JP2007524247A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2007524247A5
JP2007524247A5 JP2007500157A JP2007500157A JP2007524247A5 JP 2007524247 A5 JP2007524247 A5 JP 2007524247A5 JP 2007500157 A JP2007500157 A JP 2007500157A JP 2007500157 A JP2007500157 A JP 2007500157A JP 2007524247 A5 JP2007524247 A5 JP 2007524247A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polarization
illumination system
compensator
rod
sector
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2007500157A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2007524247A (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE102004010569A external-priority patent/DE102004010569A1/de
Application filed filed Critical
Publication of JP2007524247A publication Critical patent/JP2007524247A/ja
Publication of JP2007524247A5 publication Critical patent/JP2007524247A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

JP2007500157A 2004-02-26 2005-02-24 マイクロリソグラフィ投影露光設備用の照明系 Pending JP2007524247A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102004010569A DE102004010569A1 (de) 2004-02-26 2004-02-26 Beleuchtungssystem für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage
PCT/EP2005/001948 WO2005083517A2 (de) 2004-02-26 2005-02-24 Beleuchtungssystem für eine mikrolithographie-projektionsbelichtungsanlage

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007524247A JP2007524247A (ja) 2007-08-23
JP2007524247A5 true JP2007524247A5 (enExample) 2008-03-13

Family

ID=34853935

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007500157A Pending JP2007524247A (ja) 2004-02-26 2005-02-24 マイクロリソグラフィ投影露光設備用の照明系

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20070263199A1 (enExample)
EP (1) EP1721219A2 (enExample)
JP (1) JP2007524247A (enExample)
KR (1) KR20060123589A (enExample)
DE (1) DE102004010569A1 (enExample)
WO (1) WO2005083517A2 (enExample)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101124179B1 (ko) 2003-04-09 2012-03-27 가부시키가이샤 니콘 노광 방법 및 장치, 그리고 디바이스 제조 방법
TWI569308B (zh) 2003-10-28 2017-02-01 尼康股份有限公司 照明光學裝置、曝光裝置、曝光方法以及元件製造 方法
TWI519819B (zh) 2003-11-20 2016-02-01 尼康股份有限公司 光束變換元件、光學照明裝置、曝光裝置、以及曝光方法
TWI395068B (zh) 2004-01-27 2013-05-01 尼康股份有限公司 光學系統、曝光裝置以及曝光方法
TWI412067B (zh) 2004-02-06 2013-10-11 尼康股份有限公司 偏光變換元件、光學照明裝置、曝光裝置以及曝光方法
JP5461387B2 (ja) 2007-04-03 2014-04-02 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 特にマイクロリソグラフィ投影露光装置の照明デバイス又は投影対物器械である光学システム
DE102007043958B4 (de) * 2007-09-14 2011-08-25 Carl Zeiss SMT GmbH, 73447 Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102007055567A1 (de) * 2007-11-20 2009-05-28 Carl Zeiss Smt Ag Optisches System
US20140204458A1 (en) * 2011-09-02 2014-07-24 Universite Laval Polarization-maintaining module for making optical systems polarization-independent
DE102012200370A1 (de) 2012-01-12 2013-08-01 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Herstellen eines polarisationsbeeinflussenden optischen Elements, sowie polarisationsbeeinflussendes optisches Element

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3246615B2 (ja) * 1992-07-27 2002-01-15 株式会社ニコン 照明光学装置、露光装置、及び露光方法
DE19520563A1 (de) * 1995-06-06 1996-12-12 Zeiss Carl Fa Beleuchtungseinrichtung für ein Projektions-Mikrolithographie-Gerät
DE19535392A1 (de) * 1995-09-23 1997-03-27 Zeiss Carl Fa Radial polarisationsdrehende optische Anordnung und Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage damit
DE19807120A1 (de) * 1998-02-20 1999-08-26 Zeiss Carl Fa Optisches System mit Polarisationskompensator
JP3985346B2 (ja) * 1998-06-12 2007-10-03 株式会社ニコン 投影露光装置、投影露光装置の調整方法、及び投影露光方法
DE19829612A1 (de) * 1998-07-02 2000-01-05 Zeiss Carl Fa Beleuchtungssystem der Mikrolithographie mit Depolarisator
JP3927753B2 (ja) * 2000-03-31 2007-06-13 キヤノン株式会社 露光装置及びデバイス製造方法
DE60124524T2 (de) * 2000-04-25 2007-03-08 Asml Holding, N.V. Optisches reduktionssystem mit kontrolle der belichtungspolarisation
DE10124474A1 (de) * 2001-05-19 2002-11-21 Zeiss Carl Mikrolithographisches Belichtungsverfahren sowie Projektionsobjektiv zur Durchführung des Verfahrens
DE10124803A1 (de) * 2001-05-22 2002-11-28 Zeiss Carl Polarisator und Mikrolithographie-Projektionsanlage mit Polarisator
DE10206061A1 (de) * 2002-02-08 2003-09-04 Carl Zeiss Semiconductor Mfg S Polarisationsoptimiertes Beleuchtungssystem
EP1483616A1 (en) * 2002-03-14 2004-12-08 Carl Zeiss SMT AG Optical system with birefringent optical elements
JP4552428B2 (ja) * 2003-12-02 2010-09-29 株式会社ニコン 照明光学装置、投影露光装置、露光方法及びデバイス製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101245785B1 (ko) 조명 시스템 및 리소그래피 장치
KR100855076B1 (ko) 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법
JP5529922B2 (ja) マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明システム
JP5763534B2 (ja) マイクロリソグラフィック投影システムのためのテレセントリシティ補正素子
TWI665512B (zh) 光學系統及使用此系統校正光罩缺陷的方法
JP4824665B2 (ja) デバイス製造方法、コンピュータプログラム製品、およびリソグラフィ装置
KR101450362B1 (ko) 광학계, 특히 마이크로리소그래픽 투영 노광장치의 조명 장치 또는 투영 대물렌즈
US8040492B2 (en) Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
JP2009527113A5 (enExample)
KR20130041833A (ko) 마이크로리소그래픽 투영 노광 장치 용 광학 시스템 및 마이크로리소그래픽 노광 방법
KR102853114B1 (ko) 투영 노광 장치용 광학 시스템
JP5060464B2 (ja) デバイス製造方法
JP2007524247A5 (enExample)
CN101266413A (zh) 用于光刻设备的照射器和光刻方法
US20090213352A1 (en) Method for improving the imaging properties of an optical system, and such an optical system
JP2015509662A5 (enExample)
JP2025116165A (ja) 補正板を使用した光学システムの収差及びアポダイゼーションの補正
US10261425B2 (en) Projection exposure apparatus with a highly flexible manipulator
JP4920041B2 (ja) 光学系とりわけマイクロリソグラフィック投影露光機における偏光分布に影響を与えるための装置及び方法
JP5107456B2 (ja) 偏光アクチュエータ
US10459343B2 (en) Illumination device
WO2015001805A1 (ja) 多層膜反射鏡、多層膜反射鏡の製造方法、投影光学系、露光装置、デバイスの製造方法
KR20120032426A (ko) 광 조사 장치 및 광 조사 방법
JP2010251801A (ja) ゼロ転移温度周辺の熱膨張係数に応じて温度の上昇に対する傾きの符号が異なる材料で構成されたミラーを備えたｅｕｖ投影レンズ
JP5930350B2 (ja) マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系を調節する方法