JP2007329435A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI384340B (zh) * 2008-04-15 2013-02-01 Ind Tech Res Inst 加工機台
NL1036898A1 (nl) * 2008-05-21 2009-11-24 Asml Netherlands Bv Substrate table, sensor and method.
KR100971323B1 (ko) 2008-08-21 2010-07-20 주식회사 동부하이텍 노광공정에서 레티클의 회전량 및 시프트량의 다중보정을 위한 레티클 스테이지 및 이를 이용한 다중보정방법
JP5606039B2 (ja) * 2009-10-26 2014-10-15 キヤノン株式会社 ステージ装置及び波面収差測定装置
KR20130040805A (ko) * 2010-04-07 2013-04-24 가부시키가이샤 야스카와덴키 θＺ 구동 장치 및 스테이지 장치
JP6181956B2 (ja) * 2013-03-26 2017-08-16 キヤノン株式会社 ステージ装置、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
US10192773B2 (en) * 2016-06-20 2019-01-29 Nexperia B.V. Semiconductor device positioning system and method for semiconductor device positioning
JP7022527B2 (ja) * 2017-07-07 2022-02-18 キヤノン株式会社 ステージ装置、リソグラフィ装置、および物品製造方法
CN107656101A (zh) * 2017-09-27 2018-02-02 上海旻艾信息科技有限公司 一种用于半导体测试旋转机架的旋转机构
JP7557329B2 (ja) * 2020-10-07 2024-09-27 キヤノン株式会社 位置決め装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法
CN114562709B (zh) * 2022-03-14 2023-04-25 北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所） 底部照明模块调节装置
JP7759295B2 (ja) * 2022-04-28 2025-10-23 キヤノン株式会社 ステージ装置、転写装置および物品製造方法
CN115789590A (zh) * 2022-12-16 2023-03-14 北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所） 一种底部照明模块调节装置
CN116661256A (zh) * 2023-05-22 2023-08-29 上海赐兴微电子技术有限公司 一种精密工作台的装置

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE60032568T2 (de) * 1999-12-01 2007-10-04 Asml Netherlands B.V. Positionierungsapparat und damit versehener lithographischer Apparat
JP2003022960A (ja) * 2001-07-09 2003-01-24 Canon Inc ステージ装置及びその駆動方法
JP4307288B2 (ja) 2004-02-25 2009-08-05 キヤノン株式会社 位置決め装置
JP3950861B2 (ja) * 2004-02-25 2007-08-01 キヤノン株式会社 位置決め装置及び露光装置
FR2872878B1 (fr) 2004-07-07 2008-07-04 Hutchinson Sa Support antivibratoire hydraulique pilotable

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