JP2007519194A - 荷電粒子ビーム用の集束レンズ - Google Patents
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Abstract
【選択図】図4
Description
Claims (38)
- 荷電粒子ビーム(7)を所定のランディング角度(42)で試料(3)上に集束させる集束レンズ(100)であって、
前記荷電粒子ビーム(7)を前記試料(3)上に集束させる集束電場(11)を発生させる第1のアパーチュア(106)を備えた少なくとも第1の電極(26a,9a;105,105a;107)と、
前記試料により引き起こされる前記集束電場(110)のランディング角度依存性ディストーションを補償する湾曲面(115)を備えた修正電極とを有する、集束レンズ(100)。 - 前記湾曲面(115)は、円錐のような形状のものである、請求項1記載の集束レンズ(100)。
- 前記修正電極の前記湾曲面(115)は、前記試料(3)が前記第1の電極(26a,9a;105,105a;107)に近づくようにするためのスペースを提供するよう開口部(118)を一方の側に有する、請求項1又は2記載の集束レンズ(100)。
- 前記修正電極の前記湾曲面(115)は、前記第1のアパーチュア(106)の対称軸線(8)に関して回転対称であるよう位置合わせされている、請求項1〜3のうちいずれか一に記載の集束レンズ(100)。
- 前記修正電極の前記湾曲面(115)は、せいぜい350°、好ましくはせいぜい300°、より好ましくはせいぜい210°の覆い角度(120)だけ前記対称軸線(8)を包囲している、請求項1〜4のうちいずれか一に記載の集束レンズ(100)。
- 前記修正電極の前記湾曲面(115)は、少なくとも10°、好ましくは少なくとも60°、より好ましくは少なくとも180°の覆い角度(120)だけ前記対称軸線(8)を包囲している、請求項1〜5のうちいずれか一に記載の集束レンズ(100)。
- 前記覆い角度(120)は、前記第1のアパーチュア(106)の平面内で取られる、請求項5又は6記載の集束レンズ(100)。
- 前記修正電極の前記湾曲面(115)は、前記少なくとも1つの電極(26a;105,105a)に剛性的に締結されている、請求項1〜7のうちいずれか一に記載の集束レンズ(100)。
- 前記少なくとも第1の電極(26a,9a;105,105a;107)と前記修正電極(115)は、互いに異なる電圧を与える互いに異なる電圧源に電気的に接続されている、請求項1〜8のうちいずれか一に記載の集束レンズ。
- 前記第1の電極(26a,105,105a)は、円錐のような形状のものである、請求項1〜9のうちいずれか一に記載の集束レンズ。
- 前記修正電極の前記湾曲面(115)は、等角的(conformally)に前記第1の電極に向いている、請求項1〜10のうちいずれか一に記載の集束レンズ。
- 前記少なくとも1つの第1の電極(26,105,105a)とこれに向いた前記修正電極(115)の前記湾曲面(115)との間の距離D1は、10mm未満、好ましくは4mm未満、より好ましくは2mm未満である、請求項1〜11のうちいずれか一に記載の集束レンズ。
- 前記少なくとも1つの前記第1の電極(26,105,105a)と前記修正電極(115)は、互いの間に印加される少なくとも500V、好ましく少なくとも2000V、より好ましくは少なくとも5000Vの電圧に耐えるよう構成されている、請求項1〜12のうちいずれか一に記載の集束レンズ。
- 前記修正電極の前記湾曲面(115)は、前記円錐のような形状の第1の電極(105a)を静電遮蔽するよう前記円錐のような形状の第1電極(105a)のうち20%以上、好ましくは40%以上、より好ましくは60%以上を被覆するよう形作られると共に位置決めされている、請求項10〜13のうちいずれか一に記載の集束レンズ。
- 前記修正電極の前記湾曲面(115)の前記開口部(118)は、前記少なくとも1つの第1の電極(26a,105a)と前記修正電極の前記湾曲面(115)との間の前記距離D1よりも前記少なくとも1つの第1の電極(105a)に近いところに位置する前記試料(3)を受け入れるのに十分大きい、請求項3〜14のうちいずれか一に記載の集束レンズ。
- 前記修正電極の前記湾曲面(115)の前記開口部(118)のリム(126)は、本質的に放物線を描いている、請求項3〜15のうちいずれか一に記載の集束レンズ。
- 前記試料(3)は、好ましくは直径が30mmよりも大きく、好ましくは100mmよりも大きな半導体ウェーハ又はリソグラフィープロセス用のマスクのような平板状デバイスである、請求項1〜16のうちいずれか一に記載の集束レンズ。
- 前記円錐のような形状の修正電極(115)の頂角は、30°〜160°、好ましくは60°〜120°、より好ましくは85°〜95°である、請求項2〜17のうちいずれか一に記載の集束レンズ。
- 前記荷電粒子ビーム(7)を集束させる集束磁場をもたらすコイル(26)を有する、請求項1〜18のうちいずれか一に記載の集束レンズ。
- 前記荷電粒子ビーム(7)を集束させる第2のアパーチュア(108)を備えた第2の電極(9,9a;107)を有する、請求項1〜19のうちいずれか一に記載の集束レンズ。
- 試料(3)を種々の所定のランディング角度(42)で検査し又は構造観察する荷電粒子ビーム装置(1)であって、
荷電粒子ビーム(7)を発生させる荷電粒子ビーム源(5)と、
前記荷電粒子ビーム(7)を前記試料(3)上に集束させる請求項1〜20のうちいずれか一に記載の集束レンズ(100)とを有する、荷電粒子ビーム装置。 - 前記試料(3)を少なくとも2つの互いに異なるランディング角度(42)相互間で検査し又は構造観察するために前記集束レンズ(100)の前記対称軸線(8)を前記試料(3)の表面に対して傾動させる傾動機構体(22)を有する、請求項21記載の荷電粒子ビーム装置。
- 前記傾動機構体(22)は、垂直のランディング角度(42)と前記垂直ランディング角度(42)から少なくとも20°、好ましくは少なくとも40°ずれた傾動後ランディング角度(42)をもたらすよう前記集束レンズ(100)の前記対称軸線(8)を傾動させることができる、請求項22記載の荷電粒子ビーム装置。
- 前記傾動機構体(22)は、前記円錐のような形状の第1の電極(105a)の円錐の円錐頂角(122)の半分である傾動後ランディング角度(42)をもたらすことができる、請求項22又は23記載の荷電粒子ビーム装置。
- 前記集束レンズ(100)の対称面(10)は本質的に、傾動平面(124)に等しい、請求項22〜24のうちいずれか一に記載の荷電粒子ビーム装置。
- 試料(3)を荷電粒子ビーム(7)によって互いに異なるランディング角度(42)で検査し又は構造観察する方法であって、
修正電極を備えた荷電粒子ビーム装置を用意するステップと、
前記試料を前記修正電極に印加された第1の修正電極電圧において第1のランディング角度で検査し又は構造観察するステップと、
前記試料を前記修正電極に印加された第2の修正電極電圧において第2のランディング角度で検査し又は構造観察するステップとを有する、方法。 - 試料(3)を荷電粒子ビーム(7)によって互いに異なるランディング角度(42)で検査し又は構造観察する方法であって、
第1の電極及び修正電極を備えた荷電粒子ビーム装置を用意するステップと、
前記試料を前記修正電極が前記少なくとも第1の電極に対して第1の位置にある状態で第1のランディング角度で検査し又は構造観察するステップと、
前記試料を前記修正電極が前記少なくとも第1の電極に対して第2の位置にある状態で第2のランディング角度で検査し又は構造観察するステップとを有する、方法。 - 前記荷電粒子ビーム装置は、請求項21〜25のうちいずれか一に記載の荷電粒子ビーム装置である、請求項26又27記載の方法。
- 前記第1のランディング角度は、前記試料の表面に対して70°〜110°、好ましくは80°〜100°、より好ましくは85°〜95°の範囲にあるように調節される、請求項26〜28のうちいずれか一に記載の方法。
- 前記第2のランディング角度は、前記試料の表面に対して20°〜70°、好ましくは30°〜60°、より好ましくは40°〜50°の範囲にあるように調節される、請求項26〜29のうちいずれか一に記載の方法。
- 前記第1の修正電極電圧は、前記試料に印加された試料電圧Vsに等しく又は前記試料電圧Vsと前記第1の電極に印加された第1の電極電圧電圧V1との間の電圧によって定められた範囲内にあるよう調節される、請求項27〜30のうちいずれか一に記載の方法。
- 前記第2の修正電極電圧は、前記試料に印加された試料電圧Vsと前記第1の電極に印加された第1の電極電圧V1との間の電圧により定められた範囲の外にあるように調節される、請求項27〜31のうちいずれか一に記載の方法。
- 前記第2の修正電極電圧は、50%未満、好ましくは20%未満、より好ましくは10%未満の許容誤差で2・Vs−V1により与えられた電圧に調節される、請求項32記載の方法。
- 前記第1及び(又は)前記第2のランディング角度は、請求項22〜25のうちいずれか一に記載の傾動機構体によって調節される、請求項26〜33のうちいずれか一に記載の方法。
- 前記第2の位置と前記第1の電極との間の距離は、前記第1の位置と前記第1の電極との間の距離の少なくとも2倍、好ましくは少なくとも10倍、より好ましくは少なくとも100倍である、請求項27〜34のうちいずれか一に記載の方法。
- 荷電粒子ビーム(7)を所定のランディング角度(42)で試料(3)上に集束させる集束レンズ(100)であって、
前記荷電粒子ビーム(7)を前記試料(3)上に集束させる集束電場(11)を発生させる第1のアパーチュア(106)を備えた少なくとも第1の電極(26a,9a;105,105a;107)と、
前記試料により引き起こされる前記集束電場(110)のランディング角度依存性ディストーションを補償する円錐のような形状の湾曲面(115)を備えた修正電極とを有し、
前記修正電極の前記円錐のような形状の湾曲面(115)は、前記試料(3)が前記第1の電極(26a,9a;105,105a;107)に近づくようにするためのスペースを提供するよう開口部(118)を一方の側に有する、集束レンズ(100)。 - 試料(3)を荷電粒子ビーム(7)により互いに異なるランディング角度(42)で検査し又は構造観察する方法であって、
第1電極電圧V1をもつ第1の電極及び修正電極を備えた荷電粒子ビームを用意するステップと、
試料電圧Vsをもつ試料を用意するステップと、
前記試料を前記修正電極に印加された第1の修正電極電圧において第1のランディング角度で検査し又は構造観察するステップと、
前記試料を前記修正電極に印加された第2の修正電極電圧において第2のランディング角度で検査し又は構造観察するステップとを有し、第2の修正電極電圧は、50%未満の許容誤差で2・Vs−V1により与えられる電圧に調節される、方法。 - 試料(3)を荷電粒子ビーム(7)により互いに異なるランディング角度(42)で検査し又は構造観察する方法であって、
第1電極電圧V1をもつ第1の電極及び修正電極を備えた荷電粒子ビームを用意するステップと、
試料電圧Vsをもつ試料を用意するステップと、
前記試料を前記修正電極が前記少なくとも第1の電極に対して第1の位置にある状態で第1のランディング角度で検査し又は構造観察するステップと、
前記試料を前記修正電極が前記少なくとも第1の電極に対して第2の位置にある状態で第2のランディング角度で検査し又は構造観察するステップとを有し、第2の修正電極電圧は、50%未満の許容誤差で2・Vs−V1により与えられる電圧に調節される、方法。
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