスプレーの雲が発生してしまう。これは、製造プロセスにとって有害である。デフレクター40は、室6の上部分内に配置されている。室6からガスを排出するのに使用される下流シャフト16が室の下部分に、デフレクターの反対側の室の面に開放している。
モータユニット8と関連した室の冷却源を図6及び図7に示す。ユニットの温度を低下させ、及びかくしてモータユニットから圧縮室6に向かう熱拡散を最小にするため、モータユニットに空気を直接送り込む。有孔鋼板製の拡散ボックス50即ちデフレクターがモータユニットの室8の内側に設置してある。デフレクターを室8の下水平面に配置し、その上面52、前面54、及び垂直横面56が開放しており、各面にオリフィス42のネットワークが形成される。空気排出シャフト16が、デフレクターに向かう吸気シャフトが設けられた室8の面以外の面に配置されている。
最後に、電子装置ユニット10での冷却の実施形態を図8及び図9に示す。モータユニット8と同様に、電子装置ユニットの温度を低下させ、及びかくして電子装置ユニットから圧縮室に向かう熱拡散を最小にするため、電子装置ユニットに空気を直接送り込む。
この目的のため、空気を電子装置ユニット10の電子装置キャビネット60の頂部を介して導入する。ここでも、空気を室10に導入するためにデフレクター即ち拡散ボックスが設けられている。デフレクターは、全体がキャビネットの下部分に配置されたファンを取り外した後、室の下部分に配置される。拡散ボックスは、開口部42の幾つかのネットワークが設けられたその上面が開放している。空気を電子装置ユニットの内側に完全に拡散するため、このシステムにより、空気流を良好に分散する。空気を室10に導入する上流シャフト16がキャビネットの底部分に配置されているのに対し、この室から空気を排出する上流シャフト16は、モータユニットの上部分に配置されている。これらの二つのシャフトは、キャビネットの同じ横壁と関連している。
わかるように、空気は、機械の二つの箇所30、即ちモータユニット8及び電子装置ユニット10のところでだけ、シャフト16を介して排出される。この排出は、排出ファン14を使用して行われる。上流シャフトと同様に、モータユニット及び電子装置ユニットと関連した二つの下流シャフトには、モータ駆動式排出ダンパー70が装着してある。これらのダンパーは、機械を停止する場合に吸気システムの排出ネットワークを密封態様で遮断するのに使用される。この製薬上の制約は、機械的構成要素及び電子的構成要素を通過した汚染された空気によって吸気システムが汚染されることがないようにするために使用される。
機械は、吸気システムを制御するための源を含む。これらの源は、詳細には、様々なパラメータ及び作動手順を設定するのに使用される。このシステムは、部屋の隔壁に窪ませた、制御スクリーンを備えた端子を含んでいてもよい。この端子は、設定点値を入力するため、及び作動のパラメータを監視するために使用される。警報を管理するのにも使用される。有利には、設備の全ての作動履歴を記録するための源を含む。設備は、吸気システム、コンプレッサー、及びこのコンプレッサーと関連した吸気システムの間に自動断続制御ループを含む。
タブレットの製造に関し、設備を作動するための二つの方法が考えられる。
手動モードと呼ばれる第1の方法は、供給空気の温度設定点を入力する工程を含む。この温度設定点は、オペレータによって5℃乃至15℃の所定範囲から選択される。5℃の最小空気供給温度により、この温度以下で生じることのある凝縮現象を阻止できる。例えば、温度設定点は、10℃と等しいように選択できる。この設定点値は、当然のことながら、この設定点値前後の温度の揺らぎ許容差(例えば9℃乃至11℃)と関連している。
この作動モードでは、設備は、ユニット12の直ぐ下流と連通したシャフト16に配置されたセンサ80によって、ユニット12を離れるガスの温度を制御する。従って、設備はユニット12を制御し、詳細には、センサ80によって計測される温度ができるだけ温度設定点、ここでは10℃に近いままであるように加熱及び冷却熱交換を行う。プローブ80は、この点での空気の温度を連続的に読み取る。この温度が変化した場合には、設備はユニットを制御して温度を調節する。この作動モードは、モータユニット及び電子装置ユニットの温度を下げるのに使用される。これらの二つのゾーンに供給される空気の温度は、圧縮室での吸気の温度と同じである。
ガスの湿度は、ユニット12の下流温度プローブ80に沿って配置されたプローブ82によって制御される。このプローブは、湿度を調節するため、ユニットの冷却熱交換器に直接作用する。
この例では、圧縮室6について計画された流れは150m3 /時である。モータユニット及び電子装置ユニットでの流れは、各々、700m3 /時であるように設計される。圧縮室内での150m3 /時の流れは、圧縮室内に存在する負圧に従って調節される。実際、この室は、機械内の塵埃を一般的に既知の方法で連続的に除去する吸気システム69に連結されている。この吸気システムは、機械内に存在する余分の潤滑剤をなくすのに使用される。この吸気システムが、圧縮室内へのシステム供給以上を吸い込むため、圧縮室内には0Pa乃至30Paの負圧が常に存在する。この負圧を使用して塵埃を閉じ込め、塵埃が機械に溜まり過ぎないように、及び粉体が部屋内に漏れないようにする。
室6に進入する空気の流れは、負圧を確実に維持するために調節される。この調節は、ユニット12に配置された吸気ファン9によって行われる。この調節は、作動中に吸気システムが汚れてしまい、吸気空気流を減少するので、必要である。この目的のため、圧縮室6は、室内の圧力及び室外の圧力を同時に計測する差圧センサ84と関連している。このセンサによって差圧を計測することにより、機械はファン9を制御できる。
更に、ユニット12の下流及び排気ファン14の上流の夫々に配置された二つのセンサ86及び88によって圧力が連続的に計測される。センサ84がファン9の速度を変化させると、センサ86がユニットの出口で計測する圧力及びセンサ88が排気ネットワークで計測する圧力が変化する。センサ86及び88によって計測された圧力の比が常に一定のままであるように構成されている。従って、設備は、この目的のためにファン14に作用を及ぼす。
圧縮室内に負圧空気を発生する吸気システム69には、吸気システムの入口と機械の外側での差圧を計測する圧力ゲージが装備されている。かくして、吸気システムの汚損率を計測する。この比が臨界閾値に達したとき、フィルタのクリーニングを行う必要があることを警報がオペレータに警告する。このクリーニング作業が行われない場合には、機械は故障モードに移行し、次いで、圧縮機械を遮断するため、圧縮室の上流ダンパー36及び下流ダンパー70を閉じる。
プロセスの他の作動モードは自動モードと呼ぶことができる。この場合、オペレータは、圧縮室6内のガスについての例えば25℃の温度設定点をデータとして設備に供給する。温度設定点には、この場合も特定程度の許容差がある。かくして、システムは、空気を室6に供給するため、及び室内のガスの温度が設定点値に達するためにユニット12を制御する。この目的のため、機械は、室内に配置された温度センサ90を含む。このセンサは、室内の温度を連続的に計測する。この温度が25℃から変化したとき、設備は、空気を加熱し又は冷却するため、及びこれを温度設定点に戻すため、ユニット12、詳細には加熱熱交換器及び冷却熱交換器を制御する。この作動モードは、更に、モータユニット8及び電子装置ユニット10内の温度を下げる効果がある。これらのゾーンは、温度制御が直接的には行われないが、圧縮室6と関連した設定点値に間接的に行う。
相対湿度の調節は、手動モードと同じ方法で行われる。これは、更に、圧力差の調節にも適用される。
本発明による設備及びプロセスは、タブレットが付着する現象が起こらないようにするためのものである。わかるように、本発明は、全体として、予め処理(加熱、冷却、濾過、及び空気の相対湿度の制御)を施した空気を供給する工程を含む。ここでは、混合物を圧縮するための装置、モータユニット、及び電子装置ユニットが圧縮室に設けられている。モータユニット及び電子装置ユニットに冷却空気を供給することによりこれらのエレメントを冷却し、及び従って圧縮室に向かう熱伝達現象を最小にする。動いている圧縮タワーの運動エネルギと組み合わせられた摩擦効果によって発生した温度上昇現象を減少するため、圧縮ゾーンのできるだけ近くに冷却空気を供給する。
空気の更新が制御される部屋の中にコンプレッサーを配置できるため、全ての空気が流れるとき、本発明にはこれらの流れを妨げないという利点がある。
更に、温度及び流れを制御するための本発明により実施されるレギュレーション構成は、基本的コンプレッサーの製造を推奨することが観察されるということを意味する(様々な部品を潤滑するためのオイルの粘度、モータ及び電子構成要素の作動温度、等)。
本発明は、現存のコンプレッサーを適合することによって容易に実施できる。これは、行われるべき変更を最少にするためである。実際、ハウジングを穿孔し、対応するデフレクターを追加するだけでよい。当然のことながら、本発明は比較的顕著な副次的技術装置、即ち空気処理ユニット、冷却ユニット、及び配管、好ましくは断熱配管、並びにシステムを制御するための自動源を必要とする。本発明により、温度を比較的安価に制御できる。
勿論、本発明を逸脱することなく、本発明に多くの変更を加えることができる。
タブレットは、イブプロフェン以外の治療や美容で使用するための物質を含んでいてもよい。治療用物質という用語は、予防又は緩和の目的で投与できる物質を意味する。
コンプレッサーは、更に、ガス供給システムと関連していない少なくとも一つの室を含む。
コンプレッサーに進入する空気の湿度を高めるためのシステムを設けることもできる。
本発明の一つの好ましい実施形態による設備の全体ダイヤグラムである。 図1の設備の空気処理ユニットの概略平面図である。 図1の設備の空気加熱−冷却システムの一部の概略図である。 圧縮室と関連した導管を示す、図1の設備の機械の部分斜視図である。 図1の機械の圧縮室の内部の部分斜視図である。 モータユニットと関連した導管を示す、図4と同様の図である。 モータユニットの内部を示す、一部を除去した斜視図である。 電子装置ユニットと関連した導管を示す、図4と同様の部分斜視図である。 電子装置ユニットの内部を示す、一部を除去した斜視図である。

Claims (26)

  1. タブレットを製造するための機械(4)を備えた設備(2)であって、前記機械(4)は少なくとも一つの室(6、8、10)を持つ、設備(2)において、
    前記設備は、ガスを前記室に注入してこれを前記室に亘って分配するための手段(10、12、16、14)を含む、ことを特徴とする設備。
  2. 請求項1に記載の設備において、前記手段は、前記ガスの温度を制御するように構成されている、ことを特徴とする設備。
  3. 請求項1又は2に記載の設備において、前記手段は、前記室(6)内のガスの温度が確実に所定値に達するように、前記室(6)の上流の所定位置(80)のガスの温度を制御するように構成されている、ことを特徴とする設備。
  4. 請求項1、2、又は3に記載の設備において、前記手段は、前記温度が確実に所定値に達するように、前記室の上流の所定位置(80)のガスの温度を制御するように構成されている、ことを特徴とする設備。
  5. 請求項1乃至4のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記手段は前記ガスを冷却するように構成されている、ことを特徴とする設備。
  6. 請求項1乃至5のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記手段は前記ガスを加熱するように構成されている、ことを特徴とする設備。
  7. 請求項1乃至6のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記手段は前記ガスの相対湿度を制御するように構成されている、ことを特徴とする設備。
  8. 請求項1乃至7のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記手段は少なくとも一つの粒子フィルタ(30、32)を含む、ことを特徴とする設備。
  9. 請求項1乃至8のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記手段は、例えば前記室の上流又は下流に配置された少なくとも一つのファン(10、14)を含む、ことを特徴とする設備。
  10. 請求項1乃至9のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記室(6)は前記タブレットを付形するための装置(39)を含む、ことを特徴とする設備。
  11. 請求項1乃至10のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記室(8)はモータを含む、ことを特徴とする設備。
  12. 請求項1乃至11のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記室(10)は電子装置を含む、ことを特徴とする設備。
  13. 請求項1乃至12のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記室(6、8、10)の数は少なくとも二つであり、前記機械は、前記ガスを各室に注入してこれを分配するための手段を含む、ことを特徴とする設備。
  14. 請求項13に記載の設備において、前記ガスを、並列な構成を使用して複数の前記室(6、8、10)に供給するように構成された複数のガス導管(16)を含む、ことを特徴とする設備。
  15. 請求項13又は14に記載の設備において、前記手段は、複数の前記室(6、8、10)で部分的に共通である、ことを特徴とする設備。
  16. 請求項1乃至15のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記手段は、前記室(6、8、10)から取り外すことができるように連結された少なくとも一つのガス導管(16)を含む、ことを特徴とする設備。
  17. 請求項1乃至16のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記室と前記設備の残り部分との間のガスの流れを遮断するために、少なくとも一つのストッパ(36a−c、70)を含む、ことを特徴とする設備。
  18. 請求項1乃至17のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記手段は、様々な非ゼロ流れ値から一つの流れを選択できるようにすることによって、前記室と関連したガスの流れを制御するように構成されている、ことを特徴とする設備。
  19. 請求項1乃至18のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記手段は、前記室(6、8、10)に配置された拡散ボックス(40、50、62)を含み、この拡散ボックスは、ガスを前記室に入れるための少なくとも二つの開口部(42)を有する、ことを特徴とする設備。
  20. 請求項19に記載の設備において、前記開口部(42)は、拡散ボックス(40、50、62)の異なる面に配置されている、ことを特徴とする設備。
  21. 請求項1乃至20のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記タブレットは、治療又は美容で使用するための物質を含む、ことを特徴とする設備。
  22. 請求項1乃至21のうちのいずれか一項に記載の設備において、前記タブレットはイブプロフェンを含む、ことを特徴とする設備。
  23. タブレットを製造するための方法において、
    タブレットを製造するための機械(2)の一部分を形成する室(6、8、10)にガスを供給し、これを前記室に亘って分配する、ことを特徴とする方法。
  24. 請求項23に記載の方法において、前記ガスの温度を制御する、ことを特徴とする方法。
  25. 請求項23又は24に記載の方法において、前記室内の前記ガスの温度が確実に所定値に達するように、前記室の上流の所定位置(80)で前記ガスの温度を制御する、ことを特徴とする方法。
  26. 請求項23、24、又は25に記載の方法において、前記温度が所定値に達するように、前記室の上流の所定位置(80)でガスの温度を制御する、ことを特徴とする方法。
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