JP2007328092A - Optical filter, and display and plasma display panel equipped with the same - Google Patents

Optical filter, and display and plasma display panel equipped with the same Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical filter that is transparent, has excellent shock resistance, high surface hardness and excellent antireflection property and electromagnetic shielding property and is suitable for a PDP (plasma display panel). <P>SOLUTION: The optical filter includes a layered product comprising a first adhesive layer, a first transparent film having a functional layer, a second adhesive layer and a second transparent film having a functional layer provided in this order, and is characterized in that: the first adhesive layer has a storage modulus in a range of 1×10<SP>3</SP>to 1×10<SP>6</SP>Pa and a loss modulus in a range of 1×10<SP>3</SP>to 3×10<SP>5</SP>Pa at -10°C and 1 Hz frequency; and the second adhesive layer shows a storage modulus in a range of 1×10<SP>4</SP>to 1×10<SP>6</SP>Pa and a loss modulus in a range of 1×10<SP>4</SP>to 3×10<SP>6</SP>Pa at 25°C and 1 Hz frequency. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、プラズマディスプレイパネル(PDP)、ブラウン管(CRT)ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機EL(電界発光)ディスプレイ、表面電界型ディスプレイ(SED)を含む電界放出型ディスプレイ(FED)等の各種ディスプレイに対して反射防止、帯電防止、電磁波遮蔽等の各種機能を有する光学フィルタ、及びこの光学フィルタを備えたディスプレイ、特にPDPに関する。   The present invention is applicable to various displays such as a plasma display panel (PDP), a cathode ray tube (CRT) display, a liquid crystal display, an organic EL (electroluminescent) display, and a field emission display (FED) including a surface electric field display (SED). The present invention relates to an optical filter having various functions such as antireflection, antistatic, and electromagnetic wave shielding, and a display provided with this optical filter, particularly a PDP.

液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ(PDP)、ELディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ、及びCRTディスプレイにおいては、外部からの光が表面で反射し、内部の視覚情報が見えにくいとの問題は、従来から知られており、反射防止膜等を含む光学フィルムの設置等、種々対策がなされている。   In the case of flat panel displays such as liquid crystal displays, plasma displays (PDP), EL displays, and CRT displays, it has been known that the light from the outside is reflected on the surface and the internal visual information is difficult to see. Various measures have been taken, such as the installation of an optical film including an antireflection film.

近年、ディスプレイは大画面表示が主流となり、次世代の大画面表示デバイスとしてPDPが一般的になってきている。しかしながら、このPDPでは表示のため発光部に高周波パルス放電を行っているため、不要な電磁波の輻射や赤外線リモコン等の誤動作の原因ともなる赤外線の輻射のおそれがあり、このため、PDPに対しては、導電性を有するPDP用反射防止フィルム(電磁波シールド性光透過窓材)が種々提案されている。この電磁波シールド性光透過窓材の導電層としては、例えば、(1)金属銀を含む透明導電薄膜が設けられた透明フィルム、(2)金属線又は導電性繊維を網状にした導電メッシュを設けた透明フィルム、(3)透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、(4)透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等が知られている。   In recent years, large-screen displays have become mainstream in displays, and PDPs have become common as next-generation large-screen display devices. However, in this PDP, high-frequency pulse discharge is performed on the light emitting unit for display. Therefore, there is a risk of unnecessary electromagnetic radiation and infrared radiation that may cause malfunction of an infrared remote controller. Have proposed various antireflection films for PDP (electromagnetic wave shielding light transmitting window material) having conductivity. As the conductive layer of this electromagnetic wave shielding light transmitting window material, for example, (1) a transparent film provided with a transparent conductive thin film containing metallic silver, and (2) a conductive mesh made of a metal wire or conductive fiber in a net shape are provided. Transparent film, (3) a layer of copper foil or the like on the transparent film is etched into a net-like shape, an opening is provided, and (4) a conductive ink is printed on the transparent film in a mesh shape, etc. Are known.

さらに、従来のPDPを初めとした大型ディスプレイでは、反射防止フィルムや近赤外線カットフィルム等の種々のフィルムを貼り合わされているため、パネルのガラスが万一割れた場合にも飛散防止の役目は果たしていると考えられていたが、十分でなく、視認面側からの衝撃に対して緩和機能を有する等の安全規格上の要求事項に応える必要がでてきている。   Furthermore, in large displays such as conventional PDPs, various films such as antireflection films and near-infrared cut films are bonded together, so that they can play a role in preventing scattering even if the panel glass breaks. However, it is not sufficient, and it has become necessary to meet requirements in safety standards such as having a mitigation function against impact from the viewing surface side.

上記衝撃緩和のための粘着層を有するPDP用フィルタが、例えば、特許文献1に記載されている。特許文献1には、その粘着層として、25℃、1000〜10000Hzの条件下における動的貯蔵弾性率が9×104〜4×106Paを有するものが提案されている。 For example, Patent Document 1 discloses a PDP filter having an adhesive layer for reducing the impact. Patent Document 1 proposes an adhesive layer having a dynamic storage elastic modulus of 9 × 10 4 to 4 × 10 6 Pa under conditions of 25 ° C. and 1000 to 10000 Hz.

特開2005−23133号公報JP-A-2005-23133

本発明者等の検討によれば、上記粘着層を用いて、反射防止フィルム、電磁波遮断層を有するPDPフィルタを作製し、PDPのガラス板を貼付して、耐衝撃試験を行ったところ、硬すぎて十分な性能が得られない場合があること、また耐衝撃試験に対して優れていても、フィルム表面の鉛筆硬度が十分に高くなく、PDPの使用中にフィルタ表面に傷が付いて画像の表示特性が低下する場合があること、或いは製造中にフィルタを誤って貼付した際、フィルタが柔らかすぎて剥離が困難となる等の問題があることが明らかとなった。   According to the study by the present inventors, a PDP filter having an antireflection film and an electromagnetic wave shielding layer was prepared using the above-mentioned adhesive layer, a glass plate of PDP was attached, and an impact resistance test was conducted. If the film surface is too high, sufficient performance may not be obtained, and even if it is excellent for impact resistance testing, the pencil hardness on the film surface is not sufficiently high, and the filter surface is scratched during use of the PDP. It has become clear that there are cases where the display characteristics of the filter may deteriorate, or that the filter is too soft and difficult to peel off when the filter is applied by mistake during manufacture.

従って、本発明は、透明で、耐衝撃性に優れ且つ高い表面硬度を有するディスプレイ用に好適な光学フィルタを提供することを目的とする。   Accordingly, an object of the present invention is to provide an optical filter suitable for a display that is transparent, excellent in impact resistance, and has a high surface hardness.

また、本発明は、透明で、耐衝撃性に優れ且つ高い表面硬度を有する、反射防止性、電磁遮蔽性に優れたPDP用に好適な光学フィルタを提供することを目的とする。   Another object of the present invention is to provide an optical filter suitable for a PDP that is transparent, has excellent impact resistance, has high surface hardness, and has excellent antireflection properties and electromagnetic shielding properties.

さらに、本発明は、上記優れた特性の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされたディスプレイを提供することを目的とする。   Furthermore, an object of the present invention is to provide a display in which the optical filter having the excellent characteristics is bonded to the surface of an image display glass plate.

さらにまた、本発明は、上記優れた特性の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされたPDPを提供することを目的とする。   Furthermore, an object of the present invention is to provide a PDP in which the optical filter having the excellent characteristics is bonded to the surface of an image display glass plate.

上記光学フィルタは、一般に各種機能性フィルムを相互に貼り付けて積層することにより作製されるが、本発明者が、上記の耐衝撃性に優れ且つ表面硬度も高い(例、傷つき難い)光学フィルタを得るため検討を重ねたところ、各種機能性フィルムを相互に貼り付ける場合に少なくとも2層の粘着層を用い、ディスプレイ側に接する又は近い粘着層を−10℃での周波数1Hzにおける貯蔵弾性率及び動的損失弾性率が特定の範囲のものとし、ディスプレイから遠い位置の粘着層を25℃での周波数1Hzにおける貯蔵弾性率及び損失弾性率を特定の範囲のものとすることにより上記光学フィルタを得ることができることを見いだした。   The optical filter is generally produced by laminating and laminating various functional films to each other. However, the inventor has excellent impact resistance and high surface hardness (eg, hardly damaged). As a result of repeated studies to obtain various functional films, at least two adhesive layers are used, and the adhesive layer in contact with or close to the display side has a storage elastic modulus at a frequency of 1 Hz at -10 ° C and The above optical filter is obtained by setting the dynamic loss elastic modulus within a specific range, and setting the adhesive layer far from the display to have a storage elastic modulus and loss elastic modulus at a frequency of 1 Hz at 25 ° C. I found that I could do it.

即ち、本発明者は、「光学フィルタに求められる日常的に発生する衝撃に対する耐久性」と「表面硬度」とを良好な特性範囲で維持するために、粘着層の数、それぞれの弾性率の範囲ついて詳しく調査した結果、少なくとも2層の粘着層を用い、ひずみ周波数1Hzにおいては、25℃及び−10℃での弾性率を適当に設定することにより、上記良好な特性が得られることが明らかとなった。   That is, the present inventor has determined the number of adhesive layers and the respective elastic moduli in order to maintain the “durability against a daily impact required for an optical filter” and the “surface hardness” in a favorable characteristic range. As a result of detailed investigation on the range, it is clear that the above-mentioned good characteristics can be obtained by using at least two adhesive layers and appropriately setting the elastic modulus at 25 ° C. and −10 ° C. at a strain frequency of 1 Hz. It became.

従って、本発明は、
第1の粘着層、機能性層を有する第1の透明フィルム、第2の粘着層、及び機能性層を有する第2の透明フィルムをこの順で設けられてなる積層体を含む光学フィルタであって、
第1の粘着層の、−10℃での周波数1Hzにおける貯蔵弾性率が1×103〜1×106Paの範囲にあり、且つ損失弾性率が1×103〜3×105Paの範囲にあり、そして
第2の粘着層の、25℃での周波数1Hzにおける貯蔵弾性率が1×104〜1×106Paの範囲にあり、且つ損失弾性率が1×104〜3×106Paの範囲にあることを特徴とする光学フィルタ、
にある。
Therefore, the present invention
An optical filter comprising a laminate comprising a first adhesive layer, a first transparent film having a functional layer, a second adhesive layer, and a second transparent film having a functional layer in this order. And
The first adhesive layer has a storage elastic modulus in a range of 1 × 10 3 to 1 × 10 6 Pa at a frequency of 1 Hz at −10 ° C. and a loss elastic modulus of 1 × 10 3 to 3 × 10 5 Pa. The storage elastic modulus of the second adhesive layer at a frequency of 1 Hz at 25 ° C. is in the range of 1 × 10 4 to 1 × 10 6 Pa, and the loss elastic modulus is 1 × 10 4 to 3 ×. An optical filter in the range of 10 6 Pa;
It is in.

上記第1の粘着層における貯蔵弾性率(動的貯蔵弾性率)は、上記範囲の下限未満であると、粘着層が柔らか過ぎてフィルタの表面硬度が低下すると共に、変形に対する応力が小さくなりすぎて復元力が不足し、また誤って貼付した際、剥離が困難で取り扱い性に劣り、一方上記範囲の上限超過であると、硬すぎて変形に対する応力が大きくなりすぎて粘着層の衝撃に対する緩和性能が不足する。また、損失弾性率(動的損失弾性率)についても同様なことが言える。さらに、第2の粘着層については、その貯蔵弾性率は、上記範囲の下限未満であると、粘着層が柔らか過ぎて変形に対する応力が小さくなりすぎて復元力が不足し、また誤って貼付した際、剥離が困難で取り扱い性に劣り、一方上記範囲の上限超過であると、硬すぎて変形に対する応力が大きくなりすぎて粘着層の衝撃に対する緩和性能が不足する。また、損失弾性率についても同様なことが言える。   When the storage elastic modulus (dynamic storage elastic modulus) in the first adhesive layer is less than the lower limit of the above range, the adhesive layer is too soft and the filter surface hardness decreases, and the stress for deformation becomes too small. Insufficient restoring force, and when applied by mistake, it is difficult to peel off and inferior in handling properties. On the other hand, if it exceeds the upper limit of the above range, it is too hard and the stress for deformation becomes too large, and the adhesive layer is less susceptible to impact. Insufficient performance. The same can be said for the loss elastic modulus (dynamic loss elastic modulus). Furthermore, for the second adhesive layer, if the storage elastic modulus is less than the lower limit of the above range, the adhesive layer is too soft, the stress for deformation becomes too small, the restoring force is insufficient, and it is pasted by mistake. At this time, peeling is difficult and the handling property is inferior. On the other hand, if it exceeds the upper limit of the above range, it is too hard and stress for deformation becomes too large, and the relaxation performance against the impact of the adhesive layer is insufficient. The same applies to the loss modulus.

本発明における、貯蔵弾性率及び損失弾性率は、粘弾性測定装置としてRDA3(レオメトリック・サイエンティフィック社製)を用い、φ=8mmの平行円盤形治具にて、測定厚さ1.0mmで、−60〜100℃の温度分散範囲、昇温速度2℃/分、周波数1Hzにおいて測定したものである。   In the present invention, the storage elastic modulus and the loss elastic modulus are measured using a RDA3 (manufactured by Rheometric Scientific Co.) as a viscoelasticity measuring device, and a measurement thickness of 1.0 mm with a parallel disk-shaped jig of φ = 8 mm. And measured at a temperature dispersion range of −60 to 100 ° C., a heating rate of 2 ° C./min, and a frequency of 1 Hz.

本発明の光学フィルタ(一般に光学フィルム)の好適態様は以下の通りである。
(1)機能性層を有する第1の透明フィルムと第2の粘着層との間に、第3の粘着層及び機能性層を有していても良い第3の透明フィルムが、第3の粘着層が第1の透明フィルムと接触し、その上に第3の透明フィルムが位置するように、設けられており、
第3の粘着層の、25℃での周波数1Hzにおける貯蔵弾性率が1×104〜1×106Paの範囲にあり、且つ損失弾性率が1×104〜3×106Paの範囲にある。
Preferred embodiments of the optical filter (generally an optical film) of the present invention are as follows.
(1) A third transparent film that may have a third adhesive layer and a functional layer between the first transparent film having a functional layer and the second adhesive layer is a third transparent film. The adhesive layer is provided in contact with the first transparent film, and the third transparent film is positioned thereon,
The third adhesive layer has a storage elastic modulus in the range of 1 × 10 4 to 1 × 10 6 Pa at a frequency of 1 Hz at 25 ° C. and a loss elastic modulus in the range of 1 × 10 4 to 3 × 10 6 Pa. It is in.

第3の粘着層及び機能性層を有していても良い第3の透明フィルムを設けることにより、耐衝撃性に及び表面硬度の特性がさらに向上する。
(2)第1の粘着層の、−10℃での周波数1Hzにおける貯蔵弾性率が1×104〜1×105Paの範囲にあり、且つ動的損失弾性率が5×103〜1×105Paの範囲にある。耐衝撃性に及び表面硬度の特性がさらに向上する。
(3)第2の粘着層の、25℃での周波数1Hzにおける貯蔵弾性率が5×104〜5×105Paの範囲にあり、且つ損失弾性率が5×104〜5×105Paの範囲にある。耐衝撃性に及び表面硬度の特性がさらに向上する。
(4)第3の粘着層の、25℃での周波数1Hzにおける貯蔵弾性率が5×104〜5×105Paの範囲にあり、且つ損失弾性率が5×104〜5×105Paの範囲にある。耐衝撃性に及び表面硬度の特性がさらに向上する。
(5)第2の粘着層の貯蔵弾性率の値が、第1の粘着層の貯蔵弾性率の値より大きいか、或いは同じか又は小さい場合でも9×103Pa以下の範囲で小さく、且つ第2の粘着層の損失弾性率の値が、第1の粘着層の損失弾性率の値より大きいか、或いは同じか又は小さい場合でも5×103Pa以下の範囲で小さい。これにより耐衝撃性に及び表面硬度の特性がさらに向上する。
また、第3の粘着層の貯蔵弾性率の値が、第1の粘着層の貯蔵弾性率の値より大きいか、或いは同じか又は小さい場合でも9×103Pa以下の範囲で小さく、且つ第3の粘着層の損失弾性率の値が、第1の粘着層の損失弾性率の値より大きいか、或いは同じか又は小さい場合でも5×103Pa以下の範囲で小さい。これにより耐衝撃性に及び表面硬度の特性がさらに向上する。
(6)第1の機能層は、一般に導電層、反射防止膜(一般にハードコート層を含む)、又は近赤外線遮蔽層であるが、導電層であることが好ましい。
By providing a third transparent film which may have a third adhesive layer and a functional layer, the impact resistance and surface hardness characteristics are further improved.
(2) The storage modulus of the first adhesive layer at a frequency of 1 Hz at −10 ° C. is in the range of 1 × 10 4 to 1 × 10 5 Pa and the dynamic loss modulus is 5 × 10 3 to 1 It is in the range of × 10 5 Pa. The impact resistance and surface hardness characteristics are further improved.
(3) The storage elastic modulus of the second adhesive layer at a frequency of 1 Hz at 25 ° C. is in the range of 5 × 10 4 to 5 × 10 5 Pa, and the loss elastic modulus is 5 × 10 4 to 5 × 10 5. It is in the range of Pa. The impact resistance and surface hardness characteristics are further improved.
(4) The storage elastic modulus of the third adhesive layer at a frequency of 1 Hz at 25 ° C. is in the range of 5 × 10 4 to 5 × 10 5 Pa, and the loss elastic modulus is 5 × 10 4 to 5 × 10 5. It is in the range of Pa. The impact resistance and surface hardness characteristics are further improved.
(5) The value of the storage elastic modulus of the second adhesive layer is larger than the value of the storage elastic modulus of the first adhesive layer, or even when it is the same or smaller, it is small in the range of 9 × 10 3 Pa or less, and Even when the value of the loss elastic modulus of the second adhesive layer is greater than, equal to or smaller than the value of the loss elastic modulus of the first adhesive layer, it is small in the range of 5 × 10 3 Pa or less. This further improves the impact resistance and surface hardness characteristics.
Further, even when the storage elastic modulus value of the third adhesive layer is larger than, equal to, or smaller than the storage elastic modulus value of the first adhesive layer, it is small in the range of 9 × 10 3 Pa or less, and The loss elastic modulus value of the adhesive layer 3 is smaller than the value of the loss elastic modulus value of the first adhesive layer, or even when it is the same or smaller, it is small in the range of 5 × 10 3 Pa or less. This further improves the impact resistance and surface hardness characteristics.
(6) The first functional layer is generally a conductive layer, an antireflection film (generally including a hard coat layer), or a near-infrared shielding layer, and is preferably a conductive layer.

また、第2の機能層は、一般に導電層、反射防止膜(一般にハードコート層を含む)、又は近赤外線遮蔽層であるが、第2の機能層が反射防止膜であることが好ましい。
(7)第1の透明フィルムの機能性層と第2の粘着層が接している。第1の透明フィルムの機能性層がメッシュ状の金属層の場合、メッシュの間隙に第1の粘着層を埋め込むことができる。
(8)第3の透明フィルムを有する場合、第1の透明フィルムの機能性層と第3の粘着層が接している。
(9)粘着層が、アクリル樹脂からなる。
(10)アクリル樹脂を構成するモノマーとして、少なくともアルキルアクリレート(但し、アルキル基の炭素原子数が4〜10個である)とアクリル酸とを含んでいる。アクリル樹脂を構成するモノマーとして、少なくとも2−エチルヘキシルアクリレートとアクリル酸とを含んでいることが好ましい。アクリル樹脂を構成するモノマーとして、さらにトリメチロールプロパントリアクリレートを含んでいる。アクリル樹脂を構成するモノマーとして、さらにメタクリル酸2−ヒドロキシルエチル又はN−メチロールアクリルアミドを含んでいる。特に、第1の粘着層に使用されるアクリル樹脂を構成するモノマーとして、さらにトリメチロールプロパントリアクリレートを含んでいることが好ましく、及び/またはアルコキシ−ポリアルキレングリコール(メタ)アクリレート及び水酸基含有(メタ)アクリレートを含むことが好ましい。また、第2又は第3の粘着層に使用されるアクリル樹脂を構成するモノマーとして、さらにメタクリル酸2−ヒドロキシルエチル又はN−メチロールアクリルアミドを含んでいることが好ましい。
The second functional layer is generally a conductive layer, an antireflection film (generally including a hard coat layer), or a near-infrared shielding layer, but the second functional layer is preferably an antireflection film.
(7) The functional layer of the first transparent film is in contact with the second adhesive layer. When the functional layer of the first transparent film is a mesh-like metal layer, the first adhesive layer can be embedded in the mesh gap.
(8) When it has a 3rd transparent film, the functional layer of the 1st transparent film and the 3rd adhesion layer have touched.
(9) The adhesive layer is made of an acrylic resin.
(10) The monomer constituting the acrylic resin contains at least alkyl acrylate (however, the alkyl group has 4 to 10 carbon atoms) and acrylic acid. It is preferable that at least 2-ethylhexyl acrylate and acrylic acid are contained as a monomer constituting the acrylic resin. As a monomer constituting the acrylic resin, trimethylolpropane triacrylate is further included. As a monomer constituting the acrylic resin, 2-hydroxylethyl methacrylate or N-methylolacrylamide is further included. In particular, it is preferable that trimethylolpropane triacrylate is further included as a monomer constituting the acrylic resin used in the first adhesive layer, and / or alkoxy-polyalkylene glycol (meth) acrylate and hydroxyl group-containing (meta ) It is preferable to contain an acrylate. Moreover, it is preferable that 2-hydroxylethyl methacrylate or N-methylol acrylamide is further included as a monomer which comprises the acrylic resin used for the 2nd or 3rd adhesion layer.

このようなアクリル樹脂を使用することにより、前記特定の貯蔵弾性率及び損失弾性率を有する樹脂を設計しやすい。また、これにより衝撃を吸収し、且つ衝撃による変形から容易に変形前の形に戻りやすい。
(11)粘着層が、アルキルアクリレート(但し、アルキル基の炭素原子数が4〜10個である)とアクリル酸とを含むモノマー混合物が部分的に重合された部分重合体・モノマー混合物を硬化させた層である。
(12)第1の粘着層の層厚が、0.05〜1.0mmの範囲にあり、第2及び第3の粘着層の層厚が、0.005〜0.1mmの範囲にある。優れた耐衝撃性に及び表面硬度が得られやすい。
(13)機能性層を有していても良い第3の透明フィルムの機能性層が近赤外線遮蔽層である。
(14)第1の粘着層の第1の透明フィルムと接していない表面に、近赤外線遮蔽層を有する透明フィルムが設けられている。一般に、この透明フィルム上にさらに粘着層が設けられる。
(15)反射防止膜が、近赤外線遮蔽機能を有する。一般に、反射防止膜を構成する少なくとも1層に色素等の近赤外線を吸収する物質を導入する。
(16)本発明の光学フィルタをPDP用として使用する場合、導電層が、電磁波遮蔽機能を有することが必要である。
(17)導電層が、メッシュ状の金属層又は金属含有層である。PDP用として有利である。
(18)メッシュ状の金属層のメッシュの間隙には第1の粘着層が埋め込まれている。
(19)透明基板がプラスチックフィルム、特にポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム)である。長尺状透明フィルムを用いることにより連続製造が容易となる。
(20)透明粘着剤層の上に剥離シートが設けられている。取り扱いが容易となる。
(21)反射防止膜の上に保護層(例、保護用ポリマーフィルム)が設けられている。取り扱いが容易となる。
(22)光線透過率が50%以上(好ましくは70%以上)である。ディスプレイの画像が見やすい。
(23)メッシュ状の金属層又は金属含有層は、エッチングにより、又は印刷法により形成されているか、金属繊維層である。低抵抗を得られやすい。
(24)導電層が、塗工層である。導電層の形成が容易である。
By using such an acrylic resin, it is easy to design a resin having the specific storage elastic modulus and loss elastic modulus. Further, this absorbs the impact and easily returns to the shape before the deformation from the deformation due to the impact.
(11) The adhesive layer cures a partial polymer / monomer mixture obtained by partially polymerizing a monomer mixture containing alkyl acrylate (wherein the alkyl group has 4 to 10 carbon atoms) and acrylic acid. Layer.
(12) The layer thickness of the first adhesive layer is in the range of 0.05 to 1.0 mm, and the layer thicknesses of the second and third adhesive layers are in the range of 0.005 to 0.1 mm. Excellent impact resistance and surface hardness are easily obtained.
(13) The functional layer of the third transparent film which may have a functional layer is a near-infrared shielding layer.
(14) The transparent film which has a near-infrared shielding layer is provided in the surface which is not in contact with the 1st transparent film of a 1st adhesion layer. Generally, an adhesive layer is further provided on this transparent film.
(15) The antireflection film has a near-infrared shielding function. Generally, a substance that absorbs near-infrared rays such as a dye is introduced into at least one layer constituting the antireflection film.
(16) When the optical filter of the present invention is used for PDP, it is necessary that the conductive layer has an electromagnetic wave shielding function.
(17) The conductive layer is a mesh-like metal layer or a metal-containing layer. It is advantageous for PDP.
(18) The first adhesive layer is embedded in the mesh gap of the mesh-like metal layer.
(19) The transparent substrate is a plastic film, particularly a polyethylene terephthalate film (PET film). Continuous production becomes easy by using a long transparent film.
(20) A release sheet is provided on the transparent adhesive layer. Handling becomes easy.
(21) A protective layer (eg, protective polymer film) is provided on the antireflection film. Handling becomes easy.
(22) The light transmittance is 50% or more (preferably 70% or more). The image on the display is easy to see.
(23) The mesh-like metal layer or metal-containing layer is formed by etching or printing, or is a metal fiber layer. It is easy to obtain low resistance.
(24) The conductive layer is a coating layer. It is easy to form a conductive layer.

導電層が、ポリマー中に無機化合物の導電性粒子が分散された塗工層であることが好ましい。
(25)導電層が、導電性ポリマーの塗工層である。
(26)導電層が、ITO等の金属酸化物層の透明膜である。
(27)導電層が、誘電体層と金属層との交互積層膜である。特に、誘電体層/金属層/誘電体層/金属層/誘電体層の5層以上の積層体が好ましい。透明性、低抵抗性に優れている。
(28)反射防止膜が、少なくとも1層の塗工層を含む。製造が容易である。
(29)反射防止膜が、塗工形成されたハードコート層、及びその上に設けられたハードコート層より屈折率の高い塗工形成された高屈折率層を含む膜、特にハードコート層、塗工による高屈折率層及び塗工による低屈折率層を含む膜であることが好ましい。
The conductive layer is preferably a coating layer in which conductive particles of an inorganic compound are dispersed in a polymer.
(25) The conductive layer is a conductive polymer coating layer.
(26) The conductive layer is a transparent film of a metal oxide layer such as ITO.
(27) The conductive layer is an alternately laminated film of dielectric layers and metal layers. In particular, a laminate of 5 layers or more of dielectric layer / metal layer / dielectric layer / metal layer / dielectric layer is preferable. Excellent transparency and low resistance.
(28) The antireflection film includes at least one coating layer. Easy to manufacture.
(29) A film comprising an antireflection film, a hard coat layer formed by coating, and a high refractive index layer formed by coating having a higher refractive index than the hard coat layer provided thereon, particularly a hard coat layer, A film including a high refractive index layer by coating and a low refractive index layer by coating is preferable.

本発明の光学フィルタは、プラズマディスプレイパネル用フィルタであることが好ましい。   The optical filter of the present invention is preferably a plasma display panel filter.

上記光学フィルタの好適態様を、上記粘着層にも適用することができる。   The suitable aspect of the said optical filter is applicable also to the said adhesion layer.

さらに、本発明は、上記光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするディスプレイにもある。   Furthermore, the present invention also provides a display in which the optical filter is bonded to the surface of an image display glass plate.

さらにまた、本発明は、光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするプラズマディスプレイパネルにもある。   Furthermore, the present invention is also a plasma display panel characterized in that an optical filter is bonded to the surface of an image display glass plate.

本発明の光学フィルタは、ディスプレイの反射防止、帯電防止、電磁波遮蔽に優れたフィルタであって、且つ高い表面硬度を維持しながら耐衝撃性においても優れたものである。即ち、本発明の光学フィルタは少なくとも2層の粘着層及び2枚の透明フィルムを備えており、その2層の粘着層のうち、第1の粘着層の、−10℃での周波数1Hzにおける貯蔵弾性率が1×103〜1×106Paの範囲で、損失弾性率が1×103〜3×105Paの範囲にあり、そして第2の粘着層の、25℃での周波数1Hzにおける貯蔵弾性率が1×104〜1×106Paの範囲で、損失弾性率が1×104〜3×106Paの範囲にあり、これにより日常的に発生する比較的大きな衝撃に対して緩和作用を示して、ディスプレイの表示画面であるガラス板を損傷することがほとんど無く、また光学フィルタ表面の鉛筆硬度が向上して、PDPの使用中においてフィルタ表面に傷が付き難いので、画像の表示特性が低下することはほとんど無い。また、衝撃緩和作用と高い表面硬度を併せ持っているため、光学フィルタのディスプレイへの貼付を誤った位置に行っても、容易に剥離して、再貼付することができ、取扱い性にも優れている。 The optical filter of the present invention is a filter excellent in antireflection, antistatic and electromagnetic wave shielding of a display, and excellent in impact resistance while maintaining high surface hardness. That is, the optical filter of the present invention includes at least two adhesive layers and two transparent films, and of the two adhesive layers, the first adhesive layer is stored at a frequency of −10 ° C. at a frequency of 1 Hz. The elastic modulus is in the range of 1 × 10 3 to 1 × 10 6 Pa, the loss elastic modulus is in the range of 1 × 10 3 to 3 × 10 5 Pa, and the frequency of the second adhesive layer at 25 ° C. is 1 Hz. The storage elastic modulus is in the range of 1 × 10 4 to 1 × 10 6 Pa and the loss elastic modulus is in the range of 1 × 10 4 to 3 × 10 6 Pa. On the other hand, it shows a relaxation effect, hardly damages the glass plate which is the display screen of the display, and the pencil hardness of the optical filter surface is improved, so that the filter surface is hardly damaged during use of the PDP. The display characteristics of the image will not deteriorate. There is not much. In addition, because it has both impact mitigating action and high surface hardness, it can be easily peeled off and re-applied even if the optical filter is attached to the display in the wrong position, and it is easy to handle. Yes.

さらに、特に、導電層としてメッシュ状の金属層を用いた場合、金属層が設けられたフィルム表面が粗面となっているため、この粗面の凹凸を完全に埋めることが光学フィルタ全体の透明性を向上させる必要であるが、本発明の粘着層は適度な柔軟性を有するため、その透明化樹脂層の機能もかねることができる。   Furthermore, especially when a mesh-like metal layer is used as the conductive layer, the film surface provided with the metal layer is a rough surface. However, since the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention has appropriate flexibility, it can also function as the transparent resin layer.

本発明の反射防止、帯電防止、電磁波遮蔽に優れ、さらに耐衝撃性及び表面硬度においても向上した光学フィルタについて、以下に詳細に説明する。本発明は、反射防止膜、導電層等の機能性層を有する透明フィルム2枚と、それぞれの粘着層が少なくとも積層された光学フィルタである。   The optical filter excellent in antireflection, antistatic and electromagnetic wave shielding of the present invention and further improved in impact resistance and surface hardness will be described in detail below. The present invention is an optical filter in which two transparent films having functional layers such as an antireflection film and a conductive layer and at least each adhesive layer are laminated.

本発明の光学フィルタの基本構成を示す1例の概略断面図を図1に示す。図1において、第1の透明フィルム11Aの一方の表面に機能性層として導電層12が設けられ、他方の表面に第1の粘着層13Aが設けられており、導電層12上には第2の粘着層13Bを介して第2の透明フィルム11B、その表面には機能性層として反射防止膜14が設けられている。機能性層は、導電層、反射防止膜(ハードコート層のみでも良い)、又は近赤外線遮蔽層等とすることもできるが、図1に示した構成とすることが好ましい。第1と第2の透明フィルムに設けられた機能性層が共に同一の機能性層であっても良い。ディスプレイ本体の表示ガラス表面にこの光学フィルタを貼付する場合は、第1の粘着層13Aをガラス表面に対向させて、この粘着剤により接着される。別途、別の粘着剤を用いても良い。また第1の粘着層13A上に剥離シートを設けても良い。   FIG. 1 shows a schematic sectional view of an example showing the basic configuration of the optical filter of the present invention. In FIG. 1, a conductive layer 12 is provided as a functional layer on one surface of the first transparent film 11A, and a first adhesive layer 13A is provided on the other surface. The antireflection film 14 is provided as a functional layer on the surface of the second transparent film 11B through the adhesive layer 13B. The functional layer may be a conductive layer, an antireflection film (only a hard coat layer may be used), a near-infrared shielding layer, or the like, but preferably has the configuration shown in FIG. Both functional layers provided on the first and second transparent films may be the same functional layer. When this optical filter is applied to the display glass surface of the display body, the first adhesive layer 13A is opposed to the glass surface and is adhered by this adhesive. Separately, another pressure-sensitive adhesive may be used. A release sheet may be provided on the first adhesive layer 13A.

反射防止膜14は、一般に基板より屈折率の低いハードコート層とその上に設けられた低屈折率層との複合膜であるか、或いは高屈折率層上にさらに低屈折率層が設けられた複合膜である。反射防止膜14は基板である透明フィルムより屈折率の高いハードコート層のみであっても、或いは低屈折率層のみであっても有効である。このような反射防止膜14を構成する層は、いずれも塗工により形成されていることが、生産性、経済性の観点から好ましい。光学フィルタがPDP用の場合は、反射防止膜は、近赤外線遮蔽機能を有することが好ましい。   The antireflection film 14 is generally a composite film of a hard coat layer having a refractive index lower than that of the substrate and a low refractive index layer provided thereon, or a low refractive index layer is further provided on the high refractive index layer. Composite film. The antireflection film 14 is effective even if only a hard coat layer having a higher refractive index than that of a transparent film as a substrate or only a low refractive index layer. It is preferable from the viewpoint of productivity and economy that all of the layers constituting the antireflection film 14 are formed by coating. When the optical filter is for PDP, the antireflection film preferably has a near infrared shielding function.

導電層12は、例えば、メッシュ状の金属層又は金属含有層、又は塗工層、或いは金属酸化物層(誘電体層)、又は金属酸化物層と金属層との交互積層膜である。メッシュ状の金属層又は金属含有層は、一般に、エッチングにより、又は印刷法により形成されているか、金属繊維層である。これにより低抵抗値を得られやすい。メッシュ状の金属層又は金属含有層のメッシュの空隙が、一般に透明樹脂で埋められているが、本発明では粘着層で埋めらていることが好ましい。これにより透明性が向上する。導電層が、塗工層、例えば、ポリマー中に無機化合物の導電性粒子が分散された塗工層、或いは導電性ポリマーの塗工層であることが好ましい。これにより生産性、経済性は向上する。   The conductive layer 12 is, for example, a mesh-like metal layer or metal-containing layer, a coating layer, a metal oxide layer (dielectric layer), or an alternately laminated film of metal oxide layers and metal layers. The mesh-like metal layer or metal-containing layer is generally formed by etching or printing, or is a metal fiber layer. This makes it easy to obtain a low resistance value. The mesh gap of the mesh-like metal layer or metal-containing layer is generally filled with a transparent resin, but in the present invention, it is preferably filled with an adhesive layer. This improves transparency. The conductive layer is preferably a coating layer, for example, a coating layer in which conductive particles of an inorganic compound are dispersed in a polymer, or a coating layer of a conductive polymer. This improves productivity and economy.

本発明では、第1の粘着層13Aの、−10℃での周波数1Hzにおける貯蔵弾性率が1×103〜1×106Paの範囲(特に1×104〜1×105Paの範囲)にあり、且つ動的損失弾性率が1×103〜3×105Paの範囲(特に5×103〜1×105Paの範囲)にあり、そして第2の粘着層13Bの、25℃での周波数1Hzにおける貯蔵弾性率が1×104〜1×106Paの範囲(特に5×104〜5×105Paの範囲)にあり、且つ損失弾性率が1×104〜3×106Paの範囲(特に5×104〜5×105Paの範囲)にあることが必要である。上記第1の粘着層における(動的)貯蔵弾性率は、上記範囲の下限未満であると、粘着層が柔らか過ぎてフィルタの表面硬度が低下すると共に、変形に対する応力が小さくなりすぎて復元力が不足し、また誤って貼付した際、剥離が困難で取り扱い性に劣り、一方上記範囲の上限超過であると、硬すぎて変形に対する応力が大きくなりすぎて粘着層の衝撃に対する緩和性能が不足する。また、(動的)損失弾性率についても同様なことが言える。さらに、第2の粘着層については、その(動的)貯蔵弾性率は、上記範囲の下限未満であると、粘着層が柔らか過ぎて変形に対する応力が小さくなりすぎて復元力が不足し、また誤って貼付した際、剥離が困難で取り扱い性に劣り、一方上記範囲の上限超過であると、硬すぎて変形に対する応力が大きくなりすぎて粘着層の衝撃に対する緩和性能が不足する。また、(動的)損失弾性率についても同様なことが言える。 In the present invention, the storage modulus of the first adhesive layer 13A at a frequency of 1 Hz at -10 ° C is in the range of 1 × 10 3 to 1 × 10 6 Pa (particularly in the range of 1 × 10 4 to 1 × 10 5 Pa). And the dynamic loss modulus is in the range of 1 × 10 3 to 3 × 10 5 Pa (particularly in the range of 5 × 10 3 to 1 × 10 5 Pa), and the second adhesive layer 13B has The storage elastic modulus at a frequency of 1 Hz at 25 ° C. is in the range of 1 × 10 4 to 1 × 10 6 Pa (particularly in the range of 5 × 10 4 to 5 × 10 5 Pa), and the loss elastic modulus is 1 × 10 4. It is necessary to be in a range of ˜3 × 10 6 Pa (particularly in a range of 5 × 10 4 to 5 × 10 5 Pa). If the (dynamic) storage elastic modulus in the first adhesive layer is less than the lower limit of the above range, the adhesive layer is too soft and the surface hardness of the filter is lowered, and the stress for deformation becomes too small and the restoring force is too small. When it is affixed incorrectly, it is difficult to peel off and inferior in handling properties. On the other hand, if it exceeds the upper limit of the above range, it is too hard and the stress for deformation becomes too large, and the relaxation performance against the impact of the adhesive layer is insufficient To do. The same is true for the (dynamic) loss modulus. Further, for the second adhesive layer, if the (dynamic) storage elastic modulus is less than the lower limit of the above range, the adhesive layer is too soft, the stress for deformation becomes too small, and the restoring force is insufficient. When affixed by mistake, it is difficult to peel off and inferior in handleability. On the other hand, if it exceeds the upper limit of the above range, it is too hard and the stress for deformation becomes too large and the relaxation performance against the impact of the adhesive layer is insufficient. The same is true for the (dynamic) loss modulus.

本発明では、粘着層の衝撃吸収能力の評価は、前記の図8に示す方法で行った。即ち、JISC−60068−2−75(環境試験方法−電気・電子−第2−75部:ハンマ試験)で規定されているスプリングハンマ衝撃試験により評価されている。   In the present invention, the impact absorbing ability of the adhesive layer was evaluated by the method shown in FIG. That is, it is evaluated by a spring hammer impact test defined by JISC-60068-2-75 (Environmental Test Method-Electric / Electronic-Part 2-75: Hammer Test).

粘着層が、アクリル樹脂からなる層であることが好ましい。第1の粘着層の層厚が、0.05〜1.0mmの範囲、さらに0.1〜0.5mmの範囲にあることが好ましい。第2の粘着層の層厚が、0.005〜0.1mmの範囲、さらに0.01〜0.05mmの範囲にあることが好ましい。これにより優れた耐衝撃性が得られやすい。   The adhesive layer is preferably a layer made of an acrylic resin. The thickness of the first adhesive layer is preferably in the range of 0.05 to 1.0 mm, more preferably in the range of 0.1 to 0.5 mm. The layer thickness of the second adhesive layer is preferably in the range of 0.005 to 0.1 mm, more preferably in the range of 0.01 to 0.05 mm. Thereby, it is easy to obtain excellent impact resistance.

本発明の光学フィルタは、通常の反射防止フィルムにおいては、表面抵抗値が108Ω/□以下、好ましくは102〜108Ω/□の範囲、特に102〜105Ω/□の範囲であることが好ましく、特に金属メッシュを用いた電磁波遮蔽用フィルムにおいては、一般に10Ω/□以下、好ましくは0.01〜5Ω/□の範囲、特に0.005〜5Ω/□の範囲が好ましい。それぞれの範囲において、帯電防止或いは電磁波の遮断の効果が得られやすい。 In the ordinary antireflection film, the optical filter of the present invention has a surface resistance value of 10 8 Ω / □ or less, preferably in the range of 10 2 to 10 8 Ω / □, particularly in the range of 10 2 to 10 5 Ω / □. In particular, in an electromagnetic wave shielding film using a metal mesh, it is generally 10Ω / □ or less, preferably 0.01 to 5Ω / □, particularly 0.005 to 5Ω / □. In each range, the effect of preventing charging or shielding electromagnetic waves is easily obtained.

本発明の光学フィルタは、ディスプレイの反射防止、帯電防止、所望により電磁波遮蔽に優れたフィルムであって、且つ耐衝撃性に優れたものである。即ち、本発明の光学フィルタは図1に示すように、少なくとも2層の粘着層を備えており、これらの粘着層は、上記のように、特定の範囲の貯蔵弾性率及び損失弾性率を有している。これにより衝撃に対してもディスプレイの表示画面であるガラス板を損傷することがほとんど無く、且つ表面の耐傷性等にも優れている。   The optical filter of the present invention is a film excellent in antireflection, antistatic, and electromagnetic wave shielding if desired, and excellent in impact resistance. That is, the optical filter of the present invention includes at least two adhesive layers as shown in FIG. 1, and these adhesive layers have storage elastic modulus and loss elastic modulus in a specific range as described above. is doing. As a result, the glass plate which is the display screen of the display is hardly damaged even by an impact, and the surface has excellent scratch resistance.

さらに、特に、導電層としてメッシュ状の金属層を用いた場合、金属層が設けられたフィルム表面が粗面となっているため、この粗面の凹凸を完全に埋めることが光学フィルタ全体の透明性を向上させる必要であるが、本発明の粘着層は適度な柔軟性を有するため、その透明化樹脂層の機能もかねることができる。   Furthermore, especially when a mesh-like metal layer is used as the conductive layer, the film surface provided with the metal layer is a rough surface. However, since the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention has appropriate flexibility, it can also function as the transparent resin layer.

本発明では、たとえば、反射防止膜を有する透明フィルム及び導電層を有する透明フィルムをそれぞれ製造し、これらを粘着層を介して接着し、これと同時に又は別に、透明フィルムの導電層が設けられていない表面に粘着層を形成することにより光学フィルタを得ることができる。従って、本発明の光学フィルタを枚葉で製造することも、長尺状の透明フィルムを用いて積層し、適当な寸法に裁断することにより、連続的に多数の光学フィルタを製造することもできる。従って、本発明の光学フィルタは、製造が容易で、生産性に優れたものであるということもできる。   In the present invention, for example, a transparent film having an antireflection film and a transparent film having a conductive layer are produced, and these are bonded via an adhesive layer, and at the same time or separately, a conductive layer of the transparent film is provided. An optical filter can be obtained by forming an adhesive layer on an unexposed surface. Therefore, the optical filter of the present invention can be manufactured as a single sheet, or a large number of optical filters can be manufactured continuously by laminating using a long transparent film and cutting to an appropriate size. . Therefore, it can be said that the optical filter of the present invention is easy to manufacture and excellent in productivity.

本発明の光学フィルタにおける、好ましい態様の1例の概略断面図を図2に示す。図1における導電層が、PDP用に好適な光学フィルタとするには、メッシュ状の金属層又は金属含有層であることが好ましい。図2にPDP用の光学フィルタとして好ましい態様が示されている。図2において、第1の透明フィルム21Aの一方の表面に機能性層としてメッシュ状の金属の導電層22が設けられ、他方の表面に第1の粘着層23Aが設けられており、導電層22上には第2の粘着層23Bを介して第2の透明フィルム21B、その表面には機能性層として反射防止膜24が設けられている。   FIG. 2 shows a schematic cross-sectional view of an example of a preferred embodiment in the optical filter of the present invention. In order for the conductive layer in FIG. 1 to be an optical filter suitable for PDP, it is preferably a mesh-like metal layer or metal-containing layer. FIG. 2 shows a preferred embodiment as an optical filter for PDP. In FIG. 2, a mesh-like metal conductive layer 22 is provided as a functional layer on one surface of the first transparent film 21A, and a first adhesive layer 23A is provided on the other surface. A second transparent film 21B is provided above the second adhesive layer 23B, and an antireflection film 24 is provided on the surface as a functional layer.

導電層22は、ここではメッシュ状の金属層で、そのメッシュ間隙は第2の粘着層23Bにより埋められている。ディスプレイ本体の表示ガラス表面にこの光学フィルタを貼付する場合は、一般に第1の粘着層23Aをガラス表面に対向させて、接着される。   Here, the conductive layer 22 is a mesh-like metal layer, and the mesh gap is filled with the second adhesive layer 23B. When this optical filter is attached to the display glass surface of the display body, the first adhesive layer 23A is generally opposed to the glass surface and bonded.

光学フィルタがPDP用の場合は、反射防止膜は、近赤外線遮蔽機能を有することが好ましい。   When the optical filter is for PDP, the antireflection film preferably has a near infrared shielding function.

図1又は図2において、近赤外線遮蔽層又は近赤外線遮蔽フィルムを別に設ける場合、図3に示す態様をとることが好ましい。図3において、第1の透明フィルム31Aの一方の表面に機能性層として導電層32が設けられ、他方の表面に第1の粘着層33Aが設けられており、導電層22上には第2の粘着層33Bを介して第2の透明フィルム21B、その表面には機能性層として反射防止膜24が設けられている。そして、第1の粘着層33Aの上に近赤外線遮蔽層又は近赤外線遮蔽フィルム35が設けられ、さらにその上に粘着層33cが設けられている。近赤外線遮蔽フィルムは、近赤外線遮蔽機能を有するフィルムで、フィルム自体がその機能を有するものでも、透明フィルム上に近赤外線遮蔽層が設けられたものでも良い。ディスプレイ本体の表示ガラス表面にこの光学フィルタを貼付する場合は、一般に粘着層33cをガラス表面に対向させて接着される。   In FIG. 1 or FIG. 2, when providing a near-infrared shielding layer or a near-infrared shielding film separately, it is preferable to take the aspect shown in FIG. In FIG. 3, a conductive layer 32 is provided as a functional layer on one surface of the first transparent film 31 </ b> A, a first adhesive layer 33 </ b> A is provided on the other surface, and a second layer is formed on the conductive layer 22. The antireflection film 24 is provided as a functional layer on the surface of the second transparent film 21B through the adhesive layer 33B. And the near-infrared shielding layer or the near-infrared shielding film 35 is provided on the 1st adhesion layer 33A, Furthermore, the adhesion layer 33c is provided on it. The near-infrared shielding film is a film having a near-infrared shielding function, and the film itself may have the function, or the near-infrared shielding layer may be provided on the transparent film. When this optical filter is affixed to the display glass surface of the display body, the adhesive layer 33c is generally adhered to the glass surface so as to oppose it.

次に、本発明の光学フィルタの別の基本構成を示す1例の概略断面図を図4に示す。図4の光学フィルタは、図1の光学フィルタの第1の透明フィルムの機能層、即ち導電層12と、第2の粘着層13Bとの間に、第3の粘着層及び第3の透明フィルムの積層体を挿入した構成を有する。さらに粘着層及び透明フィルムが挿入されたことにより、衝撃緩和性が向上する。   Next, FIG. 4 shows a schematic sectional view of an example showing another basic configuration of the optical filter of the present invention. The optical filter of FIG. 4 includes a third adhesive layer and a third transparent film between the functional layer of the first transparent film of the optical filter of FIG. 1, that is, between the conductive layer 12 and the second adhesive layer 13B. The laminated body is inserted. Furthermore, the impact relaxation property is improved by inserting the adhesive layer and the transparent film.

図4において、第1の透明フィルム41Aの一方の表面に機能性層として導電層42が設けられ、他方の表面に第1の粘着層43Aが設けられており、導電層42上には第3の粘着層43Cを介して第3の透明フィルム41Cが設けられており、第3の透明フィルム41C上にさらに第2の粘着層43Bを介して第2の透明フィルム41Bが設けられ、その表面には機能性層として反射防止膜44が設けられている。機能性層は、導電層、反射防止膜(一般にハードコート層を含む)、又は近赤外線遮蔽層等とすることもできるが、図4に示した構成とすることが好ましい。ディスプレイ本体の表示ガラス表面にこの光学フィルタを貼付する場合は、第1の粘着層43Aをガラス表面に対向させて、この粘着剤により接着される。第1の粘着層43A上に剥離シートを設けても良い。   In FIG. 4, a conductive layer 42 is provided as a functional layer on one surface of the first transparent film 41 </ b> A, a first adhesive layer 43 </ b> A is provided on the other surface, and a third layer is formed on the conductive layer 42. The third transparent film 41C is provided via the adhesive layer 43C, and the second transparent film 41B is provided on the third transparent film 41C via the second adhesive layer 43B. Is provided with an antireflection film 44 as a functional layer. The functional layer can be a conductive layer, an antireflection film (generally including a hard coat layer), a near-infrared shielding layer, or the like, but preferably has the configuration shown in FIG. When this optical filter is affixed to the display glass surface of the display body, the first adhesive layer 43A is opposed to the glass surface and is adhered by this adhesive. A release sheet may be provided on the first adhesive layer 43A.

本発明の上記光学フィルタにおける、好ましい態様の1例の概略断面図を図5に示す。図4における導電層が、PDP用に好適な光学フィルタとするには、メッシュ状の金属層又は金属含有層であることが好ましい。図5にPDP用の光学フィルタとして好ましい態様が示されている。図5において、第1の透明フィルム51Aの一方の表面に機能性層としてメッシュ状の金属の導電層52が設けられ、他方の表面に第1の粘着層53Aが設けられており、導電層52上には第3の粘着層53Cを介して第3の透明フィルム51Cが設けられており、第3の透明フィルム51C上にさらに第2の粘着層53Bを介して第2の透明フィルム51Bが設けられ、その表面には機能性層として反射防止膜54が設けられている。   FIG. 5 shows a schematic cross-sectional view of an example of a preferred embodiment in the optical filter of the present invention. In order for the conductive layer in FIG. 4 to be an optical filter suitable for PDP, it is preferably a mesh-like metal layer or metal-containing layer. FIG. 5 shows a preferred embodiment as an optical filter for PDP. In FIG. 5, a mesh-like metal conductive layer 52 is provided as a functional layer on one surface of the first transparent film 51A, and a first adhesive layer 53A is provided on the other surface. A third transparent film 51C is provided above the third adhesive film 53C via a third adhesive layer 53C, and a second transparent film 51B is further provided on the third transparent film 51C via a second adhesive layer 53B. An antireflection film 54 is provided on the surface as a functional layer.

導電層52は、ここではメッシュ状の金属層で、その間隙は第3の粘着層53Cにより埋められている。ディスプレイ本体の表示ガラス表面にこの光学フィルタを貼付する場合は、一般に第1の粘着層53Aをガラス表面に対向させて、接着される。   Here, the conductive layer 52 is a mesh-like metal layer, and the gap is filled with the third adhesive layer 53C. When this optical filter is pasted on the display glass surface of the display body, generally, the first adhesive layer 53A is opposed to the glass surface and bonded.

第1の粘着層53Aの上には、図3に示したように、近赤外線遮蔽層又はフィルムを設けても、さらにその上に粘着層を設けても良い。   As shown in FIG. 3, a near-infrared shielding layer or film may be provided on the first adhesive layer 53A, or an adhesive layer may be further provided thereon.

光学フィルタがPDP用の場合は、反射防止膜は、近赤外線遮蔽機能を有することが好ましい。   When the optical filter is for PDP, the antireflection film preferably has a near infrared shielding function.

本発明の上記光学フィルタにおける、別の好ましい態様の1例の概略断面図を図6に示す。図5における第3の透明フィルム51Cが、機能性層として近赤外線遮蔽層を有する場合の態様に相当する。図6において、第1の透明フィルム61Aの一方の表面に機能性層としてメッシュ状の金属の導電層62が設けられ、他方の表面に第1の粘着層63Aが設けられており、導電層62上には第3の粘着層63Cを介して第3の透明フィルム61Cが設けられており、第3の透明フィルム61C上には近赤外線遮蔽層65が設けられている。さらに近赤外線遮蔽層65上に第2の粘着層63Bを介して第2の透明フィルム61Bが設けられ、その表面には機能性層として反射防止膜64が設けられている。   FIG. 6 shows a schematic sectional view of an example of another preferred embodiment of the optical filter of the present invention. The third transparent film 51C in FIG. 5 corresponds to an aspect in the case of having a near-infrared shielding layer as a functional layer. In FIG. 6, a mesh-like metal conductive layer 62 is provided as a functional layer on one surface of the first transparent film 61 </ b> A, and a first adhesive layer 63 </ b> A is provided on the other surface. A third transparent film 61C is provided above the third adhesive layer 63C via a third adhesive film 63C, and a near-infrared shielding layer 65 is provided on the third transparent film 61C. Further, a second transparent film 61B is provided on the near-infrared shielding layer 65 via a second adhesive layer 63B, and an antireflection film 64 is provided on the surface as a functional layer.

近赤外線遮蔽層65の代わりに、これを設けずに第3の透明フィルム51C自体を近赤外線遮蔽機能を有するフィルム(例、近赤外線カットフィルム)を用いることもできる。ディスプレイ本体の表示ガラス表面にこの光学フィルタを貼付する場合は、一般に第1の粘着層63Aをガラス表面に対向させて、接着される。   Instead of the near-infrared shielding layer 65, a film (for example, a near-infrared cut film) having a near-infrared shielding function can be used for the third transparent film 51C itself without providing this. When this optical filter is applied to the display glass surface of the display main body, generally, the first adhesive layer 63A is opposed to the glass surface and bonded.

本発明の反射防止膜、導電層等は、塗工により形成されることが、生産性の観点からは有利である。特に、両者とも、紫外線硬化性樹脂を用いて、塗工、硬化を連続して行って形成することにより、高い生産性で反射防止フィルムを製造することができる。但し、導電層は、要求される性能に応じて、特にPDF用はメッシュ状の金属層等が用いられる場合が多い。上記塗工膜、塗工層は、一般に、矩形の透明基板(一般にフィルム又はシート)上、或いは連続フィルム上に形成することができる。矩形の透明基板の場合、各層はバッチ式で形成され、連続フィルム上に形成する場合は、各層を連続式、一般にロールトゥロール方式で形成される。本発明では、特に後者が好ましい。   From the viewpoint of productivity, it is advantageous that the antireflection film, the conductive layer and the like of the present invention are formed by coating. In particular, in both cases, an antireflection film can be produced with high productivity by forming by continuously performing coating and curing using an ultraviolet curable resin. However, as the conductive layer, a mesh-like metal layer or the like is often used particularly for PDF depending on the required performance. The coating film and coating layer can generally be formed on a rectangular transparent substrate (generally a film or sheet) or a continuous film. In the case of a rectangular transparent substrate, each layer is formed in a batch system, and when formed on a continuous film, each layer is formed in a continuous system, generally a roll-to-roll system. In the present invention, the latter is particularly preferable.

本発明のディスプレイ用に好適な光学フィルタに使用される材料について以下に説明する。   The material used for the optical filter suitable for the display of this invention is demonstrated below.

透明フィルムは、その材料としては、透明(「可視光に対して透明」を意味する。)であれば特に制限はないが、一般にプラスチックフィルムが使用される。例えば、ポリエステル{例、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート}、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、アクリル樹脂、ポリカーボネート(PC)、ポリスチレン、トリアセテート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる。これらの中でも、加工時の負荷(熱、溶剤、折り曲げ等)に対する耐性が高く、透明性が特に高い等の点で、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)等が好ましい。特に、PETが、加工性が優れているので好ましい。   The material of the transparent film is not particularly limited as long as it is transparent (meaning “transparent to visible light”), but a plastic film is generally used. For example, polyester {eg, polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate}, polymethyl methacrylate (PMMA), acrylic resin, polycarbonate (PC), polystyrene, triacetate resin, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyethylene, Examples thereof include ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral, metal ion crosslinked ethylene-methacrylic acid copolymer, polyurethane, cellophane and the like. Among these, polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polymethyl methacrylate (PMMA), etc. are highly resistant to loads during processing (heat, solvent, bending, etc.) and particularly highly transparent. preferable. In particular, PET is preferable because it has excellent processability.

透明フィルムの厚さとしては、光学フィルタの用途等によっても異なるが、一般に1μm〜5mm程度が好ましい。   The thickness of the transparent film varies depending on the use of the optical filter and the like, but is generally preferably about 1 μm to 5 mm.

本発明の導電層は、得られる光学フィルタの表面抵抗値は、通常の反射防止フィルムにおいては、表面抵抗値が108Ω/□以下、好ましくは102〜108Ω/□の範囲、特に102〜105Ω/□の範囲であることが好ましく、特に金属メッシュを用いた電磁波遮蔽用フィルムにおいては、一般に10Ω/□以下、好ましくは0.01〜5Ω/□の範囲、特に0.005〜5Ω/□の範囲が好ましい。導電層は、塗工層であることが好ましいが、メッシュ(格子)状の導電層も好ましい。或いは、気相成膜法により得られる層(金属酸化物(ITO等)の透明導電薄膜)でも良い。さらに、ITO等の金属酸化物の誘電体膜とAg等の金属層との交互積層体(例、ITO/銀/ITO/銀/ITOの積層体)であっても良い。 In the conductive layer of the present invention, the surface resistance value of the obtained optical filter in the ordinary antireflection film has a surface resistance value of 10 8 Ω / □ or less, preferably in the range of 10 2 to 10 8 Ω / □, particularly It is preferably in the range of 10 2 to 10 5 Ω / □, and particularly in an electromagnetic wave shielding film using a metal mesh, it is generally 10 Ω / □ or less, preferably in the range of 0.01 to 5 Ω / □, and particularly preferably 0. A range of 005 to 5Ω / □ is preferred. The conductive layer is preferably a coating layer, but a mesh (lattice) conductive layer is also preferable. Alternatively, a layer (a transparent conductive thin film of metal oxide (ITO or the like)) obtained by a vapor deposition method may be used. Further, it may be an alternate laminate of a metal oxide dielectric film such as ITO and a metal layer such as Ag (eg, ITO / silver / ITO / silver / ITO laminate).

メッシュ状の導電層としては金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属を網状にしたもの、透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等を挙げることができる。   As the mesh-like conductive layer, metal fibers and metal-coated organic fiber metals made into a mesh, copper foil on a transparent film etched into a mesh and provided with openings, conductive on the transparent film And the like, in which a conductive ink is printed in a mesh shape.

メッシュ状の導電層の場合、メッシュとしては、金属繊維及び/又は金属被覆有機繊維よりなる線径1μm〜1mm、開口率50〜95%のものが好ましい。より好ましい線径は10〜500μm、開口率は60〜95%である。なお、導電性メッシュの開口率とは、当該導電性メッシュ(外枠がある場合はそれを除いた領域)の投影面積における開口部分が占める面積割合を言う。   In the case of a mesh-like conductive layer, the mesh preferably has a wire diameter of 1 μm to 1 mm and an aperture ratio of 50 to 95% made of metal fibers and / or metal-coated organic fibers. A more preferable wire diameter is 10 to 500 μm, and an aperture ratio is 60 to 95%. The aperture ratio of the conductive mesh refers to the area ratio occupied by the opening portion in the projected area of the conductive mesh (a region excluding the outer frame when there is an outer frame).

導電性メッシュを構成する金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、チタン、タングステン、錫、鉛、鉄、銀、炭素或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。   As the metal of the metal fiber and the metal-coated organic fiber constituting the conductive mesh, copper, stainless steel, aluminum, nickel, titanium, tungsten, tin, lead, iron, silver, carbon or alloys thereof, preferably copper, stainless steel, Aluminum is used.

金属被覆有機繊維の有機材料としては、ポリエステル、ナイロン、塩化ビニリデン、アラミド、ビニロン、セルロース等が用いられる。   As the organic material for the metal-coated organic fiber, polyester, nylon, vinylidene chloride, aramid, vinylon, cellulose and the like are used.

金属箔等の導電性の箔をパターンエッチングしたもの場合、金属箔の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄、真鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、ニッケルが用いられる。   When a conductive foil such as a metal foil is subjected to pattern etching, copper, stainless steel, aluminum, nickel, iron, brass, or an alloy thereof, preferably copper, stainless steel, or nickel is used as the metal of the metal foil.

金属箔の厚さは、薄過ぎると取り扱い性やパターンエッチングの作業性等の面で好ましくなく、厚過ぎると得られるガラスの厚さに影響を及ぼしたり、エッチング工程の所要時間が長くなることから、1〜200μm程度とするのが好ましい。   If the thickness of the metal foil is too thin, it is not preferable in terms of handleability and workability of pattern etching, and if it is too thick, it affects the thickness of the glass obtained or the time required for the etching process becomes long. The thickness is preferably about 1 to 200 μm.

エッチングパターンの形状には特に制限はなく、例えば四角形の孔が形成された格子状の金属箔や、円形、六角形、三角形又は楕円形の孔が形成されたパンチングメタル状の金属箔等が挙げられる。また、孔は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。この金属箔の投影面における開口部分の面積割合は、20〜95%であることが好ましい。   The shape of the etching pattern is not particularly limited, and examples thereof include a grid-like metal foil in which square holes are formed, and a punching metal-like metal foil in which circular, hexagonal, triangular or elliptical holes are formed. It is done. Further, the holes are not limited to those regularly arranged, and may be a random pattern. It is preferable that the area ratio of the opening part in the projection surface of this metal foil is 20 to 95%.

或いは、メッシュ状の導電層を、透明フィルムに導電性インキをパターン印刷して形成しても良い。次のような導電性インキを用い、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法、静電印刷法等により透明基板の表面に印刷することができる。   Alternatively, the mesh-like conductive layer may be formed by pattern printing of conductive ink on a transparent film. Using the following conductive ink, it can be printed on the surface of the transparent substrate by screen printing, ink jet printing, electrostatic printing or the like.

一般に、粒径100μm以下のカーボンブラック粒子、或いは銅、アルミニウム、ニッケル等の金属又は合金の粒子等の導電性材料の粒子を50〜90重量%濃度にPMMA、ポリ酢酸ビニル、エポキシ樹脂等のバインダ樹脂に分散させたものである。このインクは、トルエン、キシレン、塩化メチレン、水等の溶媒に適当な濃度に希釈または分散させて透明基板の板面に印刷により塗布し、その後必要に応じ室温〜120℃で乾燥させ基板上に塗着させる。上記と同様の導電性材料の粒子をバインダ樹脂で覆った粒子を静電印刷法により直接塗布し熱等で固着させる。   In general, carbon black particles having a particle size of 100 μm or less, or particles of a conductive material such as particles of metals or alloys such as copper, aluminum, nickel, etc. are bound to a binder of PMMA, polyvinyl acetate, epoxy resin or the like at a concentration of 50 to 90% by weight. Dispersed in resin. This ink is diluted or dispersed at a suitable concentration in a solvent such as toluene, xylene, methylene chloride, water, etc., applied to the surface of the transparent substrate by printing, and then dried at room temperature to 120 ° C. as necessary. Apply. Particles obtained by covering the same conductive material particles as described above with a binder resin are directly applied by electrostatic printing and fixed by heat or the like.

このようにして形成される印刷膜の厚さは、薄過ぎると電磁波シールド性が不足するので好ましくなく、厚過ぎると得られるフィルタの厚さに影響を及ぼすことから、0.5〜100μm程度とするのが好ましい。   If the thickness of the printed film formed in this way is too thin, the electromagnetic wave shielding property is insufficient, which is not preferable. If the thickness is too thick, the thickness of the obtained filter is affected, so that the thickness is about 0.5 to 100 μm. It is preferable to do this.

このようなパターン印刷によれば、パターンの自由度が大きく、任意の線径、間隔及び開口形状の導電層を形成することができ、従って、所望の電磁波遮断性と光透過性を有するプラスチックフィルムを容易に形成することができる。   According to such pattern printing, the degree of freedom of the pattern is large, and a conductive layer having an arbitrary wire diameter, interval and opening shape can be formed. Therefore, a plastic film having desired electromagnetic wave shielding properties and light transmission properties Can be easily formed.

導電層のパターン印刷の形状には特に制限はなく、例えば四角形の開口部が形成された格子状の印刷膜や、円形、六角形、三角形又は楕円形の開口部が形成されたパンチングメタル状の印刷膜等が挙げられる。また、開口部は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。この印刷膜の投影面における開口部分の面積割合は、20〜95%であることが好ましい。   There is no particular limitation on the pattern printing shape of the conductive layer. For example, a grid-like printed film having a rectangular opening or a punching metal shape having a circular, hexagonal, triangular or elliptical opening. Examples include printed films. Further, the openings are not limited to those regularly arranged, and may be a random pattern. It is preferable that the area ratio of the opening part in the projection surface of this printed film is 20 to 95%.

塗工による導電層としては、ポリマー中に無機化合物の導電性粒子が分散された塗工層を挙げることができる。   Examples of the conductive layer by coating include a coating layer in which conductive particles of an inorganic compound are dispersed in a polymer.

導電性粒子を構成する無機化合物としては、例えば、アルミニウム、ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、スズ、カドミウム、銀、プラチナ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属、合金;或いはITO、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム−酸化スズ(ITO、いわゆるインジウムドープ酸化スズ)、酸化スズ−酸化アンチモン(ATO、いわゆるアンチモンドープ酸化スズ)、酸化亜鉛−酸化アルミニウム(ZAO;いわゆるアルミニウムドープ酸化亜鉛)等の導電性酸化物等を挙げることができる。特に、ITOが好ましい。平均粒径は10〜10000nm、特に10〜50nmが好ましい。   Examples of the inorganic compound constituting the conductive particles include metals, alloys such as aluminum, nickel, indium, chromium, gold, vanadium, tin, cadmium, silver, platinum, copper, titanium, cobalt, lead; or ITO, oxidation Indium, tin oxide, zinc oxide, indium oxide-tin oxide (ITO, so-called indium-doped tin oxide), tin oxide-antimony oxide (ATO, so-called antimony-doped tin oxide), zinc oxide-aluminum oxide (ZAO; so-called aluminum-doped oxide) And conductive oxides such as zinc). In particular, ITO is preferable. The average particle size is preferably 10 to 10,000 nm, particularly preferably 10 to 50 nm.

ポリマーの例としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、マレイン酸樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ポリイミド樹脂、含ケイ素樹脂等を挙げることができる。さらに、これらの樹脂のうち熱硬化性樹脂であることが好ましい。   Examples of the polymer include acrylic resin, polyester resin, epoxy resin, urethane resin, phenol resin, maleic acid resin, melamine resin, urea resin, polyimide resin, and silicon-containing resin. Furthermore, it is preferable that it is a thermosetting resin among these resins.

或いは、ポリマーは後述するハードコート層に使用される紫外線硬化性樹脂を用いることが特に好ましい。   Alternatively, the polymer is particularly preferably an ultraviolet curable resin used for a hard coat layer described later.

上記塗工による導電層の形成は、ポリマー(必要により溶剤を用いて)中に上記導電性微粒子を混合等により分散させて塗工液を作製し、この塗工液を、透明フィルム上に塗工し、適宜乾燥、硬化させる。熱可塑性樹脂を用いた場合は、塗工後乾燥することにより、熱硬化型の場合は、乾燥、熱硬化することにより得られる。紫外線硬化性樹脂を用いた場合は、塗工後、必要に応じて乾燥し、紫外線照射することにより得られる。   The conductive layer is formed by coating by dispersing the conductive fine particles in a polymer (using a solvent if necessary) by mixing or the like to prepare a coating solution, and coating the coating solution on a transparent film. And then drying and curing as appropriate. In the case of using a thermoplastic resin, it is obtained by drying after coating, and in the case of a thermosetting type, it is obtained by drying and thermosetting. When an ultraviolet curable resin is used, it can be obtained by drying after application and irradiating with ultraviolet rays after coating.

上記塗工形成された導電層の厚さとしては、0.01〜5μm、特に0.05〜3μmが好ましい。前記厚さが、0.01μm未満であると電磁波シールド性又は帯電防止性が充分でないことがあり、一方5μmを超えると、得られるフィルムの透明性を低下させる場合がある。   The thickness of the conductive layer formed by coating is preferably 0.01 to 5 μm, particularly preferably 0.05 to 3 μm. When the thickness is less than 0.01 μm, the electromagnetic wave shielding property or antistatic property may not be sufficient. On the other hand, when the thickness exceeds 5 μm, the transparency of the resulting film may be lowered.

本発明の導電層は、塗工により形成される導電性ポリマーの層であることも好ましい。例えば、ポリアセチレン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン、ポリアセン、ポリフェニルアセチレン、ポリナフタレン等の炭化水素系ポリマー;ポリピロール、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリエチレンビニレン、ポリアズレン、ポリイソチアナフテン等のヘテロ原子含有ポリマーを挙げることができる。ポリピロール、ポリチオフェンが好ましい。上記導電性ポリマーの明導電層の厚さとしては、0.01〜5μm、特に0.05〜3μmが好ましい。前記厚さが、0.01μm未満であると、電磁波シールド性又は帯電防止性が充分でないことがあり、一方5μmを超えると、得られるフィルムの透明性を低下させる場合がある。   The conductive layer of the present invention is also preferably a conductive polymer layer formed by coating. For example, hydrocarbon polymers such as polyacetylene, polyphenylene, polyphenylene vinylene, polyacene, polyphenylacetylene, polynaphthalene; heteroatom-containing polymers such as polypyrrole, polyaniline, polythiophene, polyethylene vinylene, polyazulene, polyisothianaphthene . Polypyrrole and polythiophene are preferred. The thickness of the light conductive layer of the conductive polymer is preferably 0.01 to 5 μm, particularly preferably 0.05 to 3 μm. When the thickness is less than 0.01 μm, the electromagnetic shielding property or antistatic property may not be sufficient, while when it exceeds 5 μm, the transparency of the resulting film may be lowered.

導電層を気相成膜法により形成する場合(金属酸化物層)、その形成方法としては、特に制限はないが、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等の気相製膜法や、印刷、塗工等が挙げることができるが、気相製膜法(スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着)が好ましい。前記の無機化合物を用いて導電層を形成することができる。導電層を気相成膜法で形成した場合は、その層厚は、30〜50000nm、特に50nm程度が好ましい。   When the conductive layer is formed by a vapor deposition method (metal oxide layer), the formation method is not particularly limited, but a vapor phase such as sputtering, ion plating, electron beam vapor deposition, vacuum vapor deposition, chemical vapor deposition, etc. Examples of the method include a film forming method, printing, and coating, but a gas phase film forming method (sputtering, ion plating, electron beam vapor deposition, vacuum vapor deposition, chemical vapor deposition) is preferable. A conductive layer can be formed using the inorganic compound. When the conductive layer is formed by a vapor deposition method, the layer thickness is preferably 30 to 50000 nm, particularly about 50 nm.

導電層上に、さらに金属メッキ層を、導電性を向上させるためは設けても良い。金属メッキ層は、公知の電解メッキ法、無電解メッキ法により形成することができる。メッキに使用される金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、アルミ、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、好ましくは銅、銅合金、銀、又はニッケルであり、特に経済性、導電性の点から、銅又は銅合金を使用することが好ましい。   A metal plating layer may be further provided on the conductive layer in order to improve conductivity. The metal plating layer can be formed by a known electrolytic plating method or electroless plating method. As the metal used for plating, generally, copper, copper alloy, nickel, aluminum, silver, gold, zinc, tin or the like can be used, preferably copper, copper alloy, silver, or nickel, In particular, it is preferable to use copper or a copper alloy from the viewpoint of economy and conductivity.

また導電層は、誘電体層(金属酸化物)と金属層との交互積層膜でも良い。特に、誘電体層/金属層/誘電体層/金属層/誘電体層の5層以上の積層体が好ましい。例えば、ITO等の金属酸化物の誘電体層とAg等の金属層との交互積層体(例、ITO/銀/ITO/銀/ITOの積層体)を挙げることができる。   Further, the conductive layer may be an alternately laminated film of a dielectric layer (metal oxide) and a metal layer. In particular, a laminate of 5 layers or more of dielectric layer / metal layer / dielectric layer / metal layer / dielectric layer is preferable. For example, an alternate laminate of a dielectric layer of a metal oxide such as ITO and a metal layer of Ag or the like (eg, a laminate of ITO / silver / ITO / silver / ITO) can be used.

上記透明導電膜は、物理蒸着法または化学蒸着法により成膜することができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が挙げられるが、一般的にはスパッタリング法で成膜するのが好ましい。化学蒸着法としては、常圧CVD法、減圧CVD法、プラズマCVD法が挙げられる。   The transparent conductive film can be formed by physical vapor deposition or chemical vapor deposition. Examples of the physical vapor deposition method include a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, and a laser ablation method, but it is generally preferable to form a film by the sputtering method. Examples of the chemical vapor deposition method include an atmospheric pressure CVD method, a low pressure CVD method, and a plasma CVD method.

本発明の反射防止膜は、一般に基板より屈折率の高いハードコート層とその上に設けられた低屈折層との複合膜であるか、好ましくは低屈折率層上にさらに高屈折率層が設けられた複合膜である。反射防止膜は透明フィルムより屈折率の高いハードコート層のみであっても、或いは低屈折率層のみであっても有効である。但し、透明フィルムの屈折率が低い場合、透明フィルムより屈折率の低いハードコート層とその上に設けられた高屈折層との複合膜、或いは高屈折率層上にさらに低屈折率層が設けられた複合膜としても良い。本発明の反射防止膜に近赤外線遮蔽機能を付与する場合は、上記ハードコート層等に近赤外線を吸収する後述する材料(例、色素)を混合及び/又は混練して導入するか、反射防止膜を形成するための透明フィルムに導入すればよい。   The antireflection film of the present invention is generally a composite film of a hard coat layer having a higher refractive index than that of the substrate and a low refractive layer provided thereon, or preferably a higher refractive index layer on the low refractive index layer. It is a composite membrane provided. Even if it is only a hard-coat layer with a higher refractive index than a transparent film, or only a low refractive index layer, an antireflection film is effective. However, when the refractive index of the transparent film is low, a composite film of a hard coat layer having a refractive index lower than that of the transparent film and a high refractive layer provided thereon, or a low refractive index layer is further provided on the high refractive index layer. A composite film obtained may be used. When the antireflection film of the present invention is provided with a near-infrared shielding function, the hard coat layer or the like is introduced by mixing and / or kneading a material described later (eg, a dye) that absorbs near-infrared rays, or preventing reflection. What is necessary is just to introduce | transduce into the transparent film for forming a film | membrane.

ハードコート層としては、アクリル樹脂層、エポキシ樹脂層、ウレタン樹脂層、シリコン樹脂層等からなる層を挙げることができ、通常その層厚は1〜50μm、好ましくは1〜10μmである。熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂のいずれでもよいが、紫外線硬化性樹脂が好ましい。   As a hard-coat layer, the layer which consists of an acrylic resin layer, an epoxy resin layer, a urethane resin layer, a silicon resin layer etc. can be mentioned, The layer thickness is 1-50 micrometers normally, Preferably it is 1-10 micrometers. Either a thermosetting resin or an ultraviolet curable resin may be used, but an ultraviolet curable resin is preferable.

熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、レゾルシノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フラン樹脂、シリコン樹脂などを挙げることができる。   Examples of the thermosetting resin include phenol resin, resorcinol resin, urea resin, melamine resin, epoxy resin, acrylic resin, urethane resin, furan resin, and silicon resin.

紫外線硬化性樹脂(モノマー、オリゴマー)としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシルポリエトキシ(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、フェニルオキシエチル(メタ)アクリレート、トリシクロデカンモノ(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、アクリロイルモルホリン、N−ビニルカプロラクタム、2−ヒドロキシ−3−フェニルオキシプロピル(メタ)アクリレート、o−フェニルフェニルオキシエチル(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、トリス〔(メタ)アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレートモノマー類;ポリオール化合物(例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,9−ノナンジオール、2−エチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、1,4−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールAポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等)と有機ポリイソシアネート(例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4′−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4′−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,2′−4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等)と水酸基含有(メタ)アクリレート(例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェニルオキシプロピル(メタ)アクリレート、シクロヘキサン−1,4−ジメチロールモノ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート等)の反応物であるポリウレタン(メタ)アクリレート、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら化合物は1種又は2種以上、混合して使用することができる。これらの紫外線硬化性樹脂を、熱重合開始剤とともに用いて熱硬化性樹脂として使用してもよい。   Examples of the ultraviolet curable resin (monomer, oligomer) include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, and 2-ethylhexyl polyethoxy (meth) acrylate. , Benzyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, phenyloxyethyl (meth) acrylate, tricyclodecane mono (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, acryloylmorpholine , N-vinylcaprolactam, 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl (meth) acrylate, o-phenylphenyloxyethyl (meth) acrylate, neopentylglyce Di (meth) acrylate, neopentyl glycol dipropoxy di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate hydroxypivalate, tricyclodecane dimethylol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) Acrylate, nonanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, tris [(meth) acryloxyethyl] isocyanurate, ditrimethylolpropane (Meth) acrylate monomers such as tetra (meth) acrylate; polyol compounds (for example, ethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, , 6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,9-nonanediol, 2-ethyl-2-butyl-1,3-propanediol, trimethylolpropane, diethylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene Polyols such as glycol, 1,4-dimethylolcyclohexane, bisphenol A polyethoxydiol, polytetramethylene glycol, the polyols and succinic acid, maleic acid, itaconic acid, adipic acid, hydrogenated dimer acid, phthalic acid, isophthalic acid Polyester polyols which are reaction products of polybasic acids such as acid and terephthalic acid or acid anhydrides thereof, polycaprolactone polyols which are reaction products of the polyols and ε-caprolactone, the polyols and the above, Polybasic acid or this Reaction products of these acid anhydrides with ε-caprolactone, polycarbonate polyols, polymer polyols, etc.) and organic polyisocyanates (for example, tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4′-diisocyanate, diisocyanate) Cyclopentanyl diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 2,4,4′-trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,2′-4-trimethylhexamethylene diisocyanate, etc.) and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate (for example, 2-hydroxyethyl (meta ) Acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl (meth) acrylic Rate, cyclohexane-1,4-dimethylol mono (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, etc.) (Meth) such as bisphenol type epoxy (meth) acrylate, which is a reaction product of bisphenol type epoxy resin such as polyurethane (meth) acrylate, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin and (meth) acrylic acid which is a reaction product Examples include acrylate oligomers. These compounds can be used alone or in combination. These ultraviolet curable resins may be used as a thermosetting resin together with a thermal polymerization initiator.

ハードコート層とするには、上記の紫外線硬化性樹脂(モノマー、オリゴマー)の内、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の硬質の多官能モノマーを主に使用することが好ましい。   For the hard coat layer, among the above-mentioned ultraviolet curable resins (monomers and oligomers), hard materials such as pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol penta (meth) acrylate and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate are used. It is preferable to mainly use polyfunctional monomers.

紫外線硬化性樹脂の光重合開始剤として、紫外線硬化性樹脂の性質に適した任意の化合物を使用することができる。例えば、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−(4−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノプロパン−1、2,2−ジエトキシアセトフェノン等のアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、4−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、2−4−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−(4−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノプロパン−1、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、4−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系叉は、第3級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の1種または2種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの1種または2種以上の混合で使用することができる。特に1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア184)が好ましい。   Any compound suitable for the properties of the ultraviolet curable resin can be used as the photopolymerization initiator for the ultraviolet curable resin. For example, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane-1, 2, Acetophenones such as 2-diethoxyacetophenone, benzoins such as benzyldimethyl ketal, benzophenones such as benzophenone, 4-phenylbenzophenone and hydroxybenzophenone, thioxanthones such as isopropylthioxanthone and 2-4-diethylthioxanthone, and other special products For example, methylphenylglyoxylate can be used. Particularly preferably, 2,2-diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane-1, benzophenone and the like. These photopolymerization initiators may be optionally selected from one or more known photopolymerization accelerators such as benzoic acid type or tertiary amine type such as 4-dimethylaminobenzoic acid. It can be used by mixing at a ratio. Moreover, it can be used by 1 type, or 2 or more types of mixture of only a photoinitiator. Particularly preferred is 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals).

光重合開始剤の量は、樹脂組成物に対して0.1〜10質量%、好ましくは0.1〜5質量%である。   The quantity of a photoinitiator is 0.1-10 mass% with respect to a resin composition, Preferably it is 0.1-5 mass%.

ハードコート層は、透明基板より屈折率が低いことが好ましく、上記紫外線硬化性樹脂を用いることにより一般に基板より低い屈折率を得られやすい。従って、透明基板としては、PET等の高い屈折率の材料を用いることが好ましい。このため、ハードコート層は、屈折率を、1.60以下にすることが好ましい。膜厚は前記の通りである。   The hard coat layer preferably has a refractive index lower than that of the transparent substrate, and a refractive index lower than that of the substrate is generally easily obtained by using the ultraviolet curable resin. Therefore, it is preferable to use a material having a high refractive index such as PET as the transparent substrate. Therefore, the hard coat layer preferably has a refractive index of 1.60 or less. The film thickness is as described above.

高屈折率層は、ポリマー(好ましくは紫外線硬化性樹脂)中に、ITO,ATO,Sb23,SbO2,In23,SnO2,ZnO、AlをドープしたZnO、TiO2等の導電性金属酸化物微粒子(無機化合物)が分散した層とすることが好ましい。金属酸化物微粒子としては、平均粒径10〜10000nm、好ましくは10〜50nmのものが好ましい。特にITO(特に平均粒径10〜50nmのもの)が好ましい。屈折率を1.64以上としたものが好適である。膜厚は一般に10〜500nmの範囲、好ましくは20〜200nmである。 The high refractive index layer is made of, for example, ITO, ATO, Sb 2 O 3 , SbO 2 , In 2 O 3 , SnO 2 , ZnO, Al-doped ZnO, TiO 2 or the like in a polymer (preferably UV curable resin). It is preferable to use a layer in which conductive metal oxide fine particles (inorganic compound) are dispersed. The metal oxide fine particles preferably have an average particle size of 10 to 10,000 nm, preferably 10 to 50 nm. In particular, ITO (especially having an average particle diameter of 10 to 50 nm) is preferable. Those having a refractive index of 1.64 or more are suitable. The film thickness is generally in the range of 10 to 500 nm, preferably 20 to 200 nm.

なお、高屈折率層が導電層である場合、この高屈折率層2の屈折率を1.64以上とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を1.5%以内にすることができ、1.69以上、好ましくは1.69〜1.82とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を1.0%以内にすることができる。   When the high refractive index layer is a conductive layer, the minimum reflectance of the surface reflectance of the antireflection film is set within 1.5% by setting the refractive index of the high refractive index layer 2 to 1.64 or more. The minimum reflectance of the surface reflectance of the antireflection film can be made to be within 1.0% by setting it to 1.69 or more, preferably 1.69 to 1.82.

ハードコート層は、可視光線透過率が85%以上であることが好ましい。高屈折率層及び低屈折率層の可視光線透過率も、いずれも85%以上であることが好ましい。   The hard coat layer preferably has a visible light transmittance of 85% or more. Both the visible light transmittance of the high refractive index layer and the low refractive index layer are preferably 85% or more.

低屈折率層は、シリカ、フッ素樹脂等の微粒子、好ましくは中空シリカを10〜40重量%(好ましくは10〜30質量%)がポリマー(好ましくは紫外線硬化性樹脂)中に分散した層(硬化層)であることが好ましい。この低屈折率層の屈折率は、1.45〜1.51が好ましい。この屈折率が1.51超であると、反射防止フィルムの反射防止特性が低下する。膜厚は一般に10〜500nmの範囲、好ましくは20〜200nmである。   The low refractive index layer is a layer (cured) in which fine particles such as silica and fluororesin, preferably 10 to 40% by weight (preferably 10 to 30% by mass) of hollow silica are dispersed in a polymer (preferably UV curable resin). Layer). The refractive index of this low refractive index layer is preferably 1.45 to 1.51. When the refractive index is more than 1.51, the antireflection property of the antireflection film is deteriorated. The film thickness is generally in the range of 10 to 500 nm, preferably 20 to 200 nm.

中空シリカとしては、平均粒径10〜100nm、好ましくは10〜50nm、比重0.5〜1.0、好ましくは0.8〜0.9のものが好ましい。   As the hollow silica, those having an average particle diameter of 10 to 100 nm, preferably 10 to 50 nm, and a specific gravity of 0.5 to 1.0, preferably 0.8 to 0.9 are preferable.

反射防止膜が上記3層より構成される場合、例えば、ハードコート層の厚さは2〜20μm、高屈折率層の厚さは75〜90nm、低屈折率層の厚さは85〜110nmであることが好ましい。   When the antireflection film is composed of the above three layers, for example, the thickness of the hard coat layer is 2 to 20 μm, the thickness of the high refractive index layer is 75 to 90 nm, and the thickness of the low refractive index layer is 85 to 110 nm. Preferably there is.

反射防止膜の、各層を形成するには、前記の通り、ポリマー(好ましくは紫外線硬化性樹脂)に必要に応じ上記の微粒子を配合し、得られた塗工液を塗工し、次いで乾燥、必要により熱硬化させるか、或いは塗工後、必要により乾燥し、紫外線を照射する。この場合、各層を1層ずつ塗工し硬化させてもよく、全層を塗工した後、まとめて硬化させてもよい。   In order to form each layer of the antireflection film, as described above, the polymer (preferably ultraviolet curable resin) is blended with the fine particles as necessary, and the obtained coating solution is applied, and then dried. If necessary, it is heat-cured, or after coating, if necessary, it is dried and irradiated with ultraviolet rays. In this case, each layer may be applied and cured one by one, or all the layers may be applied and then cured together.

塗工の具体的な方法としては、アクリル系モノマー等を含む紫外線硬化性樹脂をトルエン等の溶媒で溶液にした塗工液をグラビアコータ等によりコーティングし、その後乾燥し、次いで紫外線により硬化する方法を挙げることができる。このウェットコーティング法であれば、高速で均一に且つ安価に成膜できるという利点がある。このコーティング後に例えば紫外線を照射して硬化することにより密着性の向上、膜の硬度の上昇という効果が得られる。前記導電層も同様に形成することができる。   As a specific method of coating, a method of coating a coating solution in which an ultraviolet curable resin containing an acrylic monomer or the like is made into a solution with a solvent such as toluene is coated with a gravure coater, and then dried, and then cured by ultraviolet rays. Can be mentioned. This wet coating method has the advantage that the film can be uniformly formed at high speed at low cost. After this coating, for example, by irradiating and curing with ultraviolet rays, the effect of improving the adhesion and increasing the hardness of the film can be obtained. The conductive layer can be formed similarly.

紫外線硬化の場合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等を挙げることができる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分程度である。また、硬化促進のために、予め積層体を40〜120℃に加熱し、これに紫外線を照射してもよい。   In the case of ultraviolet curing, many light sources that emit light in the ultraviolet to visible range can be used as the light source, such as ultra-high pressure, high pressure, low pressure mercury lamp, chemical lamp, xenon lamp, halogen lamp, mercury lamp, carbon arc lamp, incandescent lamp. And laser light. The irradiation time cannot be determined unconditionally depending on the type of lamp and the intensity of the light source, but is about several seconds to several minutes. Moreover, in order to accelerate curing, the laminate may be preheated to 40 to 120 ° C. and irradiated with ultraviolet rays.

本発明の反射防止層は、上記のように塗工により形成することが好ましいが、気相成膜法により形成しても良い。通常、高屈折率層及び低屈折率層を、物理蒸着法または化学蒸着法により成膜することができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が挙げられるが、一般的にはスパッタリング法で成膜するのが好ましい。化学蒸着法としては、常圧CVD法、減圧CVD法、プラズマCVD法が挙げられる。   The antireflection layer of the present invention is preferably formed by coating as described above, but may be formed by a vapor phase film forming method. Usually, the high refractive index layer and the low refractive index layer can be formed by physical vapor deposition or chemical vapor deposition. Examples of the physical vapor deposition method include a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, and a laser ablation method, but it is generally preferable to form a film by the sputtering method. Examples of the chemical vapor deposition method include an atmospheric pressure CVD method, a low pressure CVD method, and a plasma CVD method.

高屈折率層及び低屈折率層等の組合せの例としては、下記のものを挙げることができる。   Examples of the combination of the high refractive index layer and the low refractive index layer include the following.

(a) 高屈折率層/低屈折率層の順で各1層ずつ、合計2層に積層したもの、(b) 高屈折率層/低屈折率層を2層ずつ交互に、合計4層に積層したもの、(c) 中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層の順で各1層ずつ、合計3層に積層したもの、(d) 高屈折率層/低屈折率層の順で各層を交互に3層ずつ、合計6層に積層したもの。高屈折率層としては、ITO(スズインジウム酸化物)又はZnO、AlをドープしたZnO、TiO2、SnO2、ZrO等の薄膜を採用することができる。また、低屈折折率層としては、SiO2、MgF2、Al23等の屈折率が1.6以下の薄膜を用いることができる。 (A) 1 layer each in the order of high refractive index layer / low refractive index layer, laminated in a total of 2 layers, (b) 2 layers of high refractive index layer / low refractive index layer alternately, 4 layers in total (C) One layer each in the order of medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer, laminated in a total of three layers, (d) high refractive index layer / low refractive index layer In this order, each layer is alternately stacked in 3 layers for a total of 6 layers. As the high refractive index layer, ITO (tin indium oxide) or ZnO, a thin film of ZnO, TiO 2 , SnO 2 , ZrO or the like doped with Al can be employed. As the low refractive index layer, a thin film having a refractive index of 1.6 or less, such as SiO 2 , MgF 2 , Al 2 O 3, or the like can be used.

上記透明導電膜は、物理蒸着法または化学蒸着法により成膜することができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が挙げられるが、一般的にはスパッタリング法で成膜するのが好ましい。化学蒸着法としては、常圧CVD法、減圧CVD法、プラズマCVD法が挙げられる。   The transparent conductive film can be formed by physical vapor deposition or chemical vapor deposition. Examples of the physical vapor deposition method include a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, and a laser ablation method, but it is generally preferable to form a film by the sputtering method. Examples of the chemical vapor deposition method include an atmospheric pressure CVD method, a low pressure CVD method, and a plasma CVD method.

本発明の粘着層は、本発明の反射防止フィルムを装着したディスプレイに反射防止フィルム側から衝撃が加えられた場合に、ディスプレイのガラスを破損したり、反射防止フィルム自体が破損しないように設けられている。   The adhesive layer of the present invention is provided so that the glass of the display is not damaged or the antireflection film itself is not damaged when an impact is applied to the display equipped with the antireflection film of the present invention from the antireflection film side. ing.

本発明の第1、第2及び第3の粘着層は、特定の弾性率を有する。即ち、第1の粘着層の、−10℃での周波数1Hzにおける貯蔵弾性率が1×103〜1×106Paの範囲(特に1×104〜1×105Paの範囲)にあり、且つ動的損失弾性率が1×103〜3×105Paの範囲(特に5×103〜5×104Paの範囲)にあり、そして第2の粘着層の、25℃での周波数1Hzにおける貯蔵弾性率が1×104〜1×106Paの範囲(特に5×104〜5×105Paの範囲)にあり、且つ損失弾性率が1×104〜3×106Paの範囲(特に5×104〜5×105Paの範囲)にあることが必要である。また、第3の粘着層の、25℃での周波数1Hzにおける貯蔵弾性率は、1×104〜1×106Paの範囲(特に5×104〜5×105Paの範囲)で、損失弾性率が1×104〜3×106Paの範囲(特に5×104〜5×105Paの範囲)にあることが好ましい。 The first, second and third adhesive layers of the present invention have a specific elastic modulus. That is, the storage modulus of the first adhesive layer at a frequency of 1 Hz at −10 ° C. is in the range of 1 × 10 3 to 1 × 10 6 Pa (particularly in the range of 1 × 10 4 to 1 × 10 5 Pa). And the dynamic loss elastic modulus is in the range of 1 × 10 3 to 3 × 10 5 Pa (particularly in the range of 5 × 10 3 to 5 × 10 4 Pa), and the second adhesive layer is at 25 ° C. The storage elastic modulus at a frequency of 1 Hz is in the range of 1 × 10 4 to 1 × 10 6 Pa (particularly in the range of 5 × 10 4 to 5 × 10 5 Pa), and the loss elastic modulus is 1 × 10 4 to 3 × 10. It is necessary to be in the range of 6 Pa (particularly in the range of 5 × 10 4 to 5 × 10 5 Pa). The storage elastic modulus of the third adhesive layer at a frequency of 1 Hz at 25 ° C. is in the range of 1 × 10 4 to 1 × 10 6 Pa (particularly in the range of 5 × 10 4 to 5 × 10 5 Pa). The loss elastic modulus is preferably in the range of 1 × 10 4 to 3 × 10 6 Pa (particularly in the range of 5 × 10 4 to 5 × 10 5 Pa).

さらに、第2の粘着層の貯蔵弾性率の値が、第1の粘着層の貯蔵弾性率の値より大きいか、或いは同じか又は小さい場合でも9×103Pa以下の範囲で小さく、且つ第2の粘着層の損失弾性率の値が、第1の粘着層の損失弾性率の値より大きいか、或いは同じか又は小さい場合でも5×103Pa以下の範囲で小さいことが好ましい。これにより耐衝撃性に及び表面硬度の特性がさらに向上する。 Further, even when the storage elastic modulus value of the second adhesive layer is larger than, equal to or smaller than the storage elastic modulus value of the first adhesive layer, it is small in the range of 9 × 10 3 Pa or less, and The loss elastic modulus value of the pressure-sensitive adhesive layer 2 is preferably smaller than the value of the loss elastic modulus of the first pressure-sensitive adhesive layer, even if it is the same or smaller, in the range of 5 × 10 3 Pa or less. This further improves the impact resistance and surface hardness characteristics.

また、第3の粘着層の貯蔵弾性率の値が、第1の粘着層の貯蔵弾性率の値より大きいか、或いは同じか又は小さい場合でも9×103Pa以下の範囲で小さく、且つ第3の粘着層の損失弾性率の値が、第1の粘着層の損失弾性率の値より大きいか、或いは同じか又は小さい場合でも5×103Pa以下の範囲で小さいことが好ましい。これにより耐衝撃性に及び表面硬度の特性がさらに向上する。 Further, even when the storage elastic modulus value of the third adhesive layer is larger than, equal to, or smaller than the storage elastic modulus value of the first adhesive layer, it is small in the range of 9 × 10 3 Pa or less, and The loss elastic modulus value of No. 3 adhesive layer is preferably smaller than the value of the loss elastic modulus of the first adhesive layer, even if it is the same or smaller, in the range of 5 × 10 3 Pa or less. This further improves the impact resistance and surface hardness characteristics.

上記粘着層を構成する樹脂としては、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、アクリル樹脂(例、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸エチル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体)、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−(メタ)アクリレート共重合体等のエチレン系共重合体を挙げることができる(なお、「(メタ)アクリル」は「アクリル又はメタクリル」を示す。)。その他、ポリビニルブチラール(PVB)樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂等も用いることができるが、良好な衝撃吸収性が得られやすいのはエチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)、アクリル樹脂である。   Examples of the resin constituting the adhesive layer include ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-methyl acrylate copolymer, acrylic resin (eg, ethylene- (meth) acrylic acid copolymer, ethylene- (meth)). Ethyl acrylate copolymer, ethylene- (meth) methyl acrylate copolymer, metal ion crosslinked ethylene- (meth) acrylic acid copolymer), partially saponified ethylene-vinyl acetate copolymer, carboxylated ethylene-vinyl acetate And ethylene copolymers such as copolymers, ethylene- (meth) acrylic-maleic anhydride copolymers, ethylene-vinyl acetate- (meth) acrylate copolymers, etc. "Means" acrylic or methacrylic "). In addition, polyvinyl butyral (PVB) resin, epoxy resin, phenol resin, silicone resin, polyester resin, urethane resin, and the like can be used. However, it is easy to obtain good impact absorbability with an ethylene-vinyl acetate copolymer ( EVA), an acrylic resin.

アクリル樹脂は、紫外線又は熱硬化性(メタ)アクリレート組成物の硬化層であることが好ましい。   The acrylic resin is preferably a cured layer of an ultraviolet ray or a thermosetting (meth) acrylate composition.

上記硬化性(メタ)アクリレート組成物は、一般に、炭素原子数4〜14のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルを主体とする(50質量%以上)モノマー材料の混合物からなることが好ましい。この(メタ)アクリル酸アルキルエステルを主体とするモノマー材料の混合物が、部分的に重合した部分重合体を含むモノマー材料の混合物であっても良い。必要により、上記モノマー材料の混合物100質量部に対して、(メタ)アクリロイル基を2個以上有する多官能(メタ)アクリレートを0.1〜1.0質量部を添加される。特に第1の粘着層においては、モノマー材料の混合物が、この部分重合体・モノマー混合物100質量部に対して(メタ)アクリロイル基を2個以上有する多官能(メタ)アクリレートを0.1〜1.0質量部含有することが好ましい。本発明において、(メタ)アクリル酸アルキルエステルとはアクリル酸アルキルエステル及び/又はメタクリル酸アルキルエステルをいう。   In general, the curable (meth) acrylate composition is preferably composed of a mixture of monomer materials mainly composed of (meth) acrylic acid alkyl ester having an alkyl group having 4 to 14 carbon atoms (50% by mass or more). . The mixture of monomer materials mainly composed of (meth) acrylic acid alkyl ester may be a mixture of monomer materials including a partially polymerized partial polymer. If necessary, 0.1 to 1.0 part by mass of a polyfunctional (meth) acrylate having two or more (meth) acryloyl groups is added to 100 parts by mass of the monomer material mixture. Particularly in the first adhesive layer, the mixture of monomer materials contains 0.1 to 1 polyfunctional (meth) acrylate having 2 or more (meth) acryloyl groups with respect to 100 parts by mass of the partial polymer / monomer mixture. It is preferable to contain 0.0 part by mass. In the present invention, the (meth) acrylic acid alkyl ester refers to an acrylic acid alkyl ester and / or a methacrylic acid alkyl ester.

上記モノマー材料として用いられる(好ましくは部分重合体・モノマー混合物の製造に用いられる)炭素原子数4〜14のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、ブチル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、n−ヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリレート,デシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、テトラデシル(メタ)アクリレートなどが挙げられ、これらは1種又は2種以上を混合して用いられる。また、前記アルキル基は、直鎖又は分岐鎖のいずれでもよいが、t−アルキル基でないことが好ましい。   Examples of the (meth) acrylic acid alkyl ester having an alkyl group having 4 to 14 carbon atoms used as the monomer material (preferably used in the production of the partial polymer / monomer mixture) include, for example, butyl (meth) acrylate, Isoamyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, tetradecyl (meth) An acrylate etc. are mentioned, These are used 1 type or in mixture of 2 or more types. The alkyl group may be either a straight chain or a branched chain, but is preferably not a t-alkyl group.

上記モノマー材料と共に、或いは部分重合体・モノマー混合物の製造において、或いは部分重合体・モノマー混合物に加えて、前記モノマーと共重合可能なモノビニルモノマーを光学特性や耐熱性等の物性の向上を目的として必要に応じて併用することが好ましい。このモノビニルモノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸4−ヒドロキシブチル、及び(メタ)アクリル酸6−ヒドロキシヘキシルなどのヒドロキシル基含有モノマー;(メタ)アクリル酸メトキシエチル、及び(メタ)アクリル酸エトキシエチルなどの(メタ)アクリル酸アルコキシアルキル系モノマー;(メタ)アクリル酸ポリエチレングリコール、(メタ)アクリル酸ポリプロピレングリコール、(メタ)アクリル酸メトキシエチレングリコール、及び(メタ)アクリル酸メトキシポリプロピレングリコール等のグリコール系モノマー;N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド;メタクリル酸及びアクリル酸などを挙げることができる。   For the purpose of improving the physical properties such as optical properties and heat resistance of monovinyl monomer copolymerizable with the above monomer material, in the production of a partial polymer / monomer mixture, or in addition to the partial polymer / monomer mixture. It is preferable to use it together as necessary. Examples of the monovinyl monomer include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, and 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate. Hydroxyl group-containing monomers; (meth) acrylic acid alkoxyalkyl monomers such as (meth) acrylic acid methoxyethyl and (meth) acrylic acid ethoxyethyl; (meth) acrylic acid polyethylene glycol, (meth) acrylic acid polypropylene glycol, ( Glycol monomers such as (meth) acrylic acid methoxyethylene glycol and (meth) acrylic acid methoxypolypropylene glycol; (meth) acrylamides such as N-methylolacrylamide and N-methylolmethacrylamide; Such as acrylic acid and acrylic acid.

さらに、メタアクリル酸及びメタアクリル酸(アクリル酸が好ましい);(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸4−ヒドロキシブチル等のヒドロキシル基含有モノマー;(メタ)アクリル酸メトキシポリプロピレングリコール等の(メタ)アクリル酸アルコキシポリアルキレングリコール;及びN−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド等のヒドロキシル基含有(メタ)アクリルアミドが好ましい。ヒドロキシル基含有モノマーは、耐湿熱性の向上に有効であるので好ましい。また、特に、アクリル酸が、良好な相溶性の点から好ましい。   Further, methacrylic acid and methacrylic acid (acrylic acid is preferred); hydroxyl groups such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate Monomers; (meth) acrylic acid alkoxypolyalkylene glycols such as (meth) acrylic acid methoxypolypropylene glycol; and hydroxyl group-containing (meth) acrylamides such as N-methylolacrylamide and N-methylolmethacrylamide are preferred. A hydroxyl group-containing monomer is preferable because it is effective in improving the heat and moisture resistance. In particular, acrylic acid is preferred from the viewpoint of good compatibility.

特に、第1の粘着層に使用されるアクリル樹脂を構成するモノマーとして、さらにトリメチロールプロパントリアクリレートを含んでいることが好ましく、また(メタ)アクリル酸アルコキシポリアルキレングリコール[好ましくは(メタ)アクリル酸メトキシポリプロピレングリコール(プロピレンオキシドの付加数は4〜16個、特に6〜15個が好ましい)]及び水酸基含有(メタ)アクリレート[好ましくは(メタ)アクリル酸4−ヒドロキシアルキル(アルキルの炭素原子数は3〜5が好ましい)、特に(メタ)アクリル酸4−ヒドロキシブチル]を含むことも好ましい。さらに、トリメチロールプロパントリアクリレート、アルコキシポリアルキレングリコール(メタ)アクリレート及び水酸基含有(メタ)アクリレートを含むことが好ましい。第1の粘着層においては、アクリル樹脂を構成する全モノマー材料100質量部に対して、(メタ)アクリル酸アルコキシポリアルキレングリコール及び水酸基含有(メタ)アクリレートを、それぞれ3〜70質量部(好ましくは7〜35質量部)、0.7〜35質量部(好ましくは1.4〜21質量部)含有することが好ましい。また使用された場合の部分重合体・モノマー混合物100質量部に対しては、(メタ)アクリル酸アルコキシポリアルキレングリコール及び水酸基含有(メタ)アクリレートを、それぞれ5〜100質量部(好ましくは10〜50質量部)、1〜50質量部(好ましくは2〜30質量部)含有することが好ましい。   In particular, the monomer constituting the acrylic resin used in the first adhesive layer preferably further contains trimethylolpropane triacrylate, and (meth) acrylic acid alkoxypolyalkylene glycol [preferably (meth) acrylic. Acid methoxypolypropylene glycol (addition number of propylene oxide is 4 to 16, particularly 6 to 15 is preferable)] and hydroxyl group-containing (meth) acrylate [preferably 4-hydroxyalkyl (meth) acrylate (the number of carbon atoms of alkyl) 3 to 5 are preferable), and it is also preferable to contain 4-hydroxybutyl (meth) acrylate in particular. Further, it preferably contains trimethylolpropane triacrylate, alkoxy polyalkylene glycol (meth) acrylate and hydroxyl group-containing (meth) acrylate. In the first adhesive layer, 3 to 70 parts by mass (preferably (meth) acrylic acid alkoxypolyalkylene glycol and hydroxyl group-containing (meth) acrylate) with respect to 100 parts by mass of all monomer materials constituting the acrylic resin. 7 to 35 parts by mass) and 0.7 to 35 parts by mass (preferably 1.4 to 21 parts by mass). Moreover, 5-100 mass parts (preferably 10-50 each) of (meth) acrylic acid alkoxy polyalkylene glycol and hydroxyl-containing (meth) acrylate are used with respect to 100 mass parts of the partial polymer / monomer mixture when used. Parts by mass), 1 to 50 parts by mass (preferably 2 to 30 parts by mass).

また、第2又は第3の粘着層に使用されるアクリル樹脂を構成するモノマーとして、さらにメタクリル酸2−ヒドロキシルエチル又はN−メチロールアクリルアミドを含んでいることが好ましい。第2又は3の粘着層においては、アクリル樹脂を構成する全モノマー100質量部に対して、メタクリル酸2−ヒドロキシルエチル又はN−メチロールアクリルアミドを0.1〜5質量部(特に、0.2〜2質量部)含まれることが好ましい。   Moreover, it is preferable that 2-hydroxylethyl methacrylate or N-methylol acrylamide is further included as a monomer which comprises the acrylic resin used for the 2nd or 3rd adhesion layer. In the second or third adhesive layer, 0.1 to 5 parts by mass (particularly 0.2 to 2 parts by weight) of 2-hydroxylethyl methacrylate or N-methylolacrylamide with respect to 100 parts by mass of all monomers constituting the acrylic resin. 2 parts by mass) is preferably included.

また、第1の粘着層は、特に可撓性に優れていることが必要であり、第2及び第3の粘着層に比較して、アクリル酸を少なく、炭素原子数4〜14のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル(特に2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート)を多く使用することが好ましい。例えば、第1の粘着層は、アクリル樹脂を構成する全モノマー100質量部に対してアクリル酸を3質量部以下用い、第2及び第3の粘着層は、アクリル酸を3.5質量部以上用いることが好ましい。また、第2及び第3の粘着層はヒドロキシル基含有モノマー或いはヒドロキシル基含有(メタ)アクリルアミドを用いることが好ましい。   In addition, the first adhesive layer needs to be particularly excellent in flexibility. Compared with the second and third adhesive layers, the first adhesive layer has less acrylic acid and has 4 to 14 carbon atoms. It is preferable to use a large amount of (meth) acrylic acid alkyl ester (particularly 2-ethylhexyl (meth) acrylate) having For example, the first adhesive layer uses 3 parts by mass or less of acrylic acid with respect to 100 parts by mass of all monomers constituting the acrylic resin, and the second and third adhesive layers have an acrylic acid of 3.5 parts by mass or more. It is preferable to use it. Moreover, it is preferable to use a hydroxyl group-containing monomer or a hydroxyl group-containing (meth) acrylamide for the second and third adhesive layers.

部分重合体・モノマー混合物の製造は、適宜の重合開始剤を用いて溶液重合、塊状重合、乳化重合等の公知のラジカル重合法を適宜選択して用いることができる。ラジカル重合開始剤としては、アゾ系、過酸化物系の各種公知のものを使用できる。例えば、塊状重合では、重合開始剤をモノマー100質量部に対し0.01〜0.2質量部程度使用し、これに紫外線などの放射線を少量照射して部分的に重合させ、反応系を増粘させることにより得られる。モノマーの重合率は3〜50質量%であることが好ましく、さらに好ましくは5〜30質量%、特に好ましくは10〜20質量%である。   For the production of the partial polymer / monomer mixture, a known radical polymerization method such as solution polymerization, bulk polymerization, emulsion polymerization or the like can be appropriately selected and used using an appropriate polymerization initiator. As the radical polymerization initiator, various known azo and peroxide initiators can be used. For example, in bulk polymerization, a polymerization initiator is used in an amount of about 0.01 to 0.2 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the monomer, and this is irradiated with a small amount of radiation such as ultraviolet rays to partially polymerize to increase the reaction system. It is obtained by making it stick. The polymerization rate of the monomer is preferably 3 to 50% by mass, more preferably 5 to 30% by mass, and particularly preferably 10 to 20% by mass.

(メタ)アクリロイル基を2個以上有する多官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレートやポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート等が挙げることができる。   Examples of the polyfunctional (meth) acrylate having two or more (meth) acryloyl groups include hexanediol di (meth) acrylate, (poly) ethylene glycol di (meth) acrylate, and (poly) propylene glycol di (meth) acrylate. , Neopentyl glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, Polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, etc. can be mentioned.

上記硬化性(メタ)アクリレート組成物の好ましいもの(特に第1の粘着層用として好ましい)としては、炭素原子数4〜14のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルを主体とする(50質量%以上)モノマー材料を部分的に重合してなる部分重合体・モノマー混合物100質量部に、前述のように(メタ)アクリル酸アルキルエステルとして、アルキル−ポリアルキレングリコール(メタ)アクリレート及び水酸基含有(メタ)アクリレートを適量加え、さらに(メタ)アクリロイル基を2個以上有する多官能(メタ)アクリレートを0.1〜1.0質量部加えたものである。第2及び第3の粘着層用としては、多官能(メタ)アクリレートを含まないことが好ましい
この硬化性(メタ)アクリレート組成物を構成する部分重合体・モノマー混合物としては、特に、少なくともアルキルアクリレート(但し、アルキル基の炭素原子数が4〜10個である;特に2−エチルヘキシルアクリレート)とアクリル酸を含む混合物であることが好ましい。上記アクリル酸は、上記アルキルアクリレートに対して、0.1〜20質量%、特に0.5〜10質量%使用することが好ましい。第1の粘着層用ではアクリル酸は、上記アルキルアクリレートに対して、4〜6質量%が好ましく、第2及び第3の粘着層用としては、アクリル酸は、上記アルキルアクリレートに対して、0.1〜3.5質量%が好ましくことが好ましい。
As the preferable curable (meth) acrylate composition (especially preferable for the first adhesive layer), a (meth) acrylic acid alkyl ester having an alkyl group having 4 to 14 carbon atoms is mainly used (50 (Mass% or more) 100 parts by mass of a partial polymer / monomer mixture obtained by partially polymerizing the monomer material, as described above, containing (alkyl) alkyl-polyalkylene glycol (meth) acrylate and hydroxyl group as (meth) acrylic acid alkyl ester An appropriate amount of (meth) acrylate is added, and further 0.1 to 1.0 part by mass of polyfunctional (meth) acrylate having two or more (meth) acryloyl groups is added. For the second and third adhesive layers, it is preferable not to contain a polyfunctional (meth) acrylate. As the partial polymer / monomer mixture constituting the curable (meth) acrylate composition, in particular, at least an alkyl acrylate (However, the alkyl group has 4 to 10 carbon atoms; particularly 2-ethylhexyl acrylate) and a mixture containing acrylic acid is preferable. The acrylic acid is preferably used in an amount of 0.1 to 20% by mass, particularly 0.5 to 10% by mass, based on the alkyl acrylate. For the first adhesive layer, the acrylic acid is preferably 4 to 6% by mass relative to the alkyl acrylate, and for the second and third adhesive layers, the acrylic acid is 0% relative to the alkyl acrylate. .1 to 3.5% by mass is preferable.

硬化性(メタ)アクリレート組成物を構成するモノマーとして、部分重合体・モノマー混合物を使用する場合、これに加えて、さらに(メタ)アクリロイル基を2個以上有する多官能アクリレートモノマー(特にトリメチロールプロパントリアクリレート)を含んでいることが、特に好ましい。多官能アクリレートモノマーは、一般に、上記部分重合体・モノマー混合物100質量部に対して0.1〜1.0質量部使用される。   When a partial polymer / monomer mixture is used as a monomer constituting the curable (meth) acrylate composition, in addition to this, a polyfunctional acrylate monomer having 2 or more (meth) acryloyl groups (particularly trimethylolpropane) It is particularly preferred that it contains (triacrylate). The polyfunctional acrylate monomer is generally used in an amount of 0.1 to 1.0 part by mass with respect to 100 parts by mass of the partial polymer / monomer mixture.

このようなアクリル樹脂の材料を使用することにより、前記特定の動的貯蔵弾性率及び静的損失弾性率を得るための樹脂を設計しやすい。また、これにより衝撃を吸収し、且つ衝撃による変形から容易に変形前の形に戻りやすい層が得られ易い。得られる層のゲル分率は70〜100質量%であることが好ましく、さらに好ましくは80〜100質量%、特に好ましくは80〜99質量%である。その重量平均分子量が10000〜700000、特に400000〜700000であることが好ましい。   By using such an acrylic resin material, it is easy to design a resin for obtaining the specific dynamic storage elastic modulus and static loss elastic modulus. In addition, this makes it easy to obtain a layer that absorbs impact and easily returns to its original shape from deformation due to impact. The gel fraction of the obtained layer is preferably 70 to 100% by mass, more preferably 80 to 100% by mass, and particularly preferably 80 to 99% by mass. The weight average molecular weight is preferably 10,000 to 700,000, particularly preferably 400,000 to 700,000.

第1の粘着層の層厚が、0.05〜1.0mmの範囲、さらに0.1〜0.5mmの範囲にあることが好ましい。第2の粘着層の層厚が、0.005〜0.1mmの範囲、さらに0.01〜0.05mmの範囲にあることが好ましい。これにより優れた耐衝撃性が得られやすい。さらに、第1の粘着層の層厚が、第2又は第3の粘着層の層厚の5〜20倍であることが好ましい。   The thickness of the first adhesive layer is preferably in the range of 0.05 to 1.0 mm, more preferably in the range of 0.1 to 0.5 mm. The layer thickness of the second adhesive layer is preferably in the range of 0.005 to 0.1 mm, more preferably in the range of 0.01 to 0.05 mm. Thereby, it is easy to obtain excellent impact resistance. Furthermore, the layer thickness of the first adhesive layer is preferably 5 to 20 times the layer thickness of the second or third adhesive layer.

上記紫外線又は熱硬化性(メタ)アクリレート組成物に、前述のハードコート層の材料として記載した光重合開始剤(紫外線)又は熱重合開始剤(熱)、そして所望により各種添加剤を含んでいる。例えば、組成物の接着特性を調整するため、公知の粘着付与樹脂(例えば、ロジン系樹脂、テルペン系樹脂、石油樹脂、クマロン・インデン樹脂、スチレン系樹脂など)を添加してもよい。また、粘着付与樹脂以外の添加剤としては、可塑剤、ガラス繊維、ガラスビーズ、金属粉、又は微粉末シリカなどの充てん剤、顔料、着色剤、酸化防止剤、老化防止剤、シランカップリング剤、紫外線吸収剤などが挙げられる。また、微粒子を含有させて光拡散性を有する粘着剤層とすることもできる。   The ultraviolet or thermosetting (meth) acrylate composition contains the photopolymerization initiator (ultraviolet light) or thermal polymerization initiator (heat) described as the material for the hard coat layer, and various additives as required. . For example, a known tackifier resin (for example, rosin resin, terpene resin, petroleum resin, coumarone-indene resin, styrene resin, etc.) may be added to adjust the adhesive properties of the composition. Additives other than tackifying resins include fillers such as plasticizers, glass fibers, glass beads, metal powder, or finely divided silica, pigments, colorants, antioxidants, anti-aging agents, and silane coupling agents. And ultraviolet absorbers. Moreover, it can also be set as the adhesive layer which contains microparticles | fine-particles and has light diffusibility.

本発明の粘着層の形成方法は、特に制限されず種々な方法を利用することができる。例えば、透明フィルムの片面又は両面或いは所望の層の表面に、前記硬化性(メタ)アクリレート組成物を塗布、乾燥し、必要により硬化させて(好ましくは塊状重合により)、粘着層を形成する方法を挙げることができる。また、表面が剥離性の転写シート上に前記硬化性(メタ)アクリレート組成物を塗布、乾燥して必要により硬化させて粘着層を形成した後、粘着層を基板の片面又は両面に貼り付け、前記転写シートを剥離除去することにより粘着層を形成してもよい。   The method for forming the adhesive layer of the present invention is not particularly limited, and various methods can be used. For example, a method of forming an adhesive layer by applying the curable (meth) acrylate composition on one or both sides of a transparent film or the surface of a desired layer, drying, and curing as necessary (preferably by bulk polymerization). Can be mentioned. Also, after applying the curable (meth) acrylate composition on a transfer sheet whose surface is peelable, drying and curing as necessary to form an adhesive layer, the adhesive layer is attached to one or both sides of the substrate, The adhesive layer may be formed by peeling and removing the transfer sheet.

本発明の粘着層を紫外線照射により形成する場合は、例えば、上記紫外線硬化性(メタ)アクリレート組成物を、表面が剥離性の転写シートに塗布した後、必要により塗布膜の表面にも表面が剥離性の転写シートを載置し(サンドイッチ状態で)、紫外線照射により硬化させることにより得たのち、転写シートを除去することにより得ることができる。或いは、光学フィルタの粘着層を設けるべき表面に、直接上記紫外線硬化性(メタ)アクリレート組成物を、塗布した後、紫外線照射により硬化させることにより粘着層を形成することができる。また、比較的厚めの衝撃緩衝層を形成する必要があることから、光重合反応させることにより粘着層を形成することが好ましい。   When the adhesive layer of the present invention is formed by ultraviolet irradiation, for example, after the ultraviolet curable (meth) acrylate composition is applied to a transfer sheet whose surface is peelable, the surface of the coating film is also applied as necessary. It can be obtained by placing a peelable transfer sheet (in a sandwich state) and curing it by ultraviolet irradiation, and then removing the transfer sheet. Alternatively, the adhesive layer can be formed by applying the ultraviolet curable (meth) acrylate composition directly on the surface where the adhesive layer of the optical filter is to be provided and then curing the composition by ultraviolet irradiation. Further, since it is necessary to form a relatively thick impact buffer layer, it is preferable to form the adhesive layer by photopolymerization reaction.

上記紫外線硬化方式の好ましい態様では、まずモノマー材料及び光重合開始剤を混合し、少量の光照射により一部のモノマーを重合させて反応系を増粘させる(部分重合体・モノマー混合物の作製)。この部分重合体・モノマー混合物に多官能(メタ)アクリレート、及び光重合開始剤等を適宜添加混合して、これを適当な厚みで上記基板等に塗布する。その後、光照射により重合、架橋させて衝撃緩衝層を形成する。光重合開始剤の量は、紫外線又は熱硬化性(メタ)アクリレート組成物に対して0.1〜10質量%、好ましくは0.1〜5質量%である。   In a preferred embodiment of the UV curing method, first, a monomer material and a photopolymerization initiator are mixed, and a part of the monomer is polymerized by a small amount of light irradiation to thicken the reaction system (production of a partial polymer / monomer mixture). . A polyfunctional (meth) acrylate, a photopolymerization initiator, and the like are appropriately added to and mixed with this partial polymer / monomer mixture, and this is applied to the substrate or the like with an appropriate thickness. Then, it is polymerized and cross-linked by light irradiation to form an impact buffer layer. The quantity of a photoinitiator is 0.1-10 mass% with respect to an ultraviolet-ray or a thermosetting (meth) acrylate composition, Preferably it is 0.1-5 mass%.

或いは後述するEVA等の熱可塑性樹脂の粘着層は、前記塗布以外の方法でも形成可能であり、例えばEVAと上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した後、カレンダー、ロール、Tダイ押出、インフレーション等の成膜法により所定の形状にシート成形することにより製造される。成膜に際してはブロッキング防止、ガラス基板との圧着時の脱気を容易にするためエンボスが付与される。   Alternatively, the adhesive layer of a thermoplastic resin such as EVA, which will be described later, can be formed by a method other than the above-mentioned application. For example, after mixing EVA and the above-mentioned additives and kneading with an extruder, a roll, etc., a calendar, a roll It is manufactured by forming a sheet into a predetermined shape by a film forming method such as T-die extrusion or inflation. During film formation, embossing is applied to prevent blocking and facilitate degassing during pressure bonding with a glass substrate.

上記粘着層の材料として、EVAも使用することができる。EVAとしては酢酸ビニル含有量が5〜50重量%、好ましくは15〜40重量%のものが使用される。酢酸ビニル含有量が5重量%より少ないと透明性に問題があり、また40重量%を超すと機械的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィルム相互のブロッキングが生じ易い。   EVA can also be used as the material for the adhesive layer. EVA having a vinyl acetate content of 5 to 50% by weight, preferably 15 to 40% by weight is used. When the vinyl acetate content is less than 5% by weight, there is a problem in transparency, and when it exceeds 40% by weight, the mechanical properties are remarkably deteriorated and the film formation becomes difficult and the films are easily blocked.

架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯蔵安定性等を考慮して選ばれる。使用可能な過酸化物としては、例えば2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオキサイド;2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン−3;ジーt−ブチルパーオキサイド;t−ブチルクミルパーオキサイド;2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン;ジクミルパーオキサイド;α,α’−ビス(t−ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン;n−ブチル−4,4−ビス(t−ブチルパーオキシ)バレレート;2,2−ビス(t−ブチルパーオキシ)ブタン;1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン;1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン;t−ブチルパーオキシベンゾエート;ベンゾイルパーオキサイド;第3ブチルパーオキシアセテート;2,5−ジメチル−2,5−ビス(第3ブチルパーオキシ)ヘキシン−3;1,1−ビス(第3ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン;1,1−ビス(第3ブチルパーオキシ)シクロヘキサン;メチルエチルケトンパーオキサイド;2,5−ジメチルヘキシル−2,5−ビスパーオキシベンゾエート;第3ブチルハイドロパーオキサイド;p−メンタンハイドロパーオキサイド;p−クロルベンゾイルパーオキサイド;第3ブチルパーオキシイソブチレート;ヒドロキシヘプチルパーオキサイド;クロルヘキサノンパーオキサイド等を挙げることができる。これらの過酸化物は1種を単独で又は2種以上を混合して、通常EVA100重量部に対して、5質量部以下、好ましくは0.5〜5.0質量部の割合で使用される。   As the cross-linking agent, an organic peroxide is suitable for heat cross-linking and is selected in consideration of sheet processing temperature, cross-linking temperature, storage stability, and the like. Examples of peroxides that can be used include 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydroperoxide; 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane-3; -Butyl peroxide; t-butylcumyl peroxide; 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane; dicumyl peroxide; α, α'-bis (t-butylperoxyisopropyl) ) Benzene; n-butyl-4,4-bis (t-butylperoxy) valerate; 2,2-bis (t-butylperoxy) butane; 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane; , 1-bis (t-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane; t-butylperoxybenzoate; benzoyl peroxide; Luperoxyacetate; 2,5-dimethyl-2,5-bis (tertiarybutylperoxy) hexyne-3; 1,1-bis (tertiarybutylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane; 1-bis (tert-butylperoxy) cyclohexane; methyl ethyl ketone peroxide; 2,5-dimethylhexyl-2,5-bisperoxybenzoate; tert-butyl hydroperoxide; p-menthane hydroperoxide; p-chlorobenzoyl Peroxides; tertiary butyl peroxyisobutyrate; hydroxyheptyl peroxide; chlorohexanone peroxide. These peroxides are used singly or in combination of two or more, and are usually used at a ratio of 5 parts by mass or less, preferably 0.5 to 5.0 parts by mass with respect to 100 parts by weight of EVA. .

有機過酸化物は通常EVAに対し押出機、ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニルモノマー等に溶解し、EVAのフィルムに含浸法により添加しても良い。   The organic peroxide is usually kneaded with EVA using an extruder, a roll mill or the like, but may be dissolved in an organic solvent, a plasticizer, a vinyl monomer or the like and added to the EVA film by an impregnation method.

なお、EVAの物性(機械的強度、光学的特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など)改良のために、各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及びアリル基含有化合物を添加することができる。この目的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般的であり、エステル残基としてはメチル、エチル、ドデシル、ステアリル、ラウリル等のアルキル基の他、シクロヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチル基、2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピル基、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル基などが挙げられる。また、エチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールとのエステルを用いることもできる。アミドとしてはダイアセトンアクリルアミドが代表的である。   Various acryloxy group or methacryloxy group and allyl group-containing compounds can be added to improve EVA physical properties (mechanical strength, optical properties, adhesiveness, weather resistance, whitening resistance, crosslinking speed, etc.). . As the compound used for this purpose, acrylic acid or methacrylic acid derivatives, for example, esters and amides thereof are the most common. As the ester residue, in addition to alkyl groups such as methyl, ethyl, dodecyl, stearyl, lauryl, cyclohexyl groups , Tetrahydrofurfuryl group, aminoethyl group, 2-hydroxyethyl group, 3-hydroxypropyl group, 3-chloro-2-hydroxypropyl group and the like. Further, esters with polyfunctional alcohols such as ethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, trimethylolpropane, and pentaerythritol can also be used. A typical amide is diacetone acrylamide.

その例としては、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のアクリル又はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジアリル等のアリル基含有化合物が挙げられ、これらは1種を単独で或いは2種以上を混合して、通常EVA100質量部に対して0.1〜2質量部、好ましくは0.5〜5質量部用いられる。   Examples thereof include polyfunctional esters such as acrylic or methacrylic acid esters such as trimethylolpropane, pentaerythritol, glycerin, triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, diallyl phthalate, diallyl isophthalate, diallyl maleate, etc. Examples include allyl group-containing compounds. These are used alone or in combination of two or more, and are usually used in an amount of 0.1 to 2 parts by weight, preferably 0.5 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of EVA. .

EVAを光により架橋する場合、上記過酸化物の代りに光増感剤が通常EVA100質量部に対して5質量部以下、好ましくは0.1〜3.0質量部使用される。   When EVA is crosslinked by light, a photosensitizer is usually used in an amount of 5 parts by mass or less, preferably 0.1 to 3.0 parts by mass based on 100 parts by mass of EVA instead of the peroxide.

この場合、使用可能な光増感剤としては、例えばベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジベンジル、5−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシクロペンタジエン、p−ニトロジフェニル、p−ニトロアニリン、2,4,6−トリニトロアニリン、1,2−ベンズアントラキノン、3−メチル−1,3−ジアザ−1,9−ベンズアンスロンなどが挙げられ、これらは1種を単独で或いは2種以上を混合して用いることができる。   In this case, usable photosensitizers include, for example, benzoin, benzophenone, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, dibenzyl, 5-nitroacenaphthene, hexachlorocyclopentadiene, p-nitrodiphenyl. , P-nitroaniline, 2,4,6-trinitroaniline, 1,2-benzanthraquinone, 3-methyl-1,3-diaza-1,9-benzanthrone, and the like. Alternatively, two or more types can be mixed and used.

また、接着促進剤としてシランカップリング剤が併用される。このシランカップリング剤としては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。   Moreover, a silane coupling agent is used in combination as an adhesion promoter. As this silane coupling agent, vinyltriethoxysilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycid Xylpropyltriethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-chloropropylmethoxysilane, vinyltrichlorosilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N- β (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane and the like can be mentioned.

シランカップリング剤は、一般にEVA100質量部に対して0.001〜10質量部、好ましくは0.001〜5質量部の割合で1種又は2種以上が混合使用される。   The silane coupling agent is generally used in an amount of 0.001 to 10 parts by mass, preferably 0.001 to 5 parts by mass, based on 100 parts by mass of EVA, and one or more types are mixed and used.

なお、本発明に係るEVA接着層には、その他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいてもよく、また、場合によってはカーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の充填剤を少量含んでも良い。   In addition, the EVA adhesive layer according to the present invention may further contain a small amount of an ultraviolet absorber, an infrared absorber, an anti-aging agent, a coating processing aid, a colorant, and the like. A small amount of a filler such as hydrophobic silica or calcium carbonate may be included.

近赤外線遮蔽層又はフィルムとしては、一般に近赤外線カットフィルムであり、例えば、ベースフィルムの表面に、色素等を含む近赤外線カット層が形成されたものであるか、或いは色素等を含有するフィルムである。色素の例としては、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、アントラキノン系色素、フタロシアニン系色素、ポリメチン系色素、ポリアゾ系色素を挙げることができ、特にシアニン系色素又はスクアリリウム系色素が好ましい。これらの色素は、単独又は組み合わせて使用することができる。   The near-infrared shielding layer or film is generally a near-infrared cut film, for example, a near-infrared cut layer containing a pigment or the like formed on the surface of the base film, or a film containing a pigment or the like. is there. Examples of the dye include a cyanine dye, a squarylium dye, an anthraquinone dye, a phthalocyanine dye, a polymethine dye, and a polyazo dye, and a cyanine dye or a squarylium dye is particularly preferable. These dyes can be used alone or in combination.

特に好ましい近赤外線カットフィルムは、ベースフィルムの表面に、ジイモニウム系化合物と特定の銅錯体及び/又は銅化合物とを含む近赤外線カット層が形成されたものであり、この近赤外線カット層はベースポリマーにジイモニウム系化合物と銅錯体及び/又は銅化合物とを分散させ、適当な溶剤で希釈して濃度調整したコーティング液を透明基板の表面にコーティングし、コーティング膜を乾燥させることにより形成することができる。   A particularly preferred near-infrared cut film is obtained by forming a near-infrared cut layer containing a diimonium compound and a specific copper complex and / or a copper compound on the surface of the base film. It can be formed by dispersing a diimonium compound and a copper complex and / or a copper compound, coating the surface of the transparent substrate with a coating solution that has been diluted with an appropriate solvent and adjusting the concentration, and then drying the coating film. .

上記近赤外線カットフィルムは、ベースフィルムに、2層以上の近赤外線カット層、好ましくは2種以上の近赤外線吸収剤の層で構成した層を設けても良く、この場合には、近赤外の幅広い波長域において著しく良好な近赤外線カット性能を得ることができ、有利である。   The near-infrared cut film may be provided with a layer composed of two or more near-infrared cut layers, preferably two or more near-infrared absorber layers, on the base film. It is advantageous in that extremely good near-infrared cut performance can be obtained in a wide wavelength range.

2層以上の近赤外線カットフィルムは、次のような構成をとることができる。   Two or more near-infrared cut films can be configured as follows.

ベースフィルム上に近赤外線カット層を形成した近赤外線カットフィルムと、ベースフィルム上に近赤外線カット層を形成した近赤外線カットフィルムとの併用;
ベースフィルムの一方の面に近赤外線カット層を形成し、他方の面にも近赤外線カット層を形成した近赤外線カットフィルム;
ベースフィルム上に近赤外線カット層と近赤外線カット層とを積層形成した近赤外線カットフィルム;
ベースフィルム上に近赤外線カット層を形成した近赤外線カットフィルム;
上記のいずれか2以上の組み合わせ。
Combined use of a near-infrared cut film having a near-infrared cut layer formed on the base film and a near-infrared cut film having a near-infrared cut layer formed on the base film;
A near-infrared cut film having a near-infrared cut layer formed on one side of the base film and a near-infrared cut layer formed on the other side;
A near infrared cut film in which a near infrared cut layer and a near infrared cut layer are laminated on a base film;
Near-infrared cut film having a near-infrared cut layer formed on the base film;
Any combination of two or more of the above.

上記の構成において、近赤外線カット層のうちの一方をジイモニウム系化合物と銅錯体及び/又は銅化合物とを含む層とし、他方をこれとは異なる層とするのが好ましい。   In the above configuration, it is preferable that one of the near-infrared cut layers is a layer containing a diimonium compound and a copper complex and / or a copper compound, and the other is a different layer.

また、上記の構成において、近赤外線カット層をジイモニウム系化合物と銅錯体及び/又は銅化合物とを含む層とし、必要に応じて更に異なる近赤外線吸収剤を配合するのが好ましい。   Moreover, in said structure, it is preferable to make a near-infrared cut layer into a layer containing a diimonium type compound, a copper complex, and / or a copper compound, and to mix | blend a different near-infrared absorber as needed.

なお、本発明において、ジイモニウム系化合物と銅錯体及び/又は銅化合物とを含む層以外の近赤外線カット層として、次のようなものを1種又は2種以上を組み合わせて用いるのが、透明性を損なうことなく、良好な近赤外線カット性能(例えば850〜1250nmなど近赤外の幅広い波長域において、近赤外線を十分に吸収する性能)を得られるので好ましい。   In the present invention, as a near infrared cut layer other than a layer containing a diimonium compound and a copper complex and / or a copper compound, the following may be used alone or in combination of two or more. This is preferable because good near-infrared cut performance (for example, performance to sufficiently absorb near-infrared light in a wide wavelength range of near-infrared such as 850 to 1250 nm) can be obtained without impairing the brightness.

(a) 厚さ100〜5000ÅのITOのコーティング層、(b) 厚さ100〜10000ÅのITOと銀の交互積層体によるコーティング層、(c) 厚さ0.5〜50μmのニッケル錯体系とイモニウム系の混合材料を適当な透明のベースポリマーを用いて膜としたコーティング層、(d) 厚さ10〜10000μmの2価の銅イオンを含む銅化合物を適当な透明のベースポリマーを用いて膜としたコーティング層、(e) 厚さ0.5〜50μmの有機色素系コーティング層。   (A) ITO coating layer having a thickness of 100 to 5000 mm, (b) coating layer made of an alternating laminate of ITO and silver having a thickness of 100 to 10,000 mm, and (c) a nickel complex system and imonium having a thickness of 0.5 to 50 μm. A coating layer in which a mixed material of the system is formed into a film using an appropriate transparent base polymer; (d) a copper compound containing divalent copper ions having a thickness of 10 to 10,000 μm is formed into a film using an appropriate transparent base polymer; (E) an organic dye-based coating layer having a thickness of 0.5 to 50 μm.

保護層は、前記ハードコート層と同様にして形成することが好ましい。   The protective layer is preferably formed in the same manner as the hard coat layer.

剥離シートの材料としては、ガラス転移温度が50℃以上の透明のポリマーが好ましく、このような材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン46、変性ナイロン6T、ナイロンMXD6、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等のポリマーを主成分とする樹脂を用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートが好適に用いることができる。厚さは10〜200μmが好ましく、特に30〜100μmが好ましい。   As a material for the release sheet, a transparent polymer having a glass transition temperature of 50 ° C. or higher is preferable. Examples of such a material include polyester resins such as polyethylene terephthalate, polycyclohexylene terephthalate, and polyethylene naphthalate, nylon 46, and modified nylon. In addition to polyamide resins such as 6T, nylon MXD6, polyphthalamide, ketone resins such as polyphenylene sulfide and polythioether sulfone, and sulfone resins such as polysulfone and polyether sulfone, polyether nitrile, polyarylate, poly Resins based on polymers such as ether imide, polyamide imide, polycarbonate, polymethyl methacrylate, triacetyl cellulose, polystyrene and polyvinyl chloride can be used. . Of these, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyvinyl chloride, polystyrene, and polyethylene terephthalate can be suitably used. The thickness is preferably 10 to 200 μm, particularly preferably 30 to 100 μm.

本発明の光学フィルタは、例えば、機能性層として反射防止膜が形成された第2の透明フィルムに第2の粘着層を塗布により形成し、機能性層として導電層が形成された第1の透明フィルムに第2の粘着層を塗布により形成し、これらの第1と第2の透明フィルムを、導電層と第2の粘着層が対向するように配置して、重ね合わせ、必要により減圧及び/又は加温下に脱気して、圧着することにより、或いは重ね合わせた後、減圧、加温下に脱気して加熱又は光照射により粘着層を加熱(必要により硬化)して一体化することにより容易に製造することができる。あるいは、上記2枚の透明フィルムを、連続的に搬送して重ね合わせ、加熱圧着して、連続的に製造することも可能である。3枚の透明フィルムを積層圧着する場合も、同様に行うことができる。   In the optical filter of the present invention, for example, the first adhesive layer is formed by applying the second adhesive layer to the second transparent film in which the antireflection film is formed as the functional layer, and the conductive layer is formed as the functional layer. A second adhesive layer is formed on the transparent film by coating, and the first and second transparent films are arranged so that the conductive layer and the second adhesive layer face each other, and are overlapped, and if necessary, reduced pressure and Degassing under heating and pressure bonding, or after overlapping, degassing under reduced pressure and heating and heating (hardening if necessary) the adhesive layer by heating or light irradiation By doing so, it can be easily manufactured. Alternatively, the above-described two transparent films can be continuously transported, overlapped, thermocompression-bonded, and continuously manufactured. The same can be done when three transparent films are laminated and pressure-bonded.

このようにして得られる本発明の光学フィルタは、図7に示すように、PDP等のディスプレイの画像表示ガラス板の表面に貼り合わされて使用される。図7には、ディスプレイ表面の画像表示ガラス板70上に、図2に示す光学フィルタが第1の粘着層23Aを介して貼付された状態が示されている。   The optical filter of the present invention thus obtained is used by being bonded to the surface of an image display glass plate of a display such as a PDP as shown in FIG. FIG. 7 shows a state in which the optical filter shown in FIG. 2 is stuck on the image display glass plate 70 on the display surface via the first adhesive layer 23A.

本発明のPDP表示装置は、透明基板としてプラスチックフィルムを使用することにより、本発明の光学フィルタをその表面であるガラス板表面に直接貼り合わせることができるため、PDP自体の軽量化、薄型化、低コスト化に寄与できる。また、PDPの前面側に透明成形体からなる前面板を設置する場合に比べると、PDPとPDP用フィルタとの間に屈折率の低い空気層をなくすことができるため、界面反射による可視光反射率の増加、二重反射などの問題を解決でき、PDPの視認性をより向上させることができる。また、本発明では特定の粘着層が設けられているので、高い衝撃力に対して緩和性を有するため、外部からの大きな衝撃に対してPDPを保護する機能を有するものである。   Since the PDP display device of the present invention can directly bond the optical filter of the present invention to the surface of the glass plate by using a plastic film as a transparent substrate, the PDP itself can be reduced in weight, thickness, This can contribute to cost reduction. Compared with the case where a front plate made of a transparent molded body is installed on the front side of the PDP, an air layer having a low refractive index can be eliminated between the PDP and the PDP filter, so that visible light reflection due to interface reflection can be achieved. Problems such as an increase in rate and double reflection can be solved, and the visibility of the PDP can be further improved. In the present invention, since the specific adhesive layer is provided, the PDP has a function of protecting the PDP against a large external impact because it has a relaxation property against a high impact force.

従って、本発明の光学フィルタは、反射防止効果、帯電防止性に優れ、危険な電磁波の放射もほとんどなく、衝撃に対して保護機能が大きいことから、見やすく、ホコリ等が付きにくく、安全なディスプレイということができる。   Therefore, the optical filter of the present invention has an excellent antireflection effect and antistatic property, hardly emits dangerous electromagnetic waves, and has a large protection function against impacts. It can be said.

以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
[実施例1](2層構造)
(1)機能性層付き第2の透明フィルム(上段の層)
(1−1)第2の粘着層形成用組成物(紫外線硬化性(メタ)アクリレート組成物)の調製
100質量部の酢酸エチル中に、95質量部のアクリル酸2−エチルヘキシル、0.5質量部のメタクリル酸2−ヒドロキシエチル及び5質量部のアクリル酸を添加して分散させ、さらに0.1質量部のベンジルメチルケタール(光重合開始剤)、0.01質量部の2−メルカプトエタノールを添加し、十分に撹拌して第2の粘着層形成用組成物(塗布液)を作製した。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not limited to a following example.
[Example 1] (two-layer structure)
(1) Second transparent film with functional layer (upper layer)
(1-1) Preparation of second adhesive layer forming composition (ultraviolet curable (meth) acrylate composition) In 100 parts by mass of ethyl acetate, 95 parts by mass of 2-ethylhexyl acrylate, 0.5 parts by mass 2 parts by weight of 2-hydroxyethyl methacrylate and 5 parts by weight of acrylic acid were added and dispersed, and further 0.1 parts by weight of benzyl methyl ketal (photopolymerization initiator) and 0.01 parts by weight of 2-mercaptoethanol were added. The mixture was added and sufficiently stirred to prepare a second adhesive layer forming composition (coating solution).

(1−2)ハードコート層付きPETフィルム(第2の透明フィルム)の作製
厚さ188μmのPETフィルムの一方の表面に、シリカ微粒子分散紫外線硬化性樹脂(商品名Z7501;JSR(株)製)を分散させた紫外線硬化性樹脂(アクリロイル基を有する樹脂組成物)からなるハードコート層形成用塗工液(シリカ含有量:51質量%(固形分))を、グラビアコータで塗工、乾燥後、紫外線照射して硬化させ、厚さ6μmのハードコート層を形成した。
(1-2) Production of PET film with hard coat layer (second transparent film) Silica fine particle-dispersed ultraviolet curable resin (trade name: Z7501; manufactured by JSR Corporation) on one surface of a 188 μm thick PET film After coating and drying a hard coat layer forming coating solution (silica content: 51 mass% (solid content)) made of an ultraviolet curable resin (resin composition having an acryloyl group) dispersed therein with a gravure coater Then, it was cured by ultraviolet irradiation to form a hard coat layer having a thickness of 6 μm.

(1−3)第2の粘着層の形成
得られた第2の粘着層形成用組成物(塗布液)を、上記ハードコート層付きPETフィルムのハードコート層の設けられていない表面に塗布し、その上からさらに別の剥離性PETフィルムを載置し、この剥離フィルムの上から紫外線ランプで紫外線を合計積算光量1100mJ/cm2になるまで照射した。これにより第2の粘着層形成用組成物が光重合し、厚さ0.03mmの第2の粘着層(第2の粘着層付き第2の透明フィルム)を得た。得られた第2の粘着層の25℃での周波数1Hzにおける貯蔵弾性率は2.2×105Paで、損失弾性率が1.4×105Paであった。
(1-3) Formation of second adhesive layer The obtained second adhesive layer-forming composition (coating solution) was applied to the surface of the PET film with a hard coat layer that was not provided with a hard coat layer. Further, another peelable PET film was placed thereon, and ultraviolet rays were irradiated from above the peeled film with an ultraviolet lamp until the total accumulated light amount reached 1100 mJ / cm 2 . Thereby, the 2nd composition for adhesion layer formation photopolymerized, and obtained the 2nd adhesion layer (2nd transparent film with the 2nd adhesion layer) of thickness 0.03mm. The obtained second adhesive layer had a storage elastic modulus of 2.2 × 10 5 Pa and a loss elastic modulus of 1.4 × 10 5 Pa at a frequency of 1 Hz at 25 ° C.

(2)機能性層付き第1の透明フィルム(下段の層)
(2−1)第1の粘着層形成用組成物(紫外線硬化性(メタ)アクリレート組成物)の調製
97.5質量部の2−エチルヘキシルアクリレート及び2.5質量部のアクリル酸を重合率30%(質量)まで重合させた部分重合体・モノマー混合物を作製した。
この部分重合体・モノマー混合物100質量部に、0.2質量部の2,2−ジエトキシアセトフェノン(光重合開始剤)、30質量部のメタアクリル酸メトキシポリプロピレングリコール(プロピレンオキシドの付加数は9個)及び10質量部のメタアクリル酸4−ヒドロキシブチル及び0.1質量部のトリメチロールプロパントリアクリレート(多官能モノマー)を添加し、充分に撹拌して第1の粘着層形成用組成物(紫外線硬化性(メタ)アクリレート組成物塗布液)を調製した。
(2) First transparent film with a functional layer (lower layer)
(2-1) Preparation of first adhesive layer-forming composition (ultraviolet curable (meth) acrylate composition) 97.5 parts by mass of 2-ethylhexyl acrylate and 2.5 parts by mass of acrylic acid had a polymerization rate of 30 A partial polymer / monomer mixture polymerized to% (mass) was prepared.
To 100 parts by mass of this partial polymer / monomer mixture, 0.2 parts by mass of 2,2-diethoxyacetophenone (photopolymerization initiator), 30 parts by mass of methoxypolypropylene glycol methacrylate (the number of additions of propylene oxide is 9). And 10 parts by mass of 4-hydroxybutyl methacrylate and 0.1 part by mass of trimethylolpropane triacrylate (polyfunctional monomer), and sufficiently stirred to form a first adhesive layer forming composition ( UV curable (meth) acrylate composition coating solution) was prepared.

(2−2)導電層付きPETフィルム(第1の透明フィルム)の作製
表面に銅箔が形成された厚さ125μmのPETフィルムの、銅箔の上にフォトレジストを塗布し、乾燥後、メッシュパターン状のマスクを介してレジスト層を露光し、現像し、次いでエッチング処理を行った。これにより導電層(メッシュパターン金属層:厚さ10μm、線幅10μm、線のピッチ:300μm、開口率:90%)を有するPETフィルムを得た。
(2-2) Production of PET film with conductive layer (first transparent film) A 125 μm thick PET film with a copper foil formed on the surface was coated with a photoresist on the copper foil, dried and then meshed. The resist layer was exposed through a patterned mask, developed, and then etched. Thus, a PET film having a conductive layer (mesh pattern metal layer: thickness 10 μm, line width 10 μm, line pitch: 300 μm, aperture ratio: 90%) was obtained.

(2−3)第1の粘着層の形成(下段の層)
得られた第1の粘着層形成用組成物(塗布液)を、上記導電層付きPETフィルムの導電層の設けられていない表面に塗布し、その上からさらに別のポリエステル系剥離性フィルムを載置し、この剥離フィルムの上から紫外線ランプで紫外線を合計積算光量2800mJ/cm2になるまで照射した。これにより第1の粘着層形成用組成物が光重合し、厚さ0.3mmの第1の粘着層(第1の粘着層付き第1の透明フィルム)を得た。得られた第2の粘着層の−10℃での周波数1Hzにおける貯蔵弾性率は6.1×104Paで、損失弾性率が6.2×104Paであった。
(2-3) Formation of first adhesive layer (lower layer)
The obtained first adhesive layer forming composition (coating solution) is applied to the surface of the PET film with a conductive layer that is not provided with a conductive layer, and another polyester-based peelable film is mounted thereon. Then, ultraviolet rays were irradiated from above the release film with an ultraviolet lamp until the total accumulated light amount reached 2800 mJ / cm 2 . Thereby, the 1st composition for adhesion layer formation photopolymerized, and obtained the 1st adhesion layer (the 1st transparent film with the 1st adhesion layer) of thickness 0.3mm. The obtained second adhesive layer had a storage elastic modulus of 6.1 × 10 4 Pa and a loss elastic modulus of 6.2 × 10 4 Pa at a frequency of 1 Hz at −10 ° C.

(3)光学フィルタの作製
上記第2の透明フィルムと第1の透明フィルムとを、導電層と第2の粘着層が接触するように載置して、加熱圧着(100℃)して本発明の光学フィルタ(図2参照)を作製した。
(3) Production of optical filter The second transparent film and the first transparent film are placed so that the conductive layer and the second adhesive layer are in contact with each other, and subjected to thermocompression bonding (100 ° C.). An optical filter (see FIG. 2) was prepared.

[実施例2](3層構造)
(1)機能性層付き第2の透明フィルム(上段の層)
実施例1と同様にして得られた、第2の粘着層及びハードコート層付き第2の透明フィルムを使用した。
[Example 2] (Three-layer structure)
(1) Second transparent film with functional layer (upper layer)
A second transparent film with a second adhesive layer and a hard coat layer obtained in the same manner as in Example 1 was used.

(2)機能性層付き第1の透明フィルム(下段の層)
実施例1と同様にして得られた、第1の粘着層及び導電層付き第1の透明フィルムを使用した。
(2) First transparent film with a functional layer (lower layer)
A first transparent film with a first adhesive layer and a conductive layer obtained in the same manner as in Example 1 was used.

(3)第3の透明フィルム(中段の層)
実施例1において、第2の粘着層及びハードコート層付き第2の透明フィルムにおいて、ハードコート層を設けない以外同様にして作製した、第3の粘着層付き第3の透明フィルム(即ち、第2の粘着層付き第2の透明フィルムと同じ)を使用した。
(3) Third transparent film (middle layer)
In Example 1, in the second transparent film with the second adhesive layer and the hard coat layer, a third transparent film with the third adhesive layer (that is, the first transparent film prepared in the same manner except that the hard coat layer was not provided) 2 and the same as the second transparent film with the adhesive layer).

(4)3枚の透明フィルムからなる光学フィルタの作製
上記第3の透明フィルム、第2の透明フィルム及び第1の透明フィルムを、導電層と第3の粘着層が接触するように、且つ第3の透明フィルムと第2の粘着層が接触するように載置して、加熱圧着(100℃)して本発明の光学フィルタ(図5参照)を作製した。
(4) Production of optical filter comprising three transparent films The third transparent film, the second transparent film, and the first transparent film are arranged so that the conductive layer and the third adhesive layer are in contact with each other. 3 was placed so that the transparent film 3 and the second adhesive layer were in contact with each other, and thermocompression bonded (100 ° C.) to produce the optical filter of the present invention (see FIG. 5).

[実施例3](3層構造)
(1)機能性層付き第2の透明フィルム(上段の層)
実施例1で使用した第2の粘着層形成用組成物として、メタクリル酸2−ヒドロキシエチルの代わりにN−メチロールアクリルアミドを同量使用した以外は、同様にして第2の粘着層及びハードコート層付き第2の透明フィルムを作製した。
[Example 3] (Three-layer structure)
(1) Second transparent film with functional layer (upper layer)
The second adhesive layer and the hard coat layer were similarly used except that the same amount of N-methylolacrylamide was used instead of 2-hydroxyethyl methacrylate as the second adhesive layer forming composition used in Example 1. An attached second transparent film was produced.

上記第2の粘着層形成用組成物を光重合することにより得られた第2の粘着層の厚さは、0.04mmであり、得られた第2の粘着層の25℃での周波数1Hzにおける貯蔵弾性率は3.9×104Paで、損失弾性率が4.5×104Paであった。 The thickness of the second adhesive layer obtained by photopolymerizing the second adhesive layer-forming composition is 0.04 mm, and the frequency of the obtained second adhesive layer at 25 ° C. is 1 Hz. The storage elastic modulus was 3.9 × 10 4 Pa and the loss elastic modulus was 4.5 × 10 4 Pa.

(2)機能性層付き第1の透明フィルム(下段の層)
実施例1で使用した第1の粘着層の作製において、合計積算光量を2200mJ/cm2に変更した以外は、同様にして第1の粘着層及びハードコート層付き第1の透明フィルムを作製した。
(2) First transparent film with a functional layer (lower layer)
In the production of the first adhesive layer used in Example 1, the first adhesive film and the first transparent film with the hard coat layer were produced in the same manner except that the total integrated light amount was changed to 2200 mJ / cm 2 . .

得られた第1の粘着層の厚さは、0.3mmであり、得られた第1の粘着層の−10℃での周波数1Hzにおける貯蔵弾性率は4.1×104Paで、損失弾性率が9.1×104Paであった。 The thickness of the obtained 1st adhesion layer is 0.3 mm, and the storage elastic modulus in the frequency of 1 Hz in -10 degreeC of the obtained 1st adhesion layer is 4.1 * 10 < 4 > Pa, loss The elastic modulus was 9.1 × 10 4 Pa.

(3)第3の透明フィルム(中段の層)
実施例2で使用した第3の粘着層の作製において、合計積算光量を3500mJ/cm2に変更した以外は、同様にして第3の粘着層及びハードコート層付き第3の透明フィルムを作製した。
(3) Third transparent film (middle layer)
In the production of the third adhesive layer used in Example 2, a third transparent film with a third adhesive layer and a hard coat layer was produced in the same manner except that the total integrated light amount was changed to 3500 mJ / cm 2 . .

得られた第3の粘着層の厚さは、0.04mmであり、得られた第3の粘着層の25℃での周波数1Hzにおける貯蔵弾性率は1.8×105Paで、損失弾性率が8.2×104Paであった。 The thickness of the obtained 3rd adhesion layer is 0.04mm, and the storage elastic modulus in the frequency of 1 Hz in 25 degreeC of the obtained 3rd adhesion layer is 1.8 * 10 < 5 > Pa, loss elasticity The rate was 8.2 × 10 4 Pa.

(4)光学フィルタの作製
上記第3の透明フィルム、第2の透明フィルム及び第1の透明フィルムを、導電層と第3の粘着層が接触するように、且つ第3の透明フィルムと第2の粘着層が接触するように載置して、加熱圧着(100℃)して本発明の光学フィルタ(図5参照)を作製した。
(4) Production of optical filter The third transparent film, the second transparent film, and the first transparent film are arranged such that the conductive layer and the third adhesive layer are in contact with each other, and the third transparent film and the second transparent film are in contact with each other. The optical filter of the present invention (see FIG. 5) was produced by placing the adhesive layer in contact with each other and thermocompression bonding (100 ° C.).

[比較例1](2層構造)
(1)機能性層付き第2の透明フィルム(上段の層)
実施例1と同様にして得られた、第2の粘着層及びハードコート層付き第2の透明フィルムを用意した。
[Comparative Example 1] (two-layer structure)
(1) Second transparent film with functional layer (upper layer)
A second transparent film with a second adhesive layer and a hard coat layer obtained in the same manner as in Example 1 was prepared.

(2)機能性層付き第1の透明フィルム(下段の層)
実施例1で使用した第1の粘着層の作製において、合計積算光量を500mJ/cm2に変更した以外は、同様にして第1の粘着層及びハードコート層付き第1の透明フィルムを作製した。
(2) First transparent film with a functional layer (lower layer)
In the production of the first adhesive layer used in Example 1, the first adhesive film and the first transparent film with a hard coat layer were produced in the same manner except that the total accumulated light amount was changed to 500 mJ / cm 2 . .

得られた第1の粘着層の厚さは、0.3mmであり、得られた第1の粘着層の−10℃での周波数1Hzにおける貯蔵弾性率は7.5×103Paで、損失弾性率が8.9×103Paであった。 The thickness of the obtained 1st adhesion layer is 0.3 mm, and the storage elastic modulus in the frequency of 1 Hz in -10 degreeC of the obtained 1st adhesion layer is 7.5 * 10 < 3 > Pa, loss The elastic modulus was 8.9 × 10 3 Pa.

(3)2枚の透明フィルムからなる光学フィルタの作製
上記第2の透明フィルム及び第1の透明フィルムを、実施例1と同様にして、加熱圧着(100℃)して光学フィルタ(図2参照)を作製した。
[比較例2](2層構造)
(1)機能性層付き第2の透明フィルム(上段の層)
実施例1で使用した第1の粘着層の作製において、合計積算光量を500mJ/cm2に変更した以外は、同様にして第1の粘着層及びハードコート層付き第1の透明フィルムを作製した。
(3) Production of optical filter comprising two transparent films The second transparent film and the first transparent film were subjected to thermocompression bonding (100 ° C.) in the same manner as in Example 1 to obtain an optical filter (see FIG. 2). ) Was produced.
[Comparative Example 2] (two-layer structure)
(1) Second transparent film with functional layer (upper layer)
In the production of the first adhesive layer used in Example 1, the first adhesive film and the first transparent film with a hard coat layer were produced in the same manner except that the total accumulated light amount was changed to 500 mJ / cm 2 . .

得られた第1の粘着層の厚さは、0.03mmであり、得られた第1の粘着層の25℃での周波数1Hzにおける貯蔵弾性率は4.0×103Paで、損失弾性率が5.5×104Paであった。 The thickness of the obtained first adhesive layer was 0.03 mm, and the storage modulus of the obtained first adhesive layer at a frequency of 1 Hz at 25 ° C. was 4.0 × 10 3 Pa. The rate was 5.5 × 10 4 Pa.

(2)機能性層付き第1の透明フィルム(下段の層)
実施例1と同様にして得られた、第1の粘着層及びハードコート層付き第1の透明フィルムを用意した。
(2) First transparent film with a functional layer (lower layer)
A first transparent film with a first adhesive layer and a hard coat layer obtained in the same manner as in Example 1 was prepared.

(3)2枚の透明フィルムからなる光学フィルタの作製
上記第2の透明フィルム及び第1の透明フィルムを、実施例1と同様にして、加熱圧着(100℃)して光学フィルタ(図2参照)を作製した。
(3) Production of optical filter comprising two transparent films The second transparent film and the first transparent film were subjected to thermocompression bonding (100 ° C.) in the same manner as in Example 1 (see FIG. 2). ) Was produced.

[比較例3](3層構造)
(1)機能性層付き第2の透明フィルム(上段の層)
(1−1)第2の粘着層形成用組成物(紫外線硬化性(メタ)アクリレート組成物)の調製
100質量部の酢酸エチル中に、50質量部のn−ブチルアクリレート、0.2質量部のアクリル酸2−ヒドロキシエチル及び0.2質量部のアゾビスイソブチロニトリルを添加して混合し、70℃を超えないように加熱しながら十分に撹拌して第2の粘着層形成用組成物(塗布液)を作製した。
[Comparative Example 3] (Three-layer structure)
(1) Second transparent film with functional layer (upper layer)
(1-1) Preparation of second adhesive layer forming composition (ultraviolet curable (meth) acrylate composition) 50 parts by mass of n-butyl acrylate, 0.2 parts by mass in 100 parts by mass of ethyl acetate 2-hydroxyethyl acrylate and 0.2 part by mass of azobisisobutyronitrile were added and mixed, and stirred sufficiently while heating so as not to exceed 70 ° C. The second adhesive layer forming composition A product (coating solution) was prepared.

(1−3)第2の粘着層の形成
得られた第2の粘着層形成用組成物(塗布液)を、実施例1で使用したハードコート層付きPETフィルムのハードコート層の設けられていない表面に塗布し、その上からさらに別の剥離性PETフィルムを載置し、この剥離フィルムの上から紫外線ランプで紫外線を合計積算光量1400mJ/cm2になるまで照射した。これにより第2の粘着層形成用組成物が光重合し、厚さ0.03mmの第2の粘着層(第2の粘着層付き第2の透明フィルム)を得た。得られた第2の粘着層の25℃での周波数1Hzにおける貯蔵弾性率は4.5×106Paで、損失弾性率が1.3×106Paであった。
(1-3) Formation of Second Adhesive Layer The obtained second adhesive layer forming composition (coating solution) was provided with a hard coat layer of a PET film with a hard coat layer used in Example 1. Then, another peelable PET film was placed thereon, and ultraviolet rays were irradiated on the release film with an ultraviolet lamp until the total accumulated light amount reached 1400 mJ / cm 2 . Thereby, the 2nd composition for adhesion layer formation photopolymerized, and obtained the 2nd adhesion layer (2nd transparent film with the 2nd adhesion layer) of thickness 0.03mm. The obtained second adhesive layer had a storage elastic modulus of 4.5 × 10 6 Pa at a frequency of 1 Hz at 25 ° C. and a loss elastic modulus of 1.3 × 10 6 Pa.

(2)機能性層付き第1の透明フィルム(下段の層)
実施例1で使用した第1の粘着層の作製において、アクリル酸の使用量を2.5質量%から25質量%に変更し、合計積算光量を1000mJ/cm2に変更した以外は、同様にして第1の粘着層及びハードコート層付き第1の透明フィルムを作製した。
(2) First transparent film with a functional layer (lower layer)
In preparation of the 1st adhesion layer used in Example 1, it changed similarly that the usage-amount of acrylic acid was changed from 2.5 mass% to 25 mass%, and the total integrated light quantity was changed to 1000 mJ / cm < 2 >. Thus, a first transparent film with a first adhesive layer and a hard coat layer was produced.

得られた第1の粘着層の厚さは、0.3mmであり、得られた第3の粘着層の−10℃での周波数1Hzにおける貯蔵弾性率は5.5×104Paで、損失弾性率が3.1×105Paであった。 The thickness of the obtained 1st adhesion layer is 0.3 mm, and the storage elastic modulus in the frequency of 1 Hz in -10 degreeC of the obtained 3rd adhesion layer is 5.5 * 10 < 4 > Pa, loss The elastic modulus was 3.1 × 10 5 Pa.

(3)第3の透明フィルム(中段の層)
上記(1)の第2の透明フィルム(上段の層)と同じフィルムを用いた。
(3) Third transparent film (middle layer)
The same film as the second transparent film (upper layer) of (1) above was used.

(4)光学フィルタの作製
上記第3の透明フィルム、第2の透明フィルム及び第1の透明フィルムを、導電層と第3の粘着層が接触するように、且つ第3の透明フィルムと第2の粘着層が接触するように載置して、加熱圧着(100℃)して本発明の光学フィルタ(図5参照)を作製した。
(4) Production of optical filter The third transparent film, the second transparent film, and the first transparent film are arranged such that the conductive layer and the third adhesive layer are in contact with each other, and the third transparent film and the second transparent film are in contact with each other. The optical filter of the present invention (see FIG. 5) was produced by placing the adhesive layer in contact with each other and thermocompression bonding (100 ° C.).

[粘着層の評価]
(1)動的貯蔵弾性率及び動的損失弾性率
上記動的貯蔵弾性率及び動的損失弾性率は下記の方法に従い測定した。
[Evaluation of adhesive layer]
(1) Dynamic storage elastic modulus and dynamic loss elastic modulus The dynamic storage elastic modulus and dynamic loss elastic modulus were measured according to the following methods.

実施例、比較例で得られた衝撃緩衝層を用い、粘弾性測定装置としてRDA3(レオメトリック・サイエンティフィック社製)を用い、φ=8mmの平行円盤形治具にて、測定厚さ1.0mmで、−60〜100℃の温度分散範囲、昇温温度2℃/分、周波数1Hzにおいて測定した。   Using the shock-absorbing layers obtained in Examples and Comparative Examples, using RDA3 (manufactured by Rheometric Scientific Co.) as a viscoelasticity measuring device, measuring thickness 1 with a parallel disk-shaped jig of φ = 8 mm It was measured at a temperature dispersion range of −60 to 100 ° C., a temperature rising temperature of 2 ° C./min and a frequency of 1 Hz at 0.0 mm.

(2)耐衝撃性
サンプルの作製
実施例1〜3及び比較例1〜3で得られた光学フィルタ(10cm角)を、10cm角の厚さ2.5mmのガラス板上に重ね、その上に10cm角の厚さ188μmのPETフィルム(2.5cm×2.5cm)を重ねて押圧し、3層の積層体を得た。
(2) Impact resistance Preparation of sample The optical filters (10 cm square) obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3 were stacked on a 10 cm square glass plate having a thickness of 2.5 mm, and on top of that. A 10 cm square PET film (2.5 cm × 2.5 cm) having a thickness of 188 μm was stacked and pressed to obtain a three-layer laminate.

図8に示すように、コンクリート床上に、厚さ10mmの鉄板を載置し、その上にサンプルを固定できるように紙ヤスリ(#150)を置き、その上に上記サンプル(10cm角の厚さ2.5mmのガラス板上に粘着層及び厚さ188μmのPETフィルムを貼付したもの)を載置し、そのPETフィルム上からスプリングインパクトハンマーを所定の衝撃力で衝撃を加えて、ガラス板の損傷を観察した。   As shown in FIG. 8, a 10 mm thick iron plate is placed on a concrete floor, a paper file (# 150) is placed on the steel plate so that the sample can be fixed thereon, and the sample (10 cm square thickness) is placed thereon. Damage to the glass plate by placing an adhesive layer and a 188 μm thick PET film on a 2.5 mm glass plate and applying a spring impact hammer with a predetermined impact force from the PET film Was observed.

所定の衝撃力として、0.20J、0.35J、0.50J、0.70J、1.00Jで行った。各実施例に付きサンプルを5枚用意し、試験を行以下基のように評価した。
○: サンプルのガラスに割れが見られなかった。
×: 1枚以上のサンプルのガラスに割れが見られた。
The predetermined impact force was 0.20J, 0.35J, 0.50J, 0.70J, 1.00J. Five samples were prepared for each example, and the test was evaluated as follows.
○: No cracks were observed in the sample glass.
X: Cracks were observed in the glass of one or more samples.

(3)鉛筆硬度
JIS−K−5400に準拠し、得られた光学フィルタの表面(ハードコート層の表面)の鉛筆硬度を測定した。測定装置として、新東科学(株)製の表面物性試験機(タイプ:14FW)を用いた。
(3) Pencil hardness Based on JIS-K-5400, the pencil hardness of the surface (surface of a hard-coat layer) of the obtained optical filter was measured. As a measuring device, a surface property tester (type: 14 FW) manufactured by Shinto Kagaku Co., Ltd. was used.

上記結果を表1に示す。   The results are shown in Table 1.

Figure 2007328092
Figure 2007328092

また、実施例1〜3で得られた本発明の特定の弾性率範囲を満足する粘着層を有するPDPフィルタは、耐衝撃性、表面硬度において優れた特性を示した。一方、本発明の弾性率の範囲を満足しない粘着層を有するPDPフィルタ(比較例1及び2)は、耐衝撃性、表面硬度において十分とは言えなかった。比較例3のPDPフィルタは、透明フィルムを3枚用いていることもあり表面硬度は比較的良好であるが、耐衝撃性は不十分である。   Moreover, the PDP filter which has the adhesion layer which satisfy | fills the specific elasticity modulus range of this invention obtained in Examples 1-3 showed the characteristic outstanding in impact resistance and surface hardness. On the other hand, the PDP filter (Comparative Examples 1 and 2) having an adhesive layer that does not satisfy the elastic modulus range of the present invention was not sufficient in impact resistance and surface hardness. The PDP filter of Comparative Example 3 uses three transparent films and has a relatively good surface hardness, but has insufficient impact resistance.

実施例で得られたフィルタを、実際にPDPに貼付しても透明性、電磁波遮蔽性等、従来のものと遜色はなかった。従って、本発明の粘着層を設けても、PDP用光学フィルタに必要な特性を損なうことがないことが分かる。   Even when the filters obtained in the examples were actually applied to the PDP, they were not inferior to conventional ones such as transparency and electromagnetic shielding properties. Therefore, it can be seen that even if the adhesive layer of the present invention is provided, the characteristics required for the optical filter for PDP are not impaired.

本発明の光学フィルタの基本構成を示す1例の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of an example which shows the basic composition of the optical filter of this invention. 本発明の光学フィルタにおける好ましい態様の1例の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of an example of the preferable aspect in the optical filter of this invention. 本発明の光学フィルタにおける、別の態様の1例の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of an example of another aspect in the optical filter of this invention. 本発明の光学フィルタの別の基本構成を示す1例の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of an example which shows another basic composition of the optical filter of this invention. 上記図4の光学フィルタにおける、好ましい態様の別の1例の概略断面図である。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of another example of a preferred embodiment in the optical filter of FIG. 上記図4の光学フィルタにおける、好ましい態様の1例の概略断面図である。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of an example of a preferred embodiment in the optical filter of FIG. 本発明の光学フィルタを有するディスプレイの基本構成を示す1例の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of an example which shows the basic composition of the display which has the optical filter of this invention. 実施例における耐衝撃試験を説明するための概略断面図である。It is a schematic sectional drawing for demonstrating the impact resistance test in an Example.

符号の説明Explanation of symbols

11A、21A、31A、41A、51A、61A 第1の透明フィルム
11B、21B、31B、41B、51B、61B 第2の透明フィルム
51C、61C 第3の透明フィルム
12、22、32,42、52、62 導電層
13A、23A、33A、43A、53A、63A 第1の粘着層
13B、23B、33B、43B、53B、63B 第2の粘着層
53C、63C 第3の粘着層
14、24、34、44、54、64 反射防止膜
11A, 21A, 31A, 41A, 51A, 61A First transparent film 11B, 21B, 31B, 41B, 51B, 61B Second transparent film 51C, 61C Third transparent film 12, 22, 32, 42, 52, 62 Conductive layer 13A, 23A, 33A, 43A, 53A, 63A First adhesive layer 13B, 23B, 33B, 43B, 53B, 63B Second adhesive layer 53C, 63C Third adhesive layer 14, 24, 34, 44 , 54, 64 Antireflection film

Claims (31)

第1の粘着層、機能性層を有する第1の透明フィルム、第2の粘着層、及び機能性層を有する第2の透明フィルムをこの順で設けられてなる積層体を含む光学フィルタであって、
第1の粘着層の、−10℃での周波数1Hzにおける貯蔵弾性率が1×103〜1×106Paの範囲にあり、且つ損失弾性率が1×103〜3×105Paの範囲にあり、そして
第2の粘着層の、25℃での周波数1Hzにおける貯蔵弾性率が1×104〜1×106Paの範囲にあり、且つ損失弾性率が1×104〜3×106Paの範囲にあることを特徴とする光学フィルタ。
An optical filter comprising a laminate comprising a first adhesive layer, a first transparent film having a functional layer, a second adhesive layer, and a second transparent film having a functional layer in this order. And
The first adhesive layer has a storage elastic modulus in a range of 1 × 10 3 to 1 × 10 6 Pa at a frequency of 1 Hz at −10 ° C. and a loss elastic modulus of 1 × 10 3 to 3 × 10 5 Pa. The storage elastic modulus of the second adhesive layer at a frequency of 1 Hz at 25 ° C. is in the range of 1 × 10 4 to 1 × 10 6 Pa, and the loss elastic modulus is 1 × 10 4 to 3 ×. An optical filter having a range of 10 6 Pa.
機能性層を有する第1の透明フィルムと第2の粘着層との間に、第3の粘着層及び機能性層を有していても良い第3の透明フィルムが、第3の粘着層が第1の透明フィルムと接触し、その上に第3の透明フィルムが位置するように、設けられており、
第3の粘着層の、25℃での周波数1Hzにおける貯蔵弾性率が1×104〜1×106Paの範囲にあり、且つ損失弾性率が1×104〜3×106Paの範囲にある請求項1に記載の光学フィルタ。
Between the first transparent film having the functional layer and the second adhesive layer, the third transparent film which may have the third adhesive layer and the functional layer is the third adhesive layer. It is provided so that the third transparent film is located on the first transparent film,
The third adhesive layer has a storage elastic modulus in the range of 1 × 10 4 to 1 × 10 6 Pa at a frequency of 1 Hz at 25 ° C. and a loss elastic modulus in the range of 1 × 10 4 to 3 × 10 6 Pa. The optical filter according to claim 1.
第1の粘着層の、−10℃での周波数1Hzにおける貯蔵弾性率が1×104〜1×105Paの範囲にあり、且つ動的損失弾性率が5×103〜1×105Paの範囲にある請求項1又は2に記載の光学フィルタ。 The first adhesive layer has a storage elastic modulus in the range of 1 × 10 4 to 1 × 10 5 Pa at a frequency of 1 Hz at −10 ° C. and a dynamic loss elastic modulus of 5 × 10 3 to 1 × 10 5. The optical filter according to claim 1 or 2, which is in a range of Pa. 第2の粘着層の、25℃での周波数1Hzにおける貯蔵弾性率が5×104〜5×105Paの範囲にあり、且つ損失弾性率が5×104〜5×105Paの範囲にある請求項1又は2に記載の光学フィルタ。 The storage elastic modulus of the second adhesive layer at a frequency of 1 Hz at 25 ° C. is in the range of 5 × 10 4 to 5 × 10 5 Pa, and the loss elastic modulus is in the range of 5 × 10 4 to 5 × 10 5 Pa. The optical filter according to claim 1 or 2. 第3の粘着層の、25℃での周波数1Hzにおける貯蔵弾性率が5×104〜5×105Paの範囲にあり、且つ損失弾性率が5×104〜5×105Paの範囲にある請求項2〜4のいずれか1項に記載の光学フィルタ。 The third adhesive layer has a storage elastic modulus in the range of 5 × 10 4 to 5 × 10 5 Pa at a frequency of 1 Hz at 25 ° C., and a loss elastic modulus in the range of 5 × 10 4 to 5 × 10 5 Pa. The optical filter according to any one of claims 2 to 4. 第1の透明フィルムの機能性層と第2の粘着層が接している請求項1、3又は4に記載の光学フィルタ。   The optical filter according to claim 1, 3 or 4, wherein the functional layer of the first transparent film and the second adhesive layer are in contact with each other. 第1の透明フィルムの機能性層と第3の粘着層が接している請求項2又は5に記載の光学フィルタ。   The optical filter according to claim 2, wherein the functional layer of the first transparent film is in contact with the third adhesive layer. 第2の粘着層の貯蔵弾性率の値が、第1の粘着層の貯蔵弾性率の値より大きいか、或いは同じか又は小さい場合でも9×103Pa以下の範囲で小さく、且つ第2の粘着層の損失弾性率の値が、第1の粘着層の損失弾性率の値より大きいか、或いは同じか又は小さい場合でも5×103Pa以下の範囲で小さい請求項1〜5のいずれか1項に記載の光学フィルタ。 Even when the storage elastic modulus value of the second adhesive layer is greater than, equal to, or smaller than the storage elastic modulus value of the first adhesive layer, it is small in the range of 9 × 10 3 Pa or less, and the second The value of the loss elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer is larger than the value of the loss elastic modulus of the first pressure-sensitive adhesive layer, or even when it is the same or smaller, it is small in the range of 5 × 10 3 Pa or less. The optical filter according to item 1. 第3の粘着層の貯蔵弾性率の値が、第1の粘着層の貯蔵弾性率の値より大きいか、或いは同じか又は小さい場合でも9×103Pa以下の範囲で小さく、且つ第3の粘着層の損失弾性率の値が、第1の粘着層の損失弾性率の値より大きいか、或いは同じか又は小さい場合でも5×103Pa以下の範囲で小さい請求項2〜6のいずれか1項に記載の光学フィルタ。 Even if the value of the storage elastic modulus of the third adhesive layer is larger than the value of the storage elastic modulus of the first adhesive layer, or is the same or smaller, it is smaller in the range of 9 × 10 3 Pa or less, and the third The value of the loss elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer is larger than the value of the loss elastic modulus of the first pressure-sensitive adhesive layer, or even when it is the same or smaller, it is small in the range of 5 × 10 3 Pa or less. The optical filter according to item 1. 第1の透明フィルムの機能性層が導電層である請求項1〜9のいずれか1項に記載の光学フィルタ。   The optical filter according to any one of claims 1 to 9, wherein the functional layer of the first transparent film is a conductive layer. 第2の透明フィルムの機能性層が反射防止膜である請求項1〜10のいずれか1項に記載の光学フィルタ。   The optical filter according to claim 1, wherein the functional layer of the second transparent film is an antireflection film. 粘着層が、アクリル樹脂からなる請求項1〜11のいずれか1項に記載の光学フィルタ。   The optical filter according to claim 1, wherein the adhesive layer is made of an acrylic resin. アクリル樹脂を構成するモノマーとして、少なくともアルキルアクリレート(但し、アルキル基の炭素原子数が4〜10個である)とアクリル酸とを含んでいる請求項12に記載の光学フィルタ。   The optical filter according to claim 12, comprising at least an alkyl acrylate (provided that the alkyl group has 4 to 10 carbon atoms) and acrylic acid as monomers constituting the acrylic resin. アクリル樹脂を構成するモノマーとして、少なくとも2−エチルヘキシルアクリレートとアクリル酸とを含んでいる請求項13に記載の光学フィルタ。   The optical filter according to claim 13, comprising at least 2-ethylhexyl acrylate and acrylic acid as monomers constituting the acrylic resin. 第1の粘着層に使用されるアクリル樹脂を構成するモノマーとして、さらにトリメチロールプロパントリアクリレートを含んでいる請求項13又は14に記載の光学フィルタ。   The optical filter according to claim 13 or 14, further comprising trimethylolpropane triacrylate as a monomer constituting the acrylic resin used in the first adhesive layer. 第1の粘着層に使用されるアクリル樹脂を構成するモノマーとして、さらにアルコキシ−ポリアルキレングリコール(メタ)アクリレート及び水酸基含有(メタ)アクリレートを含んでいる請求項13〜15のいずれか1項に記載の光学フィルタ。   The monomer which comprises the acrylic resin used for a 1st adhesion layer contains the alkoxy polyalkylene glycol (meth) acrylate and the hydroxyl-containing (meth) acrylate further, The any one of Claims 13-15. Optical filter. 第2又は第3の粘着層に使用されるアクリル樹脂を構成するモノマーとして、さらにメタクリル酸2−ヒドロキシルエチル又はN−メチロールアクリルアミドを含んでいる請求項13〜16のいずれか1項に記載の光学フィルタ。   The optical according to any one of claims 13 to 16, further comprising 2-hydroxylethyl methacrylate or N-methylolacrylamide as a monomer constituting the acrylic resin used in the second or third adhesive layer. filter. 第1の粘着層が、アルキルアクリレート(但し、アルキル基の炭素原子数が4〜10個である)とアクリル酸とを含むモノマー混合物が部分的に重合された部分重合体・モノマー混合物を硬化させた層である請求項1〜17のいずれか1項に記載の光学フィルタ。   The first adhesive layer cures a partial polymer / monomer mixture obtained by partially polymerizing a monomer mixture containing alkyl acrylate (wherein the alkyl group has 4 to 10 carbon atoms) and acrylic acid. The optical filter according to claim 1, wherein the optical filter is a layer. 第1の粘着層の層厚が、0.05〜1.0mmの範囲にあり、第2又は第3の粘着層の層厚が、0.005〜0.1mmの範囲にある請求項1〜18のいずれか1項に記載の光学フィルタ。   The layer thickness of the first adhesive layer is in the range of 0.05 to 1.0 mm, and the layer thickness of the second or third adhesive layer is in the range of 0.005 to 0.1 mm. The optical filter according to any one of 18. 機能性層を有していても良い第3の透明フィルムの機能性層が近赤外線遮蔽層である請求項2〜19のいずれかに1項に記載の光学フィルタ。   The optical filter according to any one of claims 2 to 19, wherein the functional layer of the third transparent film which may have a functional layer is a near-infrared shielding layer. 第1の粘着層の第1の透明フィルムと接していない表面に、近赤外線遮蔽層を有する透明フィルムが設けられている請求項1〜20のいずれかに1項に記載の光学フィルタ。   The optical filter according to any one of claims 1 to 20, wherein a transparent film having a near-infrared shielding layer is provided on a surface of the first adhesive layer that is not in contact with the first transparent film. 反射防止膜が、近赤外線遮蔽機能を有する請求項11〜21のいずれかに1項に記載の光学フィルタ。   The optical filter according to any one of claims 11 to 21, wherein the antireflection film has a near-infrared shielding function. 導電層が、電磁波遮蔽機能を有する請求項10〜22のいずれか1項に記載の光学フィルタ。   The optical filter according to claim 10, wherein the conductive layer has an electromagnetic wave shielding function. 導電層が、メッシュ状の金属層又は金属含有層である請求項10〜23のいずれかに1項に記載の光学フィルタ。   The optical filter according to any one of claims 10 to 23, wherein the conductive layer is a mesh-like metal layer or a metal-containing layer. メッシュ状の金属層のメッシュの間隙には第1の粘着層が埋め込まれている請求項24に記載の光学フィルタ。   The optical filter according to claim 24, wherein a first adhesive layer is embedded in a gap between meshes of the mesh-like metal layer. 透明フィルムがプラスチックフィルムである請求項1〜25のいずれか1項に記載の光学フィルタ。   The optical filter according to claim 1, wherein the transparent film is a plastic film. 第1の粘着層上に剥離シートが設けられている請求項1〜26のいずれか1項に記載の光学フィルタ。   The optical filter according to any one of claims 1 to 26, wherein a release sheet is provided on the first adhesive layer. 反射防止膜上に、保護層が設けられている請求項11〜27のいずれか1項に記載の光学フィルタ。   The optical filter according to any one of claims 11 to 27, wherein a protective layer is provided on the antireflection film. プラズマディスプレイパネル用フィルタである請求項1〜28のいずれか1項に記載の光学フィルタ。   It is a filter for plasma display panels, The optical filter of any one of Claims 1-28. 請求項1〜28のいずれか1項に記載の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするディスプレイ。   A display comprising the optical filter according to any one of claims 1 to 28 bonded to a surface of an image display glass plate. 請求項1〜28のいずれか1項に記載の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
A plasma display panel, wherein the optical filter according to any one of claims 1 to 28 is bonded to a surface of an image display glass plate.
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