JP2007520082A - レチクル/マスクシステムの適合リアルタイム制御 - Google Patents
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Abstract
Description
kp レチクル/マスク熱伝導度 3.91Wcm−1℃−1
Vk kthエレメントの体積
Ak kthエレメントの領域
dk kth及び(k−1)thエレメント間の距離
ck kth及び(k−1)thエレメント間の一定領域
δk kth及び加熱装置間の空隙距離
ρ レチクル/マスク密度
Cp レチクル/マスク熱容量 8.8g/cm3
Ta 環境温度 20℃
h 環境に対する熱伝導係数
ka 空隙距離熱伝導度 0.0003Wcm−1℃−1
L レチクル/マスク厚さ 0.635cm
Tp プレート温度 130℃
δ 空隙距離(距離) 0.11mm
T レチクル/マスク温度 (シミュレーションパラメータ)
210 処理チャンバ
215 レチクル/マスク
220 保持アセンブリ
230 加熱装置
235 加熱エレメント
240 隔離ユニット
250 搭載アセンブリ
255 冷却エレメント
260 コントローラー
Claims (35)
- 以下の処理を有する熱処理システムの作動方法であって、
複数のセグメントを備える加熱装置上にレチクル/マスクを配置することと、
前記システムの動力学的な熱的モデルを生成することと、
前記加熱装置の複数のセグメントそれぞれに対して少なくとも1つの情報設定点を生成する、前記システムの動力学的な熱的モデルを用いて複数の情報設定点を構築することと、
前記情報設定点の少なくとも1つを用いて各セグメントの実際の温度を制御することと、これにより、レチクル/マスクに亘って制御された温度プロファイルを構築することと、
を含む、熱処理システムの作動方法。 - 前記加熱装置は、
前記加熱装置上に位置するレチクル/マスクの特性情報又はパラメータを含むフィードフォワードデータを受信することと、
フィードフォワードデータを用いてレチクル/マスク応力を推定することと、
前記レチクル/マスクと前記加熱装置との間のギャップに対して熱的モデルを生成することと、
前記ギャップに対する熱的モデルを、前記システムの動力学的な熱的モデル中に組み込むことと、をさらに含み、
前記ギャップに対する熱的応答は、前記推定されたレチクル/マスク応力に基づいて予想される、請求項1に記載の熱処理システムの作動方法。 - 前記レチクル/マスクの応力を推定する処理は、
前記フィードフォワードデータから抽出された屈折率(n)データ及び吸光係数(k)データを用いる処理を有する、請求項2に記載の熱処理システムの作動方法。 - 前記フィードフォワードデータは、
少なくとも1つの層の数、層の配置、層の組成物、層の一様性、層の密度、及び、層の厚さ、を含む、層の情報を有する、請求項2に記載の熱処理システムの作動方法。 - 前記フィードフォワードデータは、
前記レチクル/マスクに対する、少なくとも1つの限界寸法(CD)データ、プロファイルデータ、及び一様性データ、を有する、請求項2に記載の熱処理システムの作動方法。 - 前記フィードフォワードデータは、
前記レチクル/マスク上の複数の配置に対する、少なくとも1つの限界寸法(CD)データ、
前記レチクル/マスク上の複数の配置に対する、プロファイルデータ、及び、
前記レチクル/マスク上の複数の配置に対する、一様性データ、を有する、請求項2に記載の熱処理システムの作動方法。 - 前記複数の配置は、前記レチクル/マスク上に非放射状に位置している、請求項6に記載の熱処理システムの作動方法。
- 前記複数の配置は、前記レチクル/マスク上に放射状に位置している、請求項6に記載の熱処理システムの作動方法。
- 前記レチクル/マスク及び加熱装置のリアルタイム応答を調査することと、
前記リアルタイム応答を用いてレチクル/マスクの応力を推定することと、
前記レチクル/マスクと前記加熱装置との間のギャップに対する熱的モデルを生成することと、
前記ギャップに対する熱的モデルを、前記システムの動力学的な熱的モデル中に組み込むことと、をさらに含み、
前記ギャップに対する熱的応答は、前記推定されたレチクル/マスク応力に基づいて予想される、請求項1に記載の熱処理システムの作動方法。 - レチクル/マスクの曲率を推定することと、
前記レチクル/マスクと前記加熱装置との間のギャップに対して熱的モデルを生成することと、
前記ギャップに対する熱的モデルを、前記システムの動力学的な熱的モデル中に組み込むことと、をさらに含み、
前記ギャップに対する熱的応答は、前記推定されたレチクル/マスク応力に基づいて予想される、請求項1に記載の熱処理システムの作動方法。 - 前記加熱装置のセグメント間の熱的相互作用をモデリングすることと、
前記熱的相互作用に対する熱的モデルを、前記システムの動力学的な熱的モデル中に組み込むことと、をさらに含む、請求項1に記載の熱処理システムの作動方法。 - 前記レチクル/マスクに対する温度を測定するための仮想センサを生成することと、
前記仮想センサを、前記セグメントの動力学的な熱的モデル中に組み込むことと、をさらに含む、請求項1に記載の熱処理システムの作動方法。 - 前記加熱装置と周囲の環境との間の熱的相互作用をモデリングすることと、
前記熱的相互作用に対する前記モデルを、前記システムの動力学的な熱的モデル中に組み込むことと、をさらに含む、請求項1に記載の熱処理システムの作動方法。 - 拡散増幅モデルを生成することと、
前記拡散増幅モデルを、前記システムの動力学的な熱的モデル中に組み込むことと、をさらに含む、請求項1に記載の熱処理システムの作動方法。 - 偏差ベクトルdを生成することと、
少なくとも1つの情報設定点を含むベクトルr中に、少なくとも1つの公称の設定点を、パラメータ化することと、
前記動力学的な熱的モデルを用いて感度マトリックスを生成することと、
下記の式を有する最適化問題を解くことによって、前記少なくとも1つの情報設定点を決定することと、
前記偏差ベクトルは、測定データと所望の値との差異を備え、
rmin<r、r<rmaxであって、rは少なくとも1つの情報設定点を有するベクトルであり、
Mは感度マトリックス、
αは感度マトリックスMに対する測定データに関する比例定数、
dは前記偏差ベクトル、である、請求項1に記載の熱処理システムの作動方法。 - 少なくとも1つの決定された情報設定点とともにレシピを更新することと、
前記更新されたレシピを作動することと、
更新された測定データを獲得することと、
所望の一様性データが得られるまで繰り返すことと、をさらに含む、請求項15に記載の熱処理システムの作動方法。 - 前記所望の一様性は、略1%未満の3シグマ偏差を含む、請求項16に記載の熱処理システムの作動方法。
- 前記所望の一様性は、略0.5%未満の3シグマ偏差を含む、請求項17に記載の熱処理システムの作動方法。
- フィードフォワードデータを受信することと、
前記フィードフォワードデータから測定データを獲得することと、
前記所望の値を決定することと、
をさらに含み、
前記測定データは、少なくとも1つの限界寸法、プロファイル測定値、及び一様性測定値を有し、
前記所望の値は、少なくとも1つの所望の限界寸法、所望のプロファイル、及び所望の一様性を有する、請求項15に記載の熱処理システムの作動方法。 - 前記加熱装置の各セグメントに対して少なくとも1つの公称設定点を有するレシピを用いて処理を実行することと、
前記実行された処理から前記測定データを得ることと、
前記所望の値を決定することと、
をさらに含み、
前記測定データは、少なくとも1つの限界寸法、プロファイル測定値、及び一様性測定値を有し、
前記所望の値は、少なくとも1つの所望の限界寸法、所望のプロファイル、及び所望の一様性を有する、請求項15に記載の熱処理システムの作動方法。 - 前記加熱装置の各セグメントに対して温度摂動を作成することと、
前記温度摂動の結果を用いて感度マトリックスを構築することとを、さらに含む、請求項15に記載の熱処理システムの作動方法。 - 前記感度マトリックスMを構築するために、機器搭載のレチクル/マスクを用いることをさらに含む、請求項15に記載の熱処理システムの作動方法。
- 前記所望のCD一様性が獲得されたときに、前記更新されたレシピを格納すること、をさらに含む、請求項16に記載の熱処理システムの作動方法。
- 前記加熱装置上にレチクル/マスクを配置することは、前記システムによって処理される前記加熱装置上に前記マスクを配置することを含む、請求項1に記載の熱処理システムの作動方法。
- 前記加熱装置上にレチクル/マスクを配置することは、前記システムによって前記加熱装置とともに基板を処理するために前記加熱装置上に前記マスクを配置することを含む、請求項1に記載の熱処理システムの作動方法。
- 熱処理システムであって、
複数のセグメントを備える加熱装置上で前記システムによって処理されるレチクル/マスクを配置するための手段と、
前記システムの動力学的な熱的モデルを生成するための手段と、
前記システムの前記動力学的な熱的モデルを用いて複数の情報設定点を構築するための手段と、
少なくとも1つの情報設定点を用いて各セグメントの実際の温度を制御して、これにより前記レチクル/マスクに亘る所定の温度プロファイルを構築するための手段と、を備え、
少なくとも1つの前記情報設定点は、前記加熱装置の各セグメントに対して生成される、熱処理システム。 - 処理システムであって、
複数のセグメントを有する温度制御装置と、
前記システムによって処理されるために、又は、前記システムによってウエハとともに処理するために、温度制御された装置上でレチクル/マスクを支持するための構造と、
前記システムの動力学的な熱的モデルを提供して、前記温度制御された装置のセグメントに対する複数の情報設定点とともに構築するように、プログラムされたコントローラーと、
少なくとも1つの情報設定点に応答する温度制御された装置の各セグメントの実際の温度と、を備える、処理システム。 - 前記加熱装置は、正方形状であり、
前記複数のセグメントは、多数の一様に配置された正方形状のセグメントを備える、請求項28に記載の方法。 - 各セグメントは、対応する実際の温度に設定するために、加熱又は冷却するための、加熱エレメントを備える、請求項29に記載の方法。
- 前記加熱エレメントは、抵抗ヒータを備えている、請求項30に記載の方法。
- 前記加熱装置は、冷却エレメントをさらに備えている、請求項30に記載の方法。
- 前記加熱装置は、長方形状であり、
複数のセグメントは、複数の一様に配置された長方形状のセグメントを備える、請求項1に記載の方法。 - 少なくとも1つのセグメントは、前記加熱装置の温度を測定するためのセンサエレメントを備える、請求項1に記載の方法。
- 前記温度制御装置は、前記システムにおける少なくとも1つの変数パラメータを前記コントローラーに入力するように作動する、少なくとも1つの物理的センサをさらに備え、
前記コントローラーは、
前記モデルが前記レチクル/マスクを所定の温度分布に保つための温度制御装置のセグメントを制御するために、前記情報設定点を算出するための前記システム及び前記レチクル/マスクの算出された温度データを含む、前記動力学的な熱的モデルを維持するようにプログラムされている、請求項28に記載の処理システム。
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