JP2007515263A - 制御された界面化学勾配 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、Nicholas D.Spencerらに対する、「制御された疎水性勾配(Controlled Hydrophobicity Gradients)」と表題付けられた、米国仮出願番号60/459,823(2003年3月31日出願)の利益を主張する。
本発明は、界面化学勾配およびその製造のためのプロセスに関する。
金の上でのアルカンチオールの自己組織化は、重要な研究の対象であった周知のプロセスである(例えば、Bain,C.D.ら、J.Am.Chem.Soc.1989,111,321−335;Bain,C.D.およびWhitesides,G.M.J.Am.Chem.Soc.1988,110.6560−6561を参照のこと)。単一成分の自己組織化単層および混合自己組織化単層は、広範に研究されてきた。研究されてきた混合系は、しばしば、メチル末端チオールおよびヒドロキシル末端チオールからなる。なぜならば、それらの系の吸着は、水の接触角測定によって容易にモニタリングされるからである。このような混合単層は、安定であり、かつ容易に製造されることが明らかになった。
界面化学勾配の製造のための、単純かつ再現可能な調製用の方法が、本明細書中に記載される。界面化学勾配フィルムは、基材界面に対する相対運動において液体の境界を移動することにより、1つの吸着物の希釈溶液から調製される。1つの実施形態において、これは直線運動ドライブ用いて、溶液中にサンプルを徐々に液浸することによって達成される。その後、この界面は、別の吸着物の希釈溶液への液浸によって飽和される。X線光電子スペクトル法(XPS)によって実証されるように、この方法で製造される自己組織化された単層勾配は、高充填密度を示す。この方法は、1次元または2次元における化学的機能性または生物学的機能性の勾配の調製において、用いられ得る。このような勾配は、広範囲の多様な領域(例えば、細胞運動性研究、ナノ摩擦学研究およびハイスループットスクリーニング)における応用において用いられ得る。
(I.化学勾配を作製するための方法)
界面化学勾配フィルムは、基材に対する相対運動における、吸着物を含有する液体境界を用いることによって調製される。別個のサンプルの、異なる界面化学濃度(例えば疎水性値)は、液浸時間が空間的な分布に変換され、それによって勾配を生成する場合、単一の基材上に生じさせ得る。1つの実施形態において、このことは、直線運動ドライブによる、吸着物の溶液への、基材の制御された液浸を通して達成される。第2の実施形態において、移動性液体フロントは、シリンジおよびシリンジポンプによって達成される。
1つの実施形態において、1種類の吸着物の界面濃度勾配は、直線運動ドライブを用いて、基材を非常に希釈した吸着溶液中に徐々に液浸することにより達成される。このサンプルに沿う位置は、個々の液浸時間に直接的に対応する。したがって、直線運動の速度は、吸着速度論にしたがって注意深く選択される。
第2の実施形態において、シリンジポンプの針は、シリンジの(シリンジポンプによる)操作において、第1の希釈吸着溶液の伝播性の増大する液滴が、界面上に生成されるよう基材界面に密接に近接して配置される。このことは、直線運動勾配を用いて得られたのと同様の組成上の範囲を伴う、局所的な、半径方向において対称的な勾配を、界面上に作製する。第2の液浸工程は、第2の吸着溶液へのサンプルの液浸を包含する。
第1の吸着工程の後に、上記基材は、補完的な吸着溶液中に液浸され得、有意な距離を越える単層内の界面化学勾配を提供する。吸着物の補完的な対(すなわち、第1の溶液および第2の溶液)は、1つの末端基が生体活性または親水性であり、そしてもう1つの末端基が不活性または疎水性となるよう、異なる末端基で末端となる長鎖(C12〜C20)チオールを含む。実質的には、任意の組み合わせの末端基が、使用され得る。末端基の組み合わせは、特定の界面化学目的に基づいて選択される。適切な末端基対としては以下が挙げられる:−CH3/−OH、−CH3/−COOH、−CH3/−CF3および−OCH3/ビオチン。
基材は、広範囲の材料で形成され得る。適切な材料としては、ガラス、金属、酸化物および合成ポリマーの界面が挙げられ得る。この界面は、表面に金層を含むよう処理されたガラス界面またはシリコン界面であり得る。界面は、シリコンウエハまたは他の半導体の界面であり得る。界面の選択は、吸着物−基材相互作用によって決定される。
基材の界面上に吸着する化合物を含む、任意の溶液が使用され得る。好ましい実施形態において、界面は金界面であり、そして吸着溶液はチオールを含む。適切なチオールとしては、アルカンチオール(例えば、異なる炭水化物鎖長を有するメチル末端チオールであるCH3(CH2)nSH(ここで、n=4〜18);異なる炭水化物鎖長を有するヒドロキシル末端チオールである、OH(CH2)nSH(ここで、n=8〜18)、異なる炭水化物鎖長を有するカルボキシル末端チオールであるHOOC(CH2)nSH(ここで、n=8〜18);および1H,2H,2H,2H−ペルフルオロデカン−1−チオール((CF3(CF2)7(CH2)2SH))が挙げられる。必要に応じて、上記アルカンは、反応基で末端に官能性を持たせる。このような反応基としては、ビオチン、ビニルスルホン、マレイミドまたはN−ヒドロキシスクシニミドが挙げられる。これらの反応基は、生物化学勾配を調製するよう生体分子と結合され得る。この生体分子は、任意の生体分子であり得、例えば、ペプチド、タンパク質、オリゴ糖類、多糖類、DNA、RNAまたは脂質が含まれる。
この界面化学勾配は、界面の疎水性/親水性が、基材界面の長さ部分(または半径部分)に沿って増大または減少する疎水性勾配、あるいは、生体分子の濃度が基材界面の長さ(または半径)に沿って増大または減少する、生体分子を含む勾配を形成しうる。この勾配は、代表的には、自己組織化単層(SAM)である。
本方法は、1次元または2次元における、種々の化学的官能性または生化学的官能性の勾配の調製において使用され得る。このような勾配は、細胞運動性研究および他の生物学的な研究、診断学、微小流体工学、ナノトライボロジー研究およびハイスループットスクリーニングを含む、広範囲の応用において使用され得る。勾配は、例えば、特定の界面種に対する細胞の感受性を決定するために、細胞を分類するために、微生物を同定するために、ならびに細胞に対する界面結合製剤の効果を試験するために使用され得る。勾配はまた、特定種の界面濃度に依存し得る、任意の物理的特性(摩擦、潤滑、磨耗または接着を含む)を研究するために使用され得る。
利用した2つのアルカンチオールは、ドデカンチオール(CH3(CH2)11SH)および11−メルカプト−1−ウンデカノール(HO(CH2)11SH)であり、両方ともAldrich Chemicals(Milwaukee,WI,USA)から入手した。エタノール(純度>99.8%、Merck,Darmstadt,Germany)を、溶媒として使用した。SAMフィルムに対する基材を、標準的な方法(Bain,C.D.ら、J.Am.Chem.Soc.1989,111,321−335)にしたがって、金(純度>99.99%、Unaxia,Balzers,Liechtenstein)を、シリコンウエハ(POWATEC,Cham,Switzerland)上に蒸着させることにより調製した。このシリコンウエハを、蒸着チャンバー(MED 020コーティングシステム、BALTEC,Balzers,Liechtenstein)において、およそ2・10−5mbarの圧力で、6nm厚のクロム接着層でコーティングし、続いて80nmの金フィルムでコーティングした。全てのガラス製品を、ピラニア溶液(濃縮したH2SO4/30%H2O2、7:3)で20分間清浄し、そして脱イオン水およびエタノールで十分にリンスした。保存溶液を、CH3(CH2)11SHまたはHO(CH2)11SHを、1mMの濃度でエタノール中に溶解することによって調製した。全ての他の溶液を、対応する保存溶液のさらなる希釈によって調製した。
勾配SAMフィルムの疎水性変動を、サンプルの長軸に沿う位置の関数として、水接触角を測定することによって特性付けた。静的な接触角および動的な接触角の両方を、接触角ゴニオメーター(それぞれ、Rame Hart モデル100,Rame Hart Inc.,Mountain Lakes,NJ,USAおよびG2/G40 2.05−D,Kruss GmBH,Hamburg,Germany)を利用して測定した。動的接触角の測定結果を、デジタル画像分析を使用して評価した。X線光電子スペクトルを、AI Kα供給源(350W、15kV)を備えるPHI5700分光計を用いて、45°のテイクオフ角で得た。工程ごとの46.95eVおよび0.1eVの通過エネルギーを、曝露時間を保ち、そしてそれ故に、適切なシグナル対ノイズ比を有しながらX線損傷を最小に保つために使用した。4つの領域(Cls、Ols、S2pおよびAu4f)の各測定に対する曝露時間を、700秒とした。
先行する研究において、金基材上でのアルカンチオール吸着の反応速度は、アルカンチオール部分を含有する溶液における、一連のサンプルの曝露時間を変えることにより研究されてきた(例えば、Bain,C.D.ら、J.Am.Chem.Soc.1989,111,321−355;Bain,C.D.およびWhitesides,G.M.J.Am.Chem.Soc.1988,110.6560−6561を参照のこと)。このアプローチを、異なる濃度で、CH3(CH2)11SHおよびHO(CH2)11SH両方に対して再現した。全ての事例において、24時間の液浸後の水接触角(静的)は、飽和値に達した。初期段階(<30分)における吸着行動は、溶液濃度およびアルカンチオールの種類に強い依存性を示す。非常に濃縮した溶液(1mM)について、両方のチオール(CH3(CH2)11SHおよびHO(CH2)11SH)は、液浸直後(<1分)の飽和単層値から5%未満の偏向を有する水接触角に達し、一方、より希釈した溶液(0.01mMおよび0.0033mM)に対するこれらの値に達するためには、系統的により長い時間を必要とした。さらに、HO(CH2)11SHは、おそらくエタノールに対する自身のより高い親和性に起因して、CH3(CH2)11SHより遅い吸着行動を示した。
より高い範囲の水接触角をカバーする疎水性勾配は、4cm×1cmサイズの、清浄した金でコーティングされたシリコンウエハを、5μMの1−メルカプト−11−ウンデカノール(HO(CH2)11SH)溶液中に、50μm/秒の速度で徐々に液浸することによって生成され得る。一旦、サンプルを完全に液浸し、それを2.5mm/秒の速度で引き抜き、エタノールでリンスし、そして窒素で乾燥する。10μMドデカンチオール(CH3(CH2)11SH)中への一晩の液浸後に、水接触角において50°〜105°の勾配を生成する。
疎水性勾配はまた、メチル末端化チオール(CH3(CH2)11SH)とカルボキシル末端化チオール(HOOC(CH2)10SH)を、組み合わせることによって調製され得る。4cm×1cmサイズの、清浄した金でコーティングされたシリコンウエハを、5μMのドデカンチオール(CH3(CH2)11SH)溶液中へと、75μm/秒の速度で全サンプルが液浸されるまで液浸した。次いでそれを2.5mm/秒の速度で引き戻し、エタノールでリンスし、そして窒素で乾燥した。10μMの11−メルカプトウンデカン酸(HOOC(CH2)10SH)溶液中への一晩の液浸後に、水接触角における15°〜75°の勾配を生成した。
フッ素濃度勾配は、上記と同様の方法によって調製され得る。4cm×1cmの、清浄した金でコーティングされたシリコンウエハを、5μMのエタノール性の1H,1H,2H,2H,−ペルフルオロデカン−1−チオール(CF3(CF2)7(CH2)2SH)溶液中へと、200μm/秒の速度で全サンプルが液浸されるまで液浸した。サンプルをエタノールでリンスし、そして窒素で乾燥した後に、それを10μMの1−ドデカンチオール(CH3(CH2)11SH)エタノール性溶液中に、一晩液浸した。X線光電子スペクトル法(XPS)によるサンプルの化学的分析は、フッ素濃度が0原子%(勾配のメチルリッチ側)から20原子%(勾配のフッ素リッチ側へと)直線的に伸び、他方では炭素濃度が95%原子濃度から75%原子濃度へと減少することを示す。勾配のフッ素リッチ部分およびメチルリッチ部分の湿潤性は、水によって識別可能ではない。したがって、フッ素濃度勾配は、例えば、毛管力における差異の非存在下において、摩擦力勾配を提供し得る。
Claims (18)
- 基材上に界面化学勾配を調製するための方法であって、該方法は、
第1の吸着物を含む第1の溶液の前進フロントに、該基材を曝露する工程、
を包含し、
ここで、該基材は、該第1の溶液に、界面上に該第1の吸着物を吸着するのに十分な時間、該基材上の第1の領域から該基材上の第2の領域へと濃度を減少する量で曝露される、方法。 - 第2の吸着物を含む第2の溶液に、前記基材を曝露する工程をさらに包含する、請求項1に記載の方法。
- 前記界面化学勾配が、前記界面の長さ全体にわたって、該界面に誘引される水の量を変化させる疎水性勾配である、請求項1に記載の方法。
- 前記基材の前記界面が、ガラス、金属、酸化物および合成ポリマーからなる群より選択される材料で形成される、請求項1に記載の方法。
- 前記界面が金であり、そして前記第1の溶液および前記第2の溶液がアルカンチオールを含む、請求項2に記載の方法。
- 前記界面が酸化物であり、そして前記第1の溶液および前記第2の溶液が有機ホスフェートを含む、請求項2に記載の方法。
- 前記界面が酸化物であり、そして前記第1の溶液および前記第2の溶液が高分子電解質を含む、請求項2に記載の方法。
- 前記界面が疎水性ポリマーであり、そして前記第1の溶液および前記第2の溶液が高分子電解質を含む、請求項2に記載の方法。
- 前記第1の吸着物または前記第2の吸着物が、生体分子を含む、請求項2に記載の方法。
- 前記基材が、直線運動ドライブを用いて前記第1の溶液に曝露される、請求項1に記載の方法。
- 前記基材が、シリンジポンプを用いて前記第1の溶液に曝露される、請求項1に記載の方法。
- 前記基材が、全液浸によって前記第2の溶液に曝露される、請求項2に記載の方法。
- 生物学的分析のために界面化学勾配を使用する方法であって、該方法は、該界面化学勾配を細胞に曝露する工程を包含し、ここで、該界面化学勾配は、第1の吸着物を、該基材上の第1の領域から該基材上の第2の領域へと濃度を減少する量で含み、そして、第2の吸着物を、該基材上の該第1の領域から該基材上の該第2の領域へと濃度を増大する量で含む、方法。
- 前記第1の吸着物または前記第2の吸着物が、生体分子を含む、請求項13に記載の方法。
- 分析のために界面化学勾配を使用する方法であって、該方法は、該界面化学勾配を分子に曝露する工程を包含し、ここで、該界面化学勾配は、第1の吸着物を、該基材上の第1の領域から該基材上の第2の領域へと濃度を減少する量で含み、そして、第2の吸着物を、該基材上の該第1の領域から該基材上の該第2の領域へと濃度を増大する量で含み、そしてここで、該分子は優先的に該第1の吸着物に結合する、方法。
- 基材の界面上の界面化学勾配であって、該勾配は、第1の吸着物を、該基材上の第1の領域から該基材上の第2の領域へと濃度を減少する量で含み、そして、第2の吸着物を、該基材上の該第1の領域から該基材上の該第2の領域へと濃度を増大する量で含み、ここで、該基材は1cm以上の長さである、勾配。
- 請求項16に記載の界面化学勾配であって、ここで、該勾配は、
第1の吸着物を含む第1の溶液の前進フロントに、前記基材を曝露する工程であって、ここで、該基材は、該第1の溶液に、界面上に該第1の吸着物を吸着するのに十分な時間、該基材上の第1の領域から該基材上の第2の領域へと濃度を減少する量で曝露される、工程、ならびに
第2の吸着物を含む第2の溶液に該基材を曝露する工程、
によって形成される、勾配。 - 請求項16に記載の界面化学勾配であって、ここで、該勾配は、細胞運動性研究、診断学、微流体工学、ナノ摩擦学研究およびハイスループットスクリーニングからなる群より選択される分析に適している、勾配。
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