JP2007508582A - 新規な感光性樹脂組成物 - Google Patents
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Abstract
【化1】
Description
(a)構造IまたはII:
の1つであり;k1は約0.5までの任意の正値であることができ、k2は約1.5〜約2の任意の値であることができ、ただし(k1+k2)=2であり、xは約10〜約1000であり;yは約0〜約900である]
を有する少なくとも1つのポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマー;
(b)構造III〜V:
によって表わされる化合物からなる群から選択される少なくとも1つの感光性化合物;
(c)少なくとも1つの溶媒;および
(d)場合によっては接着促進剤
を含むポジ型感光性樹脂組成物を提供する。
(a)構造(I)または(II)を有する少なくとも1つのポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマー;上記の構造III、IVまたはVによって表わされる化合物の群から選択される少なくとも1つの感光性化合物;および少なくとも1つの溶媒を含有するポジ型感光性組成物を好適な基板上にコーティングすることによりコートされた基板をつくり;
(b)コートされた基板をプリベークし;
(c)コートされプリベークされた基板を化学線に暴露し;
(d)コートされ暴露された基板を水性現像液で現像することによりコートされた基板上に硬化されていないレリーフ画像を形成し;そして
(e)コートされ現像された基板を高められた温度でベークすることによりレリーフ画像を硬化する
段階を包含する。
(a)構造IまたはII:
の1つであり;k1は約0.5までの任意の正値であることができ、k2は約1.5〜約2の任意の値であることができ、ただし(k1+k2)=2であり、xは約10〜約1000であり;yは約0〜約900である]
を有する少なくとも1つのポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマー;
(b)構造III〜V:
によって表わされる化合物からなる群から選択される少なくとも1つの感光性化合物;
(c)少なくとも1つの溶媒;および
(d)場合によっては接着促進剤
を含むポジ型感光性樹脂組成物を提供する。
を有するモノマーを塩基の存在下で反応させることにより合成することができる。
があるが、これらに限定されない。R8の例には−CH3、−C2H5、n−C3H7、i−C3H7、n−C4H9、t−C4H9、およびシクロヘキシルがあるが、これらに限定されない。
があるが、これらに限定されない。好適なZ基の例にはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、t−ブチル、n−オクチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、およびシクロオクチルがあるが、これらに限定されない。
があるが、これらに限定されない。
ル酸およびこれらの混合物があるが、これらに限定されない。好適な二酸クロライド(W=C(O)Cl)の例にはイソフタロイルジクロライド、フタロイルジクロライド、ターフタロイルジクロライド、4,4’−ジフェニルエーテルジカルボン酸ジクロライドおよびこれらの混合物があるが、これらに限定されない。好適なジカルボン酸エステル(W=CO2R9)の例にはジメチルイソフタレート、ジメチルフタレート、ジメチルターフタレート、ジエチルイソフタレート、ジエチルフタレート、ジエチルターフタレートおよびこれらの混合物があるが、これらに限定されない。
に従って、塩基の存在下で約1〜50モル%(構造VIのモノマーからのOH基の数に基づく)の少なくとも1つのジアゾキノン(DCl)と場合によっては反応させて構造(II)のポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマーを生成させることができる。約1〜40モル%と反応させるのがより好ましい。
があるが、これらに限定されない。好適なR基の例には、クロロ、メチル、エチル、イソプロピル、n−プロピル、n−ブチル、イソ−ブチルおよびsec−ブチル、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソ−プロポキシ、n−ブトキシ、シクロペンチルまたはシクロヘキシルがあるが、これらに限定されない。好ましいDClは
によって表わされる化合物の群から選択される少なくとも1つの光活性化合物をさらに含む。
の1つである。好ましいDは
によって表わされることができる。R12は以下の部分構造:
の1つである。好ましい接着促進剤はR12が
この方法は、
(a)構造(I)または(II)を有する少なくとも1つのポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマー;上記の構造III、IVまたはVによって表わされる化合物の群から選択される少なくとも1つの感光性化合物;および少なくとも1つの溶媒を含有するポジ型感光性組成物を好適な基板上にコーティングすることによりコートされた基板をつくり;
(b)コートされた基板をプリベークし;
(c)コートされプリベークされた基板を化学線に暴露し;
(d)コートされ暴露された基板を水性現像液で現像することにより、コートされた基板上に硬化されていないレリーフ画像を形成し;そして
(e)コートされ現像された基板を高められた温度でベークすることによりレリーフ画像を硬化する
段階を包含する。
別なモノマー比を有する構造Iaのポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマーの製造
合成例1を反復したが、ただし二酸ジクロライド混合物のモル比は1:1から0.91:1に減少した。ポリマーの固有粘度は、NMP中で濃度0.5g/dL、25℃で測定して0.23dL/gであった。
別なモノマー比を有する構造IIaのポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマーの製造
合成例3を反復したが、ただし合成例2で得たポリマーを3モル%の2,1−ナフトキノンジアジド−5−スルホニルクロライドと反応させた。ポリマーの固有粘度は、NMP中で濃度0.5g/dL、25℃で測定して0.21dL/gであった。
構造Ibを有するポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマーの製造
構造IIbを有するポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマーの製造
構造Icを有するポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマーの製造
構造IIcを有するポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマーの合成
構造Idを有するポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマーの製造
構造IIdを有するポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマーの合成
合成例2を反復したが、ただし合成例9からのポリマーを使用し、そしてポリマーのOH基の全体の数に対する2,1−ナフトキノンジアジド−5−スルホニルクロライドの比を0.0222に変更した。収率は96%であり、そしてポリマーの固有粘度はNMP中で濃度0.5g/dL、25℃で測定して0.193dL/gであった。
以下のポジ型感光性組成物を製造した:合成例4で得たポリマー100部、ビスフェノールAP PAC11.9部、ジフェニルシランジオール5部をGBL中に溶解しそして濾過した。
以下のポジ型感光性組成物を製造した:合成例4で得たポリマー100部、構造XをもつPAC11.9部、ジフェニルシランジオール5部をGBL390部中に溶解しそして濾過した。構造XにおいてQ2は20%がHであり、80%が下記に示す構造のジアゾキノンである。
ェーファから剥がした。このフィルムの色は実施例1のフィルムよりはるかに暗い色であった。
以下のポジ型感光性組成物を製造した:合成例4で得たポリマー100部、ビスフェノールAP PAC11.9部、ジフェニルシランジオール5部および表1に列挙する接着促進剤3部をGBL170部中に溶解しそして濾過した。各々の組成物3mlをそれぞれのシリコンウェーファ上に毎分2100回転でスピンコートし、次にホットプレート上で120℃で3分ベークして、プロフィロメータで測定したとき厚さ9.8μmの各組成物のフィルムを得た。次にKarl Suss Exposure Alignerを使用して、ウェーファを接着試験マスクを通して露光した。マスクは2mm×2mmの正方形パッド100個を含む4つの領域を画像形成する。次に、コートされたウェーファをOPD 4262、Arch Chemicalsのテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド水性現像液を使用して現像した。現像液スプレイに45秒間曝しつつ回転速度500rpmでウェーファを回転した。次にウェーファを脱イオン水で15秒間リンスし、次に30秒間回転乾燥した。次いでウェーファをN2パージの下に真空オーブン内で硬化した。オーブン硬化プログラムは100℃に始まりそして毎分5℃の割合で350℃まで昇温した。温度を350℃に1時間保持し、次に2時間にわたって100℃まで低下した。硬化されたフィルムはすべて明るい色をしていた。硬化されたウェーファを脱イオン水1ガロンの入ったプレッシャークッカー内に入れた。プレッシャークッカーを1700時間121℃に加熱した(圧力は2.05バールであった)。この物質の接着性を、ASTM D−3359−83 Method B試験を用いていろいろな時間に測定した。100のパッドすべてをカバーする問題の領域に3M Tape#681(幅1インチあたり30オンス)を貼った。テープをすばやく除去し、そしてこの物質を検査し、またASTM D−3359−83 Method Bに概説されている基準に基づき0(最悪)から5(最良)に評価した。結果を表1に示した。
比較例2の組成物は、構造XIの接着促進剤が使用されることを除いて実施例2〜9の組成物と同じであった。 硬化されたフィルムは明るい色をしていた。この組成物は実施例2〜9に記載したように試験したが、ただし試験期間は300時間であった。この組成物はASTM D−3359−83 Methodに概説されている基準に基づき0の評価を受けた。この結果は、構造XIの接着促進剤を樹脂100部あたり3部含有する組成物は、プレッシャークッカー試験の要求に合格できずまた300時間後に破壊することを示す。
実施例10の組成物は、1.5部の接着促進剤を使用することを除いて実施例4の組成物と同じであった。硬化されたフィルムは明るい色をしていた。この組成物を実施例2〜9に記載のように試験したが、試験は500時間にわたって実施した。組成物は500時間後に評価5を受けた。
比較例3の組成物は構造XIIの接着促進剤が使用されることを除いて実施例2〜9の組成物と同じであった。組成物を実施例2〜9での手順を用いて試験しそして336時間、672時間、および1000時間の試験で5の評価を受けた。硬化されたフィルムは明るい色をしていた。
比較例4の組成物は、構造XIIの接着促進剤が使用されることを除いて実施例10の組成物と同じであった。組成物は実施例2〜9での手順を用いて試験し、そして500時間後に0の評価を受けた。硬化されたフィルムは明るい色をしていた。
実施例4の組成物は加速老化法を用いて安定性について試験した。濾過後数分して動粘度を測定した。室温に24時間放置した後、動粘度を再測定し、そして事実上同じであった。次に組成物を33℃で14日間加熱し、そして動粘度をモニターした(表2参照)。
比較例3の組成物を実施例11と同じ方法で安定性につき試験したが、ただしCannon−Fenskeルーチン粘度計のサイズは600であった。濾過後数分して動粘度を測定しそして1850cStであることが分かった。室温に24時間放置した後、動粘度を再度測定しそして3304cStに増加していることを見いだした。組成物を33℃で14日加熱しそして動粘度をモニターした(表2参照)。
実施例11(または4)からの組成物3mlをシリコンウェーファ上に毎分1700回転でスピンコートし、次にホットプレート上で120℃で3分ベークして、プロフィロメータによって測定して12.38μmの厚さのフィルムを得た。次にウェーファの切片をCannon 4000 IE i−線ステッパーを使用して様々なレベルの露光エネルギーで露光した。次にウェーファをOPD4262中で現像した。ウェーファ表面に現像液を吹き付けそして41.5秒現像することによりウェーファを現像した。数秒間回転してフィルムから現像液を除去し、次に新規な現像液をウェーファ上に吹き付けた。次にフィルムをさらに41.5秒間現像しそして現像液を回転して除去した。次に1000rpmで回転しつつウェーファを脱イオン水で12秒間リンスした。この後に3500rpmの10秒間の乾燥工程を続けた。露光された領域からすべての物質が無くなるのに必要な露光エネルギーを計ると、E0が180mJ/cm2であると示された。プロフィロメータで測定するとき未露光フィルムの厚さは7.39μmであった。
比較例6の組成物は実施例2〜9の組成物と同じであるが、ただし接着促進剤は構造XIII:
合成例8で得たポリマー40部、ビスフェノール AP PAC15部、ジフェニルシランジオール2部およびガンマ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン2.0部をNMP中に溶解しそして濾過した。処方物を毎分1650回転でシリコンウェーファ上にスピンコートし、次にホットプレート上で120℃で4分ベークして、プロフィロメータで測定して14.16μmの厚さのフィルムを得た。次にフィルムを開放フレーム露光配置でi−線ステッパーを利用してフィルムを露光した。ステッパーは出発時の露光エネルギー700mJ/cm2から始め、露光エネルギーを段階的に25mJ/cm2増加した。次にウェーファをテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの0.262Nの水溶液での40秒間のパドル現像によって現像して、残留する感光性組成物を含まないまたは含む露光されたボックスの配置がえられた。感光性組成物が露光された領域から完全になくなる露光エネルギーについてこれらのボックスを肉眼で検査した。処方物は1050mJ/cm2の線量でボックスから無くなった。未露光フィルム厚さは6.7ミクロンに減少した。
合成例10で得たポリマー40部、ビスフェノール AP PAC13部、ジフェニルシランジオール4部およびトリエトキシシリルプロピルエチルカルバメート4.0部をNMP中に溶解しそして濾過した。処方物を毎分1600回転でシリコンウェーファ上にスピンコートし、次にホットプレート上で120℃で4分ベークして、プロフィロメータで測定して厚さ14.25μmのフィルム厚さを得た。次にフィルムを開放フレーム露光配置でi−線ステッパーを利用してフィルムを露光した。ステッパーは出発時の露光エネルギー500mJ/cm2から始め、暴露エネルギーを段階的に20mJ/cm2増加した。次にウェーファをテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの0.262Nの水溶液での10秒間のパドル現像によって現像して、残留する感光性組成物を含まないまたは含む暴露されたボックスの配置がえられた。感光性組成物が露光された領域から完全になくなる照射エネルギーについてこれらのボックスを肉眼で検査した。処方物は550mJ/cm2の線量でボックスから無くなった。未露光フィルム厚さは9.68ミクロンに減少した。
以下のポジ型感光性組成物を製造した:合成例4で得たポリマー100部、ビスフェノール AP PAC−1D21.7部およびジフェニルシランジオール5部をGBL中に溶解し、そして濾過した。
以下のポジ型感光性組成物を製造した:合成例4で得たポリマー100部、ビスフェノール AP PAC11.9部およびジフェニルシランジオール5部をGBL中に溶解し、そして濾過した。
Claims (58)
- (a)構造IまたはII:
の1つからなる基から選択され;k1は約0.5までの任意の正値であることができ、k2は約1.5〜約2の任意の値であることができ、ただし(k1+k2)=2であり、xは約10〜約1000であり;yは約0〜約900である]
を有する少なくとも1つのポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマー;
(b)構造III〜V:
によって表わされる化合物からなる群から選択される少なくとも1つの感光性化合物;
(c)少なくとも1つの溶媒;および
(d)場合によっては接着促進剤
を含むポジ型感光性樹脂組成物。 - Zが、メチル、エチル、プロピル、イソ−プロピル、n−ブチル、sec−ブチル、t−ブチル、n−オクチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、およびシクロオクチルからなる群から選択される、請求項4に記載のポジ型感光性組成物。
- ポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマーが構造IIを有する、請求項1に記載のポジ型感光性組成物。
- 感光性組成物の構造IまたはIIのポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマーの量が約2.5〜約45重量%である、請求項1に記載のポジ型感光性組成物。
- 感光性組成物の構造IまたはIIのポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマーの量が約15〜約40重量%である、請求項1に記載のポジ型感光性組成物。
- 感光性組成物の構造IまたはIIのポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマーの量が約25〜約35重量%である、請求項1に記載のポジ型感光性組成物。
- 接着促進剤が構造IX:
の1つからなる基から選択される]
によって表わされる、請求項1に記載のポジ型感光性組成物。 - 感光性組成物の接着促進剤の量が約0.1〜約10重量%である、請求項1に記載のポジ型感光性組成物。
- 感光性組成物の接着促進剤の量が約0.3〜約5重量%である、請求項1に記載のポジ型感光性組成物。
- 感光性組成物の接着促進剤の量が約0.5〜約2.5重量%である、請求項1に記載のポジ型感光性組成物。
- 接着促進剤が組成物中に存在する、請求項21に記載のポジ型感光性組成物。
- 接着促進剤が構造IX:
からなる群の1つから選択される]
によって表わされる、請求項22に記載のポジ型感光性組成物。 - (a)請求項1に記載のポジ型感光性組成物を好適な基板上にコーティングすることによりコートされた基板をつくり;
(b)コートされた基板をプリベークし;
(c)コートされプリベークされた基板を化学線に暴露し;
(d)コートされ暴露された基板を水性現像液で現像することによりコートされた基板上に未硬化レリーフ画像を形成し;そして
(e)コートされ現像された基板を高められた温度でベークすることによりレリーフ画像を硬化する
段階を包含する、基板上にレリーフパターンを形成する方法。 - (a)請求項2に記載のポジ型感光性組成物を好適な基板上にコーティングすることによりコートされた基板をつくり;
(b)コートされた基板をプリベークし;
(c)コートされプリベークされた基板を化学線に暴露し;
(d)コートされ暴露された基板を水性現像液で現像することによりコートされた基板上に未硬化レリーフ画像を形成し;そして
(e)コートされ現像された基板を高められた温度でベークすることによりレリーフ画像を硬化する
段階を包含する、基板上にレリーフパターンを形成する方法。 - (a)請求項3に記載のポジ型感光性組成物を好適な基板上にコーティングすることによりコートされた基板をつくり;
(b)コートされた基板をプリベークし;
(c)コートされプリベークされた基板を化学線に暴露し;
(d)コートされ暴露された基板を水性現像液で現像することによりコートされた基板上に未硬化レリーフ画像を形成し;そして
(e)コートされ現像された基板を高められた温度でベークすることによりレリーフ画像を硬化する
段階を包含する、基板上にレリーフパターンを形成する方法。 - (a)請求項4に記載のポジ型感光性組成物を好適な基板上にコーティングすることによりコートされた基板をつくり;
(b)コートされた基板をプリベークし;
(c)コートされプリベークされた基板を化学線に暴露し;
(d)コートされ暴露された基板を水性現像液で現像することによりコートされた基板上に未硬化レリーフ画像を形成し;そして
(e)コートされ現像された基板を高められた温度でベークすることによりレリーフ画像を硬化する
段階を包含する、基板上にレリーフパターンを形成する方法。 - (a)請求項5に記載のポジ型感光性組成物を好適な基板上にコーティングすることによりコートされた基板をつくり;
(b)コートされた基板をプリベークし;
(c)コートされプリベークされた基板を化学線に暴露し;
(d)コートされ暴露された基板を水性現像液で現像することによりコートされた基板上に未硬化レリーフ画像を形成し;そして
(e)コートされ現像された基板を高められた温度でベークすることによりレリーフ画像を硬化する
段階を包含する、基板上にレリーフパターンを形成する方法。 - (a)請求項6に記載のポジ型感光性組成物を好適な基板上にコーティングすることによりコートされた基板をつくり;
(b)コートされた基板をプリベークし;
(c)コートされプリベークされた基板を化学線に暴露し;
(d)コートされ暴露された基板を水性現像液で現像することによりコートされた基板上に未硬化レリーフ画像を形成し;そして
(e)コートされ現像された基板を高められた温度でベークすることによりレリーフ画像を硬化する
段階を包含する、基板上にレリーフパターンを形成する方法。 - (a)請求項7に記載のポジ型感光性組成物を好適な基板上にコーティングすることによりコートされた基板をつくり;
(b)コートされた基板をプリベークし;
(c)コートされプリベークされた基板を化学線に暴露し;
(d)コートされ暴露された基板を水性現像液で現像することによりコートされた基板上に未硬化レリーフ画像を形成し;そして
(e)コートされ現像された基板を高められた温度でベークすることによりレリーフ画像を硬化する
段階を包含する、基板上にレリーフパターンを形成する方法。 - (a)請求項8に記載のポジ型感光性組成物を好適な基板上にコーティングすることによりコートされた基板をつくり;
(b)コートされた基板をプリベークし;
(c)コートされプリベークされた基板を化学線に暴露し;
(d)コートされ暴露された基板を水性現像液で現像することによりコートされた基板上に未硬化レリーフ画像を形成し;そして
(e)コートされ現像された基板を高められた温度でベークすることによりレリーフ画像を硬化する
段階を包含する、基板上にレリーフパターンを形成する方法。 - (a)請求項9に記載のポジ型感光性組成物を好適な基板上にコーティングすることによりコートされた基板をつくり;
(b)コートされた基板をプリベークし;
(c)コートされプリベークされた基板を化学線に暴露し;
(d)コートされ暴露された基板を水性現像液で現像することによりコートされた基板上に未硬化レリーフ画像を形成し;そして
(e)コートされ現像された基板を高められた温度でベークすることによりレリーフ画像を硬化する
段階を包含する、基板上にレリーフパターンを形成する方法。 - (a)請求項10に記載のポジ型感光性組成物を好適な基板上にコーティングすることによりコートされた基板をつくり;
(b)コートされた基板をプリベークし;
(c)コートされプリベークされた基板を化学線に暴露し;
(d)コートされ暴露された基板を水性現像液で現像することによりコートされた基板上に未硬化レリーフ画像を形成し;そして
(e)コートされ現像された基板を高められた温度でベークすることによりレリーフ画像を硬化する
段階を包含する、基板上にレリーフパターンを形成する方法。 - (a)請求項11に記載のポジ型感光性組成物を好適な基板上にコーティングすることによりコートされた基板をつくり;
(b)コートされた基板をプリベークし;
(c)コートされプリベークされた基板を化学線に暴露し;
(d)コートされ暴露された基板を水性現像液で現像することによりコートされた基板上に未硬化レリーフ画像を形成し;そして
(e)コートされ現像された基板を高められた温度でベークすることによりレリーフ画像を硬化する
段階を包含する、基板上にレリーフパターンを形成する方法。 - (a)請求項12に記載のポジ型感光性組成物を好適な基板上にコーティングすることによりコートされた基板をつくり;
(b)コートされた基板をプリベークし;
(c)コートされプリベークされた基板を化学線に暴露し;
(d)コートされ暴露された基板を水性現像液で現像することによりコートされた基板上に未硬化レリーフ画像を形成し;そして
(e)コートされ現像された基板を高められた温度でベークすることによりレリーフ画像を硬化する
段階を包含する、基板上にレリーフパターンを形成する方法。 - (a)請求項13に記載のポジ型感光性組成物を好適な基板上にコーティングすることによりコートされた基板をつくり;
(b)コートされた基板をプリベークし;
(c)コートされプリベークされた基板を化学線に暴露し;
(d)コートされ暴露された基板を水性現像液で現像することによりコートされた基板上に未硬化レリーフ画像を形成し;そして
(e)コートされ現像された基板を高められた温度でベークすることによりレリーフ画像を硬化する
段階を包含する、基板上にレリーフパターンを形成する方法。 - (a)請求項14に記載のポジ型感光性組成物を好適な基板上にコーティングすることによりコートされた基板をつくり;
(b)コートされた基板をプリベークし;
(c)コートされプリベークされた基板を化学線に暴露し;
(d)コートされ暴露された基板を水性現像液で現像することによりコートされた基板上に未硬化レリーフ画像を形成し;そして
(e)コートされ現像された基板を高められた温度でベークすることによりレリーフ画像を硬化する
段階を包含する、基板上にレリーフパターンを形成する方法。 - (a)請求項15に記載のポジ型感光性組成物を好適な基板上にコーティングすることによりコートされた基板をつくり;
(b)コートされた基板をプリベークし;
(c)コートされプリベークされた基板を化学線に暴露し;
(d)コートされ暴露された基板を水性現像液で現像することによりコートされた基板上に未硬化レリーフ画像を形成し;そして
(e)コートされ現像された基板を高められた温度でベークすることによりレリーフ画像を硬化する
段階を包含する、基板上にレリーフパターンを形成する方法。 - (a)請求項16に記載のポジ型感光性組成物を好適な基板上にコーティングすることによりコートされた基板をつくり;
(b)コートされた基板をプリベークし;
(c)コートされプリベークされた基板を化学線に暴露し;
(d)コートされ暴露された基板を水性現像液で現像することによりコートされた基板上に未硬化レリーフ画像を形成し;そして
(e)コートされ現像された基板を高められた温度でベークすることによりレリーフ画像を硬化する
段階を包含する、基板上にレリーフパターンを形成する方法。 - (a)請求項17に記載のポジ型感光性組成物を好適な基板上にコーティングすることによりコートされた基板をつくり;
(b)コートされた基板をプリベークし;
(c)コートされプリベークされた基板を化学線に暴露し;
(d)コートされ暴露された基板を水性現像液で現像することによりコートされた基板上に未硬化レリーフ画像を形成し;そして
(e)コートされ現像された基板を高められた温度でベークすることによりレリーフ画像を硬化する
段階を包含する、基板上にレリーフパターンを形成する方法。 - (a)請求項18に記載のポジ型感光性組成物を好適な基板上にコーティングすることによりコートされた基板をつくり;
(b)コートされた基板をプリベークし;
(c)コートされプリベークされた基板を化学線に暴露し;
(d)コートされ暴露された基板を水性現像液で現像することによりコートされた基板上に未硬化レリーフ画像を形成し;そして
(e)コートされ現像された基板を高められた温度でベークすることによりレリーフ画像を硬化する
段階を包含する、基板上にレリーフパターンを形成する方法。 - (a)請求項19に記載のポジ型感光性組成物を好適な基板上にコーティングすることによりコートされた基板をつくり;
(b)コートされた基板をプリベークし;
(c)コートされプリベークされた基板を化学線に暴露し;
(d)コートされ暴露された基板を水性現像液で現像することによりコートされた基板上に未硬化レリーフ画像を形成し;そして
(e)コートされ現像された基板を高められた温度でベークすることによりレリーフ画像を硬化する
段階を包含する、基板上にレリーフパターンを形成する方法。 - (a)請求項20に記載のポジ型感光性組成物を好適な基板上にコーティングすることによりコートされた基板をつくり;
(b)コートされた基板をプリベークし;
(c)コートされプリベークされた基板を化学線に暴露し;
(d)コートされ暴露された基板を水性現像液で現像することによりコートされた基板上に未硬化レリーフ画像を形成し;そして
(e)コートされ現像された基板を高められた温度でベークすることによりレリーフ画像を硬化する
段階を包含する、基板上にレリーフパターンを形成する方法。 - (a)請求項21に記載のポジ型感光性組成物を好適な基板上にコーティングすることによりコートされた基板をつくり;
(b)コートされた基板をプリベークし;
(c)コートされプリベークされた基板を化学線に暴露し;
(d)コートされ暴露された基板を水性現像液で現像することによりコートされた基板上に未硬化レリーフ画像を形成し;そして
(e)コートされ現像された基板を高められた温度でベークすることによりレリーフ画像を硬化する
段階を包含する、基板上にレリーフパターンを形成する方法。 - (a)請求項22に記載のポジ型感光性組成物を好適な基板上にコーティングすることによりコートされた基板をつくり;
(b)コートされた基板をプリベークし;
(c)コートされプリベークされた基板を化学線に暴露し;
(d)コートされ暴露された基板を水性現像液で現像することによりコートされた基板上に未硬化レリーフ画像を形成し;そして
(e)コートされ現像された基板を高められた温度でベークすることによりレリーフ画像を硬化する
段階を包含する、基板上にレリーフパターンを形成する方法。 - (a)請求項23に記載のポジ型感光性組成物を好適な基板上にコーティングすることによりコートされた基板をつくり;
(b)コートされた基板をプリベークし;
(c)コートされプリベークされた基板を化学線に暴露し;
(d)コートされ暴露された基板を水性現像液で現像することによりコートされた基板上に未硬化レリーフ画像を形成し;そして
(e)コートされ現像された基板を高められた温度でベークすることによりレリーフ画像を硬化する
段階を包含する、基板上にレリーフパターンを形成する方法。 - 段階(a)においてポジ型感光性組成物でコートされるのに好適な基板が、外部的な接着促進剤で処理されている、請求項24に記載の方法。
- 外部的な接着促進剤がビニルアルコキシシラン、メタクリルオキシアルコキシシラン、メルカプトアルコキシシラン、アミノアルコキシシラン、エポキシアルコキシシランおよびグリシドキシアルコキシシランからなる群から選択される、請求項47に記載の方法。
- 外部的な接着促進剤が、ガンマ−アミノプロピルトリメトキシ−シラン、ガンマ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、ガンマ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、ガンマ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリルオキシプロピルジメトキシメチルシラン、および3−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシランからなる群から選択される、請求項48に記載の方法。
- 外部的な接着促進剤が、ガンマ−アミノプロピルトリメトキシシランである請求項49に記載の方法。
- 請求項24に記載の方法によって作成されるパターン化された画像を有する基板。
- 請求項30に記載の方法によって作成されるパターン化された画像を有する基板。
- 請求項35に記載の方法によって作成されるパターン化された画像を有する基板。
- 請求項38に記載の方法によって作成されるパターン化された画像を有する基板。
- 請求項44に記載の方法によって作成されるパターン化された画像を有する基板。
- 請求項45に記載の方法によって作成されるパターン化された画像を有する基板。
- 請求項46に記載の方法によって作成されるパターン化された画像を有する基板。
- 請求項47に記載の方法によって作成されるパターン化された画像を有する基板。
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