JP2007234947A - Optical filter for display, display equipped therewith, and plasma display panel - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、プラズマディスプレイパネル(PDP)、ブラウン管(CRT)ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機EL(電界発光)ディスプレイ、表面電界型ディスプレイ(SED)を含む電界放出型ディスプレイ(FED)等の各種ディスプレイに対して反射防止、近赤外線遮断、電磁波遮蔽等の各種機能を有する光学フィルタ、及びこの光学フィルタを備えたディスプレイ、特にPDPに関する。 The present invention is applicable to various displays such as a plasma display panel (PDP), a cathode ray tube (CRT) display, a liquid crystal display, an organic EL (electroluminescent) display, and a field emission display (FED) including a surface electric field display (SED). The present invention relates to an optical filter having various functions such as antireflection, near-infrared shielding, electromagnetic wave shielding, and the like, and a display provided with this optical filter, particularly a PDP.
液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ(PDP)、ELディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ、及びCRTディスプレイにおいては、外部からの光が表面で反射し、内部の視覚情報が見えにくいとの問題は、従来から知られており、反射防止膜等を含む光学フィルムの設置等、種々対策がなされている。 In the case of flat panel displays such as liquid crystal displays, plasma displays (PDP), EL displays, and CRT displays, it has been known that the light from the outside is reflected on the surface and the internal visual information is difficult to see. Various measures have been taken, such as the installation of an optical film including an antireflection film.
近年、ディスプレイは大画面表示が主流となり、次世代の大画面表示デバイスとしてPDPが一般的になってきている。しかしながら、このPDPでは画像表示のため発光部に高周波パルス放電を行っているため、不要な電磁波の輻射や赤外線リモコン等の誤動作の原因ともなる赤外線の輻射のおそれがあり、このため、PDPに対しては、導電性を有するPDP用反射防止フィルム(電磁波シールド性光透過窓材)が種々提案されている。この電磁波シールド性光透過窓材の導電層としては、例えば、(1)金属銀を含む透明導電薄膜が設けられた透明フィルム、(2)金属線又は導電性繊維を網状にした導電メッシュを設けた透明フィルム、(3)透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、(4)透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等が知られている。 In recent years, large-screen displays have become mainstream in displays, and PDPs have become common as next-generation large-screen display devices. However, in this PDP, high-frequency pulse discharge is performed on the light emitting unit for image display, which may cause unnecessary electromagnetic radiation and infrared radiation that may cause malfunction of the infrared remote controller. Thus, various antireflection films for PDP (electromagnetic wave shielding light transmitting window material) having conductivity have been proposed. As the conductive layer of this electromagnetic wave shielding light transmitting window material, for example, (1) a transparent film provided with a transparent conductive thin film containing metallic silver, and (2) a conductive mesh made of a metal wire or conductive fiber in a net shape are provided. Transparent film, (3) a layer of copper foil or the like on the transparent film is etched into a net-like shape, an opening is provided, and (4) a conductive ink is printed on the transparent film in a mesh shape, etc. Are known.
さらに、従来のPDPを初めとした大型ディスプレイでは、反射防止フィルムや近赤外線カットフィルム等の種々のフィルムが貼り合わされている。例えば、特許文献1(特開平11−74683号公報)には、2枚の透明基板の間に導電性メッシュを介在させて、透明接着樹脂で接合一体化してなる電磁波シールド性光透過窓材が記載されている。 Furthermore, in a large display such as a conventional PDP, various films such as an antireflection film and a near infrared cut film are bonded together. For example, Patent Document 1 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-74683) discloses an electromagnetic wave shielding light transmitting window material in which a conductive mesh is interposed between two transparent substrates and bonded and integrated with a transparent adhesive resin. Are listed.
上記電磁波シールド性光透過窓材においては、上記導電層による電磁波シールド性を良好なものとするために、導電層(電磁波シールド材)、例えば導電性メッシュ、をPDP本体に接地(アース)する必要がある。そのためには、2枚の透明基板間から電磁波シールド材を外部にはみ出させ、上記光透過窓材積層体の裏側に回り込ませて接地するか、2枚の透明基板間に該電磁波シールド材に接触するように導電性粘着テープを挟み込む必要がある。しかしながら、このような方法では、積層工程における上記作業が煩雑であるとの問題がある。 In the electromagnetic wave shielding light transmitting window material, it is necessary to ground (ground) a conductive layer (electromagnetic wave shielding material), for example, a conductive mesh, in order to improve the electromagnetic wave shielding property by the conductive layer. There is. For this purpose, an electromagnetic wave shielding material protrudes from between two transparent substrates and is grounded by wrapping around the back side of the light transmitting window material laminate, or is in contact with the electromagnetic wave shielding material between two transparent substrates. Thus, it is necessary to sandwich the conductive adhesive tape. However, in such a method, there is a problem that the above work in the stacking process is complicated.
また、特許文献2(特開2001−142406号公報)には、1枚の透明基板と、電磁波シールド材と、最表層の反射防止フィルムと、近赤外線カットフィルムとが積層一体化されてなる積層体を備え、該透明基板の端面及び表裏の縁部にまたがって導電性粘着テープが付着され、該導電性粘着テープと該電磁波シールド材の縁部とが導電性粘着剤によって付着されている電磁波シールド性光透過積層フィルムが記載されている。 Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 2001-142406) discloses a laminate in which a single transparent substrate, an electromagnetic wave shielding material, an outermost antireflection film, and a near infrared cut film are laminated and integrated. An electromagnetic wave comprising a body, a conductive pressure-sensitive adhesive tape is attached across the edge and front and back edges of the transparent substrate, and the conductive pressure-sensitive adhesive tape and the edge of the electromagnetic shielding material are attached by a conductive pressure-sensitive adhesive A shielding light-transmitting laminated film is described.
例えば、長尺状のプラスチックフィルムを用いて上記PDP等のディスプレイ用光学フィルタを製造する場合、近赤外カットフィルム及び反射防止フィルム作製し、これらを電磁波シールド用導電性メッシュを介して積層することにより長尺状の光学フィルタを得ることになり、その後、各ディスプレイの全面の表示部の形状に合わせて矩形状に裁断される。このため、このような長尺状の光学フィルタは、通常、幅方向に裁断され、その幅方向の裁断面、即ち端面(側面)には、全ての層の端面が露出しているが、当然極めて小さな面積でしかない。導電性メッシュも、メッシュ状の断面がほんのわずか覗いているに過ぎない。 For example, when producing an optical filter for a display such as the above-mentioned PDP using a long plastic film, a near-infrared cut film and an antireflection film are produced, and these are laminated via a conductive mesh for electromagnetic wave shielding. Thus, a long optical filter is obtained, and then cut into a rectangular shape in accordance with the shape of the display portion on the entire surface of each display. For this reason, such a long optical filter is usually cut in the width direction, and the end faces of all layers are exposed on the cut surface in the width direction, that is, the end faces (side faces). There is only a very small area. The conductive mesh also has only a slight peek at the mesh-like cross section.
このようなディスプレイ用光学フィルタを、そのまま用いて、導電層による電磁波シールド性を良好なものとするために導電層(例えば導電性メッシュ)をPDP本体に接地(アース)することができれば、極めて高い生産性でアースが容易なディスプレイ用光学フィルタを得ることができる。 If such an optical filter for display is used as it is and the conductive layer (for example, conductive mesh) can be grounded (grounded) to the PDP body in order to improve the electromagnetic wave shielding property by the conductive layer, it is extremely high. An optical filter for display that is easy to ground with productivity can be obtained.
特許文献2に記載されているような光学フィルタでは、フィルタの端面及び表裏の縁部(端部)にまたがって導電性粘着テープを接着させる必要があり、その際、粘着テープの撚れや折れが発生し易く、これらを防止するため作業が繁雑になること、また該導電性粘着テープと該電磁波シールド材の縁部(端部)とを導電性粘着剤によって付着させる煩雑な工程を必要とする等の問題がある。
In the optical filter as described in
従って、本発明は、容易に製造することができ、そして良好な電磁波シールド性を有し、またディスプレイに装着し易く且つ接地し易いアース電極を有するディスプレイ用光学フィルタを提供することを目的とする。 Accordingly, an object of the present invention is to provide an optical filter for a display which can be easily manufactured, has a good electromagnetic shielding property, and has an earth electrode which can be easily attached to the display and can be easily grounded. .
また、本発明は、容易に製造することができ、そして軽量で薄く、良好な電磁波シールド性を有し、そしてディスプレイに装着し易く且つ接地し易いアース電極を有するディスプレイ用光学フィルタを提供することを目的とする。 The present invention also provides an optical filter for a display which can be easily manufactured, has a grounding electrode which is light and thin, has a good electromagnetic wave shielding property, and is easy to attach to the display and to be easily grounded. With the goal.
さらに、本発明は、容易に製造することができ、そして良好な電磁波シールド性を有し、またディスプレイに装着し易く且つ接地し易いアース電極を有するPDP用に好適な光学フィルタを提供することを目的とする。 Furthermore, the present invention provides an optical filter suitable for a PDP that can be easily manufactured, has a good electromagnetic shielding property, and has a ground electrode that can be easily mounted on a display and is easily grounded. Objective.
また、本発明は、上記優れた特性の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされたディスプレイを提供することを目的とする。 Another object of the present invention is to provide a display in which the optical filter having the above excellent characteristics is bonded to the surface of an image display glass plate.
さらにまた、本発明は、上記優れた特性の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされたPDPを提供することを目的とする。 Furthermore, an object of the present invention is to provide a PDP in which the optical filter having the excellent characteristics is bonded to the surface of an image display glass plate.
従って、本発明は、
少なくとも1枚の透明フィルムと、その上に設けられた導電層、ハードコート層及び近赤外線吸収層を含むディスプレイ用光学フィルタであって、
透明フィルム上には、導電層が設けられ、且つ導電層上にはハードコート層又は近赤外線吸収層が設けられ、且つ透明フィルム及び導電層が相対する両側で突出するように積層されて、該突出部が第1電極部を形成しており、
さらに透明フィルム及び導電層が突き出ていない、上記相対する両側と異なる相対する両側の端面において露出した導電層に、第2電極部が設けられていることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ(透明フィルム、導電層、ハードコート層及び近赤外線吸収層の形状が矩形であることが好ましい);
少なくとも1枚の透明フィルムと、その上に設けられた導電層、ハードコート層及び近赤外線吸収層を含むディスプレイ用光学フィルタであって、
透明フィルム、導電層、ハードコート層及び近赤外線吸収層の形状が矩形であり、
透明フィルム上には、導電層が設けられ、且つ導電層上にはハードコート層又は近赤外線吸収層が設けられ、
透明フィルム及び導電層は縦及び横の長さが相互に同一であり、且つ導電層上に設けられる層とは、縦及び横の一方の長さが同一で他方が長くされており、そして
透明フィルム、導電層及び導電層上の層が、縦及び横の長さの内、これらが同一である方向の両端面において面一となり且つ透明フィルム及び導電層が長くされた方向において透明フィルム及び導電層が両側で突出するように積層されており、該突出部が第1電極部を形成し、
さらに面一とされた端面に露出した導電層に第2電極部が設けられていることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ;
上記光学フィルタの好ましい態様として、
少なくとも1枚の透明フィルムと、その上に設けられた導電層、ハードコート層及び近赤外線吸収層を含むディスプレイ用光学フィルタであって、
透明フィルム、導電層、ハードコート層及び近赤外線吸収層の形状が矩形であり、
透明フィルム上には、導電層が設けられ、且つ導電層上にはハードコート層又は近赤外線吸収層が設けられ、
透明フィルム及び導電層は縦及び横の長さが相互に同一であり且つ長さが導電層上に設けられる層とは縦及び横の一方が同一で他方が長くされており、
導電層上に設けられる層以外の層は、導電層と縦及び横の長さが相互に同一であり、そして
透明フィルム及び全ての層が、縦及び横の長さの内、全てのフィルム及び層が同一である方向の両端面において面一となり、且つ透明フィルム及び導電層上に設けられる層以外の層が、導電層上の層より長くされた方向においてこれらが両側で突出するように積層されており、該突出部が第1電極部を形成し、
さらに面一とされた端面に露出した導電層に第2電極部が設けられていることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ;及び
透明フィルムの一方の表面に導電層及びハードコート層がこの順で設けられ、他方の表面に近赤外線吸収層を設けられてなるディスプレイ用光学フィルタであって、
透明フィルム、導電層、ハードコート層及び近赤外線吸収層の形状が矩形であり、
透明フィルム及び導電層は縦及び横の長さが相互に同一で且つ縦及び横の一方の長さがハードコート層と同一で他方が長くされており、
近赤外線吸収層は、導電層と縦及び横の長さが相互に同一であり、そして
透明フィルム及び全ての層が、縦及び横の長さの内、全てのフィルム及び層が同一である方向の両端面において面一となり、且つ透明フィルム及び導電層が、ハードコート層より長くされた方向においてこれらが両側で突出するように積層されており、該突出部が第1電極部を形成し、
さらに面一とされた端面に露出した導電層に第2電極部が設けられていることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ;並びに
一方の表面にハードコート層が設けられた透明フィルムと、一方の表面に導電層が設けられた別の透明フィルムとの、2枚の透明フィルムが、前者の透明フィルムの裏面と後者の透明フィルムの導電層が粘着剤層を介して対向した状態で、接着されてなるディスプレイ用光学フィルタであって、
導電層及び導電層を有する透明フィルムが相対する両側で突出するように積層されて、該突出部が第1電極部を形成しており、
さらに導電層及び導電層を有する透明フィルムが突出していない、上記相対する両側と異なる相対する両側の端面において露出した導電層に、第2電極部が設けられていることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ;及び
上記の好ましい態様である光学フィルタとして、
一方の表面にハードコート層が設けられた透明フィルムと、一方の表面に導電層が設けられた別の透明フィルムとの、2枚の透明フィルムが、前者の透明フィルムの裏面と後者の透明フィルムの導電層が粘着剤層を介して対向した状態で、接着されてなるディスプレイ用光学フィルタであって、
2枚の透明フィルム、ハードコート層及び導電層の形状が矩形であり、導電層を有する透明フィルムは縦及び横の長さが相互に同一で且つ縦及び横の一方の長さがハードコート層と同一で他方が長くされており、
ハードコート層を有する透明フィルムは、ハードコート層と縦及び横の長さが相互に同一であり、そして
2枚の透明フィルム、導電層及びハードコート層が、縦及び横の長さの内、全てのフィルム及び層が同一である方向の両端面において面一となり且つ透明フィルム及び導電層が長くされた方向においてこれらが両側で突出するように積層されており、該突出部が第1電極部を形成し、
さらに面一にされた端面に露出した導電層に第2電極部が設けられていることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ;
にある。
Therefore, the present invention
An optical filter for display comprising at least one transparent film, and a conductive layer, a hard coat layer and a near infrared absorption layer provided thereon,
A conductive layer is provided on the transparent film, and a hard coat layer or a near-infrared absorbing layer is provided on the conductive layer, and the transparent film and the conductive layer are laminated so as to protrude on opposite sides, The protruding portion forms the first electrode portion,
Further, a second electrode portion is provided on the conductive layer exposed on the opposite end faces opposite to the opposite opposite sides, with no transparent film and conductive layer protruding, and the display optical filter (transparent film) The shape of the conductive layer, hard coat layer and near infrared absorption layer is preferably rectangular);
An optical filter for display comprising at least one transparent film, and a conductive layer, a hard coat layer and a near infrared absorption layer provided thereon,
The shape of the transparent film, conductive layer, hard coat layer and near infrared absorption layer is rectangular,
A conductive layer is provided on the transparent film, and a hard coat layer or a near-infrared absorbing layer is provided on the conductive layer.
The transparent film and the conductive layer have the same vertical and horizontal lengths, and the layers provided on the conductive layer have the same vertical and horizontal lengths, the other is longer, and are transparent. The film, the conductive layer, and the layer on the conductive layer are flush with each other in the longitudinal and lateral lengths in the same direction, and the transparent film and the conductive layer are elongated in the direction in which the transparent film and the conductive layer are elongated. The layers are stacked so as to protrude on both sides, and the protruding portion forms the first electrode portion,
An optical filter for display, wherein the second electrode portion is provided on the conductive layer exposed on the end face that is flush with the surface;
As a preferable aspect of the optical filter,
An optical filter for display comprising at least one transparent film, and a conductive layer, a hard coat layer and a near infrared absorption layer provided thereon,
The shape of the transparent film, conductive layer, hard coat layer and near infrared absorption layer is rectangular,
A conductive layer is provided on the transparent film, and a hard coat layer or a near-infrared absorbing layer is provided on the conductive layer.
The length and width of the transparent film and the conductive layer are the same as each other, and the length and width of the layer provided on the conductive layer are the same, and the other is elongated.
The layers other than the layer provided on the conductive layer are the same in length and width as the conductive layer, and the transparent film and all the layers are all the films in the length and width. Laminate so that both layers are flush with each other in the same direction and the layers other than the layer provided on the transparent film and the conductive layer protrude on both sides in the direction longer than the layer on the conductive layer. The projecting portion forms the first electrode portion,
Further, the second electrode portion is provided on the conductive layer exposed on the end face that is flush with the surface; and the conductive layer and the hard coat layer in this order on one surface of the transparent film; An optical filter for display provided with a near infrared absorption layer on the other surface,
The shape of the transparent film, conductive layer, hard coat layer and near infrared absorption layer is rectangular,
The length and width of the transparent film and the conductive layer are the same as each other, and the length of one of the length and width is the same as that of the hard coat layer, and the other is lengthened.
The near-infrared absorbing layer is the same in length and width as the conductive layer, and the transparent film and all layers have the same length and width in the direction in which all films and layers are the same. The transparent film and the conductive layer are laminated so that they protrude on both sides in a direction longer than the hard coat layer, and the protruding portion forms the first electrode portion.
Further, the second electrode portion is provided on the conductive layer exposed on the end face that is flush with the display; an optical filter for display; and a transparent film having a hard coat layer on one surface; Two transparent films with another transparent film provided with a conductive layer on the surface are bonded together with the back surface of the former transparent film and the conductive layer of the latter transparent film facing each other through the adhesive layer. An optical filter for display comprising
The conductive film and the transparent film having the conductive layer are laminated so as to protrude on opposite sides, and the protruding portion forms the first electrode portion,
Further, a second electrode portion is provided on the conductive layer exposed on the opposite end faces different from the opposite sides, on which the conductive layer and the transparent film having the conductive layer are not projected, and the display optical device A filter; and the optical filter according to the above preferred embodiment,
Two transparent films, a transparent film provided with a hard coat layer on one surface and another transparent film provided with a conductive layer on one surface, are the back surface of the former transparent film and the latter transparent film. In the state where the conductive layer is opposed to the adhesive layer through the adhesive layer, the optical filter for display is bonded,
The shape of the two transparent films, the hard coat layer and the conductive layer is rectangular, and the transparent film having the conductive layer has the same vertical and horizontal lengths, and one of the vertical and horizontal lengths is the hard coat layer. And the other is longer,
The transparent film having the hard coat layer has the same vertical and horizontal length as the hard coat layer, and
The two transparent films, the conductive layer and the hard coat layer were flush with each other in both the longitudinal and lateral lengths in the direction in which all the films and layers were the same, and the transparent film and the conductive layer were lengthened. Are laminated so that they protrude on both sides in the direction, the protrusions form the first electrode part,
An optical filter for display, wherein the second electrode portion is provided on the conductive layer exposed on the end face that is flush with the other;
It is in.
本発明のディスプレイ用光学フィルタの好適態様は以下の通りである。
(1)2枚の透明フィルムを使用するディスプレイ用光学フィルタにおいて、ハードコート層を有する透明フィルムの裏面の全面に、近赤外線吸収層が設けられていることが好ましい。また、導電層を有する透明フィルムの裏面の全面に、近赤外線吸収層が設けられていることも好ましい。
(2)第2電極部が導電材料含有接着剤により形成されている。アース電極の設置が特に容易である。
(3)第2電極部がハンダにより形成されている。アース電極の設置が容易であり、優れた電磁シールド性を示す。
(4)ハードコート層又はその上に設けられた最上層における矩形状表面の、第2電極部が設けられた少なくとも対向する2辺の端部領域に一部が突き出るように長尺状導電性テープが設けられ、その突き出た部分の少なくとも一部が第2電極部に接着されている。アースをとりやすい。ディスプレイへの装着が容易となる。
(5)上記(4)において、ハードコート層又はその上に設けられた最上層における対向する2辺の端部領域に、長尺状導電性テープが、辺とテープの長手方向が平行となるように接着されていることが好ましい。
(6)導電層が、メッシュ状導電層である。優れた電磁シールド性を示す。
(7)ハードコート層の上に、さらに低屈折率層が形成されている。良好な反射防止性が得られる。
(8)近赤外線吸収層が、粘着性を有する。透明粘着剤層が不要となる。ディスプレイへの装着が容易となる。
(9)近赤外線吸収層の透明フィルムと反対側の表面に透明粘着剤層が設けられている。ディスプレイへの装着が容易となる。
(10)メッシュ状導電層のメッシュの間隙にはハードコート層が埋め込まれている。優れた透明性が得られる。
(11)透明フィルムがプラスチックフィルムである。
(12)透明粘着剤層又は粘着性近赤外線吸収層の上に剥離シートが設けられている。ディスプレイへの装着が容易となる。
(13)プラズマディスプレイパネル用フィルタである。
Preferred embodiments of the optical filter for display of the present invention are as follows.
(1) In an optical filter for display using two transparent films, it is preferable that a near-infrared absorbing layer is provided on the entire back surface of the transparent film having a hard coat layer. Moreover, it is also preferable that the near-infrared absorption layer is provided in the whole back surface of the transparent film which has a conductive layer.
(2) The second electrode portion is formed of a conductive material-containing adhesive. The installation of the ground electrode is particularly easy.
(3) The second electrode portion is formed of solder. Easy installation of ground electrode and excellent electromagnetic shielding.
(4) Long conductive so that a part of the rectangular surface of the hard coat layer or the uppermost layer provided on the hard coat layer protrudes into the end region of at least two opposite sides provided with the second electrode portion. A tape is provided, and at least a part of the protruding portion is bonded to the second electrode portion. Easy to ground. Mounting on the display becomes easy.
(5) In the above (4), the long conductive tape is parallel to the longitudinal direction of the tape in the end regions of the two opposing sides of the hard coat layer or the uppermost layer provided thereon. It is preferable that they are adhered.
(6) The conductive layer is a mesh-like conductive layer. Excellent electromagnetic shielding properties.
(7) A low refractive index layer is further formed on the hard coat layer. Good antireflection properties can be obtained.
(8) The near infrared absorbing layer has adhesiveness. A transparent adhesive layer becomes unnecessary. Mounting on the display becomes easy.
(9) A transparent adhesive layer is provided on the surface of the near-infrared absorbing layer opposite to the transparent film. Mounting on the display becomes easy.
(10) A hard coat layer is embedded in the mesh gap of the mesh-like conductive layer. Excellent transparency is obtained.
(11) The transparent film is a plastic film.
(12) A release sheet is provided on the transparent adhesive layer or the adhesive near-infrared absorbing layer. Mounting on the display becomes easy.
(13) A plasma display panel filter.
上記ディスプレイパネル用フィルタは、
裏面に近赤外線吸収層を有する長尺状透明フィルムの表面の幅方向一杯に、導電層を形成し、次いで導電層の両端に帯状領域を残すように、導電層上にその幅より狭い領域にハードコート層を形成することにより、第1電極部として両側で突出した導電層を有する積層体を形成し、幅方向に裁断して矩形状積層体を作製し、さらに矩形状積層体の裁断面である端面に露出した導電層に第2電極部を設けることを特徴とする製造方法;又は
長尺状透明フィルムのその幅方向一杯に、導電層を形成し、次いで導電層の両端に帯状領域を残すように、導電層上にその幅より狭い領域にハードコート層を形成し、その後長尺状透明フィルムの裏側に近赤外線吸収層形成することにより、第1電極部として両側で突出した導電層を有する積層体を形成し、次いで幅方向に裁断して矩形状積層体を作製し、さらに矩形状積層体の裁断面である端面に露出した導電層に第2電極部を設けることを特徴とする製造方法;
により有利に得ることができる。
The display panel filter is
Form a conductive layer over the entire width of the surface of the long transparent film having a near-infrared absorbing layer on the back side, and then leave a band-like region at both ends of the conductive layer in a region narrower than that width on the conductive layer. By forming a hard coat layer, a laminated body having a conductive layer protruding on both sides as a first electrode part is formed, and a rectangular laminated body is produced by cutting in the width direction. Further, a cut surface of the rectangular laminated body A second electrode portion is provided on the conductive layer exposed at the end face; or a conductive layer is formed over the widthwise direction of the long transparent film, and then a band-like region is formed at both ends of the conductive layer. A conductive layer projecting on both sides as a first electrode part by forming a hard coat layer in a region narrower than its width on the conductive layer and then forming a near infrared absorbing layer on the back side of the long transparent film. Forming a laminate having layers Then, a rectangular laminate is produced by cutting in the width direction, and a second electrode portion is provided on the conductive layer exposed on the end surface which is the cut surface of the rectangular laminate;
Can be obtained more advantageously.
さらに、本発明は、
上記のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするディスプレイ;及び
上記のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするプラズマディスプレイパネルにもある。
Furthermore, the present invention provides
A display characterized in that the optical filter for display is bonded to the surface of the image display glass plate; and a plasma characterized in that the optical filter for display is bonded to the surface of the image display glass plate It is also on the display panel.
本発明のディスプレイ用光学フィルタは、両側に突き出た導電層からなる第1電極部(アース電極)を有する製造が容易な光学フィルタに、第1電極部の無い側の端面に第2電極部(アース電極)が設けられた生産性に優れたアース電極付き光学フィルタである。例えば、製造が容易な光学フィルタとしては、長尺状のプラスチックフィルム上に、導電層、反射防止層及び近赤外吸収層等を形成して得られる長尺状積層体を裁断して得られるものであるが、このような積層体(即ち製造が容易な光学フィルタ)に予め導電層が両側に突き出るようにして第1の電極部を形成し、裁断面にも簡易に第2の電極部を設けた、簡便にアース電極が設けられたアース電極付き光学フィルタはこれまで考えられておらず、本発明により初めて達成されたものである。従って、本発明のディスプレイ用光学フィルタは、連続的製造が容易な導電層の電極付き光学フィルタに簡便な方法でさらにアース電極を設けた、生産性に優れたアース電極付き光学フィルタということができる。 The optical filter for display of the present invention is an easily manufactured optical filter having a first electrode part (ground electrode) made of a conductive layer protruding on both sides, and a second electrode part (on the end face on the side without the first electrode part). The grounded electrode is an optical filter with a grounded electrode having excellent productivity. For example, an optical filter that is easy to manufacture can be obtained by cutting a long laminate obtained by forming a conductive layer, an antireflection layer, a near-infrared absorbing layer, and the like on a long plastic film. However, the first electrode portion is formed in advance in such a laminate (that is, an optical filter that is easy to manufacture) so that the conductive layer protrudes on both sides, and the second electrode portion can be easily formed on the cut surface. An optical filter with a grounding electrode provided with a simple grounding electrode has not been considered so far, and is achieved for the first time by the present invention. Therefore, the optical filter for display of the present invention can be said to be an optical filter with a ground electrode excellent in productivity, in which a ground electrode is further provided by a simple method on the optical filter with a conductive layer electrode that can be continuously manufactured. .
特に、透明フィルムを1枚用いて上記光学フィルタを得た場合は、光学フィルタの厚さが極めて小さくなり、これに伴い質量も小さくなるため、ディスプレイに装着する際、そして装着後も取扱い上極めて有利である。 In particular, when the above optical filter is obtained using a single transparent film, the thickness of the optical filter becomes extremely small, and the mass decreases accordingly. It is advantageous.
さらに、裁断面のアース電極(第2電極部)に導電性テープを貼り付け光学フィルタの周囲に電極を設けた場合は、アースが容易に行うことができ、ディスプレイへの装着がさらに容易となる。 Further, when a conductive tape is attached to the ground electrode (second electrode portion) having a cut surface and an electrode is provided around the optical filter, the grounding can be easily performed, and the mounting on the display is further facilitated. .
従って、本発明のディスプレイ用光学フィルタは、プラズマディスプレイパネル(PDP)、ブラウン管(CRT)ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機EL(電界発光)ディスプレイ、表面電界型ディスプレイ(SED)を含む電界放出型ディスプレイ(FED)等の各種ディスプレイに対して反射防止、近赤外線遮断、電磁波遮蔽等の各種機能を有する、生産性に優れた光学フィルタということができる。 Therefore, the optical filter for display of the present invention includes a field emission display (FED) including a plasma display panel (PDP), a cathode ray tube (CRT) display, a liquid crystal display, an organic EL (electroluminescence) display, and a surface electric field display (SED). It can be said that the optical filter has various functions such as anti-reflection, near-infrared shielding, and electromagnetic wave shielding for various displays such as).
本発明の電極部(アース電極)が設けられた生産性に優れた電極部付きディスプレイ用光学フィルタについて、以下に詳細に説明する。 The optical filter for a display with an electrode part which is provided with the electrode part (earth electrode) of the present invention and is excellent in productivity will be described in detail below.
本発明のディスプレイ用光学フィルタの基本構成を示す1例の平面図を図1に示す。矩形のディスプレイ用光学フィルタ11で、透明フィルム12の一方の表面に、導電層13、ハードコート層16及び低屈折率層等の反射防止層17がこの順で設けられ、他方の表面には近赤外線吸収層14及びその上に透明粘着剤層15(図2及び3参照)が設けられている。そして、ハードコート層16及び低屈折率層等の反射防止層17が、透明フィルム表面の幅一杯に形成された導電層13の幅より狭い幅で形成されており、このため導電層13が両側より突き出ており、第1電極部を形成している。近赤外線吸収層14は通常、導電層13と同じ幅で形成される。さらに、この積層体の導電層13が両側より突き出ていない他方の相対する両端面(側面)にも、電極部(一般にアース電極)18が第2電極部として設けられている。本発明では、光学フィルタの周囲に電極部が設けられており、優れた接地効果を示す。
FIG. 1 shows a plan view of an example showing the basic configuration of the optical filter for display of the present invention. In the rectangular display
図1に示された本発明のディスプレイ用光学フィルタをA−A’方向で切断した概略断面図を図2に示す。図2は、矩形のディスプレイ用光学フィルタ11の一部で、一方の端部を含む部分の断面図を示している。図2において、透明フィルム12の一方の表面に、導電層13、ハードコート層16及び低屈折率層等の反射防止層17がこの順で設けられ、他方の表面には近赤外線吸収層14及びその上に透明粘着剤層15が設けられている。そして、この積層体の端面には、第2電極部(一般にアース電極)18が形成されている。この第2電極部18は、端面に露出した少なくとも導電層13を覆っている必要がある。後述する図5又は図7のように、導電性テープを使用する場合は、導電性テープは一般にこの第2電極部18の上部で接着される。第1電極部は、もう一方の両端面に突き出て存在しているのでここでは示されていない。
FIG. 2 is a schematic sectional view of the display optical filter of the present invention shown in FIG. 1 cut along the A-A ′ direction. FIG. 2 shows a cross-sectional view of a part of the rectangular display
図1に示された本発明のディスプレイ用光学フィルタをB−B’方向で切断した概略断面図を図3に示す。図3は、矩形のディスプレイ用光学フィルタ11の一部で、一方の端部を含む部分の断面図を示している。図3において、透明フィルム12の一方の表面に、導電層13、ハードコート層16及び低屈折率層等の反射防止層17がこの順で設けられ、他方の表面には近赤外線吸収層14及びその上に透明粘着剤層15が設けられている。ハードコート層16及び低屈折率層等の反射防止層17が、透明フィルムの幅一杯に形成された導電層13の幅より狭い幅で形成されており、このため導電層13が両側より突き出ており、第1電極部(長さLの部分)を形成している。近赤外線吸収層14は通常透明フィルムの幅一杯に形成される。さらに、図1及び2に示すように、この積層体の導電層13が両側より突き出ていない他方の相対する両端面には、第2電極部(一般にアース電極)18が設けられている。しかしながら、第1電極部を電極コンタクト部とする方が安定してアースを行うことができる。
FIG. 3 is a schematic sectional view of the display optical filter of the present invention shown in FIG. 1 cut along the B-B ′ direction. FIG. 3 is a cross-sectional view of a part of the rectangular display
この構成において、ハードコート層16及び低屈折率層等の反射防止層17と、近赤外線吸収層14との位置が、相互に入れ替わっていても良く、また近赤外線吸収層14が、導電層13とハードコート層16との間に設けられても良い。しかしながら、図3の構成は、ディスプレイ装着時に導電層が、ディスプレイの前面(表面側)に存在することになるため、アースの設置が容易である点で有利である。
In this configuration, the positions of the
導電層13は、例えば、メッシュ状の金属層又は金属含有層、又は塗工層、或いは金属酸化物層(誘電体層)、又は金属酸化物層と金属層との交互積層膜である。メッシュ状の金属層又は金属含有層は、一般に、エッチングにより、又は印刷法により形成されているか、金属繊維層である。これにより低抵抗を得られやすい。一般に、メッシュ状の金属層又は金属含有層のメッシュの空隙は、下記の図4に示すように、ハードコート層16で埋められている。これにより透明性が向上する。ハードコート層16で埋めない場合は、他の層、例えば近赤外線吸収層14或いはそれ専用の透明樹脂層で埋められるのが好ましい。
The
反射防止層17は、一般に低屈折率層である。即ち、ハードコート層16とその上に設けられた低屈折率層との複合膜により反射防止効果を示す。この低屈折率層とハードコート層16との間に高屈折率層を設けても良い。これにより反射防止機能は向上する。
The
また反射防止層17は設けなくても良く、透明フィルムと、透明フィルムより屈折率の高い又は低い(好ましくは低い)ハードコート層16のみであっても良い。ハードコート層16、反射防止層17は、いずれも塗工により形成されていることが、生産性、経済性の観点から好ましい。
Further, the
近赤外線吸収層14は、PDFの不要な光を遮断する機能を有する。一般に800〜1200nmに吸収極大を有する色素を含む層である。透明粘着層15は一般にディスプレイへの容易に装着するために設けられている。透明粘着剤層15の上に剥離シートを設けても良い。
The near-infrared
第1電極部は、光学フィルタの1つの相対する両端面から突き出た導電層であり、突き出た長さ(図3のL1)は一般に2〜100mm、特に5〜50mmであることが好ましい。導電層は、メッシュ状金属層であることが好ましい。 The first electrode portion is a conductive layer protruding from one opposing end faces of the optical filter, and the protruding length (L 1 in FIG. 3) is generally 2 to 100 mm, particularly preferably 5 to 50 mm. The conductive layer is preferably a mesh metal layer.
第2電極部18は、一般にアース電極であり、端面に露出した少なくとも導電層13、好ましくは導電層に隣接する層を覆っている。フィルタの端面全体を覆っていても良い。第2電極部の幅(図2のL2)は、透明フィルムの幅方向において、一般に5μm以上で、好ましくは5μm〜20mmである。この範囲未満であるとアースがとりにくく、この範囲を超えると寸法合わせ等に支障を来す。フィルムの厚さ方向の長さ(図2のd)は、一般に80μm以上で、ディスプレイ用光学フィルタの構造の寸法範囲内で設定される。第2電極部18は、一般に導電性材料を含む導電材料含有接着剤又はハンダで形成される。
The
図4に、図1〜3に示された本発明のディスプレイ用光学フィルタの好ましい態様の1例の概略断面図を示す。図4は、矩形のディスプレイ用光学フィルタ21の一部で、一方の端部を含む部分の断面図を示している(図2に対応する断面図である)。図4は、図2の導電層がメッシュ導電層の場合における図に相当する。図4において、透明フィルム22の一方の表面に、メッシュ状の導電層23、ハードコート層26及び低屈折率層等の反射防止層27がこの順で設けられ、他方の表面には近赤外線吸収層24及びその上に透明粘着剤層25が設けられている。そして、この積層体の端面には、第2電極部(一般にアース電極)28が形成されている。この第2電極部28は、端面に露出した少なくともメッシュ状の導電層23を覆っている必要がある。図4では、導電層としてメッシュ状の金属層を用いているので、電磁波遮断効果等が特に優れている。第1電極部は、メッシュ状の導電層のもう一方の両端面に突き出て形成されているのでここでは示されていない。このメッシュ状の金属層のメッシュの空隙は、ハードコート層26で埋められており、これにより透明性が向上している。
FIG. 4 shows a schematic sectional view of an example of a preferred embodiment of the optical filter for display of the present invention shown in FIGS. FIG. 4 is a cross-sectional view of a part of the rectangular display optical filter 21 including one end portion (a cross-sectional view corresponding to FIG. 2). FIG. 4 corresponds to a view when the conductive layer of FIG. 2 is a mesh conductive layer. In FIG. 4, an antireflection layer 27 such as a mesh-like conductive layer 23, a hard coat layer 26, and a low refractive index layer is provided in this order on one surface of a transparent film 22, and near-infrared absorption is provided on the other surface. The
図5に、本発明のディスプレイ用光学フィルタの好ましい態様の1例の概略断面図を示す。図5は、矩形のディスプレイ用光学フィルタの第2電極部38に接触するように導電性テープ39が貼り付けられたディスプレイ用光学フィルタ31を示している。即ち、図5において、透明フィルム32の一方の表面に、メッシュ状の導電層33、ハードコート層36及び低屈折率層等の反射防止層37がこの順で設けられ、他方の表面には近赤外線吸収層34及びその上に透明粘着剤層35が設けられている。そして、この積層体の端面には、第2電極部(一般にアース電極)38が形成されている。この第2電極部38は、端面に露出した少なくともメッシュ状の導電層33を覆っている。そして、導電性テープ39が、端面上の第2電極部38の一部(上部)で接着されている。従って、導電性テープ39は、一般に第2電極部を構成する導電材料含有接着剤又はハンダそれ自体により一般に接着されている。この導電性テープ39を用いることにより、第1電極部だけでなく、ここからもアースが極めてとりやすくなると共にアースを安定してとることができる。この導電性テープ39は、反射防止層37端部より少し突出していることが好ましいが、電極部38の一部と接触していればテープの形態には限定はない。しかしながら、反射防止層37の端部領域に、長尺状の導電性テープ39が、辺とテープの長手方向が平行となるように接着されていることが好ましい。
FIG. 5 shows a schematic sectional view of an example of a preferred embodiment of the optical filter for display of the present invention. FIG. 5 shows the display
導電性テープを接着するために、第2電極部38の上部の接着性が利用されているが、反射防止層37の表面の端部領域でアルミニウム製等の両面テープ等を用いて導電性テープを接着しても良い。
In order to adhere the conductive tape, the adhesive property of the upper part of the
導電性テープ39は、対向する2辺の端部領域に設けられるが、四辺全てに設けられても良い。また図3では長尺状導電性テープ39は、反射防止層37上に設けられているが、最上層に設けられるので、最上層が、ハードコート層であれば、その上に設けられる。
The
図6に、図5のディスプレイ用光学フィルタ31を反射防止層側から見た平面図を示す。点線までが反射防止層37、即ち積層体であり、導電性テープ39は、ほぼ半分が反射防止層37上の第2電極部38を覆い、点線から外側の部分の全て又は一部が、端面の第2電極部38の一部を覆っている。メッシュ状の導電層33が突き出ており、第1電極部を形成している。導電性テープ39の幅は、一般に5〜50mmである。
図7に、本発明のディスプレイ用光学フィルタの別の態様の1例の概略断面図を示す。
FIG. 6 is a plan view of the display
FIG. 7 shows a schematic cross-sectional view of an example of another embodiment of the optical filter for display according to the present invention.
図7は、図5の矩形のディスプレイ用光学フィルタにおいて、透明フィルムを2枚用いた場合のディスプレイ用光学フィルタ41を示している。即ち、図7において、透明フィルム42Aの表面に、ハードコート層46及び低屈折率層等の反射防止層47がこの順で設けられ、別の透明フィルム42Bの表面にはメッシュ状の導電層43が設けられ、その裏面には近赤外線吸収層44及びその上に透明粘着剤層45が設けられており、透明フィルム42Aの層が設けられていない表面と透明フィルム42Bの導電層43が、粘着剤層50を介して接着されている。そして、この積層体の端面には、第2電極部(一般にアース電極)48が形成されている。この第2電極部48は、端面に露出した少なくともメッシュ状の導電層43を覆っている必要がある。そして、そして、導電性テープ49が、端面上の第2電極部48の一部で接着されている。この導電性テープ39を用いることにより、第1電極部だけでなく、ここからもアースが極めてとりやすくなる。一般に、メッシュ状の導電層43及び2枚の透明フィルムが、第2電極部48のない方向の端部から突き出ている。しかしながら、メッシュ状の導電層43のみ、或いはメッシュ状の導電層43とそれが設けられた透明フィルム42Bとが突き出ていても良い。なお、近赤外線吸収層44は、透明フィルム42Bの裏面ではなく、透明フィルム42Aの裏面に設けられていても良い。その際2枚のフィルムは、近赤外線吸収層44と導電層43が対向して接着される。
FIG. 7 shows the display
透明フィルム2枚は、製造上有利である場合に採用されるが、厚さが大きくなるので嵩高くなる点で不利である。 The two transparent films are employed when it is advantageous in terms of production, but are disadvantageous in that they are bulky because the thickness is increased.
上記ディスプレイ用光学フィルタは、例えば、
裏面に近赤外線吸収層を有する長尺状透明フィルムの表面の幅方向一杯に、導電層を形成し、次いで導電層の両端に帯状領域を残すように、導電層上にその幅より狭い領域にハードコート層を形成することにより、或いは長尺状透明フィルムのその幅方向一杯に、導電層を形成し、次いで導電層の両端に帯状領域を残すように、導電層上にその幅より狭い領域にハードコート層を形成し、その後長尺状透明フィルムの裏側に(好ましくは該透明フィルムの幅より狭い領域に)近赤外線吸収層等を形成することにより、第1電極部として両側で突出した導電層を有する積層体を形成し、
或いは広幅の導電層が形成された長尺状のプラスチックフィルムと、狭い幅のハードコート層等を含む長尺状の反射防止フィルムとを粘着剤層を介して積層する(第1電極部形成)ことにより長尺状の積層体を得、
その後、作製された積層体フィルムを、各ディスプレイの全面の表示部の形状に合わせて矩形状に裁断して得られる積層体フィルムに、第2電極部を設けることにより作製される。このような光学フィルタの裁断面である端面には、上述のように、全ての層の端面が露出しているが、当然極めて小さな面積でしかない。本発明によれば、このような小さな露出部分を利用して、接地及びディスプレイに装着容易な第2電極部(アース電極)を設けることができる。
The optical filter for display is, for example,
Form a conductive layer over the entire width of the surface of the long transparent film having a near-infrared absorbing layer on the back side, and then leave a band-like region at both ends of the conductive layer in a region narrower than that width on the conductive layer. An area narrower than the width on the conductive layer so that the conductive layer is formed by forming a hard coat layer, or the widthwise fullness of the long transparent film, and then leaving a band-like area at both ends of the conductive layer. A hard coat layer is then formed, and then a near-infrared absorbing layer or the like is formed on the back side of the long transparent film (preferably in a region narrower than the width of the transparent film), thereby projecting on both sides as a first electrode portion Forming a laminate having a conductive layer;
Alternatively, a long plastic film on which a wide conductive layer is formed and a long antireflection film including a narrow hard coat layer and the like are laminated via an adhesive layer (formation of the first electrode portion). To obtain an elongated laminate,
Then, it produces by providing a 2nd electrode part in the laminated body film obtained by cutting the produced laminated body film into a rectangular shape according to the shape of the display part of the whole surface of each display. As described above, the end faces of all the layers are exposed on the end face which is the cut surface of such an optical filter, but it is naturally only an extremely small area. According to the present invention, it is possible to provide the second electrode portion (ground electrode) that can be easily attached to the ground and the display by using such a small exposed portion.
矩形の透明フィルムの場合、各層はバッチ式で形成されても良いが、上記のように連続フィルム上に、各層を連続式、一般にロールトゥロール方式で形成し、裁断することが好ましい。 In the case of a rectangular transparent film, each layer may be formed in a batch system. However, as described above, it is preferable to form each layer on a continuous film, in a roll-to-roll system, and to cut the layers.
本発明のディスプレイ用光学フィルタに使用される材料について以下に説明する。 The material used for the optical filter for display of this invention is demonstrated below.
透明フィルムは、その材料としては、透明(「可視光に対して透明」を意味する。)であれば特に制限はないが、一般にプラスチックフィルムが使用される。例えば、ポリエステル{例、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート}、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、アクリル樹脂、ポリカーボネート(PC)、ポリスチレン、トリアセテート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる。これらの中でも、加工時の負荷(熱、溶剤、折り曲げ等)に対する耐性が高く、透明性が特に高い等の点で、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)等が好ましい。特に、PETが、加工性に優れているので好ましい。 The material of the transparent film is not particularly limited as long as it is transparent (meaning “transparent to visible light”), but a plastic film is generally used. For example, polyester {eg, polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate}, polymethyl methacrylate (PMMA), acrylic resin, polycarbonate (PC), polystyrene, triacetate resin, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyethylene, Examples thereof include ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral, metal ion crosslinked ethylene-methacrylic acid copolymer, polyurethane, cellophane and the like. Among these, polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polymethyl methacrylate (PMMA), etc. are highly resistant to loads during processing (heat, solvent, bending, etc.) and particularly highly transparent. preferable. In particular, PET is preferable because it has excellent processability.
透明フィルムの厚さとしては、光学フィルタの用途等によっても異なるが、一般に1μm〜10mm、1μm〜5mm、特に25〜250μmが好ましい。 The thickness of the transparent film varies depending on the use of the optical filter, but is generally 1 μm to 10 mm, 1 μm to 5 mm, and particularly preferably 25 to 250 μm.
本発明の導電層は、得られる光学フィルタの表面抵抗値が、一般に10Ω/□以下、好ましくは0.001〜5Ω/□の範囲、特に0.005〜5Ω/□の範囲となるように設定される。メッシュ(格子)状の導電層も好ましい。或いは、導電層は、塗工層でもよく、気相成膜法により得られる層(金属酸化物(ITO等)の透明導電薄膜)でも良い。さらに、ITO等の金属酸化物の誘電体膜とAg等の金属層との交互積層体(例、ITO/銀/ITO/銀/ITOの積層体)であっても良い。 The conductive layer of the present invention is set so that the surface resistance value of the obtained optical filter is generally 10Ω / □ or less, preferably 0.001 to 5Ω / □, particularly 0.005 to 5Ω / □. Is done. A mesh-like conductive layer is also preferable. Alternatively, the conductive layer may be a coating layer or a layer obtained by a vapor deposition method (a transparent conductive thin film of metal oxide (ITO or the like)). Further, it may be an alternate laminate of a metal oxide dielectric film such as ITO and a metal layer such as Ag (eg, ITO / silver / ITO / silver / ITO laminate).
メッシュ状の導電層としては金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属を網状にしたもの、透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等を挙げることができる。 As the mesh-like conductive layer, metal fibers and metal-coated organic fiber metals made into a mesh, copper foil on a transparent film etched into a mesh and provided with openings, conductive on the transparent film And the like, in which a conductive ink is printed in a mesh shape.
メッシュ状の導電層の場合、メッシュとしては、金属繊維及び/又は金属被覆有機繊維よりなる線径1μm〜1mm、開口率40〜95%のものが好ましい。より好ましい線径は10〜500μm、開口率は50〜95%である。メッシュ状の導電層において、線径が1mmを超えると電磁波シールド性が向上するが、開口率が低下し両立させることができない。1μm未満では、メッシュとしての強度が下がり取扱いが困難となる。また開口率が95%を超えるとメッシュとしての形状を維持することが困難であり、40%未満では光透過性が低下し、ディスプレイからの光量も低下する。 In the case of a mesh-shaped conductive layer, the mesh preferably has a wire diameter of 1 μm to 1 mm and an aperture ratio of 40 to 95% made of metal fibers and / or metal-coated organic fibers. A more preferable wire diameter is 10 to 500 μm, and an aperture ratio is 50 to 95%. When the wire diameter exceeds 1 mm in the mesh-like conductive layer, the electromagnetic wave shielding property is improved, but the aperture ratio is lowered and cannot be made compatible. If it is less than 1 μm, the strength as a mesh is lowered and handling becomes difficult. Further, when the aperture ratio exceeds 95%, it is difficult to maintain the shape as a mesh. When the aperture ratio is less than 40%, the light transmittance is reduced, and the amount of light from the display is also reduced.
なお、導電性メッシュの開口率とは、当該導電性メッシュの投影面積における開口部分が占める面積割合を言う。 The opening ratio of the conductive mesh refers to the area ratio occupied by the opening portion in the projected area of the conductive mesh.
メッシュ状の導電層を構成する金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、チタン、タングステン、錫、鉛、鉄、銀、炭素或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、ニッケルが用いられる。 The metal fibers constituting the mesh-like conductive layer and the metal of the metal-coated organic fiber include copper, stainless steel, aluminum, nickel, titanium, tungsten, tin, lead, iron, silver, carbon or alloys thereof, preferably copper, Stainless steel and nickel are used.
金属被覆有機繊維の有機材料としては、ポリエステル、ナイロン、塩化ビニリデン、アラミド、ビニロン、セルロース等が用いられる。 As the organic material for the metal-coated organic fiber, polyester, nylon, vinylidene chloride, aramid, vinylon, cellulose and the like are used.
金属箔等の導電性の箔をパターンエッチングしたもの場合、金属箔の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄、真鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。 When a conductive foil such as a metal foil is subjected to pattern etching, copper, stainless steel, aluminum, nickel, iron, brass, or an alloy thereof, preferably copper, stainless steel, or aluminum is used as the metal of the metal foil.
金属箔の厚さは、薄過ぎると取扱い性やパターンエッチングの作業性等の面で好ましくなく、厚過ぎると得られるフィルムの厚さに影響を及ぼし、エッチング工程の所要時間が長くなることから、1〜200μm程度とするのが好ましい。 If the thickness of the metal foil is too thin, it is not preferable in terms of handleability and workability of pattern etching, and if it is too thick, it affects the thickness of the film obtained, and the time required for the etching process becomes long. The thickness is preferably about 1 to 200 μm.
エッチングパターンの形状には特に制限はなく、例えば四角形の孔が形成された格子状の金属箔や、円形、六角形、三角形又は楕円形の孔が形成されたパンチングメタル状の金属箔等が挙げられる。また、孔は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。この金属箔の投影面における開口部分の面積割合は、20〜95%であることが好ましい。 The shape of the etching pattern is not particularly limited, and examples thereof include a grid-like metal foil in which square holes are formed, and a punching metal-like metal foil in which circular, hexagonal, triangular or elliptical holes are formed. It is done. Further, the holes are not limited to those regularly arranged, and may be a random pattern. It is preferable that the area ratio of the opening part in the projection surface of this metal foil is 20 to 95%.
或いは、メッシュ状の導電層を、透明基板に導電性インキをパターン印刷して形成しても良い。次のような導電性インキを用い、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法、静電印刷法等により透明基板の表面に印刷することができる。 Alternatively, the mesh-like conductive layer may be formed by pattern printing of conductive ink on a transparent substrate. Using the following conductive ink, it can be printed on the surface of the transparent substrate by screen printing, ink jet printing, electrostatic printing or the like.
一般に、粒径100μm以下のカーボンブラック粒子、或いは銅、アルミニウム、ニッケル等の金属又は合金の粒子等の導電性材料の粒子を50〜90重量%濃度にPMMA、ポリ酢酸ビニル、エポキシ樹脂等のバインダ樹脂に分散させたものである。このインクは、トルエン、キシレン、塩化メチレン、水等の溶媒に適当な濃度に希釈または分散させて透明基板の板面に印刷により塗布し、その後必要に応じ室温〜120℃で乾燥させ基板上に塗着させる。上記と同様の導電性材料の粒子をバインダ樹脂で覆った粒子を静電印刷法により直接塗布し熱等で固着させる。 In general, carbon black particles having a particle size of 100 μm or less, or particles of a conductive material such as particles of metals or alloys such as copper, aluminum, nickel, etc. are bound to a binder of PMMA, polyvinyl acetate, epoxy resin or the like at a concentration of 50 to 90% by weight. Dispersed in resin. This ink is diluted or dispersed at a suitable concentration in a solvent such as toluene, xylene, methylene chloride, water, etc., applied to the surface of the transparent substrate by printing, and then dried at room temperature to 120 ° C. as necessary. Apply. Particles obtained by covering the same conductive material particles as described above with a binder resin are directly applied by electrostatic printing and fixed by heat or the like.
このようにして形成される印刷膜の厚さは、薄過ぎると電磁波シールド性が不足するので好ましくなく、厚過ぎると得られるフィルムの厚さに影響を及ぼすことから、0.5〜100μm程度とするのが好ましい。 The thickness of the printed film formed in this way is not preferable because the electromagnetic wave shielding property is insufficient if it is too thin, and if it is too thick, it affects the thickness of the resulting film, so it is about 0.5 to 100 μm. It is preferable to do this.
このようなパターン印刷によれば、パターンの自由度が大きく、任意の線径、間隔及び開口形状の導電層を形成することができ、従って、所望の電磁波遮断性と光透過性を有するプラスチックフィルムを容易に形成することができる。 According to such pattern printing, the degree of freedom of the pattern is large, and a conductive layer having an arbitrary wire diameter, interval and opening shape can be formed. Therefore, a plastic film having desired electromagnetic wave shielding properties and light transmission properties Can be easily formed.
導電層のパターン印刷の形状には特に制限はなく、例えば四角形の開口部が形成された格子状の印刷膜や、円形、六角形、三角形又は楕円形の開口部が形成されたパンチングメタル状の印刷膜等が挙げられる。また、開口部は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。この印刷膜の投影面における開口部分の面積割合は、20〜95%であることが好ましい。 There is no particular limitation on the pattern printing shape of the conductive layer. For example, a grid-like printed film having a rectangular opening or a punching metal shape having a circular, hexagonal, triangular or elliptical opening. Examples include printed films. Further, the openings are not limited to those regularly arranged, and may be a random pattern. It is preferable that the area ratio of the opening part in the projection surface of this printed film is 20 to 95%.
上記の他に、メッシュ状の導電層として、フィルム面に、溶剤に対して可溶な材料によってドットを形成し、フィルム面に溶剤に対して不溶な導電材料からなる導電材料層を形成し、フィルム面を溶剤と接触させてドット及びドット上の導電材料層を除去することによって得られるメッシュ状導電層を用いても良い。 In addition to the above, as a mesh-like conductive layer, dots are formed on the film surface by a material soluble in a solvent, and a conductive material layer made of a conductive material insoluble in a solvent is formed on the film surface, A mesh-like conductive layer obtained by contacting the film surface with a solvent to remove the dots and the conductive material layer on the dots may be used.
塗工による導電層としては、ポリマー中に無機化合物の導電性粒子が分散された塗工層を挙げることができる。 Examples of the conductive layer by coating include a coating layer in which conductive particles of an inorganic compound are dispersed in a polymer.
導電性粒子を構成する無機化合物としては、例えば、アルミニウム、ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、スズ、カドミウム、銀、プラチナ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属、合金;或いはITO、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム−酸化スズ(ITO、いわゆるインジウムドープ酸化スズ)、酸化スズ−酸化アンチモン(ATO、いわゆるアンチモンドープ酸化スズ)、酸化亜鉛−酸化アルミニウム(ZAO;いわゆるアルミニウムドープ酸化亜鉛)等の導電性酸化物等を挙げることができる。特に、ITOが好ましい。平均粒径は10〜10000nm、特に10〜50nmが好ましい。 Examples of the inorganic compound constituting the conductive particles include metals, alloys such as aluminum, nickel, indium, chromium, gold, vanadium, tin, cadmium, silver, platinum, copper, titanium, cobalt, lead; or ITO, oxidation Indium, tin oxide, zinc oxide, indium oxide-tin oxide (ITO, so-called indium-doped tin oxide), tin oxide-antimony oxide (ATO, so-called antimony-doped tin oxide), zinc oxide-aluminum oxide (ZAO; so-called aluminum-doped oxide) And conductive oxides such as zinc). In particular, ITO is preferable. The average particle size is preferably 10 to 10,000 nm, particularly preferably 10 to 50 nm.
ポリマーの例としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、マレイン酸樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ポリイミド樹脂、含ケイ素樹脂等を挙げることができる。さらに、これらの樹脂のうち熱硬化性樹脂であることが好ましい。 Examples of the polymer include acrylic resin, polyester resin, epoxy resin, urethane resin, phenol resin, maleic acid resin, melamine resin, urea resin, polyimide resin, and silicon-containing resin. Furthermore, it is preferable that it is a thermosetting resin among these resins.
或いは、ポリマーは後述するハードコート層に使用される紫外線硬化性樹脂を用いることが特に好ましい。 Alternatively, the polymer is particularly preferably an ultraviolet curable resin used for a hard coat layer described later.
上記塗工による導電層の形成は、ポリマー(必要により溶剤を用いて)中に上記導電性微粒子を混合等により分散させて塗工液を作製し、この塗工液を、透明基板上に塗工し、適宜乾燥、硬化させる。熱可塑性樹脂を用いた場合は、塗工後乾燥することにより、熱硬化型の場合は、乾燥、熱硬化することにより得られる。紫外線硬化性樹脂を用いた場合は、塗工後、必要に応じて乾燥し、紫外線照射することにより得られる。 The conductive layer is formed by coating by dispersing the conductive fine particles in a polymer (using a solvent if necessary) by mixing or the like to prepare a coating solution, and coating the coating solution on a transparent substrate. And then drying and curing as appropriate. In the case of using a thermoplastic resin, it is obtained by drying after coating, and in the case of a thermosetting type, it is obtained by drying and thermosetting. When an ultraviolet curable resin is used, it can be obtained by drying after application and irradiating with ultraviolet rays after coating.
上記塗工形成された導電層の厚さとしては、0.01〜5μm、特に0.05〜3μmが好ましい。前記厚さが、0.01μm未満であると、電磁波シールド性が充分でないことがあり、一方5μmを超えると、得られるフィルムの透明性を低下させる場合がある。 The thickness of the conductive layer formed by coating is preferably 0.01 to 5 μm, particularly preferably 0.05 to 3 μm. When the thickness is less than 0.01 μm, the electromagnetic wave shielding property may not be sufficient. On the other hand, when the thickness exceeds 5 μm, the transparency of the resulting film may be lowered.
本発明の導電層は、塗工により形成される導電性ポリマーの層であることも好ましい。例えば、ポリアセチレン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン、ポリアセン、ポリフェニルアセチレン、ポリナフタレン等の炭化水素系ポリマー;ポリピロール、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリエチレンビニレン、ポリアズレン、ポリイソチアナフテン等のヘテロ原子含有ポリマーを挙げることができる。ポリピロール、ポリチオフェンが好ましい。上記導電性ポリマーの明導電層の厚さとしては、0.01〜5μm、特に0.05〜3μmが好ましい。前記厚さが、0.01μm未満であると、電磁波シールド性が充分でないことがあり、一方5μmを超えると、得られるフィルムの透明性を低下させる場合がある。 The conductive layer of the present invention is also preferably a conductive polymer layer formed by coating. For example, hydrocarbon polymers such as polyacetylene, polyphenylene, polyphenylene vinylene, polyacene, polyphenylacetylene, polynaphthalene; heteroatom-containing polymers such as polypyrrole, polyaniline, polythiophene, polyethylene vinylene, polyazulene, polyisothianaphthene . Polypyrrole and polythiophene are preferred. The thickness of the light conductive layer of the conductive polymer is preferably 0.01 to 5 μm, particularly preferably 0.05 to 3 μm. When the thickness is less than 0.01 μm, the electromagnetic wave shielding property may not be sufficient. On the other hand, when the thickness exceeds 5 μm, the transparency of the resulting film may be lowered.
導電層を気相成膜法により形成する場合(金属酸化物層)、その形成方法としては、特に制限はないが、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等の気相製膜法や、印刷、塗工等が挙げることができるが、気相製膜法(スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着)が好ましい。前記の無機化合物を用いて導電層を形成することができる。導電層を気相成膜法で形成した場合は、その層厚は、30〜50000nm、特に50nm程度が好ましい。 When the conductive layer is formed by a vapor deposition method (metal oxide layer), the formation method is not particularly limited, but a vapor phase such as sputtering, ion plating, electron beam vapor deposition, vacuum vapor deposition, chemical vapor deposition, etc. Examples of the method include a film forming method, printing, and coating, but a gas phase film forming method (sputtering, ion plating, electron beam vapor deposition, vacuum vapor deposition, chemical vapor deposition) is preferable. A conductive layer can be formed using the inorganic compound. When the conductive layer is formed by a vapor deposition method, the layer thickness is preferably 30 to 50000 nm, particularly about 50 nm.
導電層上に、さらに金属メッキ層を、導電性を向上させるためは設けても良い。金属メッキ層は、公知の電解メッキ法、無電解メッキ法により形成することができる。メッキに使用される金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、アルミ、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、好ましくは銅、銅合金、銀、又はニッケルであり、特に経済性、導電性の点から、銅又は銅合金を使用することが好ましい。 A metal plating layer may be further provided on the conductive layer in order to improve conductivity. The metal plating layer can be formed by a known electrolytic plating method or electroless plating method. As the metal used for plating, generally, copper, copper alloy, nickel, aluminum, silver, gold, zinc, tin or the like can be used, preferably copper, copper alloy, silver, or nickel, In particular, it is preferable to use copper or a copper alloy from the viewpoint of economy and conductivity.
また導電層は、誘電体層(金属酸化物)と金属層との交互積層膜でも良い。特に、誘電体層/金属層/誘電体層/金属層/誘電体層の5層以上の積層体が好ましい。例えば、ITO等の金属酸化物の誘電体層とAg等の金属層との交互積層体(例、ITO/銀/ITO/銀/ITOの積層体)を挙げることができる。 Further, the conductive layer may be an alternately laminated film of a dielectric layer (metal oxide) and a metal layer. In particular, a laminate of 5 layers or more of dielectric layer / metal layer / dielectric layer / metal layer / dielectric layer is preferable. For example, an alternate laminate of a dielectric layer of a metal oxide such as ITO and a metal layer of Ag or the like (eg, a laminate of ITO / silver / ITO / silver / ITO) can be used.
上記透明導電膜は、物理蒸着法または化学蒸着法により成膜することができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が挙げられるが、一般的にはスパッタリング法で成膜するのが好ましい。化学蒸着法としては、常圧CVD法、減圧CVD法、プラズマCVD法が挙げられる。 The transparent conductive film can be formed by physical vapor deposition or chemical vapor deposition. Examples of the physical vapor deposition method include a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, and a laser ablation method, but it is generally preferable to form a film by the sputtering method. Examples of the chemical vapor deposition method include an atmospheric pressure CVD method, a low pressure CVD method, and a plasma CVD method.
導電層(特にメッシュ状導電層)をさらに低い抵抗値にして、電磁波シールド効果を向上させたい場合は、導電層上にメッキ層を形成することが好ましい。 In order to improve the electromagnetic wave shielding effect by further reducing the resistance value of the conductive layer (particularly the mesh-shaped conductive layer), it is preferable to form a plating layer on the conductive layer.
メッキ処理に使用される材料としては、銅、ニッケル、クロム、亜鉛、スズ、銀及び金を上げることができる。これらは単独で使用しても、2種以上の合金として使用しても良い。メッキ処理としては通常の液相メッキ(電気メッキ、無電解メッキ等)により一般に行われる。 Examples of materials used for the plating process include copper, nickel, chromium, zinc, tin, silver, and gold. These may be used alone or as two or more kinds of alloys. The plating process is generally performed by ordinary liquid phase plating (electroplating, electroless plating, etc.).
また、防眩性能を付与させても良い。この防眩化処理を行う場合、(メッシュ)導電層の表面に黒化処理を行っても良い。例えば、金属膜の酸化処理、クロム合金等の黒色メッキ、黒又は暗色系のインクの塗布等を行うことができる。 Moreover, you may give anti-glare performance. When this anti-glare treatment is performed, a blackening treatment may be performed on the surface of the (mesh) conductive layer. For example, oxidation treatment of a metal film, black plating such as chromium alloy, application of black or dark ink, and the like can be performed.
本発明の反射防止層は、一般に基板である透明フィルムより屈折率の低いハードコート層とその上に設けられた低屈折率層との複合膜であるか、或いはハードコート層と低屈折率層との間にさらに高屈折率層が設けられた複合膜である。反射防止膜は基板より屈折率の低いハードコート層のみであっても有効である。但し、基板の屈折率が低い場合、透明フィルムより屈折率の高いハードコート層とその上に設けられた低屈折率層との複合膜、或いは低屈折率層上にさらに高屈折率層が設けられた複合膜としても良い。 The antireflection layer of the present invention is generally a composite film of a hard coat layer having a refractive index lower than that of a transparent film as a substrate and a low refractive index layer provided thereon, or a hard coat layer and a low refractive index layer. Is a composite film in which a high refractive index layer is further provided therebetween. The antireflection film is effective even if it is only a hard coat layer having a refractive index lower than that of the substrate. However, when the refractive index of the substrate is low, a composite film of a hard coat layer having a higher refractive index than the transparent film and a low refractive index layer provided thereon, or a higher refractive index layer is provided on the low refractive index layer. A composite film obtained may be used.
ハードコート層としては、アクリル樹脂層、エポキシ樹脂層、ウレタン樹脂層、シリコーン樹脂層等を挙げることができ、通常その厚さは1〜50μm、好ましくは1〜10μmである。熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂のいずれでもよいが、紫外線硬化性樹脂が好ましい。 As a hard-coat layer, an acrylic resin layer, an epoxy resin layer, a urethane resin layer, a silicone resin layer, etc. can be mentioned, The thickness is 1-50 micrometers normally, Preferably it is 1-10 micrometers. Either a thermosetting resin or an ultraviolet curable resin may be used, but an ultraviolet curable resin is preferable.
熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、レゾルシノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フラン樹脂、シリコン樹脂などを挙げることができる。 Examples of the thermosetting resin include phenol resin, resorcinol resin, urea resin, melamine resin, epoxy resin, acrylic resin, urethane resin, furan resin, and silicon resin.
紫外線硬化性樹脂(モノマー、オリゴマー)としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシルポリエトキシ(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、フェニルオキシエチル(メタ)アクリレート、トリシクロデカンモノ(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、アクリロイルモルホリン、N−ビニルカプロラクタム、2−ヒドロキシ−3−フェニルオキシプロピル(メタ)アクリレート、o−フェニルフェニルオキシエチル(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、トリス〔(メタ)アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレートモノマー類;ポリオール化合物(例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,9−ノナンジオール、2−エチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、1,4−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールAポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等)と有機ポリイソシアネート(例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4′−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4′−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,2′−4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等)と水酸基含有(メタ)アクリレート(例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェニルオキシプロピル(メタ)アクリレート、シクロヘキサン−1,4−ジメチロールモノ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート等)の反応物であるポリウレタン(メタ)アクリレート、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら化合物は1種又は2種以上、混合して使用することができる。これらの紫外線硬化性樹脂を、熱重合開始剤とともに用いて熱硬化性樹脂として使用してもよい。 Examples of the ultraviolet curable resin (monomer, oligomer) include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, and 2-ethylhexyl polyethoxy (meth) acrylate. , Benzyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, phenyloxyethyl (meth) acrylate, tricyclodecane mono (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, acryloylmorpholine , N-vinylcaprolactam, 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl (meth) acrylate, o-phenylphenyloxyethyl (meth) acrylate, neopentylglyce Di (meth) acrylate, neopentyl glycol dipropoxy di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate hydroxypivalate, tricyclodecane dimethylol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) Acrylate, nonanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, tris [(meth) acryloxyethyl] isocyanurate, ditrimethylolpropane (Meth) acrylate monomers such as tetra (meth) acrylate; polyol compounds (for example, ethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, , 6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,9-nonanediol, 2-ethyl-2-butyl-1,3-propanediol, trimethylolpropane, diethylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene Polyols such as glycol, 1,4-dimethylolcyclohexane, bisphenol A polyethoxydiol, polytetramethylene glycol, the polyols and succinic acid, maleic acid, itaconic acid, adipic acid, hydrogenated dimer acid, phthalic acid, isophthalic acid Polyester polyols which are reaction products of polybasic acids such as acid and terephthalic acid or acid anhydrides thereof, polycaprolactone polyols which are reaction products of the polyols and ε-caprolactone, the polyols and the above, Polybasic acid or this Reaction products of these acid anhydrides with ε-caprolactone, polycarbonate polyols, polymer polyols, etc.) and organic polyisocyanates (for example, tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4′-diisocyanate, diisocyanate) Cyclopentanyl diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 2,4,4′-trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,2′-4-trimethylhexamethylene diisocyanate, etc.) and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate (for example, 2-hydroxyethyl (meta ) Acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl (meth) acrylic Rate, cyclohexane-1,4-dimethylol mono (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, etc.) (Meth) such as bisphenol type epoxy (meth) acrylate, which is a reaction product of bisphenol type epoxy resin such as polyurethane (meth) acrylate, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin and (meth) acrylic acid which is a reaction product Examples include acrylate oligomers. These compounds can be used alone or in combination. These ultraviolet curable resins may be used as a thermosetting resin together with a thermal polymerization initiator.
ハードコート層とするには、上記の紫外線硬化性樹脂(モノマー、オリゴマー)の内、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の硬質の多官能モノマーを主に使用することが好ましい。 For the hard coat layer, among the above-mentioned ultraviolet curable resins (monomers and oligomers), hard materials such as pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol penta (meth) acrylate and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate are used. It is preferable to mainly use polyfunctional monomers.
紫外線硬化性樹脂の光重合開始剤として、紫外線硬化性樹脂の性質に適した任意の化合物を使用することができる。例えば、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−(4−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノプロパン−1などのアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、4−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、2−4−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−(4−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノプロパン−1、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、4−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系叉は、第3級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の1種または2種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの1種または2種以上の混合で使用することができる。特に1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア184)が好ましい。 Any compound suitable for the properties of the ultraviolet curable resin can be used as the photopolymerization initiator for the ultraviolet curable resin. For example, acetophenone such as 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane-1 Benzoin series such as benzyldimethyl ketal, benzophenone, 4-phenylbenzophenone, benzophenone series such as hydroxybenzophenone, thioxanthone series such as isopropylthioxanthone, 2-4-diethylthioxanthone, and other special ones include methylphenyl glyoxylate Etc. can be used. Particularly preferably, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane-1, Examples include benzophenone. These photopolymerization initiators may be optionally selected from one or more known photopolymerization accelerators such as benzoic acid type or tertiary amine type such as 4-dimethylaminobenzoic acid. It can be used by mixing at a ratio. Moreover, it can be used by 1 type, or 2 or more types of mixture of only a photoinitiator. Particularly preferred is 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals).
光重合開始剤の量は、樹脂組成物に対して0.1〜10質量%、好ましくは0.1〜5質量%である。 The quantity of a photoinitiator is 0.1-10 mass% with respect to a resin composition, Preferably it is 0.1-5 mass%.
ハードコート層は、透明フィルムより屈折率が低いことが好ましく、上記紫外線硬化性樹脂を用いることにより一般に基板より低い屈折率を得られやすい。従って、透明基板としては、PET等の高い屈折率の材料を用いることが好ましい。このため、ハードコート層は、屈折率を、1.60以下にすることが好ましい。膜厚は前記の通りである。 The hard coat layer preferably has a refractive index lower than that of the transparent film. By using the ultraviolet curable resin, a refractive index lower than that of the substrate is generally easily obtained. Therefore, it is preferable to use a material having a high refractive index such as PET as the transparent substrate. Therefore, the hard coat layer preferably has a refractive index of 1.60 or less. The film thickness is as described above.
高屈折率層は、ポリマー(好ましくは紫外線硬化性樹脂)中に、ITO、ATO、Sb2O5、Sb2O3、SbO2、In2O3、SnO2、ZnO、ZrO2、AlをドープしたZnO、TiO2等の導電性金属酸化物微粒子(無機化合物)が分散した層とすることが好ましい。金属酸化物微粒子としては、平均粒径10〜10000nm、好ましくは10〜50nmのものが好ましい。特にITO(特に平均粒径10〜50nmのもの)が好ましい。屈折率を1.64以上としたものが好適である。膜厚は一般に10〜500nmの範囲、好ましくは20〜200nmである。 The high refractive index layer is made of ITO, ATO, Sb 2 O 5 , Sb 2 O 3 , SbO 2 , In 2 O 3 , SnO 2 , ZnO, ZrO 2 , Al in a polymer (preferably UV curable resin). A layer in which conductive metal oxide fine particles (inorganic compounds) such as doped ZnO and TiO 2 are dispersed is preferable. The metal oxide fine particles preferably have an average particle size of 10 to 10,000 nm, preferably 10 to 50 nm. In particular, ITO (especially having an average particle diameter of 10 to 50 nm) is preferable. Those having a refractive index of 1.64 or more are suitable. The film thickness is generally in the range of 10 to 500 nm, preferably 20 to 200 nm.
なお、高屈折率層が導電層である場合、この高屈折率層2の屈折率を1.64以上とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を1.5%以内にすることができ、1.69以上、好ましくは1.69〜1.82とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を1.0%以内にすることができる。
When the high refractive index layer is a conductive layer, the minimum reflectance of the surface reflectance of the antireflection film is set within 1.5% by setting the refractive index of the high
低屈折率層は、シリカ、フッ素樹脂等の微粒子、好ましくは中空シリカを10〜60重量%(好ましくは10〜50質量%)がポリマー(好ましくは紫外線硬化性樹脂)中に分散した層(硬化層)であることが好ましい。この低屈折率層の屈折率は、1.40〜1.51が好ましい。この屈折率が1.51超であると、反射防止フィルムの反射防止特性が低下する。膜厚は一般に10〜500nmの範囲、好ましくは20〜200nmである。 The low refractive index layer is a layer (cured) in which fine particles such as silica and fluororesin, preferably hollow silica, are dispersed in a polymer (preferably UV curable resin) in an amount of 10 to 60% by weight (preferably 10 to 50% by weight). Layer). The refractive index of this low refractive index layer is preferably 1.40 to 1.51. When the refractive index is more than 1.51, the antireflection property of the antireflection film is deteriorated. The film thickness is generally in the range of 10 to 500 nm, preferably 20 to 200 nm.
中空シリカとしては、平均粒径10〜100nm、好ましくは10〜50nm、比重0.5〜1.0、好ましくは0.8〜0.9のものが好ましい。 As the hollow silica, those having an average particle diameter of 10 to 100 nm, preferably 10 to 50 nm, and a specific gravity of 0.5 to 1.0, preferably 0.8 to 0.9 are preferable.
ハードコート層は、可視光線透過率が85%以上であることが好ましい。高屈折率層及び低屈折率層の可視光線透過率も、いずれも85%以上であることが好ましい。 The hard coat layer preferably has a visible light transmittance of 85% or more. Both the visible light transmittance of the high refractive index layer and the low refractive index layer are preferably 85% or more.
反射防止層が上記3層より構成される場合、例えば、ハードコート層の厚さは2〜20μm、高屈折率層の厚さは75〜200nm、低屈折率層の厚さは75〜200nmであることが好ましい。 When the antireflection layer is composed of the above three layers, for example, the thickness of the hard coat layer is 2 to 20 μm, the thickness of the high refractive index layer is 75 to 200 nm, and the thickness of the low refractive index layer is 75 to 200 nm. Preferably there is.
反射防止層の、各層を形成するには、前記の通り、ポリマー(好ましくは紫外線硬化性樹脂)に必要に応じ上記の微粒子を配合し、得られた塗工液を塗工し、次いで乾燥、必要により熱硬化させるか、或いは塗工後、必要により乾燥し、紫外線を照射する。この場合、各層を1層ずつ塗工し硬化させてもよく、全層を塗工した後、まとめて硬化させてもよい。 In order to form each layer of the antireflection layer, as described above, the polymer (preferably UV curable resin) is blended with the fine particles as necessary, and the obtained coating solution is applied, and then dried. If necessary, it is heat-cured, or after coating, if necessary, it is dried and irradiated with ultraviolet rays. In this case, each layer may be applied and cured one by one, or all the layers may be applied and then cured together.
塗工の具体的な方法としては、アクリル系モノマー等を含む紫外線硬化性樹脂をトルエン等の溶媒で溶液にした塗工液をグラビアコータ等によりコーティングし、その後乾燥し、次いで紫外線により硬化する方法を挙げることができる。このウェットコーティング法であれば、高速で均一に且つ安価に成膜できるという利点がある。このコーティング後に例えば紫外線を照射して硬化することにより密着性の向上、膜の硬度の上昇という効果が得られる。前記導電層も同様に形成することができる。 As a specific method of coating, a method of coating a coating solution in which an ultraviolet curable resin containing an acrylic monomer or the like is made into a solution with a solvent such as toluene is coated with a gravure coater, and then dried, and then cured by ultraviolet rays. Can be mentioned. This wet coating method has the advantage that the film can be uniformly formed at high speed at low cost. After this coating, for example, by irradiating and curing with ultraviolet rays, the effect of improving the adhesion and increasing the hardness of the film can be obtained. The conductive layer can be formed similarly.
紫外線硬化の場合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等を挙げることができる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分程度である。また、硬化促進のために、予め積層体を40〜120℃に加熱し、これに紫外線を照射してもよい。 In the case of ultraviolet curing, many light sources that emit light in the ultraviolet to visible range can be used as the light source, such as ultra-high pressure, high pressure, low pressure mercury lamp, chemical lamp, xenon lamp, halogen lamp, mercury lamp, carbon arc lamp, incandescent lamp. And laser light. The irradiation time cannot be determined unconditionally depending on the type of lamp and the intensity of the light source, but is about several seconds to several minutes. Moreover, in order to accelerate curing, the laminate may be preheated to 40 to 120 ° C. and irradiated with ultraviolet rays.
本発明の反射防止層は、上記のように塗工により形成することが好ましいが、気相成膜法により形成しても良い。通常、高屈折率層及び低屈折率層を、物理蒸着法または化学蒸着法により成膜することができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が挙げられるが、一般的にはスパッタリング法で成膜するのが好ましい。化学蒸着法としては、常圧CVD法、減圧CVD法、プラズマCVD法が挙げられる。 The antireflection layer of the present invention is preferably formed by coating as described above, but may be formed by a vapor phase film forming method. Usually, the high refractive index layer and the low refractive index layer can be formed by physical vapor deposition or chemical vapor deposition. Examples of the physical vapor deposition method include a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, and a laser ablation method, but it is generally preferable to form a film by the sputtering method. Examples of the chemical vapor deposition method include an atmospheric pressure CVD method, a low pressure CVD method, and a plasma CVD method.
高屈折率層及び低屈折率層等の組合せの例としては、下記のものを挙げることができる。 Examples of the combination of the high refractive index layer and the low refractive index layer include the following.
(a) 高屈折率層/低屈折率層の順で各1層ずつ、合計2層に積層したもの、(b) 高屈折率層/低屈折率層を2層ずつ交互に、合計4層に積層したもの、(c) 中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層の順で各1層ずつ、合計3層に積層したもの、(d) 高屈折率層/低屈折率層の順で各層を交互に3層ずつ、合計6層に積層したもの。高屈折率層としては、ITO(スズインジウム酸化物)又はZnO、AlをドープしたZnO、TiO2、SnO2、ZrO等の薄膜を採用することができる。また、低屈折折率層としては、SiO2、MgF2、Al2O3等の屈折率が1.6以下の薄膜を用いることができる。 (A) 1 layer each in the order of high refractive index layer / low refractive index layer, laminated in a total of 2 layers, (b) 2 layers of high refractive index layer / low refractive index layer alternately, 4 layers in total (C) One layer each in the order of medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer, laminated in a total of three layers, (d) high refractive index layer / low refractive index layer In this order, each layer is alternately stacked in 3 layers for a total of 6 layers. As the high refractive index layer, ITO (tin indium oxide) or ZnO, a thin film of ZnO, TiO 2 , SnO 2 , ZrO or the like doped with Al can be employed. As the low refractive index layer, a thin film having a refractive index of 1.6 or less, such as SiO 2 , MgF 2 , Al 2 O 3, or the like can be used.
上記高屈折率層及び低屈折率層等は、物理蒸着法または化学蒸着法により成膜することができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が挙げられるが、一般的にはスパッタリング法で成膜するのが好ましい。化学蒸着法としては、常圧CVD法、減圧CVD法、プラズマCVD法が挙げられる。 The high refractive index layer, the low refractive index layer, and the like can be formed by physical vapor deposition or chemical vapor deposition. Examples of the physical vapor deposition method include a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, and a laser ablation method, but it is generally preferable to form a film by the sputtering method. Examples of the chemical vapor deposition method include an atmospheric pressure CVD method, a low pressure CVD method, and a plasma CVD method.
近赤外線吸収層は、一般に、透明フィルムの表面に色素等を含む層が形成することにより得られる。近赤外線吸収層は、例えば上記色素及びバインダ樹脂等を含む紫外線硬化性又は電子線硬化性の樹脂を含む塗工液を塗工、必要により乾燥、そして硬化させることにより得られる。フィルムとして使用する場合は、一般に近赤外線カットフィルムであり、例えば色素等を含有するフィルムである。色素としては、一般に800〜1200nmの波長に吸収極大を有するもので、例としては、フタロシアニン系色素、金属錯体系色素、ニッケルジチオレン錯体系色素、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、ポリメチン系色素、アゾメチン系色素、アゾ系色素、ポリアゾ系色素、ジイモニウム系色素、アミニウム系色素、アントラキノン系色素、を挙げることができ、特にシアニン系色素又はスクアリリウム系色素が好ましい。これらの色素は、単独又は組み合わせて使用することができる。バインダ樹脂の例としては、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂を挙げることができる。 A near-infrared absorption layer is generally obtained by forming a layer containing a pigment or the like on the surface of a transparent film. The near-infrared absorbing layer can be obtained, for example, by applying a coating solution containing an ultraviolet curable or electron beam curable resin containing the pigment and the binder resin, and drying and curing if necessary. When used as a film, it is generally a near-infrared cut film, such as a film containing a pigment or the like. The dye generally has an absorption maximum at a wavelength of 800 to 1200 nm. Examples include phthalocyanine dyes, metal complex dyes, nickel dithiolene complex dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, polymethine dyes, Examples thereof include azomethine dyes, azo dyes, polyazo dyes, diimonium dyes, aminium dyes, and anthraquinone dyes, and cyanine dyes and squarylium dyes are particularly preferable. These dyes can be used alone or in combination. Examples of the binder resin include thermoplastic resins such as acrylic resins.
本発明では、近赤外線吸収層に、ネオン発光の吸収機能を付与することにより色調の調節機能を持たせても良い。このために、ネオン発光の吸収層を設けても良いが、近赤外線吸収層にネオン発光の選択吸収色素を含有させても良い。 In the present invention, the near-infrared absorbing layer may be provided with a function of adjusting color tone by providing a function of absorbing neon light emission. For this purpose, a neon-emission absorption layer may be provided, but a neon-emission selective absorption dye may be included in the near-infrared absorption layer.
ネオン発光の選択吸収色素としては、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、アントラキノン系色素、フタロシアニン系色素、ポリメチン系色素、ポリアゾ系色素、アズレニウム系色素、ジフェニルメタン系色素、トリフェニルメタン系色素を挙げることができる。このような選択吸収色素は、585nm付近のネオン発光の選択吸収性とそれ以外の可視光波長において吸収が小さいことが必要であるため、吸収極大波長が575〜595nmであり、吸収スペクトル半値幅が40nm以下であるものが好ましい。 Neon luminescent selective absorption dyes include cyanine dyes, squarylium dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, polymethine dyes, polyazo dyes, azurenium dyes, diphenylmethane dyes, and triphenylmethane dyes. it can. Such a selective absorption dye is required to have a selective absorption of neon emission near 585 nm and a small absorption at other visible light wavelengths, so that the absorption maximum wavelength is 575 to 595 nm and the absorption spectrum half width is What is 40 nm or less is preferable.
また、近赤外線やネオン発光の吸収色素を複数種組み合わせる場合、色素の溶解性に問題がある場合、混合による色素間の反応ある場合、耐熱性、耐湿性等の低下が認められる場合には、すべての近赤外線吸収色素を同一の層に含有させる必要はなく、別の層に含有させても良い。 Also, when combining multiple types of near-infrared or neon luminescent absorbing dyes, if there is a problem with the solubility of the dye, if there is a reaction between the dyes due to mixing, if there is a decline in heat resistance, moisture resistance, etc. All the near-infrared absorbing dyes need not be contained in the same layer, and may be contained in another layer.
また、光学特性に大きな影響を与えない限り、さらに着色用の色素、紫外線吸収剤、酸化防止剤等を加えても良い。 Further, as long as the optical properties are not greatly affected, coloring pigments, ultraviolet absorbers, antioxidants and the like may be further added.
本発明の光学フィルタの近赤外線吸収特性としては、850〜1000nmの透過率を、20%以下、さらに15%するのが好ましい。また選択吸収性としては、585nmの透過率が50%以下であることが好ましい。特に前者の場合には、周辺機器のリモコン等の誤作動が指摘されている波長領域の透過度を減少させる効果があり、後者の場合は、575〜595nmにピークを持つオレンジ色が色再現性を悪化させる原因であることから、このオレンジ色の波長を吸収させる効果があり、これにより真赤性を高めて色の再現性を向上させたものである。 As a near-infrared absorption characteristic of the optical filter of the present invention, it is preferable that the transmittance at 850 to 1000 nm is 20% or less, and further 15%. Moreover, as selective absorptivity, it is preferable that the transmittance | permeability of 585 nm is 50% or less. Especially in the former case, there is an effect of reducing the transmittance in a wavelength region where malfunction of a remote controller of a peripheral device is pointed out. In the latter case, an orange color having a peak at 575 to 595 nm is color reproducibility. This has the effect of absorbing the orange wavelength, thereby improving the redness and improving the color reproducibility.
近赤外線吸収層の層厚は、0.5〜50μmが一般的である。 The layer thickness of the near infrared absorbing layer is generally 0.5 to 50 μm.
本発明の第2電極部は、導電材料含有接着剤又はハンダから形成されている。 The second electrode portion of the present invention is formed from a conductive material-containing adhesive or solder.
導電材料含有接着剤(導電性接着剤)は、銅、銀、ニッケル等(好ましくは銀又は銀―銅合金)の金属粉末を、合成樹脂(及び適宜有機溶剤)中に分散させたものである。金属粉末の平均粒径は一般に、0.001〜100μm、特に0.01〜50μmである。合成樹脂としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アクリルウレタン樹脂が好ましく、特にアクリル樹脂、ポリエステル樹脂が好ましい。合成樹脂は熱可塑性であっても、熱硬化性であってもよい。全固形分に対する金属粉末の割合は、10〜95質量%の範囲、特に30〜90質量%が好ましい。 The conductive material-containing adhesive (conductive adhesive) is obtained by dispersing metal powder of copper, silver, nickel or the like (preferably silver or silver-copper alloy) in a synthetic resin (and an appropriate organic solvent). . The average particle size of the metal powder is generally 0.001 to 100 μm, in particular 0.01 to 50 μm. As the synthetic resin, an acrylic resin, a polyester resin, an epoxy resin, and an acrylic urethane resin are preferable, and an acrylic resin and a polyester resin are particularly preferable. The synthetic resin may be thermoplastic or thermosetting. The ratio of the metal powder to the total solid content is preferably in the range of 10 to 95% by mass, particularly 30 to 90% by mass.
導電材料含有接着剤による電極部の形成は、本発明の導電層、ハードコート層、近赤外線吸収層等を有する透明フィルムの端面に、金属粉末が分散した合成樹脂等を含む電極部形成用塗工液を塗工(塗布)し、常温〜150℃で5分〜5時間乾燥及び/又は硬化させることにより得られる。得られた第2電極部の厚さ(透明フィルムの幅方向)は一般に5〜500μm、特に10〜200μmの範囲が好ましい。得られる電極部の導電性は、1×10-6〜1×10-2Ω・cmの範囲が好ましい。 The electrode part is formed with the conductive material-containing adhesive. The electrode part forming coating includes a synthetic resin in which metal powder is dispersed on the end face of the transparent film having the conductive layer, the hard coat layer, the near-infrared absorbing layer, etc. of the present invention. It is obtained by coating (applying) the working liquid and drying and / or curing at room temperature to 150 ° C. for 5 minutes to 5 hours. The thickness (width direction of the transparent film) of the obtained second electrode part is generally 5 to 500 μm, and particularly preferably 10 to 200 μm. The conductivity of the obtained electrode part is preferably in the range of 1 × 10 −6 to 1 × 10 −2 Ω · cm.
上記電極部形成用塗工液の市販品の例としては、ドータイトXA−9015、ドータイトXE−9000、ドータイトFE107、ドータイトFN―101(以上藤倉化成(株)製)、ECM−100、VI7901(以上太陽インキ(株)製)、DW−114L−1、DW−250H−5(以上東洋紡(株)製)を挙げることができる。 Examples of commercially available electrode part-forming coating solutions include Doutite XA-9015, Doutite XE-9000, Doutite FE107, Doutite FN-101 (manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd.), ECM-100, VI7901 (and above). Solar Ink Co., Ltd.), DW-114L-1, DW-250H-5 (Toyobo Co., Ltd.).
ハンダとしては、一般にSnとPbからなるもの、及びPbフリーハンダ、例えばSn−Ag系、Sn−Cu系、Sn−Bi系、Sn−Ag−Cu系、Sn−Ag−Bi系、Sn−Ag−Cu−Bi系、Sn−Zn−Bi系等を使用することができる。本発明ではPbフリーハンダが好ましい。融点が190〜250℃のものが好ましい。ハンダ付けは、フローソルダリング、リフローソルダリング、手ハンダ等の工法を用いて行うことができる。得られたハンダの電極部の厚さは一般に5〜500μm、特に10〜200μmの範囲が好ましい。得られる電極部の導電性は、1×10-6〜1×10-2Ω・cmの範囲が好ましい。 The solder is generally composed of Sn and Pb, and Pb-free solder, for example, Sn-Ag, Sn-Cu, Sn-Bi, Sn-Ag-Cu, Sn-Ag-Bi, Sn-Ag. -Cu-Bi system, Sn-Zn-Bi system, etc. can be used. In the present invention, Pb-free solder is preferable. Those having a melting point of 190 to 250 ° C are preferred. Soldering can be performed using methods such as flow soldering, reflow soldering, and hand soldering. The thickness of the electrode part of the obtained solder is generally 5 to 500 μm, and particularly preferably 10 to 200 μm. The conductivity of the obtained electrode part is preferably in the range of 1 × 10 −6 to 1 × 10 −2 Ω · cm.
導電性テープとしては、一般に金属箔であり、例えば、銅、銀、ニッケル、アルミニウム、ステンレス等の箔を用いることができ、その厚さは通常の場合、1〜100μmである。この導電性テープの厚さは通常の場合5〜100μmである。 The conductive tape is generally a metal foil, and for example, a foil of copper, silver, nickel, aluminum, stainless steel or the like can be used, and the thickness is usually 1 to 100 μm. The thickness of this conductive tape is usually 5 to 100 μm.
本発明の透明粘着剤層は、本発明の光学フィルムをディスプレイに接着するための層であり、接着機能を有するものであればどのような樹脂でも使用することができる。例えば、ブチルアクリレート等から形成されたアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、SEBS(スチレン/エチレン/ブチレン/スチレン)及びSBS(スチレン/ブタジエン/スチレン)等の熱可塑性エラストマー(TPE)を主成分とするTPE系粘着剤及び接着剤等も用いることができる。 The transparent adhesive layer of the present invention is a layer for adhering the optical film of the present invention to a display, and any resin can be used as long as it has an adhesive function. For example, acrylic adhesives, rubber adhesives, SEBS (styrene / ethylene / butylene / styrene) and SBS (styrene / butadiene / styrene) and other thermoplastic elastomers (TPE) as main components TPE-based pressure-sensitive adhesives and adhesives can also be used.
その層厚は、一般に5〜500μm、特に10〜100μmの範囲が好ましい。光学フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板に加熱圧着することによる装備することができる。 The layer thickness is generally in the range of 5 to 500 μm, particularly 10 to 100 μm. In general, the optical filter can be equipped by heat-pressing the pressure-sensitive adhesive layer to a glass plate of a display.
本発明において透明フィルム2枚を使用する場合、これらの接着には、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、アクリル樹脂(例、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸エチル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体)、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−(メタ)アクリレート共重合体等のエチレン系共重合体を挙げることができる(なお、「(メタ)アクリル」は「アクリル又はメタクリル」を示す。)。その他、ポリビニルブチラール(PVB)樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ゴム系粘着剤、SEBS及びSBS等の熱可塑性エラストマー等も用いることができるが、良好な接着性が得られやすいのはアクリル樹脂系粘着剤、エポキシ樹脂である。 When two transparent films are used in the present invention, for example, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-methyl acrylate copolymer, acrylic resin (eg, ethylene- (meth) acrylic acid copolymer) Polymer, ethylene- (meth) ethyl acrylate copolymer, ethylene- (meth) methyl acrylate copolymer, metal ion crosslinked ethylene- (meth) acrylic acid copolymer), partially saponified ethylene-vinyl acetate copolymer Examples thereof include ethylene copolymers such as a polymer, a carboxylated ethylene-vinyl acetate copolymer, an ethylene- (meth) acryl-maleic anhydride copolymer, and an ethylene-vinyl acetate- (meth) acrylate copolymer. ("(Meth) acryl" means "acryl or methacryl"). In addition, polyvinyl butyral (PVB) resin, epoxy resin, phenol resin, silicon resin, polyester resin, urethane resin, rubber adhesive, thermoplastic elastomers such as SEBS and SBS can be used, but good adhesion Acrylic resin adhesives and epoxy resins are easily obtained.
その層厚は、一般に10〜50μm、好ましくは、20〜30μmの範囲が好ましい。光学フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板に加熱圧着することによる装備することができる。 The layer thickness is generally 10 to 50 μm, preferably 20 to 30 μm. In general, the optical filter can be equipped by heat-pressing the pressure-sensitive adhesive layer to a glass plate of a display.
上記透明粘着剤層の材料として、EVAも使用する場合、EVAとしては酢酸ビニル含有量が5〜50重量%、好ましくは15〜40重量%のものが使用される。酢酸ビニル含有量が5重量%より少ないと透明性に問題があり、また40重量%を超すと機械的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィルム相互のブロッキングが生じ易い。 When EVA is also used as the material for the transparent pressure-sensitive adhesive layer, EVA has a vinyl acetate content of 5 to 50% by weight, preferably 15 to 40% by weight. When the vinyl acetate content is less than 5% by weight, there is a problem in transparency, and when it exceeds 40% by weight, the mechanical properties are remarkably deteriorated and the film formation becomes difficult and the films are easily blocked.
架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯蔵安定性等を考慮して選ばれる。使用可能な過酸化物としては、例えば2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオキサイド;2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン−3;ジーt−ブチルパーオキサイド;t−ブチルクミルパーオキサイド;2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン;ジクミルパーオキサイド;α,α’−ビス(t−ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン;n−ブチル−4,4−ビス(t−ブチルパーオキシ)バレレート;2,2−ビス(t−ブチルパーオキシ)ブタン;1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン;1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン;t−ブチルパーオキシベンゾエート;ベンゾイルパーオキサイド;第3ブチルパーオキシアセテート;2,5−ジメチル−2,5−ビス(第3ブチルパーオキシ)ヘキシン−3;1,1−ビス(第3ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン;1,1−ビス(第3ブチルパーオキシ)シクロヘキサン;メチルエチルケトンパーオキサイド;2,5−ジメチルヘキシル−2,5−ビスパーオキシベンゾエート;第3ブチルハイドロパーオキサイド;p−メンタンハイドロパーオキサイド;p−クロルベンゾイルパーオキサイド;第3ブチルパーオキシイソブチレート;ヒドロキシヘプチルパーオキサイド;クロルヘキサノンパーオキサイド等を挙げることができる。これらの過酸化物は1種を単独で又は2種以上を混合して、通常EVA100重量部に対して、5質量部以下、好ましくは0.5〜5.0質量部の割合で使用される。 As the cross-linking agent, an organic peroxide is suitable for heat cross-linking and is selected in consideration of sheet processing temperature, cross-linking temperature, storage stability, and the like. Examples of peroxides that can be used include 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydroperoxide; 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane-3; -Butyl peroxide; t-butylcumyl peroxide; 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane; dicumyl peroxide; α, α'-bis (t-butylperoxyisopropyl) ) Benzene; n-butyl-4,4-bis (t-butylperoxy) valerate; 2,2-bis (t-butylperoxy) butane; 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane; , 1-bis (t-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane; t-butylperoxybenzoate; benzoyl peroxide; Luperoxyacetate; 2,5-dimethyl-2,5-bis (tertiarybutylperoxy) hexyne-3; 1,1-bis (tertiarybutylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane; 1-bis (tert-butylperoxy) cyclohexane; methyl ethyl ketone peroxide; 2,5-dimethylhexyl-2,5-bisperoxybenzoate; tert-butyl hydroperoxide; p-menthane hydroperoxide; p-chlorobenzoyl Peroxides; tertiary butyl peroxyisobutyrate; hydroxyheptyl peroxide; chlorohexanone peroxide. These peroxides are used singly or in combination of two or more, and are usually used at a ratio of 5 parts by mass or less, preferably 0.5 to 5.0 parts by mass with respect to 100 parts by weight of EVA. .
有機過酸化物は通常EVAに対し押出機、ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニルモノマー等に溶解し、EVAのフィルムに含浸法により添加しても良い。 The organic peroxide is usually kneaded with EVA using an extruder, a roll mill or the like, but may be dissolved in an organic solvent, a plasticizer, a vinyl monomer or the like and added to the EVA film by an impregnation method.
なお、EVAの物性(機械的強度、光学的特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など)改良のために、各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及びアリル基含有化合物を添加することができる。この目的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般的であり、エステル残基としてはメチル、エチル、ドデシル、ステアリル、ラウリル等のアルキル基の他、シクロヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチル基、2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピル基、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル基などが挙げられる。また、エチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールとのエステルを用いることもできる。アミドとしてはダイアセトンアクリルアミドが代表的である。 Various acryloxy group or methacryloxy group and allyl group-containing compounds can be added to improve EVA physical properties (mechanical strength, optical properties, adhesiveness, weather resistance, whitening resistance, crosslinking speed, etc.). . As the compound used for this purpose, acrylic acid or methacrylic acid derivatives, for example, esters and amides thereof are the most common. As the ester residue, in addition to alkyl groups such as methyl, ethyl, dodecyl, stearyl, lauryl, cyclohexyl groups , Tetrahydrofurfuryl group, aminoethyl group, 2-hydroxyethyl group, 3-hydroxypropyl group, 3-chloro-2-hydroxypropyl group and the like. Further, esters with polyfunctional alcohols such as ethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, trimethylolpropane, and pentaerythritol can also be used. A typical amide is diacetone acrylamide.
その例としては、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のアクリル又はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジアリル等のアリル基含有化合物が挙げられ、これらは1種を単独で或いは2種以上を混合して、通常EVA100質量部に対して0.1〜2質量部、好ましくは0.5〜5質量部用いられる。 Examples thereof include polyfunctional esters such as acrylic or methacrylic acid esters such as trimethylolpropane, pentaerythritol, glycerin, triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, diallyl phthalate, diallyl isophthalate, diallyl maleate, etc. Examples include allyl group-containing compounds. These are used alone or in combination of two or more, and are usually used in an amount of 0.1 to 2 parts by weight, preferably 0.5 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of EVA. .
EVAを光により架橋する場合、上記過酸化物の代りに光増感剤が通常EVA100質量部に対して5質量部以下、好ましくは0.1〜3.0質量部使用される。 When EVA is crosslinked by light, a photosensitizer is usually used in an amount of 5 parts by mass or less, preferably 0.1 to 3.0 parts by mass based on 100 parts by mass of EVA instead of the peroxide.
この場合、使用可能な光増感剤としては、例えばベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジベンジル、5−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシクロペンタジエン、p−ニトロジフェニル、p−ニトロアニリン、2,4,6−トリニトロアニリン、1,2−ベンズアントラキノン、3−メチル−1,3−ジアザ−1,9−ベンズアンスロンなどが挙げられ、これらは1種を単独で或いは2種以上を混合して用いることができる。 In this case, usable photosensitizers include, for example, benzoin, benzophenone, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, dibenzyl, 5-nitroacenaphthene, hexachlorocyclopentadiene, p-nitrodiphenyl. , P-nitroaniline, 2,4,6-trinitroaniline, 1,2-benzanthraquinone, 3-methyl-1,3-diaza-1,9-benzanthrone, and the like. Alternatively, two or more types can be mixed and used.
また、接着促進剤としてシランカップリング剤が併用される。このシランカップリング剤としては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。 Moreover, a silane coupling agent is used in combination as an adhesion promoter. As this silane coupling agent, vinyltriethoxysilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycid Xylpropyltriethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-chloropropylmethoxysilane, vinyltrichlorosilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N- β (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane and the like can be mentioned.
シランカップリング剤は、一般にEVA100質量部に対して0.001〜10質量部、好ましくは0.001〜5質量部の割合で1種又は2種以上が混合使用される。 The silane coupling agent is generally used in an amount of 0.001 to 10 parts by mass, preferably 0.001 to 5 parts by mass, based on 100 parts by mass of EVA, and one or more types are mixed and used.
なお、本発明に係るEVA接着層には、その他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいてもよく、また、場合によってはカーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の充填剤を少量含んでも良い。 In addition, the EVA adhesive layer according to the present invention may further contain a small amount of an ultraviolet absorber, an infrared absorber, an anti-aging agent, a coating processing aid, a colorant, and the like. A small amount of a filler such as hydrophobic silica or calcium carbonate may be included.
上記接着層は、例えばEVAと上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した後、カレンダー、ロール、Tダイ押出、インフレーション等の成膜法により所定の形状にシート成形することにより製造される。 For example, after the EVA and the above-mentioned additive are mixed and kneaded with an extruder, a roll or the like, the adhesive layer is formed into a predetermined shape by a film forming method such as a calendar, roll, T-die extrusion, or inflation. Manufactured by.
反射防止層上には、保護層を設けても良い。保護層は、前記ハードコート層と同様にして形成することが好ましい。 A protective layer may be provided on the antireflection layer. The protective layer is preferably formed in the same manner as the hard coat layer.
透明粘着剤層上に設けられる剥離シートの材料としては、ガラス転移温度が50℃以上の透明のポリマーが好ましく、このような材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン46、変性ナイロン6T、ナイロンMXD6、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等のポリマーを主成分とする樹脂を用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートが好適に用いることができる。厚さは10〜200μmが好ましく、特に30〜100μmが好ましい。
The material of the release sheet provided on the transparent adhesive layer is preferably a transparent polymer having a glass transition temperature of 50 ° C. or higher. Examples of such a material include polyesters such as polyethylene terephthalate, polycyclohexylene terephthalate, and polyethylene naphthalate. In addition to polyamide resins such as nylon resins,
本発明の第1電極部付き光学フィルタは、例えば、長尺状の透明フィルムの一方の表面に、導電層を透明フィルムの幅一杯に形成し、次いで導電層の端部の帯状領域以外の領域にハードコート層及び反射防止層等を順次設け、次いで、透明フィルムの他方の表面に、ハードコート層と同じ領域に近赤外線吸収層及び透明粘着剤層を設けることにより、或いは裏面に近赤外線吸収層(及び透明粘着剤層)を有する長尺状透明フィルムの表面の幅方向一杯に、導電層を形成し、次いで導電層の両端に帯状領域を残すように、導電層上にその幅より狭い領域にハードコート層を形成することにより製造することができる。各層の設置は、連続的に行っても、バッチで行っても良い。このようにして得られた長尺状の第1電極部付き光学フィルタを、裁断し、その端面に前記のように第2電極部を設ければよい。長尺状の透明フィルムに、各層を塗工(塗布)する際に使用される塗工機としては、スリットダイ、リップダイレクト、リップリバース等使用することができる。また両面を同時に塗布する場合は、リップダイを両面に配置した両面同時塗工機が一般に使用される。これらの塗工機は、特に幅を制限して塗工する際に有効である。 In the optical filter with the first electrode portion of the present invention, for example, a conductive layer is formed on one surface of a long transparent film so as to fill the width of the transparent film, and then a region other than a belt-like region at the end of the conductive layer. A hard coat layer, an antireflection layer, etc. are sequentially provided, and then a near infrared absorption layer and a transparent adhesive layer are provided on the other surface of the transparent film in the same area as the hard coat layer, or near infrared absorption on the back surface. The conductive layer is formed over the entire width of the surface of the long transparent film having the layer (and the transparent adhesive layer), and then narrower than the width on the conductive layer so as to leave a band-like region at both ends of the conductive layer. It can be manufactured by forming a hard coat layer in the region. The installation of each layer may be performed continuously or in a batch. What is necessary is just to cut | judge the elongate optical filter with a 1st electrode part obtained in this way, and to provide a 2nd electrode part in the end surface as mentioned above. As a coating machine used when applying (applying) each layer to a long transparent film, a slit die, a lip direct, a lip reverse, or the like can be used. When both surfaces are applied simultaneously, a double-sided simultaneous coating machine in which lip dies are arranged on both sides is generally used. These coating machines are particularly effective when coating with a limited width.
また長尺状の透明フィルムを2枚用いた場合、第1電極部付き光学フィルタは、一方の長尺状の透明フィルムの他方の表面に、ハードコート層及び反射防止層等を順次設け、別の長尺状の透明フィルムの表面に導電層そして裏面に近赤外線吸収層及び透明粘着剤層を設けこれらの2枚の積層体を、ハードコート層付き透明フィルムの裏面と導電層を粘着剤層を介して配置した状態で重ね合わさせ、一体化することにより容易に製造することができる。このようにして得られた長尺状の第1電極部付き光学フィルタを、裁断し、前記のように第2電極部を設ければよい。 When two long transparent films are used, the optical filter with the first electrode portion is provided with a hard coat layer, an antireflection layer, and the like sequentially on the other surface of one long transparent film. A conductive layer is provided on the surface of the long transparent film and a near-infrared absorbing layer and a transparent adhesive layer are provided on the back surface, and the laminate of these two sheets is attached to the back surface and the conductive layer of the transparent film with a hard coat layer. It can be easily manufactured by superimposing and integrating in a state of being arranged via the. What is necessary is just to cut | judge the elongate optical filter with a 1st electrode part obtained in this way, and to provide a 2nd electrode part as mentioned above.
このようにして得られる本発明のディスプレイ用光学フィルタは、PDP等のディスプレイの画像表示ガラス板の表面に貼り合わされて使用される。 The display optical filter of the present invention thus obtained is used by being bonded to the surface of an image display glass plate of a display such as a PDP.
本発明のPDP表示装置は、透明基板としてプラスチックフィルムを使用しているので、本発明の光学フィルタをその表面であるガラス板表面に直接貼り合わせることができるため、特に透明フィルムを1枚使用した場合は、PDP自体の軽量化、薄型化、低コスト化に寄与できる。また、PDPの前面側に透明成形体からなる前面板を設置する場合に比べると、PDPとPDP用フィルタとの間に屈折率の低い空気層をなくすことができるため、界面反射による可視光反射率の増加、二重反射などの問題を解決でき、PDPの視認性をより向上させることができる。 Since the PDP display device of the present invention uses a plastic film as the transparent substrate, the optical filter of the present invention can be directly bonded to the surface of the glass plate, so that one transparent film is used. In this case, the PDP itself can contribute to weight reduction, thickness reduction, and cost reduction. Compared with the case where a front plate made of a transparent molded body is installed on the front side of the PDP, an air layer having a low refractive index can be eliminated between the PDP and the PDP filter, so that visible light reflection due to interface reflection can be achieved. Problems such as an increase in rate and double reflection can be solved, and the visibility of the PDP can be further improved.
従って、本発明の光学フィルタを有するディスプレイは、反射防止効果、帯電防止性に優れ、危険な電磁波の放射もほとんどなく、見やすく、ホコリ等が付きにくく、安全なディスプレイということができる。
Therefore, the display having the optical filter of the present invention is excellent in antireflection effect and antistatic property, hardly emits dangerous electromagnetic waves, is easy to see, is hardly attached with dust and the like, and can be called a safe display.
以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not limited to a following example.
[実施例1]
<第1電極部を有するディスプレイ用光学フィルタの作製>
(1)メッシュ状導電層の形成
表面に易接着層(ポリエステルポリウレタン;厚さ20nm)を有する厚さ100μmの長尺状ポリエチレンテレフタレートフィルム(幅:600mm、長さ100m)の易接着層上に、ポリビニルアルコールの20%水溶液をドット状に印刷した。ドット1個の大きさは1辺が234μmの正方形状であり、ドット同士間の間隔は20μmであり、ドット配列は正方格子状である。印刷厚さは、乾燥後で約5μmである。
[Example 1]
<Preparation of optical filter for display having first electrode part>
(1) Formation of mesh-like conductive layer On an easy-adhesion layer of a long polyethylene terephthalate film (width: 600 mm, length 100 m) having a thickness of 100 μm having an easy-adhesion layer (polyester polyurethane; thickness 20 nm) on the surface, A 20% aqueous solution of polyvinyl alcohol was printed in dots. The size of one dot is a square shape with one side of 234 μm, the interval between the dots is 20 μm, and the dot arrangement is a square lattice. The printing thickness is about 5 μm after drying.
その上に、銅を平均膜厚4μmとなるように真空蒸着した。次いで、常温の水に浸漬し、スポンジで擦ることによりドット部分を溶解除去し、次いで水でリンスした後、乾燥してポリエチレンフィルムの全面にメッシュ状導電層を形成した。 On top of that, copper was vacuum-deposited to an average film thickness of 4 μm. Next, it was immersed in room temperature water and rubbed with a sponge to dissolve and remove the dot portion, then rinsed with water and dried to form a mesh-like conductive layer on the entire surface of the polyethylene film.
このフィルム表面の導電層は、正確にドットのネガパターンに対応した正方格子状のものであり、線幅は20μm、開口率は77%であった。また、導電層(銅層)の平均厚さは4μmであった。 The conductive layer on the film surface had a square lattice shape corresponding to the negative pattern of dots accurately, the line width was 20 μm, and the aperture ratio was 77%. The average thickness of the conductive layer (copper layer) was 4 μm.
(2)ハードコート層の形成
下記の配合:
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA) 80質量部
ITO(平均粒径150nm) 20質量部
メチルエチルケトン 100質量部
トルエン 100質量部
イルガキュア184(チバスペシャリティケミカル社製) 4質量部
を混合して得た塗工液を、上記メッシュ状導電層の幅方向の両末端(縁部)から15mmの領域以外の領域にバーコータを用いて塗布し、紫外線照射により硬化させた。これにより、メッシュ状導電層上に厚さ11μmのハードコート層(屈折率1.52)を形成した。
(2) Formation of hard coat layer The following formulation:
Dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) 80 parts by mass ITO (average particle size 150 nm) 20 parts by mass Methyl ethyl ketone 100 parts by mass Toluene 100 parts by mass Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 4 parts by mass
The coating liquid obtained by mixing was applied to a region other than the region of 15 mm from both ends (edges) in the width direction of the mesh-like conductive layer using a bar coater and cured by ultraviolet irradiation. Thereby, a 11 μm thick hard coat layer (refractive index 1.52) was formed on the mesh-like conductive layer.
(3)低屈折率層の形成
下記の配合:
オプスターJN―7212(JSR(株)製) 100質量部
メチルエチルケトン 117質量部
メチルイソブチルケトン 117質量部
を混合して得た塗工液を、上記ハードコート層上にバーコータを用いて塗布し、80℃のオーブン中で5分間乾燥させ、次いでその紫外線照射により硬化させた。これにより、ハードコート層上に厚さ90nmの低屈折率層(屈折率1.42)を形成した。
(3) Formation of low refractive index layer The following formulation:
Opstar JN-7212 (manufactured by JSR Corporation) 100 parts by weight Methyl ethyl ketone 117 parts by weight Methyl isobutyl ketone 117 parts by weight
The coating liquid obtained by mixing was applied on the hard coat layer using a bar coater, dried in an oven at 80 ° C. for 5 minutes, and then cured by ultraviolet irradiation. Thereby, a low refractive index layer (refractive index 1.42) having a thickness of 90 nm was formed on the hard coat layer.
(4)近赤外線吸収層(色調補正機能を有する)の形成
下記の配合:
ポリメチルメタクリレート 30質量部
TAP−2(山田化学工業(株)製) 0.4質量部
Plast Red 8380(有本化学工業(株)製 0.1質量部
CIR−1085(日本カーリット(株)製) 1.3質量部
IR−10A((株)日本触媒製) 0.6質量部
メチルエチルケトン 152質量部
メチルイソブチルケトン 18質量部
を混合して得た塗工液を、上記ポリエチレンフィルムの裏面全面にバーコータを用いて塗布し、80℃のオーブン中で5分間乾燥させた。これにより、ポリエチレンフィルム上に厚さ5μmの近赤外線吸収層(色調補正機能を有する)を形成した。
(4) Formation of near-infrared absorbing layer (having color tone correction function)
Polymethyl methacrylate 30 parts by mass TAP-2 (manufactured by Yamada Chemical Co., Ltd.) 0.4 parts by mass Plast Red 8380 (manufactured by Arimoto Chemical Co., Ltd.) 0.1 parts by mass CIR-1085 (manufactured by Nippon Carlit Co., Ltd.) ) 1.3 parts by mass IR-10A (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) 0.6 parts by mass Methyl ethyl ketone 152 parts by mass
(5)透明粘着剤層の形成
下記の配合:
SKダイン1811L(綜研化学(株)製) 100質量部
硬化剤L−45(綜研化学(株)製) 0.45質量部
トルエン 15質量部
酢酸エチル 4質量部
を混合して得た塗工液を、上記近赤外線吸収層上にバーコータを用いて塗布し、80℃のオーブン中で5分間乾燥させた。これにより、近赤外線吸収層上に厚さ25μmの透明粘着剤層を形成した。
(5) Formation of transparent adhesive layer The following formulation:
SK Dyne 1811L (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 100 parts by mass Curing agent L-45 (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 0.45 parts by
これにより幅方向の端部に突き出た導電層の第1電極部を有するディスプレイ用光学フィルタを得た。 Thus, an optical filter for display having the first electrode portion of the conductive layer protruding at the end portion in the width direction was obtained.
この長尺状のディスプレイ用光学フィルタを幅方向に裁断して、幅方向の両端部に第1電極部を有するディスプレイ用光学フィルタを得た。 The long display optical filter was cut in the width direction to obtain a display optical filter having first electrode portions at both ends in the width direction.
[実施例2]
ハードコート層と低屈折率層の間に、下記のように高屈折率層を設けた以外同様にして実施例1と同様にして第1電極部を有するディスプレイ用光学フィルタを得た。
[Example 2]
An optical filter for display having the first electrode portion was obtained in the same manner as in Example 1 except that a high refractive index layer was provided as described below between the hard coat layer and the low refractive index layer.
(6)高屈折率層の形成
下記の配合:
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA) 6質量部
ZnO(平均粒径4nm) 4質量部
メチルエチルケトン 100質量部
トルエン 100質量部
イルガキュア184(チバスペシャリティケミカル社製) 1質量部
を混合して得た塗工液を、上記ハードコート層上にバーコータを用いて塗布し、紫外線照射により硬化させた。これにより、ハードコート層上に厚さ90nmの高屈折率層(屈折率1.70)を形成した。
(6) Formation of high refractive index layer The following formulation:
Dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) 6 parts by weight ZnO (average particle size 4 nm) 4 parts by weight Methyl ethyl ketone 100 parts by weight Toluene 100 parts by weight Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) Was coated on the hard coat layer using a bar coater and cured by ultraviolet irradiation. As a result, a high refractive index layer (refractive index: 1.70) having a thickness of 90 nm was formed on the hard coat layer.
[実施例3及び4]
実施例1及び2で得た第1電極部を有するディスプレイ用光学フィルタの両側の裁断面に、Pbフリーハンダ(成分:Sn96.5%、Ag3%,Cu0.5%)を加熱(220℃)して、幅(厚さ)50μmのハンダの第2電極部を形成した。
[Examples 3 and 4]
Pb-free solder (components: Sn 96.5%, Ag 3%, Cu 0.5%) is heated (220 ° C.) on the cut surfaces on both sides of the optical filter for display having the first electrode portion obtained in Examples 1 and 2. Thus, a second electrode portion of solder having a width (thickness) of 50 μm was formed.
[実施例5及び6]
実施例1及び2で得た第1電極部を有するディスプレイ用光学フィルタの両側の裁断面に、導電性接着剤(Ag−Cu粉末が分散したアクリル樹脂;商品名ドータイトFE−107;藤倉化成(株)製)を塗布し、60℃で1時間加熱し、幅(厚さ)50μmの導電材料含有接着剤の第2電極部を形成した。
[Examples 5 and 6]
A conductive adhesive (acrylic resin in which Ag-Cu powder is dispersed; trade name Doutite FE-107; Fujikura Kasei (on the cut surface on both sides of the optical filter for display having the first electrode portion obtained in Examples 1 and 2) Co., Ltd.) was applied and heated at 60 ° C. for 1 hour to form a second electrode portion of a conductive material-containing adhesive having a width (thickness) of 50 μm.
[実施例7及び8]
実施例1及び2で得た第1電極部を有するディスプレイ用光学フィルタの両側の裁断面の縁部から内側に12mmの範囲が最上層表面に接し、外側に3mmが外側に突き出るように15mm(厚さ50μm)の導電性アルミテープを配置した。さらに、導電性アルミテープの下部と、裁断面に接するように導電性接着剤(Ag粉末が分散したポリエステル樹脂;商品名DW−250H−5;東洋紡(株)製)を塗布し、130℃で1時間加熱し、幅(厚さ)50μmの導電材料含有接着剤の第2電極部を形成した。
[Examples 7 and 8]
The range of 12 mm inward from the edge of the cut surface on both sides of the display optical filter having the first electrode portion obtained in Examples 1 and 2 is in contact with the top layer surface, and 15 mm so that 3 mm protrudes outward. A conductive aluminum tape having a thickness of 50 μm was disposed. Furthermore, a conductive adhesive (polyester resin in which Ag powder is dispersed; trade name DW-250H-5; manufactured by Toyobo Co., Ltd.) is applied so that the lower part of the conductive aluminum tape and the cut surface are in contact with each other at 130 ° C. Heating was performed for 1 hour to form a second electrode portion of the conductive material-containing adhesive having a width (thickness) of 50 μm.
[実施例9]
実施例1において、(1)メッシュ状導電層の形成を下記のように行った以外は同様にして幅方向の両端部に第1電極部を有するディスプレイ用光学フィルタを得た。
[Example 9]
In Example 1, an optical filter for display having the first electrode portions at both ends in the width direction was obtained in the same manner except that (1) the formation of the mesh-like conductive layer was performed as follows.
表面に接着層(ポリエステルポリウレタン;厚さ20nm)を有する厚さ100μmの長尺状ポリエチレンテレフタレートフィルム(幅:600mm、長さ100m)の接着層の全面に、厚さ10μmの銅箔を付着させた。この銅箔を、フォトリソグラフィー法によりドットパターンを形成して銅箔露出部分をエッチングし、格子パターンの銅箔(線径10μm、ピッチ250μm)を形成した。 A copper foil having a thickness of 10 μm was attached to the entire surface of the adhesive layer of a long polyethylene terephthalate film (width: 600 mm, length 100 m) having a thickness of 100 μm having an adhesive layer (polyester polyurethane; thickness 20 nm) on the surface. . A dot pattern was formed on this copper foil by a photolithography method, and the exposed portion of the copper foil was etched to form a copper foil having a lattice pattern (wire diameter: 10 μm, pitch: 250 μm).
このフィルム表面の導電層は線幅は10μm、開口率は90%であった。また、導電層(銅層)の平均厚さは10μmであった。 The conductive layer on the film surface had a line width of 10 μm and an aperture ratio of 90%. The average thickness of the conductive layer (copper layer) was 10 μm.
[実施例10]
ハードコート層と低屈折率層の間に、下記のように高屈折率層を設けた以外は実施例9と同様にして第1電極部を有するディスプレイ用光学フィルタを得た。
[Example 10]
An optical filter for display having the first electrode portion was obtained in the same manner as in Example 9 except that a high refractive index layer was provided as described below between the hard coat layer and the low refractive index layer.
(6)高屈折率層の形成
下記の配合:
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA) 6質量部
ZnO(平均粒径4nm) 4質量部
メチルエチルケトン 100質量部
トルエン 100質量部
イルガキュア184(チバスペシャリティケミカル社製) 1質量部
を混合して得た塗工液を、上記ハードコート層上にバーコータを用いて塗布し、紫外線照射により硬化させた。これにより、ハードコート層上に厚さ90nmの高屈折率層(屈折率1.70)を形成した。
(6) Formation of high refractive index layer The following formulation:
Dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) 6 parts by weight ZnO (average particle size 4 nm) 4 parts by weight Methyl ethyl ketone 100 parts by weight Toluene 100 parts by weight Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) Was coated on the hard coat layer using a bar coater and cured by ultraviolet irradiation. As a result, a high refractive index layer (refractive index: 1.70) having a thickness of 90 nm was formed on the hard coat layer.
[実施例11及び12]
実施例9及び10で得た第1電極部を有するディスプレイ用光学フィルタの両側の裁断面に、Pbフリーハンダ(成分:Sn96.5%、Ag3%,Cu0.5%)を加熱(220℃)して、幅(厚さ)50μmのハンダの第2電極部を形成した。
[Examples 11 and 12]
Pb-free solder (components: Sn 96.5%, Ag 3%, Cu 0.5%) is heated (220 ° C.) on both sides of the display optical filter having the first electrode portion obtained in Examples 9 and 10. Thus, a second electrode portion of solder having a width (thickness) of 50 μm was formed.
[実施例13及び14]
実施例9及び10で得た第1電極部を有するディスプレイ用光学フィルタの両側の裁断面に、導電性接着剤(Ag−Cu粉末が分散したアクリル樹脂;商品名ドータイトFE−107;藤倉化成(株)製)を塗布し、60℃で1時間加熱し、幅(厚さ)50μmの導電材料含有接着剤の第2電極部を形成した。
[Examples 13 and 14]
A conductive adhesive (acrylic resin in which Ag-Cu powder was dispersed; trade name Doutite FE-107; Fujikura Kasei (on the cut surface on both sides of the optical filter for display having the first electrode part obtained in Examples 9 and 10) Co., Ltd.) was applied and heated at 60 ° C. for 1 hour to form a second electrode portion of a conductive material-containing adhesive having a width (thickness) of 50 μm.
[実施例15及び16]
実施例9及び10で得た第1電極部を有するディスプレイ用光学フィルタの両側の裁断面の縁部から内側に12mmの範囲が最上層表面に接し、外側に3mmが外側に突き出るように15mm(厚さ50μm)の導電性アルミテープを配置した。さらに、導電性アルミテープの下部と、裁断面に接するように導電性接着剤(Ag粉末が分散したポリエステル樹脂;商品名DW−250H−5;東洋紡(株)製)を塗布し、130℃で1時間加熱し、幅(厚さ)50μmの導電材料含有接着剤の第2電極部を形成した。
[Examples 15 and 16]
The range of 12 mm inward from the edge of the cut surface on both sides of the optical filter for display having the first electrode portion obtained in Examples 9 and 10 is in contact with the top layer surface, and 15 mm so that 3 mm protrudes outward. A conductive aluminum tape having a thickness of 50 μm was disposed. Furthermore, a conductive adhesive (polyester resin in which Ag powder is dispersed; trade name DW-250H-5; manufactured by Toyobo Co., Ltd.) is applied so that the lower part of the conductive aluminum tape and the cut surface are in contact with each other at 130 ° C. Heating was performed for 1 hour to form a second electrode portion of the conductive material-containing adhesive having a width (thickness) of 50 μm.
得られたディスプレイ用光学フィルタを下記のように評価した。 The obtained optical filter for display was evaluated as follows.
[光学フィルタの評価]
(1)導電性
光学フィルタの電極(相対する2個の第2電極部)に抵抗計(商品名:ミリオームハイテスタ;日置電機(株)製)を接続して、抵抗値を測定した。
[Evaluation of optical filter]
(1) Conductivity A resistance meter (trade name: Miliohm Hitester; manufactured by Hioki Electric Co., Ltd.) was connected to the electrodes of the optical filter (two opposed second electrode portions), and the resistance value was measured.
上記結果を表1に示す。 The results are shown in Table 1.
また、実施例3〜8及び11〜16で得られたPDPフィルタは、実際にPDPに貼付しても透明性、電磁波遮蔽性等において、従来のものと遜色はなく、また、PDPへの貼付も極めて容易に行うことができ、PDP製造の生産性にも寄与するものである。 In addition, the PDP filters obtained in Examples 3 to 8 and 11 to 16 are not inferior to conventional ones in transparency, electromagnetic wave shielding properties, etc. even when actually attached to the PDP. Can be performed very easily and contributes to the productivity of PDP production.
11、21、31、41 ディスプレイ用光学フィルタ
12、22、32、42A、42B 透明フィルム
13、23、33、43 導電層
16、26、36、46 ハードコート層
17、27、37、47 反射防止層
14、24、34、44 近赤外線吸収層
15、25、35、45 透明粘着剤層
18、28、38、48 電極部
39、49 導電性テープ
50 粘着剤層
11, 21, 31, 41 Optical filter for
Claims (25)
透明フィルム上には、導電層が設けられ、且つ導電層上にはハードコート層又は近赤外線吸収層が設けられ、且つ透明フィルム及び導電層が相対する両側で突出するように積層されて、該突出部が第1電極部を形成しており、
さらに透明フィルム及び導電層が突出していない、上記相対する両側と異なる相対する両側の端面において露出した導電層に、第2電極部が設けられていることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。 An optical filter for display comprising at least one transparent film, and a conductive layer, a hard coat layer and a near infrared absorption layer provided thereon,
A conductive layer is provided on the transparent film, and a hard coat layer or a near-infrared absorbing layer is provided on the conductive layer, and the transparent film and the conductive layer are laminated so as to protrude on opposite sides, The protruding portion forms the first electrode portion,
Furthermore, the 2nd electrode part is provided in the conductive layer which the transparent film and the conductive layer did not protrude, and was exposed in the end surface of the opposing both sides different from the said opposing both sides, The optical filter for a display characterized by the above-mentioned.
透明フィルム、導電層、ハードコート層及び近赤外線吸収層の形状が矩形であり、
透明フィルム上には、導電層が設けられ、且つ導電層上にはハードコート層又は近赤外線吸収層が設けられ、
透明フィルム及び導電層は縦及び横の長さが相互に同一であり、且つ導電層上に設けられる層とは、縦及び横の一方の長さが同一で他方が長くされており、そして
透明フィルム、導電層及び導電層上の層が、縦及び横の長さの内、これらが同一である方向の両端面において面一となり且つ透明フィルム及び導電層が長くされた方向において透明フィルム及び導電層が両側で突出するように積層されており、該突出部が第1電極部を形成し、
さらに面一とされた端面に露出した導電層に第2電極部が設けられていることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。 An optical filter for display comprising at least one transparent film, and a conductive layer, a hard coat layer and a near infrared absorption layer provided thereon,
The shape of the transparent film, conductive layer, hard coat layer and near infrared absorption layer is rectangular,
A conductive layer is provided on the transparent film, and a hard coat layer or a near-infrared absorbing layer is provided on the conductive layer.
The transparent film and the conductive layer have the same vertical and horizontal lengths, and the layers provided on the conductive layer have the same vertical and horizontal lengths, the other is longer, and are transparent. The film, the conductive layer, and the layer on the conductive layer are flush with each other in the longitudinal and lateral lengths in the same direction, and the transparent film and the conductive layer are elongated in the direction in which the transparent film and the conductive layer are elongated. The layers are stacked so as to protrude on both sides, and the protruding portion forms the first electrode portion,
Furthermore, the second electrode portion is provided on the conductive layer exposed at the end face that is flush with the display optical filter.
透明フィルム及び全ての層が、縦及び横の長さの内、全てのフィルム及び層が同一である方向の両端面において面一となり、且つ透明フィルム及び導電層上に設けられる層以外の層が、導電層上の層より長くされた方向においてこれらが両側で突出するように積層されており、該突出部が第1電極部を形成し、
さらに面一とされた端面に露出した導電層に第2電極部が設けられている請求項3に記載のディスプレイ用光学フィルタ。 The layers other than the layer provided on the conductive layer are the same in length and width as the conductive layer, and the transparent film and all layers are all films in the length and width. And the layers other than the layers provided on the transparent film and the conductive layer are flush with each other in the direction in which the layers are the same, so that they protrude on both sides in the direction longer than the layer on the conductive layer. Laminated, and the protrusion forms a first electrode part,
The display-use optical filter according to claim 3, wherein the second electrode portion is provided on the conductive layer exposed on the end face that is flush with the other.
透明フィルム、導電層、ハードコート層及び近赤外線吸収層の形状が矩形であり、
透明フィルム及び導電層は縦及び横の長さが相互に同一で且つ縦及び横の一方の長さがハードコート層と同一で他方が長くされており、
近赤外線吸収層は、導電層と縦及び横の長さが相互に同一であり、そして
透明フィルム及び全ての層が、縦及び横の長さの内、全てのフィルム及び層が同一である方向の両端面において面一となり、且つ透明フィルム及び導電層が、ハードコート層より長くされた方向においてこれらが両側で突出するように積層されており、該突出部が第1電極部を形成し、
さらに面一とされた端面に露出した導電層に第2電極部が設けられていることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。 An optical filter for a display in which a conductive layer and a hard coat layer are provided in this order on one surface of a transparent film, and a near-infrared absorbing layer is provided on the other surface,
The shape of the transparent film, conductive layer, hard coat layer and near infrared absorption layer is rectangular,
The length and width of the transparent film and the conductive layer are the same as each other, and the length of one of the length and width is the same as that of the hard coat layer, and the other is lengthened.
The near-infrared absorbing layer is the same in length and width as the conductive layer, and the transparent film and all layers have the same length and width in the direction in which all films and layers are the same. The transparent film and the conductive layer are laminated so that they protrude on both sides in a direction longer than the hard coat layer, and the protruding portion forms the first electrode portion.
Furthermore, the second electrode portion is provided on the conductive layer exposed at the end face that is flush with the display optical filter.
導電層及び導電層を有する透明フィルムが相対する両側で突出するように積層されて、該突出部が第1電極部を形成しており、
さらに導電層及び導電層を有する透明フィルムが突出していない、上記相対する両側と異なる相対する両側の端面において露出した導電層に、第2電極部が設けられていることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。 Two transparent films, a transparent film provided with a hard coat layer on one surface and another transparent film provided with a conductive layer on one surface, are the back surface of the former transparent film and the latter transparent film. In the state where the conductive layer is opposed to the adhesive layer through the adhesive layer, the optical filter for display is bonded,
The conductive film and the transparent film having the conductive layer are laminated so as to protrude on opposite sides, and the protruding portion forms the first electrode portion,
Further, a second electrode portion is provided on the conductive layer exposed on the opposite end faces different from the opposite sides, on which the conductive layer and the transparent film having the conductive layer are not projected, and the display optical device filter.
2枚の透明フィルム、ハードコート層及び導電層の形状が矩形であり、導電層を有する透明フィルムは縦及び横の長さが相互に同一で且つ縦及び横の一方の長さがハードコート層と同一で他方が長くされており、
ハードコート層を有する透明フィルムは、ハードコート層と縦及び横の長さが相互に同一であり、そして
2枚の透明フィルム、導電層及びハードコート層が、縦及び横の長さの内、全てのフィルム及び層が同一である方向の両端面において面一となり且つ透明フィルム及び導電層が長くされた方向においてこれらが両側で突出するように積層されており、該突出部が第1電極部を形成し、
さらに面一にされた端面に露出した導電層に第2電極部が設けられていることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。 Two transparent films, a transparent film provided with a hard coat layer on one surface and another transparent film provided with a conductive layer on one surface, are the back surface of the former transparent film and the latter transparent film. In the state where the conductive layer is opposed to the adhesive layer through the adhesive layer, the optical filter for display is bonded,
The shape of the two transparent films, the hard coat layer and the conductive layer is rectangular, and the transparent film having the conductive layer has the same vertical and horizontal lengths, and one of the vertical and horizontal lengths is the hard coat layer. And the other is longer,
The transparent film having the hard coat layer has the same vertical and horizontal length as the hard coat layer, and
The two transparent films, the conductive layer and the hard coat layer were flush with each other in both the longitudinal and lateral lengths in the direction in which all the films and layers were the same, and the transparent film and the conductive layer were lengthened. Are laminated so that they protrude on both sides in the direction, the protrusions form the first electrode part,
Further, the second electrode portion is provided on the conductive layer exposed on the end face that is flush with the display optical filter.
A plasma display panel, wherein the display optical filter according to any one of claims 1 to 21 is bonded to a surface of an image display glass plate.
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