JP2007233134A - Optical filter for display, method for manufacturing same, and display and plasma display panel equipped with same - Google Patents

Optical filter for display, method for manufacturing same, and display and plasma display panel equipped with same Download PDF

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JP2007233134A JP2006056097A JP2006056097A JP2007233134A JP 2007233134 A JP2007233134 A JP 2007233134A JP 2006056097 A JP2006056097 A JP 2006056097A JP 2006056097 A JP2006056097 A JP 2006056097A JP 2007233134 A JP2007233134 A JP 2007233134A
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Masato Sugimachi
正登 杉町
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical filter which is excellent in productivity and which has a contact electrode attached thereto. <P>SOLUTION: The optical filter for display has a conductive layer and a hard-coat layer sequentially disposed on one surface of a transparent film in this order and a near infrared ray absorbing layer disposed on the other surface of the transparent film, and is characterized in that the transparent film, the conductive layer, the hard-coat layer, and the near infrared ray absorbing layer are identical to one another in their shapes and areas, and layered so that the end faces thereof are flush with one another, and in that the conductive layer end face on at least a part of flush end faces of the layered body is a slope. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、プラズマディスプレイパネル(PDP)、ブラウン管(CRT)ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機EL(電界発光)ディスプレイ、表面電界型ディスプレイ(SED)を含む電界放出型ディスプレイ(FED)等の各種ディスプレイに対して反射防止、近赤外線遮断、電磁波遮蔽等の各種機能を有する光学フィルタ、及びこの光学フィルタを備えたディスプレイ、特にPDPに関する。   The present invention is applicable to various displays such as a plasma display panel (PDP), a cathode ray tube (CRT) display, a liquid crystal display, an organic EL (electroluminescent) display, and a field emission display (FED) including a surface electric field display (SED). The present invention relates to an optical filter having various functions such as antireflection, near-infrared shielding, electromagnetic wave shielding, and the like, and a display provided with this optical filter, particularly a PDP.

液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ(PDP)、ELディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ、及びCRTディスプレイにおいては、外部からの光が表面で反射し、内部の視覚情報が見えにくいとの問題は、従来から知られており、反射防止膜等を含む光学フィルムの設置等、種々対策がなされている。   In the case of flat panel displays such as liquid crystal displays, plasma displays (PDP), EL displays, and CRT displays, it has been known that the light from the outside is reflected on the surface and the internal visual information is difficult to see. Various measures have been taken, such as the installation of an optical film including an antireflection film.

近年、ディスプレイは大画面表示が主流となり、次世代の大画面表示デバイスとしてPDPが一般的になってきている。しかしながら、このPDPでは画像表示のため発光部に高周波パルス放電を行っているため、不要な電磁波の輻射や赤外線リモコン等の誤動作の原因ともなる赤外線の輻射のおそれがあり、このため、PDPに対しては、導電性を有するPDP用反射防止フィルム(電磁波シールド性光透過窓材)が種々提案されている。この電磁波シールド性光透過窓材の導電層としては、例えば、(1)金属銀を含む透明導電薄膜が設けられた透明フィルム、(2)金属線又は導電性繊維を網状にした導電メッシュを設けた透明フィルム、(3)透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、(4)透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等が知られている。   In recent years, large-screen displays have become mainstream in displays, and PDPs have become common as next-generation large-screen display devices. However, in this PDP, high-frequency pulse discharge is performed on the light emitting unit for image display, which may cause unnecessary electromagnetic radiation and infrared radiation that may cause malfunction of the infrared remote controller. Thus, various antireflection films for PDP (electromagnetic wave shielding light transmitting window material) having conductivity have been proposed. As the conductive layer of this electromagnetic wave shielding light transmitting window material, for example, (1) a transparent film provided with a transparent conductive thin film containing metallic silver, and (2) a conductive mesh made of a metal wire or conductive fiber in a net shape are provided. Transparent film, (3) a layer of copper foil or the like on the transparent film is etched into a net-like shape, an opening is provided, and (4) a conductive ink is printed on the transparent film in a mesh shape, etc. Are known.

さらに、従来のPDPを初めとする大型ディスプレイでは、反射防止フィルムや近赤外線カットフィルム等の種々のフィルムを貼り合わされている。例えば、特許文献1(特開平11−74683号公報)には、2枚の透明基板の間に導電性メッシュを介在させて、透明接着樹脂で接合一体化してなる電磁波シールド性光透過窓材が記載されている。   Furthermore, in a large display such as a conventional PDP, various films such as an antireflection film and a near infrared cut film are bonded together. For example, Patent Document 1 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-74683) discloses an electromagnetic wave shielding light transmitting window material in which a conductive mesh is interposed between two transparent substrates and bonded and integrated with a transparent adhesive resin. Are listed.

上記電磁波シールド性光透過窓材においては、上記導電層による電磁波シールド性を良好なものとするために、導電層(電磁波シールド材)、例えば導電性メッシュ、をPDP本体に接地(アース)する必要がある。そのためには、2枚の透明基板間から電磁波シールド材を外部にはみ出させ、上記光透過窓材積層体の裏側に回り込ませて接地するか、2枚の透明基板間に該電磁波シールド材に接触するように導電性粘着テープを挟み込む必要がある。しかしながら、このような方法では、積層工程における上記作業が煩雑であるとの問題がある。   In the electromagnetic wave shielding light transmitting window material, it is necessary to ground (ground) a conductive layer (electromagnetic wave shielding material), for example, a conductive mesh, in order to improve the electromagnetic wave shielding property by the conductive layer. There is. For this purpose, an electromagnetic wave shielding material protrudes from between two transparent substrates and is grounded by wrapping around the back side of the light transmitting window material laminate, or is in contact with the electromagnetic wave shielding material between two transparent substrates. Thus, it is necessary to sandwich the conductive adhesive tape. However, in such a method, there is a problem that the above work in the stacking process is complicated.

また、特許文献2(特開2001−142406号公報)には、1枚の透明基板と、電磁波シールド材と、最表層の反射防止フィルムと、近赤外線カットフィルムとが積層一体化されてなる積層体を備え、該透明基板の端面及び表裏の縁部にまたがって導電性粘着テープが付着され、該導電性粘着テープと該電磁波シールド材の縁部とが導電性粘着剤によって付着されている電磁波シールド性光透過積層フィルムが記載されている。   Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 2001-142406) discloses a laminate in which a single transparent substrate, an electromagnetic wave shielding material, an outermost antireflection film, and a near infrared cut film are laminated and integrated. An electromagnetic wave comprising a body, a conductive pressure-sensitive adhesive tape is attached across the edge and front and back edges of the transparent substrate, and the conductive pressure-sensitive adhesive tape and the edge of the electromagnetic shielding material are attached by a conductive pressure-sensitive adhesive A shielding light-transmitting laminated film is described.

特開平11−74683号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-74683 特開2001−142406号公報JP 2001-142406 A

例えば、長尺状のプラスチックフィルムを用いて上記PDP等のディスプレイ用光学フィルタを製造する場合、近赤外カットフィルム及び反射防止フィルム作製し、これらを電磁波シールド用導電性メッシュを介して積層することにより長尺状の光学フィルタを得ることになり、その後、各ディスプレイの全面の表示部の形状に合わせて矩形状に裁断される。このため、このような光学フィルタの裁断面、即ち端面(側面)には、全ての層の端面が露出しているが、当然極めて小さな面積でしかない。導電性メッシュも、メッシュ状の断面がほんのわずか覗いているに過ぎない。   For example, when producing an optical filter for a display such as the above-mentioned PDP using a long plastic film, a near-infrared cut film and an antireflection film are produced, and these are laminated via a conductive mesh for electromagnetic wave shielding. Thus, a long optical filter is obtained, and then cut into a rectangular shape in accordance with the shape of the display portion on the entire surface of each display. For this reason, the end faces of all the layers are exposed at the cut surface, that is, the end face (side face) of such an optical filter, but it is naturally only an extremely small area. The conductive mesh also has only a slight peek at the mesh-like cross section.

このようなディスプレイ用光学フィルタを、そのまま用いて、導電層による電磁波シールド性を良好なものとするために導電層(例えば導電性メッシュ)をPDP本体に接地(アース)することができれば、極めて高い生産性でアースが容易なディスプレイ用光学フィルタを得ることができる。   If such an optical filter for display is used as it is and the conductive layer (for example, conductive mesh) can be grounded (grounded) to the PDP body in order to improve the electromagnetic wave shielding property by the conductive layer, it is extremely high. An optical filter for display that is easy to ground with productivity can be obtained.

特許文献2に記載されているような光学フィルタでは、フィルタの端面及び表裏の縁部にまたがって導電性粘着テープを接着させる必要があり、その際、粘着テープの撚れや折れが発生し易く、これらを防止するため作業が繁雑になること、また導電性メッシュを端面からはみ出させる必要があるとの問題がある。   In the optical filter as described in Patent Document 2, it is necessary to bond the conductive adhesive tape across the end face and the front and back edges of the filter, and at that time, the adhesive tape is likely to be twisted or broken. In order to prevent these problems, the work is complicated, and it is necessary to protrude the conductive mesh from the end face.

従って、本発明は、容易に製造することができ、そして良好な電磁波シールド性を有し、またディスプレイに装着し易く且つ接地し易いアース電極を有するディスプレイ用光学フィルタを提供することを目的とする。   Accordingly, an object of the present invention is to provide an optical filter for a display which can be easily manufactured, has a good electromagnetic shielding property, and has an earth electrode which can be easily attached to the display and can be easily grounded. .

また、本発明は、容易に製造することができ、そして軽量で薄く、良好な電磁波シールド性を有し、そしてディスプレイに装着し易く且つ接地し易いアース電極を有するディスプレイ用光学フィルタを提供することを目的とする。   The present invention also provides an optical filter for a display which can be easily manufactured, has a grounding electrode which is light and thin, has a good electromagnetic wave shielding property, and is easy to attach to the display and to be easily grounded. With the goal.

さらに、本発明は、容易に製造することができ、そして良好な電磁波シールド性を有し、またディスプレイに装着し易く且つ接地し易いアース電極を有するPDP用に好適な光学フィルタを提供することを目的とする。   Furthermore, the present invention provides an optical filter suitable for a PDP that can be easily manufactured, has a good electromagnetic shielding property, and has a ground electrode that can be easily mounted on a display and is easily grounded. Objective.

また、本発明は、上記ディスプレイ用光学フィルタの製造方法を提供することを目的とする。   Moreover, an object of this invention is to provide the manufacturing method of the said optical filter for displays.

さらに、本発明は、上記優れた特性の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされたディスプレイを提供することを目的とする。   Furthermore, an object of the present invention is to provide a display in which the optical filter having the excellent characteristics is bonded to the surface of an image display glass plate.

さらにまた、本発明は、上記優れた特性の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされたPDPを提供することを目的とする。   Furthermore, an object of the present invention is to provide a PDP in which the optical filter having the excellent characteristics is bonded to the surface of an image display glass plate.

従って、本発明は、
少なくとも1枚の透明フィルムと、その上に設けられた導電層、ハードコート層及び近赤外線吸収層を含むディスプレイ用光学フィルタであって、
透明フィルム、導電層、ハードコート層及び近赤外線吸収層が、共に端面を形成するように積層されており、
そして、この積層体の少なくとも一部の端面における導電層端面が斜面であることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ;
透明フィルムの一方の表面に導電層及びハードコート層がこの順で設けられ、他方の表面に近赤外線吸収層が設けられてなるディスプレイ用光学フィルタであって、
透明フィルム、導電層、ハードコート層及び近赤外線吸収層が、共に端面を形成するように積層されており、
そして、この積層体の少なくとも一部の端面における導電層端面が斜面であることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ;
透明フィルムの一方の表面に導電層及び近赤外線吸収層がこの順で設けられ、他方の表面にハードコート層が設けられてなるディスプレイ用光学フィルタであって、
透明フィルム、導電層、ハードコート層及び近赤外線吸収層が、共に端面を形成するように積層されており、
そして、この積層体の少なくとも一部の端面における導電層端面が斜面であることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ;及び
一方の表面にハードコート層が設けられた透明フィルムと、一方の表面に導電層が設けられた別の透明フィルムとの、2枚の透明フィルムが、前者の透明フィルムの裏面と後者の透明フィルムの導電層が粘着剤層を介して対向した状態で、接着されてなるディスプレイ用光学フィルタであって、
2枚の透明フィルム、導電層、及びハードコート層が、共に端面を形成するように積層されており、
そしてこの積層体の少なくとも一部の端面における導電層端面が斜面であることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ;
にある。
Therefore, the present invention
An optical filter for display comprising at least one transparent film, and a conductive layer, a hard coat layer and a near infrared absorption layer provided thereon,
A transparent film, a conductive layer, a hard coat layer, and a near-infrared absorbing layer are laminated together to form an end face,
And an optical filter for display, wherein the conductive layer end face of at least a part of the end face of the laminate is an inclined surface;
An optical filter for display in which a conductive layer and a hard coat layer are provided in this order on one surface of a transparent film, and a near-infrared absorbing layer is provided on the other surface,
A transparent film, a conductive layer, a hard coat layer, and a near-infrared absorbing layer are laminated together to form an end face,
And an optical filter for display, wherein the conductive layer end face of at least a part of the end face of the laminate is an inclined surface;
An optical filter for display in which a conductive layer and a near-infrared absorbing layer are provided in this order on one surface of a transparent film, and a hard coat layer is provided on the other surface,
A transparent film, a conductive layer, a hard coat layer, and a near-infrared absorbing layer are laminated together to form an end face,
And an optical filter for display characterized in that the end face of the conductive layer on at least a part of the end face of the laminate is a slope; and a transparent film provided with a hard coat layer on one surface, and a conductive film on one surface. A display in which two transparent films are bonded to another transparent film provided with a layer in a state where the back surface of the former transparent film and the conductive layer of the latter transparent film face each other with an adhesive layer therebetween An optical filter,
Two transparent films, a conductive layer, and a hard coat layer are laminated together to form an end face,
And an optical filter for display, wherein the end face of the conductive layer in at least a part of the end face of the laminate is a slope;
It is in.

本発明のディスプレイ用光学フィルタの好適態様は以下の通りである。
(1)透明フィルム、導電層、及びハードコート層の形状、或いは透明フィルム、導電層、ハードコート層及び近赤外線吸収層が、その形状及び面積において同一であり、且つ端面で面一となるように積層されている。
(2)透明フィルム、導電層、ハードコート層及び近赤外線吸収層の形状が矩形である。一般的なディスプレイ用光学フィルタの形状である。
(3)該斜面の角度が導電層に対する垂線に対して30〜60度である。特に40〜50度が好ましい。
(4)積層体の少なくとも1つ端面の全面が斜面である。製造に有利である。
(5)上記(2)において、少なくとも対向する2辺の端面が斜面である。4辺とも斜面であることが好ましい。
(6)端面に露出した導電層の斜面に、導電材料含有接着剤又はハンダにより電極部が形成されている。
(7)上記(6)のディスプレイ用光学フィルタであって、ハードコート層又はその上に設けられた最上層(例、低屈折率層)における矩形状表面の、少なくとも対向する2辺の端部領域にも薄い電極部が形成されており、この端部領域の電極部に一部が突き出るように長尺状導電性テープが設けられ、その突き出た部分の少なくとも一部が斜面上の電極部に接着されている。アースをとりやすい。ディスプレイへの装着が容易となる。
Preferred embodiments of the optical filter for display of the present invention are as follows.
(1) The shape of the transparent film, the conductive layer, and the hard coat layer, or the transparent film, the conductive layer, the hard coat layer, and the near-infrared absorbing layer are the same in shape and area, and are flush with the end face. Are stacked.
(2) The shape of the transparent film, the conductive layer, the hard coat layer, and the near infrared absorption layer is rectangular. It is a shape of a general optical filter for display.
(3) The angle of the slope is 30 to 60 degrees with respect to the normal to the conductive layer. 40 to 50 degrees is particularly preferable.
(4) The entire surface of at least one end face of the laminate is a slope. It is advantageous for manufacturing.
(5) In the above (2), at least the two end faces facing each other are slopes. All four sides are preferably slopes.
(6) An electrode portion is formed on the slope of the conductive layer exposed at the end face by a conductive material-containing adhesive or solder.
(7) The optical filter for display according to (6) above, wherein at least two opposite ends of the rectangular surface of the hard coat layer or the uppermost layer (eg, low refractive index layer) provided thereon A thin electrode portion is also formed in the region, and a long conductive tape is provided so that a part protrudes from the electrode portion in the end region, and at least a part of the protruding portion is an electrode portion on the slope. It is glued to. Easy to ground. Mounting on the display becomes easy.

上記において、ハードコート層又はその上に設けられた最上層における上記少なくとも対向する2辺の端部領域に、長尺状導電性テープが、辺とテープの長手方向が平行となるように接着されていることが好ましい。
(8)2枚の透明フィルムを使用するディスプレイ用光学フィルタにおいて、ハードコート層を有する透明フィルムの裏面の全面に、近赤外線吸収層が設けられていることが好ましい。また、導電層を有する透明フィルムの裏面の全面に、近赤外線吸収層が設けられていることも好ましい。
(9)導電層が、メッシュ状導電層である。優れた電磁シールド性を示す。
(10)ハードコート層の上に、さらに低屈折率層が形成されている。良好な反射防止性が得られる。
(11)近赤外線吸収層の透明フィルムと反対側の表面に透明粘着剤層が設けられている。ディスプレイへの装着が容易となる。近赤外線吸収層が粘着性を有していても良い。
(12)メッシュ状導電層のメッシュの間隙にはハードコート層が埋め込まれている。優れた透明性が得られる。
(13)透明フィルムがプラスチックフィルムである。
(13)透明粘着剤層又は粘着性近赤外線吸収層の上に剥離シートが設けられている。ディスプレイへの装着が容易となる。
(14)プラズマディスプレイパネル用フィルタである。
In the above, the long conductive tape is adhered to the hard coat layer or the end region of at least the two sides facing each other in the uppermost layer provided thereon so that the sides and the longitudinal direction of the tape are parallel to each other. It is preferable.
(8) In an optical filter for display using two transparent films, it is preferable that a near-infrared absorbing layer is provided on the entire back surface of the transparent film having a hard coat layer. Moreover, it is also preferable that the near-infrared absorption layer is provided in the whole back surface of the transparent film which has a conductive layer.
(9) The conductive layer is a mesh-like conductive layer. Excellent electromagnetic shielding properties.
(10) A low refractive index layer is further formed on the hard coat layer. Good antireflection properties can be obtained.
(11) A transparent adhesive layer is provided on the surface of the near-infrared absorbing layer opposite to the transparent film. Mounting on the display becomes easy. The near infrared absorbing layer may have adhesiveness.
(12) A hard coat layer is embedded in the mesh gap of the mesh-like conductive layer. Excellent transparency is obtained.
(13) The transparent film is a plastic film.
(13) A release sheet is provided on the transparent adhesive layer or the adhesive near-infrared absorbing layer. Mounting on the display becomes easy.
(14) A filter for a plasma display panel.

上記本発明のディスプレイ用光学フィルタは、下記の製造方法により有利に得ることができる:
長尺状透明フィルムのその幅方向一杯に、導電層を形成し、次いで導電層上にその幅方向一杯にハードコート層を形成し、その後長尺状透明フィルムの裏側にその幅方向一杯に近赤外線吸収層を形成することにより、導電層を有する積層体を形成し、さらに該積層体を幅方向に且つ水平面に対して斜めに裁断することを特徴とするディスプレイ用光学フィルタの製造方法;及び
一方の表面にハードコート層がこの順で設けられた長尺状透明フィルムと、一方の表面に近赤外線吸収層が設けられ、他方の表面に導電層が設けられた別の透明フィルムとの、2枚の透明フィルムを、前者の長尺状透明フィルムの裏面と別の透明フィルムの導電層とが粘着剤層を介して対向するようにして配置し、接着することにより積層体を形成し、さらに該積層体を幅方向に且つ水平面に対して斜めに裁断することを特徴とするディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
The display optical filter of the present invention can be advantageously obtained by the following production method:
A conductive layer is formed over the entire width of the long transparent film, and then a hard coat layer is formed over the entire width of the conductive layer, and then close to the full width of the back of the long transparent film. Forming an infrared absorption layer to form a laminate having a conductive layer, and further cutting the laminate in the width direction and obliquely with respect to a horizontal plane; and A long transparent film in which a hard coat layer is provided in this order on one surface, and another transparent film in which a near infrared absorption layer is provided on one surface and a conductive layer is provided on the other surface, Two transparent films are arranged such that the back surface of the former long transparent film and the conductive layer of another transparent film face each other with an adhesive layer therebetween, and a laminate is formed by bonding, Furthermore, the lamination A method for producing an optical filter for display, comprising: cutting a body in a width direction and obliquely with respect to a horizontal plane.

さらに、本発明は、
上記のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするディスプレイ;及び
上記のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするプラズマディスプレイパネルにもある。
Furthermore, the present invention provides
A display characterized in that the optical filter for display is bonded to the surface of the image display glass plate; and a plasma characterized in that the optical filter for display is bonded to the surface of the image display glass plate It is also on the display panel.

本発明のディスプレイ用光学フィルタは、製造が容易な光学フィルタにアース電極用のコンタクト部として導電層の斜面部が設けられており、生産性に優れた、アース電極の形成が容易な光学フィルタである。例えば、製造が容易な光学フィルタとしては、長尺状の透明フィルム上に、導電層、反射防止層及び近赤外吸収層等を形成して得られる長尺状積層体を裁断して得られるものであるが、長尺状積層体を斜めに裁断することにより簡便にアース電極の形成が容易な光学フィルタを簡便に得ることができる。従って、本発明のディスプレイ用光学フィルタは、連続的製造が容易な光学フィルタに簡便な方法でアース電極の形成が容易なコンタクト部を設けた光学フィルタであるということができる。   The optical filter for display according to the present invention is an optical filter that is easy to manufacture and has an inclined surface portion of a conductive layer as a contact portion for a ground electrode in an optical filter that is easy to manufacture. is there. For example, an optical filter that is easy to manufacture can be obtained by cutting a long laminate obtained by forming a conductive layer, an antireflection layer, a near-infrared absorbing layer, and the like on a long transparent film. However, it is possible to easily obtain an optical filter in which a ground electrode can be easily formed by cutting an elongated laminate obliquely. Therefore, it can be said that the optical filter for display according to the present invention is an optical filter in which a contact portion on which an earth electrode can be easily formed by a simple method is provided on an optical filter that is easily manufactured continuously.

特に、透明フィルムを1枚用いて上記光学フィルタを得た場合は、光学フィルタの厚さが極めて小さくなり、これに伴い質量も小さくなるため、ディスプレイに装着する際、そして装着後も取扱い上極めて有利である。   In particular, when the above optical filter is obtained using a single transparent film, the thickness of the optical filter becomes extremely small, and the mass decreases accordingly. It is advantageous.

さらに、このコンタクト部に電極部又は導電性テープを貼り付けて、光学フィルタの2辺又は周囲に電極を設けた場合は、アースが容易に、且つ安定的に行うことができ、ディスプレイへの装着がさらに容易となる。特に電極部にさらに導電性テープを貼り付けた場合は、上記特性がさらに優れたものとなる。   In addition, when an electrode or conductive tape is attached to this contact part and electrodes are provided on or around the two sides of the optical filter, grounding can be performed easily and stably, and can be attached to the display. Is even easier. In particular, when a conductive tape is further affixed to the electrode portion, the above characteristics are further improved.

従って、本発明のディスプレイ用光学フィルタは、プラズマディスプレイパネル(PDP)、ブラウン管(CRT)ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機EL(電界発光)ディスプレイ、表面電界型ディスプレイ(SED)を含む電界放出型ディスプレイ(FED)等の各種ディスプレイに対して反射防止、近赤外線遮断、電磁波遮蔽等の各種機能を有する、生産性に優れた光学フィルタということができる。   Therefore, the optical filter for display of the present invention includes a field emission display (FED) including a plasma display panel (PDP), a cathode ray tube (CRT) display, a liquid crystal display, an organic EL (electroluminescence) display, and a surface electric field display (SED). It can be said that the optical filter has various functions such as anti-reflection, near-infrared shielding, and electromagnetic wave shielding for various displays such as).

本発明のアース電極用コンタクト部が設けられた生産性に優れた電極部付きディスプレイ用光学フィルタについて、以下に詳細に説明する。   The optical filter for a display with an electrode part, which is provided with the earth electrode contact part of the present invention and is excellent in productivity, will be described in detail below.

本発明のディスプレイ用光学フィルタの基本構成を示す1例の概略断面図を図1に示す。図1は、矩形のディスプレイ用光学フィルタ11の一部で、一方の端部を含む部分の断面図を示している。図1において、透明フィルム12の一方の表面に、導電層13、ハードコート層16及び低屈折率層等の反射防止層17がこの順で設けられ、他方の表面には近赤外線吸収層14及びその上に透明粘着剤層15が設けられている。そして、この積層体の端面(側面)は、斜めに切断されて、斜面を形成している。本発明では、少なくとも導電層13の端面が斜面であることが必要である。本発明の斜面は、導電層13の斜面と導電層13に対する垂線との角度αを有しており、このαは30〜60度が好ましく、特に40〜50度が好ましい。この角度αは部分拡大図に示されている。本発明では、この露出した導電層13を電極部形成のための電極コンタクト部として使用する。このように導電層13の端面を斜面にすることによりその露出面積を大幅に増大させることができ、例えばここに導電性ペーストを塗工する場合、斜面であるため塗工が容易となると共に、その接触面積の増大により、安定したアース形成も容易となる。   FIG. 1 shows a schematic sectional view of an example showing the basic structure of the optical filter for display of the present invention. FIG. 1 is a sectional view of a part of a rectangular display optical filter 11 including one end. In FIG. 1, an antireflection layer 17 such as a conductive layer 13, a hard coat layer 16 and a low refractive index layer is provided in this order on one surface of a transparent film 12, and a near infrared absorbing layer 14 and A transparent adhesive layer 15 is provided thereon. And the end surface (side surface) of this laminated body is cut | disconnected diagonally, and forms the slope. In the present invention, at least the end surface of the conductive layer 13 needs to be a slope. The inclined surface of the present invention has an angle α between the inclined surface of the conductive layer 13 and a perpendicular to the conductive layer 13, and α is preferably 30 to 60 degrees, and particularly preferably 40 to 50 degrees. This angle α is shown in the partially enlarged view. In the present invention, the exposed conductive layer 13 is used as an electrode contact portion for forming an electrode portion. Thus, by making the end surface of the conductive layer 13 a slope, the exposed area can be greatly increased. For example, when a conductive paste is applied here, the coating is easy because of the slope, The increase in the contact area facilitates stable ground formation.

斜面とするのは、矩形の4片のうち少なくとも1辺、好ましくは対向する2辺、特に好ましくは4辺全てが斜面であることが好ましい。長尺状透明フィルムを用いて光学フィルタを作成する際、各層を形成した後、得られる長尺状の積層体を所定の長さに幅方向に切断する必要がある。この幅方向の切断の際に斜め方向に切断することにより効率良く2辺の端面に斜面を形成することができる。従って、2辺に斜面を形成することが製造上有利である。異なる方法として、導電層のみ、或いは導電層を有する透明フィルムを、予め斜めに切断して、これに他の層、フィルムを積層しても良い。   It is preferable that at least one side, preferably two opposite sides, particularly preferably all four sides of the four rectangular pieces are slopes. When forming an optical filter using a long transparent film, after forming each layer, it is necessary to cut | disconnect the obtained elongate laminated body to the predetermined length in the width direction. By cutting in the oblique direction at the time of cutting in the width direction, inclined surfaces can be efficiently formed on the end faces of the two sides. Therefore, it is advantageous in manufacturing to form slopes on two sides. As a different method, only a conductive layer or a transparent film having a conductive layer may be cut obliquely in advance, and another layer or film may be laminated thereon.

この構成において、ハードコート層16及び低屈折率層等の反射防止層17と、近赤外線吸収層14との位置が、相互に入れ替わっていてもよい。このような構成を図2に示す。図2において、透明フィルム22の一方の表面に、導電層23、近赤外線吸収層24及び透明粘着剤層25がこの順で設けられ、他方の表面にハードコート層26及び低屈折率層等の反射防止層27が設けられている。そして、そして、この積層体の端面(側面)は、斜めに切断されて、斜面を形成している。また図1の近赤外線吸収層14が、導電層13とハードコート層16との間に設けられても良い。   In this configuration, the positions of the antireflection layer 17 such as the hard coat layer 16 and the low refractive index layer, and the near-infrared absorbing layer 14 may be interchanged. Such a configuration is shown in FIG. In FIG. 2, a conductive layer 23, a near-infrared absorption layer 24, and a transparent adhesive layer 25 are provided in this order on one surface of the transparent film 22, and a hard coat layer 26, a low refractive index layer, and the like are provided on the other surface. An antireflection layer 27 is provided. And the end surface (side surface) of this laminated body is cut | disconnected diagonally, and the slope is formed. 1 may be provided between the conductive layer 13 and the hard coat layer 16. The near infrared absorption layer 14 shown in FIG.

しかながら、図1の構成が、ディスプレイ装着時に、導電層がディスプレイの前面(表面側)に存在することになるため、アースの設置が容易であることから有利である。   However, the configuration of FIG. 1 is advantageous because the conductive layer is present on the front surface (front surface side) of the display when the display is mounted, and thus grounding is easy to install.

導電層13は、例えば、メッシュ状の金属層又は金属含有層、又は塗工層、或いは金属酸化物層(誘電体層)、又は金属酸化物層と金属層との交互積層膜である。メッシュ状の金属層又は金属含有層は、一般に、エッチングにより、又は印刷法により形成されているか、金属繊維層である。これにより低抵抗を得られやすい。一般に、メッシュ状の金属層又は金属含有層のメッシュの空隙は、下記の図3に示すように、ハードコート層16で埋められている。これにより透明性が向上する。ハードコート層16で埋めない場合は、他の層、例えば近赤外線吸収層14或いはそれ専用の透明樹脂層で埋められるのが好ましい。   The conductive layer 13 is, for example, a mesh-like metal layer or metal-containing layer, a coating layer, a metal oxide layer (dielectric layer), or an alternately laminated film of metal oxide layers and metal layers. The mesh-like metal layer or metal-containing layer is generally formed by etching or printing, or is a metal fiber layer. This makes it easy to obtain low resistance. In general, the mesh gap of the mesh-like metal layer or metal-containing layer is filled with a hard coat layer 16 as shown in FIG. This improves transparency. When not filling with the hard-coat layer 16, it is preferable to fill with another layer, for example, the near-infrared absorption layer 14, or its own transparent resin layer.

反射防止層17は、一般に低屈折率層である。即ち、ハードコート層16とその上に設けられた低屈折率層との複合膜により反射防止効果を示す。この低屈折率層とハードコート層16との間に高屈折率層を設けても良い。これにより反射防止機能は向上する。   The antireflection layer 17 is generally a low refractive index layer. That is, the antireflection effect is exhibited by the composite film of the hard coat layer 16 and the low refractive index layer provided thereon. A high refractive index layer may be provided between the low refractive index layer and the hard coat layer 16. This improves the antireflection function.

また反射防止層17は設けなくても良く、透明フィルムと、透明フィルムより屈折率の高い又は低い(好ましくは低い)ハードコート層16のみであっても良い。ハードコート層16、反射防止層17は、いずれも塗工により形成されていることが、生産性、経済性の観点から好ましい。   Further, the antireflection layer 17 may not be provided, and only the transparent film and the hard coat layer 16 having a refractive index higher or lower (preferably lower) than that of the transparent film may be used. The hard coat layer 16 and the antireflection layer 17 are preferably formed by coating from the viewpoints of productivity and economy.

近赤外線吸収層14は、PDFのネオン発光等の不要な光を遮断する機能を有する。一般に800〜1200nmに吸収極大を有する色素を含む層である。透明粘着層15は一般にディスプレイへの容易に装着するために設けられている。透明粘着剤層15の上に剥離シートを設けても良い。   The near-infrared absorbing layer 14 has a function of blocking unnecessary light such as neon light emission of PDF. In general, it is a layer containing a dye having an absorption maximum at 800 to 1200 nm. The transparent adhesive layer 15 is generally provided for easy mounting on a display. A release sheet may be provided on the transparent adhesive layer 15.

図3に、図1の本発明のディスプレイ用光学フィルタの好ましい態様の1例の概略断面図を示す。図3は、矩形のディスプレイ用光学フィルタ21の一部で、一方の端部を含む部分の断面図を示している。図3は、図1の導電層がメッシュ導電層の場合の図に相当する。図3において、透明フィルム32の一方の表面に、メッシュ状の導電層33、ハードコート層36及び低屈折率層等の反射防止層37がこの順で設けられ、他方の表面には近赤外線吸収層34及びその上に透明粘着剤層35が設けられている。そして、この積層体の端面(側面)は、斜めに切断されて、斜面を形成している。ここでは、メッシュ状の導電層13のメッシュ部分の端面が斜面となっている。本発明の斜面は、導電層33の斜面と導電層33に対する垂線との角度αを有しており、このαは30〜60度が好ましく、特に40〜50度が好ましい。この角度αは部分拡大図に示されている。本発明では、この露出した導電層33のメッシュ部分を電極部形成のための電極コンタクト部として使用する。このように導電層33のメッシュ部分の端面を斜面にすることによりその露出面積を大幅に増大させることができ、例えばここに導電性ペーストを塗工する場合、斜面であるため塗工が容易となると共に、その接触面積の増大により、安定したアース形成も容易となる。   FIG. 3 shows a schematic sectional view of an example of a preferred embodiment of the optical filter for display of the present invention shown in FIG. FIG. 3 shows a cross-sectional view of a part of the rectangular display optical filter 21 including one end. FIG. 3 corresponds to a view when the conductive layer of FIG. 1 is a mesh conductive layer. In FIG. 3, an antireflection layer 37 such as a mesh-like conductive layer 33, a hard coat layer 36, and a low refractive index layer is provided in this order on one surface of a transparent film 32, and near-infrared absorption is provided on the other surface. The layer 34 and the transparent adhesive layer 35 are provided thereon. And the end surface (side surface) of this laminated body is cut | disconnected diagonally, and forms the slope. Here, the end surface of the mesh portion of the mesh-like conductive layer 13 is a slope. The inclined surface of the present invention has an angle α between the inclined surface of the conductive layer 33 and a perpendicular to the conductive layer 33. α is preferably 30 to 60 degrees, and particularly preferably 40 to 50 degrees. This angle α is shown in the partially enlarged view. In the present invention, the exposed mesh portion of the conductive layer 33 is used as an electrode contact portion for forming an electrode portion. Thus, by making the end face of the mesh portion of the conductive layer 33 a slope, the exposed area can be greatly increased. For example, when a conductive paste is applied here, the coating is easy because of the slope. In addition, the increase in the contact area facilitates stable ground formation.

図3では、導電層としてメッシュ状の金属層を用いているので、電磁波遮断効果等が特に優れている。このメッシュ状の金属層のメッシュの空隙は、ハードコート層36で埋められており、これにより透明性が向上している。   In FIG. 3, since a mesh-like metal layer is used as the conductive layer, the electromagnetic wave shielding effect and the like are particularly excellent. The mesh gap of the mesh-like metal layer is filled with the hard coat layer 36, thereby improving transparency.

図4に、本発明のディスプレイ用光学フィルタの好ましい態様の1例の概略断面図を示す。図4は、図3の矩形のディスプレイ用光学フィルタの端面に形成されたメッシュ状導電層の露出斜面に電極部48が形成されたディスプレイ用光学フィルタ41を示している。即ち、図4において、透明フィルム42の一方の表面に、メッシュ状の導電層43、ハードコート層46及び低屈折率層等の反射防止層47がこの順で設けられ、他方の表面には近赤外線吸収層44及びその上に透明粘着剤層45が設けられている。そして、この積層体の端面(側面)は、斜めに切断されて、斜面を形成している。ここでは、メッシュ状の導電層43のメッシュ部分の端面が斜面となっている。さらに、このメッシュ部分を含む斜面に、電極部(一般にアース電極)48が形成されている。電極部48は一般に、導電材料含有接着剤又はハンダにより形成される。或いは端面に露出した少なくともメッシュ状の導電層43を覆うように従来の粘着剤付き導電性テープを貼り付けても良い。   FIG. 4 shows a schematic sectional view of an example of a preferred embodiment of the optical filter for display of the present invention. FIG. 4 shows the display optical filter 41 in which the electrode portion 48 is formed on the exposed slope of the mesh-like conductive layer formed on the end face of the rectangular display optical filter of FIG. That is, in FIG. 4, an antireflection layer 47 such as a mesh-like conductive layer 43, a hard coat layer 46, and a low refractive index layer is provided in this order on one surface of the transparent film 42, and close to the other surface. An infrared absorption layer 44 and a transparent pressure-sensitive adhesive layer 45 are provided thereon. And the end surface (side surface) of this laminated body is cut | disconnected diagonally, and forms the slope. Here, the end surface of the mesh portion of the mesh-like conductive layer 43 is a slope. Furthermore, an electrode portion (generally a ground electrode) 48 is formed on the slope including the mesh portion. The electrode part 48 is generally formed of a conductive material-containing adhesive or solder. Or you may affix the conventional conductive tape with an adhesive so that the at least mesh-shaped conductive layer 43 exposed to the end surface may be covered.

上記導電性ペースト又はハンダによる電極部38は、隣接する反射防止層17の端部の表面、及び隣接する透明粘着剤層15の端部の表面まで形成することにより、アースがとりやすくなるとの利点がある。しかしながら、後述する図5及び7のように、導電性テープを使用する場合は、テープを接着するために電極部38に接触させることが好ましい。また、一般に電極部38は少なくとも相対する両端面に設ける必要があり、四辺の全ての端面に設けることが好ましい。これによりアースが容易となると共に、安定したアースが可能となる。   The electrode part 38 made of the conductive paste or solder is advantageous in that it is easy to ground by forming up to the surface of the end part of the adjacent antireflection layer 17 and the surface of the end part of the adjacent transparent adhesive layer 15. There is. However, as shown in FIGS. 5 and 7 to be described later, when a conductive tape is used, it is preferable to contact the electrode portion 38 in order to adhere the tape. In general, the electrode portions 38 need to be provided on at least opposite end faces, and are preferably provided on all end faces of the four sides. This facilitates grounding and enables stable grounding.

電極部48は、一般にアース電極であり、端面(斜面)に露出した少なくとも導電層43、好ましくは他の層及びフィルムを含む端面全体を覆っている。また電極部はフィルムの四方の端面、即ち全周囲を覆っていることが特に好ましい。電極部48の幅(厚さ)(図4のL)は、一般に5μm以上で、好ましくは5μm〜20mmである。この範囲未満であるとアースがとりにくく、この範囲を超えると寸法合わせ等に支障を来す。フィルムの厚さ方向の長さ(図4のd)は、一般に80μm以上で、ディスプレイ用光学フィルタの構造の寸法範囲内で設定される。電極部38は、一般に導電性材料を含むペースト又はハンダで形成される。   The electrode portion 48 is generally a ground electrode and covers at least the conductive layer 43 exposed on the end surface (slope), preferably the entire end surface including other layers and films. Further, it is particularly preferable that the electrode portion covers the four end faces of the film, that is, the entire periphery. The width (thickness) of the electrode part 48 (L in FIG. 4) is generally 5 μm or more, preferably 5 μm to 20 mm. If it is less than this range, it will be difficult to ground, and if it exceeds this range, it will hinder dimensional alignment. The length of the film in the thickness direction (d in FIG. 4) is generally 80 μm or more, and is set within the dimension range of the structure of the optical filter for display. The electrode portion 38 is generally formed of paste or solder containing a conductive material.

図5に、本発明のディスプレイ用光学フィルタの好ましい態様の1例の概略断面図を示す。図5は、図4の矩形のディスプレイ用光学フィルタの端面に形成された電極部に接触するように導電性テープが貼り付けられたディスプレイ用光学フィルタ51を示している。即ち、図5において、透明フィルム52の一方の表面に、メッシュ状の導電層53、ハードコート層56及び低屈折率層等の反射防止層57がこの順で設けられ、他方の表面には近赤外線吸収層54及びその上に透明粘着剤層55が設けられている。そして、この積層体の端面には、電極部(一般にアース電極)58が形成されている。この電極部58は、端面に露出した少なくともメッシュ状の導電層53を含む斜面を覆っている。そして、この電極部58の一部で接着されて、反射防止層57の表面の端部に導電性テープ59が設置されている。この導電性テープ59を用いることによりアースが極めてとりやすくなる。この導電性テープ59は、隣接する電極部58の表面を接着して、少し突出していることが好ましいが、電極部58の一部と接触していればテープの形状には限定はない。しかしながら、反射防止層57の端部領域に、長尺状の導電性テー59が、辺とテープの長手方向が平行となるように設置されていることが好ましい。導電性テープ59を接着するために、電極部58の上部の接着性が利用されているが、反射防止層57の表面の端部領域でアルミニウム製等の両面テープ等を用いて導電性テープを接着しても良い。   FIG. 5 shows a schematic sectional view of an example of a preferred embodiment of the optical filter for display of the present invention. FIG. 5 shows the display optical filter 51 to which a conductive tape is attached so as to be in contact with the electrode portion formed on the end face of the rectangular display optical filter of FIG. That is, in FIG. 5, an antireflection layer 57 such as a mesh-like conductive layer 53, a hard coat layer 56, and a low refractive index layer is provided in this order on one surface of the transparent film 52, and close to the other surface. An infrared absorption layer 54 and a transparent adhesive layer 55 are provided thereon. An electrode portion (generally a ground electrode) 58 is formed on the end face of the laminate. The electrode portion 58 covers a slope including at least the mesh-like conductive layer 53 exposed at the end face. Then, a conductive tape 59 is installed at the end of the surface of the antireflection layer 57, which is bonded to a part of the electrode portion 58. By using this conductive tape 59, it becomes very easy to ground. The conductive tape 59 is preferably slightly protruded by bonding the surfaces of the adjacent electrode portions 58, but there is no limitation on the shape of the tape as long as it is in contact with a part of the electrode portions 58. However, it is preferable that a long conductive tape 59 is installed in the end region of the antireflection layer 57 so that the sides and the longitudinal direction of the tape are parallel to each other. In order to bond the conductive tape 59, the adhesive property of the upper part of the electrode part 58 is used. In the end region of the surface of the antireflection layer 57, the conductive tape is attached using a double-sided tape made of aluminum or the like. It may be adhered.

導電性テープ59は、少なくとの対向する2辺の端部領域に設けられるが、四辺全てに設けられても良い。また図5では長尺状導電性テープ59は、反射防止層57上に設けられているが、最上層に設けられるので、最上層が、ハードコート層であれば、その上に設けられる。   The conductive tape 59 is provided in the end regions of at least two opposing sides, but may be provided on all four sides. In FIG. 5, the long conductive tape 59 is provided on the antireflection layer 57, but is provided on the uppermost layer. If the uppermost layer is a hard coat layer, it is provided on the uppermost layer.

図6に、図5のディスプレイ用光学フィルタ51を反射防止層側から見た平面図を示す。点線までが反射防止層57、即ち積層体であり、導電性テープ59は、ほぼ半分が反射防止層57を覆い、点線から外側の部分の一部が、電極部58を覆っている。この外側の導電性テープ49からアースをとるのが一般的である。導電性テープ59の幅は、一般に5〜100mmである。導電性テープ49の突き出た幅(点線からの距離)は、一般に0.5〜50mmである。   FIG. 6 is a plan view of the display optical filter 51 of FIG. 5 viewed from the antireflection layer side. Up to the dotted line is the antireflection layer 57, that is, the laminate, and the conductive tape 59 almost covers the antireflection layer 57, and a part of the portion outside the dotted line covers the electrode part 58. In general, the outer conductive tape 49 is grounded. The width of the conductive tape 59 is generally 5 to 100 mm. The protruding width (distance from the dotted line) of the conductive tape 49 is generally 0.5 to 50 mm.

図7に、本発明のディスプレイ用光学フィルタの別の態様の1例の概略断面図を示す。図7は、図5の矩形のディスプレイ用光学フィルタにおいて、透明フィルムを2枚用いた場合のディスプレイ用光学フィルタ61を示している。即ち、図7において、透明フィルム62Aの表面に、ハードコート層66及び低屈折率層等の反射防止層67がこの順で設けられ、別の透明フィルム62Bの表面にはメッシュ状の導電層63が設けられ、その裏面には近赤外線吸収層64及びその上に透明粘着剤層65が設けられ、透明フィルム62Aの層が設けられていない表面と透明フィルム62Bの導電層63が、粘着剤層60を介して接着されている。そして、図5と同様に、この積層体の端面には、電極部(一般にアース電極)68が形成されている。この電極部68は、端面に露出した少なくともメッシュ状の導電層63を含む斜面を覆っている。そして、この電極部68の一部で接着されて、反射防止層67の表面の端部に導電性テープ69が設置されている。この導電性テープ69を用いることによりアースが極めてとりやすくなる。この導電性テープ69は、隣接する電極部68の表面を接着して、少し突出していることが好ましいが、電極部68の一部と接触していればテープの形状には限定はない。しかしながら、反射防止層67の端部領域に、長尺状の導電性テー69が、辺とテープの長手方向が平行となるように接着されていることが好ましい。   FIG. 7 shows a schematic cross-sectional view of an example of another embodiment of the optical filter for display according to the present invention. FIG. 7 shows a display optical filter 61 in the case where two transparent films are used in the rectangular display optical filter of FIG. That is, in FIG. 7, an antireflection layer 67 such as a hard coat layer 66 and a low refractive index layer is provided in this order on the surface of the transparent film 62A, and a mesh-like conductive layer 63 is provided on the surface of another transparent film 62B. Is provided with a near-infrared absorbing layer 64 and a transparent adhesive layer 65 thereon, a surface on which the transparent film 62A layer is not provided, and a conductive layer 63 of the transparent film 62B. It is bonded via 60. As in FIG. 5, an electrode portion (generally a ground electrode) 68 is formed on the end face of the laminate. The electrode portion 68 covers a slope including at least the mesh-like conductive layer 63 exposed at the end face. Then, a conductive tape 69 is installed at the end of the surface of the antireflection layer 67 by being bonded at a part of the electrode portion 68. By using this conductive tape 69, it becomes very easy to ground. The conductive tape 69 is preferably slightly protruded by bonding the surfaces of the adjacent electrode portions 68, but the shape of the tape is not limited as long as it is in contact with a part of the electrode portions 68. However, it is preferable that a long conductive tape 69 is bonded to the end region of the antireflection layer 67 so that the sides and the longitudinal direction of the tape are parallel to each other.

透明フィルム2枚は、製造上有利である場合に採用されるが、厚さが大きくなるので嵩高くなる点で不利である。   The two transparent films are employed when it is advantageous in terms of production, but are disadvantageous in that they are bulky because the thickness is increased.

上述のディスプレイ用光学フィルタは、長尺状透明フィルムのその幅方向一杯に、導電層を形成し、次いで導電層上にその幅方向一杯にハードコート層を形成し、その後長尺状透明フィルムの裏側にその幅方向一杯に近赤外線吸収層を形成することにより、導電層を有する積層体を形成し、さらに該積層体を幅方向に且つ水平面に対して斜めに裁断することにより;或いは
一方の表面にハードコート層が設けられた長尺状透明フィルムと、一方の表面に近赤外線吸収層が設けられ、他方の表面に導電層が設けられた別の透明フィルムとの、2枚の透明フィルムを、前者の長尺状透明フィルムの裏面と後者の長尺状透明フィルムの導電層が対向するような状態で、粘着剤層を介して接着して積層体を形成し、さらに該積層体を幅方向に且つ水平面に対して斜めに裁断することにより有利に得ることができる。
In the above-described optical filter for display, a conductive layer is formed on the entire length of the long transparent film, and then a hard coat layer is formed on the conductive layer in the width direction. By forming a near-infrared absorbing layer on the back side in the full width direction to form a laminate having a conductive layer, and further cutting the laminate in the width direction and obliquely with respect to the horizontal plane; Two transparent films: a long transparent film having a hard coat layer on the surface, and another transparent film having a near infrared absorption layer on one surface and a conductive layer on the other surface In the state where the back surface of the former long transparent film and the conductive layer of the latter long transparent film are opposed to each other, a laminated body is formed by bonding through an adhesive layer. Horizontal and horizontal It can be advantageously obtained by cutting obliquely with respect to the surface.

矩形の透明フィルムの場合、各層はバッチ式で形成されても良いが、上記のように連続フィルム上に、各層を連続式、一般にロールトゥロール方式で形成し、裁断することが好ましい。   In the case of a rectangular transparent film, each layer may be formed in a batch system. However, as described above, it is preferable to form each layer on a continuous film, in a roll-to-roll system, and to cut the layers.

本発明のディスプレイ用光学フィルタに使用される材料について以下に説明する。   The material used for the optical filter for display of this invention is demonstrated below.

透明フィルムは、その材料としては、透明(「可視光に対して透明」を意味する。)であれば特に制限はないが、一般にプラスチックフィルムが使用される。例えば、ポリエステル{例、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート}、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、アクリル樹脂、ポリカーボネート(PC)、ポリスチレン、トリアセテート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる。これらの中でも、加工時の負荷(熱、溶剤、折り曲げ等)に対する耐性が高く、透明性が特に高い等の点で、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)等が好ましい。特に、PETが、加工性に優れているので好ましい。   The material of the transparent film is not particularly limited as long as it is transparent (meaning “transparent to visible light”), but a plastic film is generally used. For example, polyester {eg, polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate}, polymethyl methacrylate (PMMA), acrylic resin, polycarbonate (PC), polystyrene, triacetate resin, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyethylene, Examples thereof include ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral, metal ion crosslinked ethylene-methacrylic acid copolymer, polyurethane, cellophane and the like. Among these, polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polymethyl methacrylate (PMMA), etc. are highly resistant to loads during processing (heat, solvent, bending, etc.) and particularly highly transparent. preferable. In particular, PET is preferable because it has excellent processability.

透明フィルムの厚さとしては、光学フィルタの用途等によっても異なるが、一般に1μm〜10mm、1μm〜5mm、特に25〜250μmが好ましい。   The thickness of the transparent film varies depending on the use of the optical filter, but is generally 1 μm to 10 mm, 1 μm to 5 mm, and particularly preferably 25 to 250 μm.

本発明の導電層は、得られる光学フィルタの表面抵抗値が、一般に10Ω/□以下、好ましくは0.001〜5Ω/□の範囲、特に0.005〜5Ω/□の範囲となるように設定される。メッシュ(格子)状の導電層も好ましい。或いは、導電層は、塗工層でもよく、気相成膜法により得られる層(金属酸化物(ITO等)の透明導電薄膜)でも良い。さらに、ITO等の金属酸化物の誘電体膜とAg等の金属層との交互積層体(例、ITO/銀/ITO/銀/ITOの積層体)であっても良い。   The conductive layer of the present invention is set so that the surface resistance value of the obtained optical filter is generally 10Ω / □ or less, preferably 0.001 to 5Ω / □, particularly 0.005 to 5Ω / □. Is done. A mesh-like conductive layer is also preferable. Alternatively, the conductive layer may be a coating layer or a layer obtained by a vapor deposition method (a transparent conductive thin film of metal oxide (ITO or the like)). Further, it may be an alternate laminate of a metal oxide dielectric film such as ITO and a metal layer such as Ag (eg, ITO / silver / ITO / silver / ITO laminate).

メッシュ状の導電層としては金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属を網状にしたもの、透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等を挙げることができる。   As the mesh-like conductive layer, metal fibers and metal-coated organic fiber metals made into a mesh, copper foil on a transparent film etched into a mesh and provided with openings, conductive on the transparent film And the like, in which a conductive ink is printed in a mesh shape.

メッシュ状の導電層の場合、メッシュとしては、金属繊維及び/又は金属被覆有機繊維よりなる線径1μm〜1mm、開口率40〜95%のものが好ましい。より好ましい線径は10〜500μm、開口率は50〜95%である。メッシュ状の導電層において、線径が1mmを超えると電磁波シールド性が向上するが、開口率が低下し両立させることができない。1μm未満では、メッシュとしての強度が下がり取扱いが困難となる。また開口率が95%を超えるとメッシュとしての形状を維持することが困難であり、40%未満では光透過性が低下し、ディスプレイからの光量も低下する。   In the case of a mesh-shaped conductive layer, the mesh preferably has a wire diameter of 1 μm to 1 mm and an aperture ratio of 40 to 95% made of metal fibers and / or metal-coated organic fibers. A more preferable wire diameter is 10 to 500 μm, and an aperture ratio is 50 to 95%. When the wire diameter exceeds 1 mm in the mesh-like conductive layer, the electromagnetic wave shielding property is improved, but the aperture ratio is lowered and cannot be made compatible. If it is less than 1 μm, the strength as a mesh is lowered and handling becomes difficult. Further, when the aperture ratio exceeds 95%, it is difficult to maintain the shape as a mesh. When the aperture ratio is less than 40%, the light transmittance is reduced, and the amount of light from the display is also reduced.

なお、導電性メッシュの開口率とは、当該導電性メッシュの投影面積における開口部分が占める面積割合を言う。   The opening ratio of the conductive mesh refers to the area ratio occupied by the opening portion in the projected area of the conductive mesh.

メッシュ状の導電層を構成する金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、チタン、タングステン、錫、鉛、鉄、銀、炭素或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、ニッケルが用いられる。   The metal fibers constituting the mesh-like conductive layer and the metal of the metal-coated organic fiber include copper, stainless steel, aluminum, nickel, titanium, tungsten, tin, lead, iron, silver, carbon or alloys thereof, preferably copper, Stainless steel and nickel are used.

金属被覆有機繊維の有機材料としては、ポリエステル、ナイロン、塩化ビニリデン、アラミド、ビニロン、セルロース等が用いられる。   As the organic material for the metal-coated organic fiber, polyester, nylon, vinylidene chloride, aramid, vinylon, cellulose and the like are used.

金属箔等の導電性の箔をパターンエッチングしたもの場合、金属箔の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄、真鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。   When a conductive foil such as a metal foil is subjected to pattern etching, copper, stainless steel, aluminum, nickel, iron, brass, or an alloy thereof, preferably copper, stainless steel, or aluminum is used as the metal of the metal foil.

金属箔の厚さは、薄過ぎると取扱い性やパターンエッチングの作業性等の面で好ましくなく、厚過ぎると得られるフィルムの厚さに影響を及ぼし、エッチング工程の所要時間が長くなることから、1〜200μm程度とするのが好ましい。   If the thickness of the metal foil is too thin, it is not preferable in terms of handleability and workability of pattern etching, and if it is too thick, it affects the thickness of the film obtained, and the time required for the etching process becomes long. The thickness is preferably about 1 to 200 μm.

エッチングパターンの形状には特に制限はなく、例えば四角形の孔が形成された格子状の金属箔や、円形、六角形、三角形又は楕円形の孔が形成されたパンチングメタル状の金属箔等が挙げられる。また、孔は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。この金属箔の投影面における開口部分の面積割合は、20〜95%であることが好ましい。   The shape of the etching pattern is not particularly limited, and examples thereof include a grid-like metal foil in which square holes are formed, and a punching metal-like metal foil in which circular, hexagonal, triangular or elliptical holes are formed. It is done. Further, the holes are not limited to those regularly arranged, and may be a random pattern. It is preferable that the area ratio of the opening part in the projection surface of this metal foil is 20 to 95%.

或いは、メッシュ状の導電層を、透明基板に導電性インキをパターン印刷して形成しても良い。次のような導電性インキを用い、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法、静電印刷法等により透明基板の表面に印刷することができる。   Alternatively, the mesh-like conductive layer may be formed by pattern printing of conductive ink on a transparent substrate. Using the following conductive ink, it can be printed on the surface of the transparent substrate by screen printing, ink jet printing, electrostatic printing or the like.

一般に、粒径100μm以下のカーボンブラック粒子、或いは銅、アルミニウム、ニッケル等の金属又は合金の粒子等の導電性材料の粒子を50〜90重量%濃度にPMMA、ポリ酢酸ビニル、エポキシ樹脂等のバインダ樹脂に分散させたものである。このインクは、トルエン、キシレン、塩化メチレン、水等の溶媒に適当な濃度に希釈または分散させて透明基板の板面に印刷により塗布し、その後必要に応じ室温〜120℃で乾燥させ基板上に塗着させる。上記と同様の導電性材料の粒子をバインダ樹脂で覆った粒子を静電印刷法により直接塗布し熱等で固着させる。   In general, carbon black particles having a particle size of 100 μm or less, or particles of a conductive material such as particles of metals or alloys such as copper, aluminum, nickel, etc. are bound to a binder of PMMA, polyvinyl acetate, epoxy resin or the like at a concentration of 50 to 90% by weight. Dispersed in resin. This ink is diluted or dispersed at a suitable concentration in a solvent such as toluene, xylene, methylene chloride, water, etc., applied to the surface of the transparent substrate by printing, and then dried at room temperature to 120 ° C. as necessary. Apply. Particles obtained by covering the same conductive material particles as described above with a binder resin are directly applied by electrostatic printing and fixed by heat or the like.

このようにして形成される印刷膜の厚さは、薄過ぎると電磁波シールド性が不足するので好ましくなく、厚過ぎると得られるフィルムの厚さに影響を及ぼすことから、0.5〜100μm程度とするのが好ましい。   The thickness of the printed film formed in this way is not preferable because the electromagnetic wave shielding property is insufficient if it is too thin, and if it is too thick, it affects the thickness of the resulting film, so it is about 0.5 to 100 μm. It is preferable to do this.

このようなパターン印刷によれば、パターンの自由度が大きく、任意の線径、間隔及び開口形状の導電層を形成することができ、従って、所望の電磁波遮断性と光透過性を有するプラスチックフィルムを容易に形成することができる。   According to such pattern printing, the degree of freedom of the pattern is large, and a conductive layer having an arbitrary wire diameter, interval and opening shape can be formed. Therefore, a plastic film having desired electromagnetic wave shielding properties and light transmission properties Can be easily formed.

導電層のパターン印刷の形状には特に制限はなく、例えば四角形の開口部が形成された格子状の印刷膜や、円形、六角形、三角形又は楕円形の開口部が形成されたパンチングメタル状の印刷膜等が挙げられる。また、開口部は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。この印刷膜の投影面における開口部分の面積割合は、20〜95%であることが好ましい。   There is no particular limitation on the pattern printing shape of the conductive layer. For example, a grid-like printed film having a rectangular opening or a punching metal shape having a circular, hexagonal, triangular or elliptical opening. Examples include printed films. Further, the openings are not limited to those regularly arranged, and may be a random pattern. It is preferable that the area ratio of the opening part in the projection surface of this printed film is 20 to 95%.

上記の他に、メッシュ状の導電層として、フィルム面に、溶剤に対して可溶な材料によってドットを形成し、フィルム面に溶剤に対して不溶な導電材料からなる導電材料層を形成し、フィルム面を溶剤と接触させてドット及びドット上の導電材料層を除去することによって得られるメッシュ状導電層を用いても良い。   In addition to the above, as a mesh-like conductive layer, dots are formed on the film surface by a material soluble in a solvent, and a conductive material layer made of a conductive material insoluble in a solvent is formed on the film surface, A mesh-like conductive layer obtained by contacting the film surface with a solvent to remove the dots and the conductive material layer on the dots may be used.

塗工による導電層としては、ポリマー中に無機化合物の導電性粒子が分散された塗工層を挙げることができる。   Examples of the conductive layer by coating include a coating layer in which conductive particles of an inorganic compound are dispersed in a polymer.

導電性粒子を構成する無機化合物としては、例えば、アルミニウム、ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、スズ、カドミウム、銀、プラチナ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属、合金;或いはITO、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム−酸化スズ(ITO、いわゆるインジウムドープ酸化スズ)、酸化スズ−酸化アンチモン(ATO、いわゆるアンチモンドープ酸化スズ)、酸化亜鉛−酸化アルミニウム(ZAO;いわゆるアルミニウムドープ酸化亜鉛)等の導電性酸化物等を挙げることができる。特に、ITOが好ましい。平均粒径は10〜10000nm、特に10〜50nmが好ましい。   Examples of the inorganic compound constituting the conductive particles include metals, alloys such as aluminum, nickel, indium, chromium, gold, vanadium, tin, cadmium, silver, platinum, copper, titanium, cobalt, lead; or ITO, oxidation Indium, tin oxide, zinc oxide, indium oxide-tin oxide (ITO, so-called indium-doped tin oxide), tin oxide-antimony oxide (ATO, so-called antimony-doped tin oxide), zinc oxide-aluminum oxide (ZAO; so-called aluminum-doped oxide) And conductive oxides such as zinc). In particular, ITO is preferable. The average particle size is preferably 10 to 10,000 nm, particularly preferably 10 to 50 nm.

ポリマーの例としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、マレイン酸樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ポリイミド樹脂、含ケイ素樹脂等を挙げることができる。さらに、これらの樹脂のうち熱硬化性樹脂であることが好ましい。   Examples of the polymer include acrylic resin, polyester resin, epoxy resin, urethane resin, phenol resin, maleic acid resin, melamine resin, urea resin, polyimide resin, and silicon-containing resin. Furthermore, it is preferable that it is a thermosetting resin among these resins.

或いは、ポリマーは後述するハードコート層に使用される紫外線硬化性樹脂を用いることが特に好ましい。   Alternatively, the polymer is particularly preferably an ultraviolet curable resin used for a hard coat layer described later.

上記塗工による導電層の形成は、ポリマー(必要により溶剤を用いて)中に上記導電性微粒子を混合等により分散させて塗工液を作製し、この塗工液を、透明基板上に塗工し、適宜乾燥、硬化させる。熱可塑性樹脂を用いた場合は、塗工後乾燥することにより、熱硬化型の場合は、乾燥、熱硬化することにより得られる。紫外線硬化性樹脂を用いた場合は、塗工後、必要に応じて乾燥し、紫外線照射することにより得られる。   The conductive layer is formed by coating by dispersing the conductive fine particles in a polymer (using a solvent if necessary) by mixing or the like to prepare a coating solution, and coating the coating solution on a transparent substrate. And then drying and curing as appropriate. In the case of using a thermoplastic resin, it is obtained by drying after coating, and in the case of a thermosetting type, it is obtained by drying and thermosetting. When an ultraviolet curable resin is used, it can be obtained by drying after application and irradiating with ultraviolet rays after coating.

上記塗工形成された導電層の厚さとしては、0.01〜5μm、特に0.05〜3μmが好ましい。前記厚さが、0.01μm未満であると、電磁波シールド性が充分でないことがあり、一方5μmを超えると、得られるフィルムの透明性を低下させる場合がある。   The thickness of the conductive layer formed by coating is preferably 0.01 to 5 μm, particularly preferably 0.05 to 3 μm. When the thickness is less than 0.01 μm, the electromagnetic wave shielding property may not be sufficient. On the other hand, when the thickness exceeds 5 μm, the transparency of the resulting film may be lowered.

本発明の導電層は、塗工により形成される導電性ポリマーの層であることも好ましい。例えば、ポリアセチレン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン、ポリアセン、ポリフェニルアセチレン、ポリナフタレン等の炭化水素系ポリマー;ポリピロール、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリエチレンビニレン、ポリアズレン、ポリイソチアナフテン等のヘテロ原子含有ポリマーを挙げることができる。ポリピロール、ポリチオフェンが好ましい。上記導電性ポリマーの明導電層の厚さとしては、0.01〜5μm、特に0.05〜3μmが好ましい。前記厚さが、0.01μm未満であると、電磁波シールド性が充分でないことがあり、一方5μmを超えると、得られるフィルムの透明性を低下させる場合がある。   The conductive layer of the present invention is also preferably a conductive polymer layer formed by coating. For example, hydrocarbon polymers such as polyacetylene, polyphenylene, polyphenylene vinylene, polyacene, polyphenylacetylene, polynaphthalene; heteroatom-containing polymers such as polypyrrole, polyaniline, polythiophene, polyethylene vinylene, polyazulene, polyisothianaphthene . Polypyrrole and polythiophene are preferred. The thickness of the light conductive layer of the conductive polymer is preferably 0.01 to 5 μm, particularly preferably 0.05 to 3 μm. When the thickness is less than 0.01 μm, the electromagnetic wave shielding property may not be sufficient. On the other hand, when the thickness exceeds 5 μm, the transparency of the resulting film may be lowered.

導電層を気相成膜法により形成する場合(金属酸化物層)、その形成方法としては、特に制限はないが、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等の気相製膜法や、印刷、塗工等が挙げることができるが、気相製膜法(スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着)が好ましい。前記の無機化合物を用いて導電層を形成することができる。導電層を気相成膜法で形成した場合は、その層厚は、30〜50000nm、特に50nm程度が好ましい。   When the conductive layer is formed by a vapor deposition method (metal oxide layer), the formation method is not particularly limited, but a vapor phase such as sputtering, ion plating, electron beam vapor deposition, vacuum vapor deposition, chemical vapor deposition, etc. Examples of the method include a film forming method, printing, and coating, but a gas phase film forming method (sputtering, ion plating, electron beam vapor deposition, vacuum vapor deposition, chemical vapor deposition) is preferable. A conductive layer can be formed using the inorganic compound. When the conductive layer is formed by a vapor deposition method, the layer thickness is preferably 30 to 50000 nm, particularly about 50 nm.

導電層上に、さらに金属メッキ層を、導電性を向上させるためは設けても良い。金属メッキ層は、公知の電解メッキ法、無電解メッキ法により形成することができる。メッキに使用される金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、アルミ、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、好ましくは銅、銅合金、銀、又はニッケルであり、特に経済性、導電性の点から、銅又は銅合金を使用することが好ましい。   A metal plating layer may be further provided on the conductive layer in order to improve conductivity. The metal plating layer can be formed by a known electrolytic plating method or electroless plating method. As the metal used for plating, generally, copper, copper alloy, nickel, aluminum, silver, gold, zinc, tin or the like can be used, preferably copper, copper alloy, silver, or nickel, In particular, it is preferable to use copper or a copper alloy from the viewpoint of economy and conductivity.

また導電層は、誘電体層(金属酸化物)と金属層との交互積層膜でも良い。特に、誘電体層/金属層/誘電体層/金属層/誘電体層の5層以上の積層体が好ましい。例えば、ITO等の金属酸化物の誘電体層とAg等の金属層との交互積層体(例、ITO/銀/ITO/銀/ITOの積層体)を挙げることができる。   Further, the conductive layer may be an alternately laminated film of a dielectric layer (metal oxide) and a metal layer. In particular, a laminate of 5 layers or more of dielectric layer / metal layer / dielectric layer / metal layer / dielectric layer is preferable. For example, an alternate laminate of a dielectric layer of a metal oxide such as ITO and a metal layer of Ag or the like (eg, a laminate of ITO / silver / ITO / silver / ITO) can be used.

上記透明導電膜は、物理蒸着法または化学蒸着法により成膜することができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が挙げられるが、一般的にはスパッタリング法で成膜するのが好ましい。化学蒸着法としては、常圧CVD法、減圧CVD法、プラズマCVD法が挙げられる。   The transparent conductive film can be formed by physical vapor deposition or chemical vapor deposition. Examples of the physical vapor deposition method include a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, and a laser ablation method, but it is generally preferable to form a film by the sputtering method. Examples of the chemical vapor deposition method include an atmospheric pressure CVD method, a low pressure CVD method, and a plasma CVD method.

導電層(特にメッシュ状導電層)をさらに低い抵抗値にして、電磁波シールド効果を向上させたい場合は、導電層上にメッキ層を形成することが好ましい。   In order to improve the electromagnetic wave shielding effect by further reducing the resistance value of the conductive layer (particularly the mesh-shaped conductive layer), it is preferable to form a plating layer on the conductive layer.

メッキ処理に使用される材料としては、銅、ニッケル、クロム、亜鉛、スズ、銀及び金を上げることができる。これらは単独で使用しても、2種以上の合金として使用しても良い。メッキ処理としては通常の液相メッキ(電気メッキ、無電解メッキ等)により一般に行われる。   Examples of materials used for the plating process include copper, nickel, chromium, zinc, tin, silver, and gold. These may be used alone or as two or more kinds of alloys. The plating process is generally performed by ordinary liquid phase plating (electroplating, electroless plating, etc.).

また、防眩性能を付与させても良い。この防眩化処理を行う場合、(メッシュ)導電層の表面に黒化処理を行っても良い。例えば、金属膜の酸化処理、クロム合金等の黒色メッキ、黒又は暗色系のインクの塗布等を行うことができる。   Moreover, you may give anti-glare performance. When this anti-glare treatment is performed, a blackening treatment may be performed on the surface of the (mesh) conductive layer. For example, oxidation treatment of a metal film, black plating such as chromium alloy, application of black or dark ink, and the like can be performed.

本発明の反射防止層は、一般に基板である透明フィルムより屈折率の低いハードコート層とその上に設けられた低屈折率層との複合膜であるか、或いはハードコート層と低屈折率層との間にさらに高屈折率層が設けられた複合膜である。反射防止層は基板より屈折率の低いハードコート層のみであっても有効である。但し、基板の屈折率が低い場合、透明フィルムより屈折率の高いハードコート層とその上に設けられた低屈折率層との複合膜、或いは低屈折率層上にさらに高屈折率層が設けられた複合膜としても良い。   The antireflection layer of the present invention is generally a composite film of a hard coat layer having a refractive index lower than that of a transparent film as a substrate and a low refractive index layer provided thereon, or a hard coat layer and a low refractive index layer. Is a composite film in which a high refractive index layer is further provided therebetween. Even if the antireflection layer is only a hard coat layer having a refractive index lower than that of the substrate, it is effective. However, when the refractive index of the substrate is low, a composite film of a hard coat layer having a higher refractive index than the transparent film and a low refractive index layer provided thereon, or a higher refractive index layer is provided on the low refractive index layer. A composite film obtained may be used.

ハードコート層としては、アクリル樹脂層、エポキシ樹脂層、ウレタン樹脂層、シリコーン樹脂層等を挙げることができ、通常その厚さは1〜50μm、好ましくは1〜10μmである。熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂のいずれでもよいが、紫外線硬化性樹脂が好ましい。   As a hard-coat layer, an acrylic resin layer, an epoxy resin layer, a urethane resin layer, a silicone resin layer, etc. can be mentioned, The thickness is 1-50 micrometers normally, Preferably it is 1-10 micrometers. Either a thermosetting resin or an ultraviolet curable resin may be used, but an ultraviolet curable resin is preferable.

熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、レゾルシノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フラン樹脂、シリコン樹脂などを挙げることができる。   Examples of the thermosetting resin include phenol resin, resorcinol resin, urea resin, melamine resin, epoxy resin, acrylic resin, urethane resin, furan resin, and silicon resin.

紫外線硬化性樹脂(モノマー、オリゴマー)としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシルポリエトキシ(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、フェニルオキシエチル(メタ)アクリレート、トリシクロデカンモノ(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、アクリロイルモルホリン、N−ビニルカプロラクタム、2−ヒドロキシ−3−フェニルオキシプロピル(メタ)アクリレート、o−フェニルフェニルオキシエチル(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、トリス〔(メタ)アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレートモノマー類;ポリオール化合物(例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,9−ノナンジオール、2−エチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、1,4−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールAポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等)と有機ポリイソシアネート(例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4′−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4′−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,2′−4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等)と水酸基含有(メタ)アクリレート(例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェニルオキシプロピル(メタ)アクリレート、シクロヘキサン−1,4−ジメチロールモノ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート等)の反応物であるポリウレタン(メタ)アクリレート、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら化合物は1種又は2種以上、混合して使用することができる。これらの紫外線硬化性樹脂を、熱重合開始剤とともに用いて熱硬化性樹脂として使用してもよい。   Examples of the ultraviolet curable resin (monomer, oligomer) include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, and 2-ethylhexyl polyethoxy (meth) acrylate. , Benzyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, phenyloxyethyl (meth) acrylate, tricyclodecane mono (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, acryloylmorpholine , N-vinylcaprolactam, 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl (meth) acrylate, o-phenylphenyloxyethyl (meth) acrylate, neopentylglyce Di (meth) acrylate, neopentyl glycol dipropoxy di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate hydroxypivalate, tricyclodecane dimethylol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) Acrylate, nonanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, tris [(meth) acryloxyethyl] isocyanurate, ditrimethylolpropane (Meth) acrylate monomers such as tetra (meth) acrylate; polyol compounds (for example, ethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, , 6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,9-nonanediol, 2-ethyl-2-butyl-1,3-propanediol, trimethylolpropane, diethylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene Polyols such as glycol, 1,4-dimethylolcyclohexane, bisphenol A polyethoxydiol, polytetramethylene glycol, the polyols and succinic acid, maleic acid, itaconic acid, adipic acid, hydrogenated dimer acid, phthalic acid, isophthalic acid Polyester polyols which are reaction products of polybasic acids such as acid and terephthalic acid or acid anhydrides thereof, polycaprolactone polyols which are reaction products of the polyols and ε-caprolactone, the polyols and the above, Polybasic acid or this Reaction products of these acid anhydrides with ε-caprolactone, polycarbonate polyols, polymer polyols, etc.) and organic polyisocyanates (for example, tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4′-diisocyanate, diisocyanate) Cyclopentanyl diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 2,4,4′-trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,2′-4-trimethylhexamethylene diisocyanate, etc.) and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate (for example, 2-hydroxyethyl (meta ) Acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl (meth) acrylic Rate, cyclohexane-1,4-dimethylol mono (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, etc.) (Meth) such as bisphenol type epoxy (meth) acrylate, which is a reaction product of bisphenol type epoxy resin such as polyurethane (meth) acrylate, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin and (meth) acrylic acid which is a reaction product Examples include acrylate oligomers. These compounds can be used alone or in combination. These ultraviolet curable resins may be used as a thermosetting resin together with a thermal polymerization initiator.

ハードコート層とするには、上記の紫外線硬化性樹脂(モノマー、オリゴマー)の内、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の硬質の多官能モノマーを主に使用することが好ましい。   For the hard coat layer, among the above-mentioned ultraviolet curable resins (monomers and oligomers), hard materials such as pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol penta (meth) acrylate and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate are used. It is preferable to mainly use polyfunctional monomers.

紫外線硬化性樹脂の光重合開始剤として、紫外線硬化性樹脂の性質に適した任意の化合物を使用することができる。例えば、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−(4−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノプロパン−1などのアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、4−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、2−4−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−(4−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノプロパン−1、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、4−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系叉は、第3級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の1種または2種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの1種または2種以上の混合で使用することができる。特に1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア184)が好ましい。   Any compound suitable for the properties of the ultraviolet curable resin can be used as the photopolymerization initiator for the ultraviolet curable resin. For example, acetophenone such as 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane-1 Benzoin series such as benzyldimethyl ketal, benzophenone, 4-phenylbenzophenone, benzophenone series such as hydroxybenzophenone, thioxanthone series such as isopropylthioxanthone, 2-4-diethylthioxanthone, and other special ones include methylphenyl glyoxylate Etc. can be used. Particularly preferably, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane-1, Examples include benzophenone. These photopolymerization initiators may be optionally selected from one or more known photopolymerization accelerators such as benzoic acid type or tertiary amine type such as 4-dimethylaminobenzoic acid. It can be used by mixing at a ratio. Moreover, it can be used by 1 type, or 2 or more types of mixture of only a photoinitiator. Particularly preferred is 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals).

光重合開始剤の量は、樹脂組成物に対して0.1〜10質量%、好ましくは0.1〜5質量%である。   The quantity of a photoinitiator is 0.1-10 mass% with respect to a resin composition, Preferably it is 0.1-5 mass%.

ハードコート層は、透明フィルムより屈折率が低いことが好ましく、上記紫外線硬化性樹脂を用いることにより一般に基板より低い屈折率を得られやすい。従って、透明基板としては、PET等の高い屈折率の材料を用いることが好ましい。このため、ハードコート層は、屈折率を、1.60以下にすることが好ましい。膜厚は前記の通りである。   The hard coat layer preferably has a refractive index lower than that of the transparent film. By using the ultraviolet curable resin, a refractive index lower than that of the substrate is generally easily obtained. Therefore, it is preferable to use a material having a high refractive index such as PET as the transparent substrate. Therefore, the hard coat layer preferably has a refractive index of 1.60 or less. The film thickness is as described above.

高屈折率層は、ポリマー(好ましくは紫外線硬化性樹脂)中に、ITO,ATO,Sb23,SbO2,In23,SnO2,ZnO、AlをドープしたZnO、TiO2等の導電性金属酸化物微粒子(無機化合物)が分散した層とすることが好ましい。金属酸化物微粒子としては、平均粒径10〜10000nm、好ましくは10〜50nmのものが好ましい。特にITO(特に平均粒径10〜50nmのもの)が好ましい。屈折率を1.64以上としたものが好適である。膜厚は一般に10〜500nmの範囲、好ましくは20〜200nmである。 The high refractive index layer is made of, for example, ITO, ATO, Sb 2 O 3 , SbO 2 , In 2 O 3 , SnO 2 , ZnO, Al-doped ZnO, TiO 2 or the like in a polymer (preferably UV curable resin). It is preferable to use a layer in which conductive metal oxide fine particles (inorganic compound) are dispersed. The metal oxide fine particles preferably have an average particle size of 10 to 10,000 nm, preferably 10 to 50 nm. In particular, ITO (especially having an average particle diameter of 10 to 50 nm) is preferable. Those having a refractive index of 1.64 or more are suitable. The film thickness is generally in the range of 10 to 500 nm, preferably 20 to 200 nm.

なお、高屈折率層が導電層である場合、この高屈折率層2の屈折率を1.64以上とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を1.5%以内にすることができ、1.69以上、好ましくは1.69〜1.82とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を1.0%以内にすることができる。   When the high refractive index layer is a conductive layer, the minimum reflectance of the surface reflectance of the antireflection film is set within 1.5% by setting the refractive index of the high refractive index layer 2 to 1.64 or more. The minimum reflectance of the surface reflectance of the antireflection film can be made to be within 1.0% by setting it to 1.69 or more, preferably 1.69 to 1.82.

低屈折率層は、シリカ、フッ素樹脂等の微粒子、好ましくは中空シリカを10〜60重量%(好ましくは10〜50質量%)がポリマー(好ましくは紫外線硬化性樹脂)中に分散した層(硬化層)であることが好ましい。この低屈折率層の屈折率は、1.40〜1.51が好ましい。この屈折率が1.51超であると、反射防止フィルムの反射防止特性が低下する。膜厚は一般に10〜500nmの範囲、好ましくは20〜200nmである。   The low refractive index layer is a layer (cured) in which fine particles such as silica and fluororesin, preferably hollow silica, are dispersed in a polymer (preferably UV curable resin) in an amount of 10 to 60% by weight (preferably 10 to 50% by weight). Layer). The refractive index of this low refractive index layer is preferably 1.40 to 1.51. When the refractive index is more than 1.51, the antireflection property of the antireflection film is deteriorated. The film thickness is generally in the range of 10 to 500 nm, preferably 20 to 200 nm.

中空シリカとしては、平均粒径10〜100nm、好ましくは10〜50nm、比重0.5〜1.0、好ましくは0.8〜0.9のものが好ましい。   As the hollow silica, those having an average particle diameter of 10 to 100 nm, preferably 10 to 50 nm, and a specific gravity of 0.5 to 1.0, preferably 0.8 to 0.9 are preferable.

ハードコート層は、可視光線透過率が85%以上であることが好ましい。高屈折率層及び低屈折率層の可視光線透過率も、いずれも85%以上であることが好ましい。   The hard coat layer preferably has a visible light transmittance of 85% or more. Both the visible light transmittance of the high refractive index layer and the low refractive index layer are preferably 85% or more.

反射防止層が上記3層より構成される場合、例えば、ハードコート層の厚さは2〜20μm、高屈折率層の厚さは75〜200nm、低屈折率層の厚さは75〜200nmであることが好ましい。   When the antireflection layer is composed of the above three layers, for example, the thickness of the hard coat layer is 2 to 20 μm, the thickness of the high refractive index layer is 75 to 200 nm, and the thickness of the low refractive index layer is 75 to 200 nm. Preferably there is.

反射防止層の、各層を形成するには、前記の通り、ポリマー(好ましくは紫外線硬化性樹脂)に必要に応じ上記の微粒子を配合し、得られた塗工液を塗工し、次いで乾燥、必要により熱硬化させるか、或いは塗工後、必要により乾燥し、紫外線を照射する。この場合、各層を1層ずつ塗工し硬化させてもよく、全層を塗工した後、まとめて硬化させてもよい。   In order to form each layer of the antireflection layer, as described above, the polymer (preferably UV curable resin) is blended with the fine particles as necessary, and the obtained coating solution is applied, and then dried. If necessary, it is heat-cured, or after coating, if necessary, it is dried and irradiated with ultraviolet rays. In this case, each layer may be applied and cured one by one, or all the layers may be applied and then cured together.

塗工の具体的な方法としては、アクリル系モノマー等を含む紫外線硬化性樹脂をトルエン等の溶媒で溶液にした塗工液をグラビアコータ等によりコーティングし、その後乾燥し、次いで紫外線により硬化する方法を挙げることができる。このウェットコーティング法であれば、高速で均一に且つ安価に成膜できるという利点がある。このコーティング後に例えば紫外線を照射して硬化することにより密着性の向上、膜の硬度の上昇という効果が得られる。前記導電層も同様に形成することができる。   As a specific method of coating, a method of coating a coating solution in which an ultraviolet curable resin containing an acrylic monomer or the like is made into a solution with a solvent such as toluene is coated with a gravure coater, and then dried, and then cured by ultraviolet rays. Can be mentioned. This wet coating method has the advantage that the film can be uniformly formed at high speed at low cost. After this coating, for example, by irradiating and curing with ultraviolet rays, the effect of improving the adhesion and increasing the hardness of the film can be obtained. The conductive layer can be formed similarly.

紫外線硬化の場合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等を挙げることができる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分程度である。また、硬化促進のために、予め積層体を40〜120℃に加熱し、これに紫外線を照射してもよい。   In the case of ultraviolet curing, many light sources that emit light in the ultraviolet to visible range can be used as the light source, such as ultra-high pressure, high pressure, low pressure mercury lamp, chemical lamp, xenon lamp, halogen lamp, mercury lamp, carbon arc lamp, incandescent lamp. And laser light. The irradiation time cannot be determined unconditionally depending on the type of lamp and the intensity of the light source, but is about several seconds to several minutes. Moreover, in order to accelerate curing, the laminate may be preheated to 40 to 120 ° C. and irradiated with ultraviolet rays.

本発明の反射防止層は、上記のように塗工により形成することが好ましいが、気相成膜法により形成しても良い。通常、高屈折率層及び低屈折率層を、物理蒸着法または化学蒸着法により成膜することができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が挙げられるが、一般的にはスパッタリング法で成膜するのが好ましい。化学蒸着法としては、常圧CVD法、減圧CVD法、プラズマCVD法が挙げられる。   The antireflection layer of the present invention is preferably formed by coating as described above, but may be formed by a vapor phase film forming method. Usually, the high refractive index layer and the low refractive index layer can be formed by physical vapor deposition or chemical vapor deposition. Examples of the physical vapor deposition method include a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, and a laser ablation method, but it is generally preferable to form a film by the sputtering method. Examples of the chemical vapor deposition method include an atmospheric pressure CVD method, a low pressure CVD method, and a plasma CVD method.

高屈折率層及び低屈折率層等の組合せの例としては、下記のものを挙げることができる。   Examples of the combination of the high refractive index layer and the low refractive index layer include the following.

(a) 高屈折率層/低屈折率層の順で各1層ずつ、合計2層に積層したもの、(b) 高屈折率層/低屈折率層を2層ずつ交互に、合計4層に積層したもの、(c) 中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層の順で各1層ずつ、合計3層に積層したもの、(d) 高屈折率層/低屈折率層の順で各層を交互に3層ずつ、合計6層に積層したもの。高屈折率層としては、ITO(スズインジウム酸化物)又はZnO、AlをドープしたZnO、TiO2、SnO2、ZrO等の薄膜を採用することができる。また、低屈折折率層としては、SiO2、MgF2、Al23等の屈折率が1.6以下の薄膜を用いることができる。 (A) 1 layer each in the order of high refractive index layer / low refractive index layer, laminated in a total of 2 layers, (b) 2 layers of high refractive index layer / low refractive index layer alternately, 4 layers in total (C) One layer each in the order of medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer, laminated in a total of three layers, (d) high refractive index layer / low refractive index layer In this order, each layer is alternately stacked in 3 layers for a total of 6 layers. As the high refractive index layer, ITO (tin indium oxide) or ZnO, a thin film of ZnO, TiO 2 , SnO 2 , ZrO or the like doped with Al can be employed. As the low refractive index layer, a thin film having a refractive index of 1.6 or less, such as SiO 2 , MgF 2 , Al 2 O 3, or the like can be used.

上記高屈折率層及び低屈折率層等は、物理蒸着法または化学蒸着法により成膜することができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が挙げられるが、一般的にはスパッタリング法で成膜するのが好ましい。化学蒸着法としては、常圧CVD法、減圧CVD法、プラズマCVD法が挙げられる。   The high refractive index layer, the low refractive index layer, and the like can be formed by physical vapor deposition or chemical vapor deposition. Examples of the physical vapor deposition method include a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, and a laser ablation method, but it is generally preferable to form a film by the sputtering method. Examples of the chemical vapor deposition method include an atmospheric pressure CVD method, a low pressure CVD method, and a plasma CVD method.

近赤外線吸収層は、一般に、透明フィルムの表面に色素等を含む層が形成することにより得られる。近赤外線吸収層は、例えば上記色素及びバインダ樹脂等を含む紫外線硬化性又は電子線硬化性の樹脂を含む塗工液を塗工、必要により乾燥、そして硬化させることにより得られる。フィルムとして使用する場合は、一般に近赤外線カットフィルムであり、例えば色素等を含有するフィルムである。色素としては、一般に800〜1200nmの波長に吸収極大を有するもので、例としては、フタロシアニン系色素、金属錯体系色素、ニッケルジチオレン錯体系色素、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、ポリメチン系色素、アゾメチン系色素、アゾ系色素、ポリアゾ系色素、ジイモニウム系色素、アミニウム系色素、アントラキノン系色素、を挙げることができ、特にシアニン系色素又はスクアリリウム系色素が好ましい。これらの色素は、単独又は組み合わせて使用することができる。バインダ樹脂の例としては、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂を挙げることができる。   A near-infrared absorption layer is generally obtained by forming a layer containing a pigment or the like on the surface of a transparent film. The near-infrared absorbing layer can be obtained, for example, by applying a coating solution containing an ultraviolet curable or electron beam curable resin containing the pigment and the binder resin, and drying and curing if necessary. When used as a film, it is generally a near-infrared cut film, such as a film containing a pigment or the like. The dye generally has an absorption maximum at a wavelength of 800 to 1200 nm. Examples include phthalocyanine dyes, metal complex dyes, nickel dithiolene complex dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, polymethine dyes, Examples thereof include azomethine dyes, azo dyes, polyazo dyes, diimonium dyes, aminium dyes, and anthraquinone dyes, and cyanine dyes and squarylium dyes are particularly preferable. These dyes can be used alone or in combination. Examples of the binder resin include thermoplastic resins such as acrylic resins.

本発明では、近赤外線吸収層に、ネオン発光の吸収機能を付与することにより色調の調節機能を持たせても良い。このために、ネオン発光の吸収層を設けても良いが、近赤外線吸収層にネオン発光の選択吸収色素を含有させても良い。   In the present invention, the near-infrared absorbing layer may be provided with a function of adjusting color tone by providing a function of absorbing neon light emission. For this purpose, a neon-emission absorption layer may be provided, but a neon-emission selective absorption dye may be included in the near-infrared absorption layer.

ネオン発光の選択吸収色素としては、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、アントラキノン系色素、フタロシアニン系色素、ポリメチン系色素、ポリアゾ系色素、アズレニウム系色素、ジフェニルメタン系色素、トリフェニルメタン系色素を挙げることができる。このような選択吸収色素は、585nm付近のネオン発光の選択吸収性とそれ以外の可視光波長において吸収が小さいことが必要であるため、吸収極大波長が575〜595nmであり、吸収スペクトル半値幅が40nm以下であるものが好ましい。   Neon luminescent selective absorption dyes include cyanine dyes, squarylium dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, polymethine dyes, polyazo dyes, azurenium dyes, diphenylmethane dyes, and triphenylmethane dyes. it can. Such a selective absorption dye is required to have a selective absorption of neon emission near 585 nm and a small absorption at other visible light wavelengths, so that the absorption maximum wavelength is 575 to 595 nm and the absorption spectrum half width is What is 40 nm or less is preferable.

また、近赤外線やネオン発光の吸収色素を複数種組み合わせる場合、色素の溶解性に問題がある場合、混合による色素間の反応ある場合、耐熱性、耐湿性等の低下が認められる場合には、すべての近赤外線吸収色素を同一の層に含有させる必要はなく、別の層に含有させても良い。   Also, when combining multiple types of near-infrared or neon luminescent absorbing dyes, if there is a problem with the solubility of the dye, if there is a reaction between the dyes due to mixing, if there is a decline in heat resistance, moisture resistance, etc. All the near-infrared absorbing dyes need not be contained in the same layer, and may be contained in another layer.

また、光学特性に大きな影響を与えない限り、さらに着色用の色素、紫外線吸収剤、酸化防止剤等を加えても良い。   Further, as long as the optical properties are not greatly affected, coloring pigments, ultraviolet absorbers, antioxidants and the like may be further added.

本発明の光学フィルタの近赤外線吸収特性としては、850〜1000nmの透過率を、20%以下、さらに15%するのが好ましい。また選択吸収性としては、585nmの透過率が50%以下であることが好ましい。特に前者の場合には、周辺機器のリモコン等の誤作動が指摘されている波長領域の透過度を減少させる効果があり、後者の場合は、575〜595nmにピークを持つオレンジ色が色再現性を悪化させる原因であることから、このオレンジ色の波長を吸収させる効果があり、これにより真赤性を高めて色の再現性を向上させたものである。   As a near-infrared absorption characteristic of the optical filter of the present invention, it is preferable that the transmittance at 850 to 1000 nm is 20% or less, and further 15%. Moreover, as selective absorptivity, it is preferable that the transmittance | permeability of 585 nm is 50% or less. Especially in the former case, there is an effect of reducing the transmittance in a wavelength region where malfunction of a remote controller of a peripheral device is pointed out. In the latter case, an orange color having a peak at 575 to 595 nm is color reproducibility. This has the effect of absorbing the orange wavelength, thereby improving the redness and improving the color reproducibility.

近赤外線吸収層の層厚は、0.5〜50μmが一般的である。   The layer thickness of the near infrared absorbing layer is generally 0.5 to 50 μm.

本発明に用いられる電極部は、導電材料含有接着剤又はハンダから形成されることが好ましい。   The electrode portion used in the present invention is preferably formed from a conductive material-containing adhesive or solder.

導電材料含有接着剤(導電性ペースト)は、銅、銀、ニッケル等(好ましくは銀又は銀―銅合金)の金属粉末を、合成樹脂(及び適宜有機溶剤)中に分散させたものである。金属粉末の平均粒径は一般に、0.001〜100μm、特に0.01〜50μmである。合成樹脂としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アクリルウレタン樹脂が好ましく、特にアクリル樹脂、ポリエステル樹脂が好ましい。合成樹脂は熱可塑性であっても、熱硬化性であってもよい。全固形分に対する金属粉末の割合は、10〜95質量%の範囲、特に30〜90質量%が好ましい。   The conductive material-containing adhesive (conductive paste) is obtained by dispersing a metal powder of copper, silver, nickel or the like (preferably silver or silver-copper alloy) in a synthetic resin (and an appropriate organic solvent). The average particle size of the metal powder is generally 0.001 to 100 μm, in particular 0.01 to 50 μm. As the synthetic resin, an acrylic resin, a polyester resin, an epoxy resin, and an acrylic urethane resin are preferable, and an acrylic resin and a polyester resin are particularly preferable. The synthetic resin may be thermoplastic or thermosetting. The ratio of the metal powder to the total solid content is preferably in the range of 10 to 95% by mass, particularly 30 to 90% by mass.

導電材料含有接着剤による電極部の形成は、本発明の導電層、ハードコート層、近赤外線吸収層等を有する透明フィルムの端面に、金属粉末が分散した合成樹脂等を含む電極部形成用塗工液を塗工(塗布)し、常温〜150℃で1分〜5時間乾燥及び/又は硬化させることにより得られる。得られた第2電極部の厚さ(透明フィルムの幅方向)は一般に5〜500μm、特に10〜200μmの範囲が好ましい。得られる電極部の導電性は、1×10-6〜1×10-2Ω・cmの範囲が好ましい。 The electrode part is formed with the conductive material-containing adhesive. The electrode part forming coating includes a synthetic resin in which metal powder is dispersed on the end face of the transparent film having the conductive layer, the hard coat layer, the near-infrared absorbing layer, and the like of the present invention. It is obtained by coating (applying) the working liquid and drying and / or curing at room temperature to 150 ° C. for 1 minute to 5 hours. The thickness (width direction of the transparent film) of the obtained second electrode part is generally 5 to 500 μm, and particularly preferably 10 to 200 μm. The conductivity of the obtained electrode part is preferably in the range of 1 × 10 −6 to 1 × 10 −2 Ω · cm.

上記電極部形成用塗工液の市販品の例としては、ドータイトXA−9015、ドータイトXE−9000、ドータイトFE107、ドータイトFN―101(以上藤倉化成(株)製)、ECM−100、VI7901(以上太陽インキ(株)製)、DW−114L−1、DW−250H−5(以上東洋紡(株)製)を挙げることができる。   Examples of commercially available electrode part-forming coating solutions include Doutite XA-9015, Doutite XE-9000, Doutite FE107, Doutite FN-101 (manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd.), ECM-100, VI7901 (and above). Solar Ink Co., Ltd.), DW-114L-1, DW-250H-5 (Toyobo Co., Ltd.).

ハンダとしては、一般にSnとPbからなるもの、及びPbフリーハンダ、例えばSn−Ag系、Sn−Cu系、Sn−Bi系、Sn−Ag−Cu系、Sn−Ag−Bi系、Sn−Ag−Cu−Bi系、Sn−Zn−Bi系等を使用することができる。本発明ではPbフリーハンダが好ましい。融点が190〜250℃のものが好ましい。ハンダ付けは、フローソルダリング、リフローソルダリング、手ハンダ等の工法を用いて行うことができる。得られたハンダの電極部の厚さは一般に5〜500μm、特に10〜200μmの範囲が好ましい。得られる電極部の導電性は、1×10-6〜1×10-2Ω・cmの範囲が好ましい。 The solder is generally composed of Sn and Pb, and Pb-free solder, for example, Sn-Ag, Sn-Cu, Sn-Bi, Sn-Ag-Cu, Sn-Ag-Bi, Sn-Ag. -Cu-Bi system, Sn-Zn-Bi system, etc. can be used. In the present invention, Pb-free solder is preferable. Those having a melting point of 190 to 250 ° C are preferred. Soldering can be performed using methods such as flow soldering, reflow soldering, and hand soldering. The thickness of the electrode part of the obtained solder is generally 5 to 500 μm, and particularly preferably 10 to 200 μm. The conductivity of the obtained electrode part is preferably in the range of 1 × 10 −6 to 1 × 10 −2 Ω · cm.

導電性テープとしては、一般に金属箔であり、例えば、銅、銀、ニッケル、アルミニウム、ステンレス等の箔を用いることができ、その厚さは通常の場合、1〜100μmである。この導電性テープの厚さは通常の場合5〜100μmである。   The conductive tape is generally a metal foil, and for example, a foil of copper, silver, nickel, aluminum, stainless steel or the like can be used, and the thickness is usually 1 to 100 μm. The thickness of this conductive tape is usually 5 to 100 μm.

従来の粘着剤導電性粘着テープとしては、金属箔の一方の面に、導電性粒子を分散させた粘着層を設けたものであって、この粘着層には、アクリル系、ゴム系、シリコン系粘着剤や、エポキシ系、フェノール系樹脂に硬化剤を配合したものを用いることができる。   As a conventional adhesive conductive adhesive tape, an adhesive layer in which conductive particles are dispersed is provided on one surface of a metal foil, and this adhesive layer includes acrylic, rubber, silicon What mixed the hardening | curing agent with the adhesive, epoxy type, and phenol-type resin can be used.

本発明の透明粘着剤層は、本発明の光学フィルムをディスプレイに接着するための層であり、接着機能を有するものであればどのような樹脂でも使用することができる。例えば、ブチルアクリレート等から形成されたアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、SEBS(スチレン/エチレン/ブチレン/スチレン)及びSBS(スチレン/ブタジエン/スチレン)等の熱可塑性エラストマー(TPE)を主成分とするTPE系粘着剤及び接着剤等も用いることができる。   The transparent adhesive layer of the present invention is a layer for adhering the optical film of the present invention to a display, and any resin can be used as long as it has an adhesive function. For example, acrylic adhesives, rubber adhesives, SEBS (styrene / ethylene / butylene / styrene) and SBS (styrene / butadiene / styrene) and other thermoplastic elastomers (TPE) as main components TPE-based pressure-sensitive adhesives and adhesives can also be used.

その層厚は、一般に5〜500μm、特に10〜100μmの範囲が好ましい。光学フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板に加熱圧着することによる装備することができる。   The layer thickness is generally in the range of 5 to 500 μm, particularly 10 to 100 μm. In general, the optical filter can be equipped by heat-pressing the pressure-sensitive adhesive layer to a glass plate of a display.

本発明において透明フィルム2枚を使用する場合、これらの接着には、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、アクリル樹脂(例、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸エチル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体)、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−(メタ)アクリレート共重合体等のエチレン系共重合体を挙げることができる(なお、「(メタ)アクリル」は「アクリル又はメタクリル」を示す。)。その他、ポリビニルブチラール(PVB)樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ゴム系粘着剤、SEBS及びSBS等の熱可塑性エラストマー等も用いることができるが、良好な接着性が得られやすいのはアクリル樹脂系粘着剤、エポキシ樹脂である。   When two transparent films are used in the present invention, for example, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-methyl acrylate copolymer, acrylic resin (eg, ethylene- (meth) acrylic acid copolymer) Polymer, ethylene- (meth) ethyl acrylate copolymer, ethylene- (meth) methyl acrylate copolymer, metal ion crosslinked ethylene- (meth) acrylic acid copolymer), partially saponified ethylene-vinyl acetate copolymer Examples thereof include ethylene copolymers such as a polymer, a carboxylated ethylene-vinyl acetate copolymer, an ethylene- (meth) acryl-maleic anhydride copolymer, and an ethylene-vinyl acetate- (meth) acrylate copolymer. ("(Meth) acryl" means "acryl or methacryl"). In addition, polyvinyl butyral (PVB) resin, epoxy resin, phenol resin, silicon resin, polyester resin, urethane resin, rubber adhesive, thermoplastic elastomers such as SEBS and SBS can be used, but good adhesion Acrylic resin adhesives and epoxy resins are easily obtained.

その層厚は、一般に10〜50μm、好ましくは、20〜30μmの範囲が好ましい。光学フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板に加熱圧着することによる装備することができる。   The layer thickness is generally 10 to 50 μm, preferably 20 to 30 μm. In general, the optical filter can be equipped by heat-pressing the pressure-sensitive adhesive layer to a glass plate of a display.

上記透明粘着剤層の材料として、EVAも使用する場合、EVAとしては酢酸ビニル含有量が5〜50重量%、好ましくは15〜40重量%のものが使用される。酢酸ビニル含有量が5重量%より少ないと透明性に問題があり、また40重量%を超すと機械的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィルム相互のブロッキングが生じ易い。   When EVA is also used as the material for the transparent pressure-sensitive adhesive layer, EVA has a vinyl acetate content of 5 to 50% by weight, preferably 15 to 40% by weight. When the vinyl acetate content is less than 5% by weight, there is a problem in transparency, and when it exceeds 40% by weight, the mechanical properties are remarkably deteriorated and the film formation becomes difficult and the films are easily blocked.

架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯蔵安定性等を考慮して選ばれる。使用可能な過酸化物としては、例えば2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオキサイド;2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン−3;ジーt−ブチルパーオキサイド;t−ブチルクミルパーオキサイド;2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン;ジクミルパーオキサイド;α,α’−ビス(t−ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン;n−ブチル−4,4−ビス(t−ブチルパーオキシ)バレレート;2,2−ビス(t−ブチルパーオキシ)ブタン;1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン;1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン;t−ブチルパーオキシベンゾエート;ベンゾイルパーオキサイド;第3ブチルパーオキシアセテート;2,5−ジメチル−2,5−ビス(第3ブチルパーオキシ)ヘキシン−3;1,1−ビス(第3ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン;1,1−ビス(第3ブチルパーオキシ)シクロヘキサン;メチルエチルケトンパーオキサイド;2,5−ジメチルヘキシル−2,5−ビスパーオキシベンゾエート;第3ブチルハイドロパーオキサイド;p−メンタンハイドロパーオキサイド;p−クロルベンゾイルパーオキサイド;第3ブチルパーオキシイソブチレート;ヒドロキシヘプチルパーオキサイド;クロルヘキサノンパーオキサイド等を挙げることができる。これらの過酸化物は1種を単独で又は2種以上を混合して、通常EVA100重量部に対して、5質量部以下、好ましくは0.5〜5.0質量部の割合で使用される。   As the cross-linking agent, an organic peroxide is suitable for heat cross-linking and is selected in consideration of sheet processing temperature, cross-linking temperature, storage stability, and the like. Examples of peroxides that can be used include 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydroperoxide; 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane-3; -Butyl peroxide; t-butylcumyl peroxide; 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane; dicumyl peroxide; α, α'-bis (t-butylperoxyisopropyl) ) Benzene; n-butyl-4,4-bis (t-butylperoxy) valerate; 2,2-bis (t-butylperoxy) butane; 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane; , 1-bis (t-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane; t-butylperoxybenzoate; benzoyl peroxide; Luperoxyacetate; 2,5-dimethyl-2,5-bis (tertiarybutylperoxy) hexyne-3; 1,1-bis (tertiarybutylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane; 1-bis (tert-butylperoxy) cyclohexane; methyl ethyl ketone peroxide; 2,5-dimethylhexyl-2,5-bisperoxybenzoate; tert-butyl hydroperoxide; p-menthane hydroperoxide; p-chlorobenzoyl Peroxides; tertiary butyl peroxyisobutyrate; hydroxyheptyl peroxide; chlorohexanone peroxide. These peroxides are used singly or in combination of two or more, and are usually used at a ratio of 5 parts by mass or less, preferably 0.5 to 5.0 parts by mass with respect to 100 parts by weight of EVA. .

有機過酸化物は通常EVAに対し押出機、ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニルモノマー等に溶解し、EVAのフィルムに含浸法により添加しても良い。   The organic peroxide is usually kneaded with EVA using an extruder, a roll mill or the like, but may be dissolved in an organic solvent, a plasticizer, a vinyl monomer or the like and added to the EVA film by an impregnation method.

なお、EVAの物性(機械的強度、光学的特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など)改良のために、各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及びアリル基含有化合物を添加することができる。この目的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般的であり、エステル残基としてはメチル、エチル、ドデシル、ステアリル、ラウリル等のアルキル基の他、シクロヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチル基、2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピル基、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル基などが挙げられる。また、エチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールとのエステルを用いることもできる。アミドとしてはダイアセトンアクリルアミドが代表的である。   Various acryloxy group or methacryloxy group and allyl group-containing compounds can be added to improve EVA physical properties (mechanical strength, optical properties, adhesiveness, weather resistance, whitening resistance, crosslinking speed, etc.). . As the compound used for this purpose, acrylic acid or methacrylic acid derivatives, for example, esters and amides thereof are the most common. As the ester residue, in addition to alkyl groups such as methyl, ethyl, dodecyl, stearyl, lauryl, cyclohexyl groups , Tetrahydrofurfuryl group, aminoethyl group, 2-hydroxyethyl group, 3-hydroxypropyl group, 3-chloro-2-hydroxypropyl group and the like. Further, esters with polyfunctional alcohols such as ethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, trimethylolpropane, and pentaerythritol can also be used. A typical amide is diacetone acrylamide.

その例としては、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のアクリル又はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジアリル等のアリル基含有化合物が挙げられ、これらは1種を単独で或いは2種以上を混合して、通常EVA100質量部に対して0.1〜2質量部、好ましくは0.5〜5質量部用いられる。   Examples thereof include polyfunctional esters such as acrylic or methacrylic acid esters such as trimethylolpropane, pentaerythritol, glycerin, triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, diallyl phthalate, diallyl isophthalate, diallyl maleate, etc. Examples include allyl group-containing compounds. These are used alone or in combination of two or more, and are usually used in an amount of 0.1 to 2 parts by weight, preferably 0.5 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of EVA. .

EVAを光により架橋する場合、上記過酸化物の代りに光増感剤が通常EVA100質量部に対して5質量部以下、好ましくは0.1〜3.0質量部使用される。   When EVA is crosslinked by light, a photosensitizer is usually used in an amount of 5 parts by mass or less, preferably 0.1 to 3.0 parts by mass based on 100 parts by mass of EVA instead of the peroxide.

この場合、使用可能な光増感剤としては、例えばベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジベンジル、5−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシクロペンタジエン、p−ニトロジフェニル、p−ニトロアニリン、2,4,6−トリニトロアニリン、1,2−ベンズアントラキノン、3−メチル−1,3−ジアザ−1,9−ベンズアンスロンなどが挙げられ、これらは1種を単独で或いは2種以上を混合して用いることができる。   In this case, usable photosensitizers include, for example, benzoin, benzophenone, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, dibenzyl, 5-nitroacenaphthene, hexachlorocyclopentadiene, p-nitrodiphenyl. , P-nitroaniline, 2,4,6-trinitroaniline, 1,2-benzanthraquinone, 3-methyl-1,3-diaza-1,9-benzanthrone, and the like. Alternatively, two or more types can be mixed and used.

また、接着促進剤としてシランカップリング剤が併用される。このシランカップリング剤としては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。   Moreover, a silane coupling agent is used in combination as an adhesion promoter. As this silane coupling agent, vinyltriethoxysilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycid Xylpropyltriethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-chloropropylmethoxysilane, vinyltrichlorosilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N- β (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane and the like can be mentioned.

シランカップリング剤は、一般にEVA100質量部に対して0.001〜10質量部、好ましくは0.001〜5質量部の割合で1種又は2種以上が混合使用される。   The silane coupling agent is generally used in an amount of 0.001 to 10 parts by mass, preferably 0.001 to 5 parts by mass, based on 100 parts by mass of EVA, and one or more types are mixed and used.

なお、本発明に係るEVA接着層には、その他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいてもよく、また、場合によってはカーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の充填剤を少量含んでも良い。   In addition, the EVA adhesive layer according to the present invention may further contain a small amount of an ultraviolet absorber, an infrared absorber, an anti-aging agent, a coating processing aid, a colorant, and the like. A small amount of a filler such as hydrophobic silica or calcium carbonate may be included.

上記接着層は、例えばEVAと上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した後、カレンダー、ロール、Tダイ押出、インフレーション等の成膜法により所定の形状にシート成形することにより製造される。   For example, after the EVA and the above-mentioned additive are mixed and kneaded with an extruder, a roll or the like, the adhesive layer is formed into a predetermined shape by a film forming method such as a calendar, roll, T-die extrusion, or inflation. Manufactured by.

反射防止層上には、保護層を設けても良い。保護層は、前記ハードコート層と同様にして形成することが好ましい。   A protective layer may be provided on the antireflection layer. The protective layer is preferably formed in the same manner as the hard coat layer.

透明粘着剤層上に設けられる剥離シートの材料としては、ガラス転移温度が50℃以上の透明のポリマーが好ましく、このような材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン46、変性ナイロン6T、ナイロンMXD6、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等のポリマーを主成分とする樹脂を用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートが好適に用いることができる。厚さは10〜200μmが好ましく、特に30〜100μmが好ましい。   The material of the release sheet provided on the transparent adhesive layer is preferably a transparent polymer having a glass transition temperature of 50 ° C. or higher. Examples of such a material include polyesters such as polyethylene terephthalate, polycyclohexylene terephthalate, and polyethylene naphthalate. In addition to polyamide resins such as nylon resins, nylon 46, modified nylon 6T, nylon MXD6, polyphthalamide, ketone resins such as polyphenylene sulfide and polythioether sulfone, and sulfone resins such as polysulfone and polyether sulfone, Mainly composed of polymers such as polyether nitrile, polyarylate, polyether imide, polyamide imide, polycarbonate, polymethyl methacrylate, triacetyl cellulose, polystyrene, polyvinyl chloride That the resin can be used. Of these, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyvinyl chloride, polystyrene, and polyethylene terephthalate can be suitably used. The thickness is preferably 10 to 200 μm, particularly preferably 30 to 100 μm.

本発明の光学フィルタは、例えば、下記のように製造される。長尺状の透明フィルムの一方の表面に、導電層、ハードコート層及び反射防止層等を順次設け、次いで、透明フィルムの他方の表面に、近赤外線吸収層及び透明粘着剤層を設けることにより長尺状の積層体を製造する。各層の設置は、連続的に行っても、バッチで行っても良い。このようにして得られた長尺状の積層体を、幅方向に且つ水平に対して斜めに裁断することにより本発明の光学フィルタを得る。さらに、得られた矩形の光学フィルタの長手方向側面も斜めに裁断しても良い。   The optical filter of the present invention is manufactured as follows, for example. By sequentially providing a conductive layer, a hard coat layer, an antireflection layer, etc. on one surface of the long transparent film, and then providing a near-infrared absorbing layer and a transparent adhesive layer on the other surface of the transparent film A long laminate is produced. The installation of each layer may be performed continuously or in a batch. The long laminated body thus obtained is cut in the width direction and obliquely with respect to the horizontal to obtain the optical filter of the present invention. Further, the longitudinal side surface of the obtained rectangular optical filter may be cut obliquely.

長尺状の積層体を、幅方向に且つ水平に対して斜めに裁断する方法として、例えば、裁断機のカッターを斜め方向に落とす方法、裁断機のカッターとして斜面を形成できるような形状を有するものを使用する方法、等を挙げることができる。或いは、刃を斜めに設置したカッティングプロッタ、或いは超音波カッター又はレーザカッターを用いて、切断する方法も挙げることができる。長手方向の端面に斜面を形成する方法として、スリッターの角度を斜めにする方法もある。   As a method of cutting the long laminate in the width direction and obliquely with respect to the horizontal, for example, a method of dropping the cutter of the cutting machine in an oblique direction, and a shape that can form a slope as the cutter of the cutting machine The method of using a thing etc. can be mentioned. Or the method of cut | disconnecting using the cutting plotter which installed the blade diagonally, or an ultrasonic cutter or a laser cutter can also be mentioned. As a method of forming a slope on the end face in the longitudinal direction, there is a method of making the angle of the slitter oblique.

また長尺状の透明フィルムに、各層を塗工(塗布)する際に使用される塗工機としては、スリットダイ、リップダイレクト、リップリバース等使用することができる。また両面を同時に塗布する場合は、リップダイを両面に配置した両面同時塗工機が一般に使用される。   Moreover, as a coating machine used when applying (applying) each layer to a long transparent film, a slit die, a lip direct, a lip reverse, etc. can be used. When both surfaces are applied simultaneously, a double-sided simultaneous coating machine in which lip dies are arranged on both sides is generally used.

また長尺状の透明フィルムを2枚用いた場合は、一方の長尺状の透明フィルムの他方の表面に、ハードコート層及び反射防止層等を順次設け、別の長尺状の透明フィルムの一方表面に導電層、他の表面に近赤外線吸収層及び透明粘着剤層を設け(或いは近赤外線カットフィルムに透明粘着剤層を設けても良い)、これらの2枚の積層体を、前者の透明フィルムの裏面と後者の透明フィルムの導電層を、粘着剤層を介して対向させて、重ね合わさせ、一体化することにより容易に製造することができる。このようにして得られた長尺状の積層体を、上記のように裁断すればよい。   When two long transparent films are used, a hard coat layer and an antireflection layer are sequentially provided on the other surface of one long transparent film, and another long transparent film is formed. One surface is provided with a conductive layer, and the other surface is provided with a near-infrared absorbing layer and a transparent adhesive layer (or a near-infrared cut film may be provided with a transparent adhesive layer). The back surface of the transparent film and the conductive layer of the latter transparent film are opposed to each other via the pressure-sensitive adhesive layer, and can be easily manufactured by overlapping and integrating. What is necessary is just to cut | judge the elongate laminated body obtained in this way as mentioned above.

このようにして得られる本発明のディスプレイ用光学フィルタは、PDP等のディスプレイの画像表示ガラス板の表面に貼り合わされて使用される。   The display optical filter of the present invention thus obtained is used by being bonded to the surface of an image display glass plate of a display such as a PDP.

本発明のPDP表示装置は、透明基板としてプラスチックフィルムを使用しているので、本発明の光学フィルタをその表面であるガラス板表面に直接貼り合わせることができるため、特に透明フィルムを1枚使用した場合は、PDP自体の軽量化、薄型化、低コスト化に寄与できる。また、PDPの前面側に透明成形体からなる前面板を設置する場合に比べると、PDPとPDP用フィルタとの間に屈折率の低い空気層をなくすことができるため、界面反射による可視光反射率の増加、二重反射などの問題を解決でき、PDPの視認性をより向上させることができる。   Since the PDP display device of the present invention uses a plastic film as the transparent substrate, the optical filter of the present invention can be directly bonded to the surface of the glass plate, so that one transparent film is used. In this case, the PDP itself can contribute to weight reduction, thickness reduction, and cost reduction. Compared with the case where a front plate made of a transparent molded body is installed on the front side of the PDP, an air layer having a low refractive index can be eliminated between the PDP and the PDP filter, so that visible light reflection due to interface reflection can be achieved. Problems such as an increase in rate and double reflection can be solved, and the visibility of the PDP can be further improved.

従って、本発明の光学フィルタは、反射防止効果、帯電防止性に優れ、危険な電磁波の放射もほとんどなく、見やすく、ホコリ等が付きにくく、安全なディスプレイということができる。   Therefore, the optical filter of the present invention is excellent in antireflection effect and antistatic property, hardly emits dangerous electromagnetic waves, is easy to see, hardly has dust and the like, and can be said to be a safe display.

以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not limited to a following example.

[実施例1]
<電極部のないディスプレイ用光学フィルタの作製>
(1)メッシュ状導電層の形成
表面に易接着層(ポリエステルポリウレタン;厚さ20nm)を有する厚さ100μmの長尺状ポリエチレンテレフタレートフィルム(幅:600mm、長さ100m)の易接着層上に、ポリビニルアルコールの20%水溶液をドット状に印刷した。ドット1個の大きさは1辺が234μmの正方形状であり、ドット同士間の間隔は20μmであり、ドット配列は正方格子状である。印刷厚さは、乾燥後で約5μmである。
[Example 1]
<Preparation of optical filter for display without electrode part>
(1) Formation of mesh-like conductive layer On an easy-adhesion layer of a long polyethylene terephthalate film (width: 600 mm, length 100 m) having a thickness of 100 μm having an easy-adhesion layer (polyester polyurethane; thickness 20 nm) on the surface, A 20% aqueous solution of polyvinyl alcohol was printed in dots. The size of one dot is a square shape with one side of 234 μm, the interval between the dots is 20 μm, and the dot arrangement is a square lattice. The printing thickness is about 5 μm after drying.

その上に、銅を平均膜厚4μmとなるように真空蒸着した。次いで、常温の水に浸漬し、スポンジで擦ることによりドット部分を溶解除去し、次いで水でリンスした後、乾燥してポリエチレンフィルム上にメッシュ状導電層を形成した。   On top of that, copper was vacuum-deposited to an average film thickness of 4 μm. Next, it was immersed in water at room temperature and rubbed with a sponge to dissolve and remove the dot portion, then rinsed with water and dried to form a mesh-like conductive layer on the polyethylene film.

このフィルム表面の導電層は、正確にドットのネガパターンに対応した正方格子状のものであり、線幅は20μm、開口率は77%であった。また、導電層(銅層)の平均厚さは4μmであった。   The conductive layer on the film surface had a square lattice shape corresponding to the negative pattern of dots accurately, the line width was 20 μm, and the aperture ratio was 77%. The average thickness of the conductive layer (copper layer) was 4 μm.

(2)ハードコート層の形成
下記の配合:
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA) 80質量部
ITO(平均粒径150nm) 20質量部
メチルエチルケトン 100質量部
トルエン 100質量部
イルガキュア184(チバスペシャリティケミカル社製) 4質量部

を混合して得た塗工液を、上記メッシュ状導電層上にバーコータを用いて塗布し、紫外線照射により硬化させた。これにより、メッシュ状導電層上に厚さ11μmのハードコート層(屈折率1.52)を形成した。
(2) Formation of hard coat layer The following formulation:
Dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) 80 parts by mass ITO (average particle size 150 nm) 20 parts by mass Methyl ethyl ketone 100 parts by mass Toluene 100 parts by mass Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 4 parts by mass

A coating liquid obtained by mixing the above was applied onto the mesh-like conductive layer using a bar coater and cured by ultraviolet irradiation. Thereby, a 11 μm thick hard coat layer (refractive index 1.52) was formed on the mesh-like conductive layer.

(3)低屈折率層の形成
下記の配合:
オプスターJN―7212(JSR(株)製) 100質量部
メチルエチルケトン 117質量部
メチルイソブチルケトン 117質量部

を混合して得た塗工液を、上記ハードコート層上にバーコータを用いて塗布し、80℃のオーブン中で5分間乾燥させ、次いでその紫外線照射により硬化させた。これにより、ハードコート層上に厚さ90nmの低屈折率層(屈折率1.42)を形成した。
(3) Formation of low refractive index layer The following formulation:
Opstar JN-7212 (manufactured by JSR Corporation) 100 parts by weight Methyl ethyl ketone 117 parts by weight Methyl isobutyl ketone 117 parts by weight

The coating liquid obtained by mixing was applied on the hard coat layer using a bar coater, dried in an oven at 80 ° C. for 5 minutes, and then cured by ultraviolet irradiation. Thereby, a low refractive index layer (refractive index 1.42) having a thickness of 90 nm was formed on the hard coat layer.

(4)近赤外線吸収層(色調補正機能を有する)の形成
下記の配合:
ポリメチルメタクリレート 30質量部
TP−2(山田化学工業(株)製) 0.4質量部
Plast Red 8380(有本化学工業(株)製) 0.1質量部
CIR−1085(日本カーリット(株)製) 1.3質量部
IR−10A((株)日本触媒製) 0.6質量部
メチルエチルケトン 152質量部
メチルイソブチルケトン 18質量部
を混合して得た塗工液を、上記ポリエチレンフィルムの裏面にバーコータを用いて塗布し、80℃のオーブン中で5分間乾燥させた。これにより、ポリエチレンフィルム上に厚さ5μmの近赤外線吸収層(色調補正機能を有する)を形成した。
(4) Formation of near-infrared absorbing layer (having color tone correction function)
Polymethylmethacrylate 30 parts by mass TP-2 (manufactured by Yamada Chemical Co., Ltd.) 0.4 parts by mass Plast Red 8380 (manufactured by Arimoto Chemical Industry Co., Ltd.) 0.1 parts by mass CIR-1085 (Nippon Carlit Co., Ltd.) Manufactured) 1.3 parts by weight IR-10A (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) 0.6 parts by weight Methyl ethyl ketone 152 parts by weight Methyl isobutyl ketone 18 parts by weight of a coating solution obtained on the back of the polyethylene film It was applied using a bar coater and dried in an oven at 80 ° C. for 5 minutes. As a result, a near-infrared absorbing layer (having a color tone correcting function) having a thickness of 5 μm was formed on the polyethylene film.

(5)透明粘着剤層の形成
下記の配合:
SKダイン1811L(綜研化学(株)製) 100質量部
硬化剤L−45(綜研化学(株)製) 0.45質量部
トルエン 15質量部
酢酸エチル 4質量部
を混合して得た塗工液を、上記近赤外線吸収層上にバーコータを用いて塗布し、80℃のオーブン中で5分間乾燥させた。これにより、近赤外線吸収層上に厚さ25μmの透明粘着剤層を形成した。
(5) Formation of transparent adhesive layer The following formulation:
SK Dyne 1811L (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 100 parts by mass Curing agent L-45 (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 0.45 parts by mass Toluene 15 parts by mass Ethyl acetate 4 parts by mass Was coated on the near infrared absorbing layer using a bar coater and dried in an oven at 80 ° C. for 5 minutes. This formed a 25-micrometer-thick transparent adhesive layer on the near-infrared absorption layer.

これにより電極部のないディスプレイ用光学フィルタを得た。   Thus, an optical filter for display without an electrode part was obtained.

この長尺状の電極部のないディスプレイ用光学フィルタを、裁断機を用いて、裁断機のカッターを導電層の垂線に対して45度の角度で落として幅方向に裁断して、コンタクト電極として導電層の斜面端面を有するディスプレイ用光学フィルタ(電極部無し)を得た。   This optical filter for display without a long electrode part is cut in the width direction by dropping the cutter of the cutting machine at an angle of 45 degrees with respect to the normal of the conductive layer, using a cutting machine as a contact electrode. An optical filter for display (no electrode portion) having a sloped end surface of the conductive layer was obtained.

[実施例2]
ハードコート層と低屈折率層の間に、下記のように高屈折率層を設けた以外同様にして実施例1と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを得た。
[Example 2]
An optical filter for display was obtained in the same manner as in Example 1 except that a high refractive index layer was provided as described below between the hard coat layer and the low refractive index layer.

(6)高屈折率層の形成
下記の配合:
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA) 6質量部
ZnO(平均粒径4nm) 4質量部
メチルエチルケトン 100質量部
トルエン 100質量部
イルガキュア184(チバスペシャリティケミカル社製) 1質量部
を混合して得た塗工液を、上記ハードコート層上にバーコータを用いて塗布し、紫外線照射により硬化させた。これにより、ハードコート層上に厚さ90nmの高屈折率層(屈折率1.70)を形成した。
(6) Formation of high refractive index layer The following formulation:
Dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) 6 parts by weight ZnO (average particle size 4 nm) 4 parts by weight Methyl ethyl ketone 100 parts by weight Toluene 100 parts by weight Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) Was coated on the hard coat layer using a bar coater and cured by ultraviolet irradiation. As a result, a high refractive index layer (refractive index: 1.70) having a thickness of 90 nm was formed on the hard coat layer.

[実施例3及び4]
実施例1及び2で得た電極部のないディスプレイ用光学フィルタの四方の全端面に、Pbフリーハンダ(成分:Sn96.5%、Ag3%,Cu0.5%)を加熱(220℃)して、幅(厚さ)50μmのハンダの電極部を形成した。
[Examples 3 and 4]
Pb-free solder (components: Sn 96.5%, Ag 3%, Cu 0.5%) was heated (220 ° C.) on all four end faces of the display-use optical filter without electrodes obtained in Examples 1 and 2. A solder electrode portion having a width (thickness) of 50 μm was formed.

[実施例5及び6]
実施例1及び2で得た矩形の電極部のないディスプレイ用光学フィルタの四方の全端面に、導電材料含有接着剤(Ag−Cu粉末が分散したアクリル樹脂;商品名ドータイトFE−107;藤倉化成(株)製)を塗布し、60℃で1時間加熱し、幅(厚さ)50μmの導電材料含有接着剤の電極部を形成した。
[Examples 5 and 6]
Conductive material-containing adhesive (acrylic resin in which Ag-Cu powder is dispersed; trade name Doutite FE-107; Fujikura Kasei Co., Ltd.) on all four end faces of the optical filter for display having no rectangular electrode portion obtained in Examples 1 and 2. Co., Ltd.) was applied and heated at 60 ° C. for 1 hour to form an electrode part of a conductive material-containing adhesive having a width (thickness) of 50 μm.

[実施例7及び8]
実施例1及び2で得たディスプレイ用光学フィルタの両側の裁断面の縁部から内側に12mmの範囲が最上層表面に接し、外側に3mmが外側に突き出るように15mm(厚さ50μm)の導電性アルミテープを配置した。さらに、導電性アルミテープの下部に、裁断面に接するように導電性接着剤(Ag粉末が分散したポリエステル樹脂;商品名DW−250H−5;東洋紡(株)製)を塗布し、130℃で1時間加熱し、幅(厚さ)50μmの導電材料含有接着剤の電極部を形成した。
[Examples 7 and 8]
Conductiveness of 15 mm (thickness 50 μm) so that the range of 12 mm inward from the edge of the cut surface on both sides of the optical filter for display obtained in Examples 1 and 2 is in contact with the surface of the top layer and 3 mm protrudes outward. A flexible aluminum tape was placed. Furthermore, a conductive adhesive (polyester resin in which Ag powder is dispersed; trade name DW-250H-5; manufactured by Toyobo Co., Ltd.) is applied to the lower part of the conductive aluminum tape so as to be in contact with the cut surface. Heating was performed for 1 hour to form an electrode part of the conductive material-containing adhesive having a width (thickness) of 50 μm.

[実施例9]
実施例1において、(1)メッシュ状導電層の形成を下記のように行った以外は同様にして矩形の電極部のないディスプレイ用光学フィルタを得た。
[Example 9]
In Example 1, (1) A display optical filter without a rectangular electrode portion was obtained in the same manner except that the mesh-shaped conductive layer was formed as follows.

表面に接着層(ポリエステルポリウレタン;厚さ20nm)を有する厚さ100μmの長尺状ポリエチレンテレフタレートフィルム(幅:600mm、長さ100m)の接着層の全面に、厚さ10μmの銅箔を付着させた。この銅箔を、フォトリソグラフィー法によりドットパターンを形成して銅箔露出部分をエッチングし、格子パターンの銅箔(線径10μm、ピッチ250μm)を形成した。   A copper foil having a thickness of 10 μm was attached to the entire surface of the adhesive layer of a long polyethylene terephthalate film (width: 600 mm, length 100 m) having a thickness of 100 μm having an adhesive layer (polyester polyurethane; thickness 20 nm) on the surface. . A dot pattern was formed on this copper foil by a photolithography method, and the exposed portion of the copper foil was etched to form a copper foil having a lattice pattern (wire diameter: 10 μm, pitch: 250 μm).

このフィルム表面の導電層は線幅は10μm、開口率は90%であった。また、導電層(銅層)の平均厚さは10μmであった。   The conductive layer on the film surface had a line width of 10 μm and an aperture ratio of 90%. The average thickness of the conductive layer (copper layer) was 10 μm.

[実施例10]
ハードコート層と低屈折率層の間に、下記のように高屈折率層を設けた以外は実施例9と同様にして矩形の電極部のないディスプレイ用光学フィルタを得た。
[Example 10]
An optical filter for display without a rectangular electrode portion was obtained in the same manner as in Example 9 except that a high refractive index layer was provided as described below between the hard coat layer and the low refractive index layer.

(6)高屈折率層の形成
下記の配合:
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA) 6質量部
ZnO(平均粒径4nm) 4質量部
メチルエチルケトン 100質量部
トルエン 100質量部
イルガキュア184(チバスペシャリティケミカル社製) 1質量部
を混合して得た塗工液を、上記ハードコート層上にバーコータを用いて塗布し、紫外線照射により硬化させた。これにより、ハードコート層上に厚さ90nmの高屈折率層(屈折率1.70)を形成した。
(6) Formation of high refractive index layer The following formulation:
Dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) 6 parts by weight ZnO (average particle size 4 nm) 4 parts by weight Methyl ethyl ketone 100 parts by weight Toluene 100 parts by weight Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) Was coated on the hard coat layer using a bar coater and cured by ultraviolet irradiation. As a result, a high refractive index layer (refractive index: 1.70) having a thickness of 90 nm was formed on the hard coat layer.

[実施例11及び12]
実施例9及び10で得た電極部のないディスプレイ用光学フィルタの四方の全端面に、Pbフリーハンダ(成分:Sn96.5%、Ag3%,Cu0.5%)を加熱(220℃)して、幅(厚さ)50μmのハンダの第2電極部を形成した。
[Examples 11 and 12]
Pb-free solder (components: Sn 96.5%, Ag 3%, Cu 0.5%) was heated (220 ° C.) on all four end faces of the optical filter for display without electrodes obtained in Examples 9 and 10. A second electrode portion of solder having a width (thickness) of 50 μm was formed.

[実施例13及び14]
実施例9及び10で得た電極部のないディスプレイ用光学フィルタの四方の全端面に、導電性接着剤(Ag−Cu粉末が分散したアクリル樹脂;商品名ドータイトFE−107;藤倉化成(株)製)を塗布し、60℃で1時間加熱し、幅(厚さ)50μmの導電材料含有接着剤の第2電極部を形成した。
[Examples 13 and 14]
A conductive adhesive (acrylic resin in which Ag-Cu powder was dispersed; trade name Doutite FE-107; Fujikura Kasei Co., Ltd.) was formed on all four end faces of the optical filter for display without electrode part obtained in Examples 9 and 10. Manufactured) and heated at 60 ° C. for 1 hour to form a second electrode portion of a conductive material-containing adhesive having a width (thickness) of 50 μm.

[実施例15及び16]
実施例9及び10で得た電極部のないディスプレイ用光学フィルタの四方の全端面の縁部から内側に12mmの範囲が最上層表面に接し、外側に3mmが外側に突き出るように15mm(厚さ50μm)の導電性アルミテープを配置した。さらに、導電性アルミテープの下部に、裁断面に接するように導電性接着剤(Ag粉末が分散したポリエステル樹脂;商品名DW−250H−5;東洋紡(株)製)を塗布し、130℃で1時間加熱し、幅(厚さ)50μmの導電材料含有接着剤の第2電極部を形成した。
[Examples 15 and 16]
15 mm (thickness) so that the range of 12 mm inward from the edge of all four end faces of the optical filter for display without electrode part obtained in Examples 9 and 10 is in contact with the surface of the uppermost layer and 3 mm protrudes outward. 50 μm) conductive aluminum tape was placed. Further, a conductive adhesive (polyester resin in which Ag powder is dispersed; trade name DW-250H-5; manufactured by Toyobo Co., Ltd.) is applied to the lower part of the conductive aluminum tape so as to be in contact with the cut surface. Heating was performed for 1 hour to form a second electrode portion of the conductive material-containing adhesive having a width (thickness) of 50 μm.

得られたディスプレイ用光学フィルタを下記のように評価した。   The obtained optical filter for display was evaluated as follows.

[光学フィルタの評価]
(1)導電性
光学フィルタの電極(相対する2個の電極部)に抵抗計(商品名:ミリオームハイテスタ;日置電機(株)製)を接続して、抵抗値を測定した。
[Evaluation of optical filter]
(1) Conductivity A resistance meter (trade name: Milliohm Hitester; manufactured by Hioki Electric Co., Ltd.) was connected to the electrodes (two opposed electrode parts) of the optical filter, and the resistance value was measured.

上記結果を表1に示す。   The results are shown in Table 1.

Figure 2007233134
Figure 2007233134

また、実施例3〜8及び11〜16で得られたPDPフィルタは、実際にPDPに貼付しても透明性、電磁波遮蔽性等において、従来のものと遜色はなく、電極部設置については極めて容易に行うことができた。   In addition, the PDP filters obtained in Examples 3 to 8 and 11 to 16 are not inferior to conventional ones in terms of transparency, electromagnetic wave shielding properties, etc. even if they are actually attached to the PDP. It was easy to do.

本発明の光学フィルタの基本構成の1例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the basic composition of the optical filter of this invention. 本発明の光学フィルタの基本構成の別の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows another example of the basic composition of the optical filter of this invention. 本発明の光学フィルタにおける好ましい態様の1例の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of an example of the preferable aspect in the optical filter of this invention. 本発明の光学フィルタにおける、特に好ましい態様の1例の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of an example of the especially preferable aspect in the optical filter of this invention. 本発明の光学フィルタにおける、特に好ましい態様の別の1例の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of another example of the especially preferable aspect in the optical filter of this invention. 上記図5の本発明の光学フィルタの平面図である。It is a top view of the optical filter of the present invention of the above-mentioned FIG. 本発明の光学フィルタにおける、好ましい態様の別の1例の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of another example of a preferable aspect in the optical filter of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

11、21、41、31、51、61 ディスプレイ用光学フィルタ
12、22、32、42、51、62A、62B 透明フィルム
13、23、33、43、53、63 導電層
16、26、36、46、56、66 ハードコート層
17、27、37、47、57、67 反射防止層
14、24、34、44、54、64 近赤外線吸収層
15、25、35、45、55、65 透明粘着剤層
38、48、58、68 電極部
59、69 導電性テープ
11, 21, 41, 31, 51, 61 Display optical filter 12, 22, 32, 42, 51, 62A, 62B Transparent film 13, 23, 33, 43, 53, 63 Conductive layer 16, 26, 36, 46 , 56, 66 Hard coat layer 17, 27, 37, 47, 57, 67 Antireflection layer 14, 24, 34, 44, 54, 64 Near-infrared absorbing layer 15, 25, 35, 45, 55, 65 Transparent adhesive Layer 38, 48, 58, 68 Electrode 59, 69 Conductive tape

Claims (26)

少なくとも1枚の透明フィルムと、その上に設けられた導電層、ハードコート層及び近赤外線吸収層を含むディスプレイ用光学フィルタであって、
透明フィルム、導電層、ハードコート層及び近赤外線吸収層が、共に端面を形成するように積層されており、
そして、この積層体の少なくとも一部の端面における導電層端面が斜面であることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。
An optical filter for display comprising at least one transparent film, and a conductive layer, a hard coat layer and a near infrared absorption layer provided thereon,
A transparent film, a conductive layer, a hard coat layer, and a near-infrared absorbing layer are laminated together to form an end face,
An optical filter for display, wherein the end face of the conductive layer in at least a part of the end face of the laminate is a slope.
透明フィルムの一方の表面に導電層及びハードコート層がこの順で設けられ、他方の表面に近赤外線吸収層が設けられてなるディスプレイ用光学フィルタであって、
透明フィルム、導電層、ハードコート層及び近赤外線吸収層が、共に端面を形成するように積層されており、
そして、この積層体の少なくとも一部の端面における導電層端面が斜面であることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。
An optical filter for display in which a conductive layer and a hard coat layer are provided in this order on one surface of a transparent film, and a near-infrared absorbing layer is provided on the other surface,
A transparent film, a conductive layer, a hard coat layer, and a near-infrared absorbing layer are laminated together to form an end face,
An optical filter for display, wherein the end face of the conductive layer in at least a part of the end face of the laminate is a slope.
透明フィルムの一方の表面に導電層及び近赤外線吸収層がこの順で設けられ、他方の表面にハードコート層が設けられてなるディスプレイ用光学フィルタであって、
透明フィルム、導電層、ハードコート層及び近赤外線吸収層が、共に端面を形成するように積層されており、
そして、この積層体の少なくとも一部の端面における導電層端面が斜面であることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。
An optical filter for display in which a conductive layer and a near-infrared absorbing layer are provided in this order on one surface of a transparent film, and a hard coat layer is provided on the other surface,
A transparent film, a conductive layer, a hard coat layer, and a near-infrared absorbing layer are laminated together to form an end face,
An optical filter for display, wherein the end face of the conductive layer in at least a part of the end face of the laminate is a slope.
一方の表面にハードコート層が設けられた透明フィルムと、一方の表面に導電層が設けられた別の透明フィルムとの、2枚の透明フィルムが、前者の透明フィルムの裏面と後者の透明フィルムの導電層が粘着剤層を介して対向した状態で、接着されてなるディスプレイ用光学フィルタであって、
2枚の透明フィルム、導電層、及びハードコート層が、共に端面を形成するように積層されており、
そしてこの積層体の少なくとも一部の端面における導電層端面が斜面であることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。
Two transparent films, a transparent film provided with a hard coat layer on one surface and another transparent film provided with a conductive layer on one surface, are the back surface of the former transparent film and the latter transparent film. In the state where the conductive layer is opposed to the adhesive layer through the adhesive layer, the optical filter for display is bonded,
Two transparent films, a conductive layer, and a hard coat layer are laminated together to form an end face,
An optical filter for display, wherein an end face of the conductive layer in at least a part of the end face of the laminate is a slope.
透明フィルム、導電層、及びハードコート層の形状、或いは透明フィルム、導電層、ハードコート層及び近赤外線吸収層が、その形状及び面積において同一であり、且つ端面で面一となるように積層されている請求項1〜4のいずれか1項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。   The shape of the transparent film, the conductive layer, and the hard coat layer, or the transparent film, the conductive layer, the hard coat layer, and the near-infrared absorbing layer are laminated so as to be the same in shape and area and flush with the end face. The optical filter for display according to any one of claims 1 to 4. 透明フィルム、導電層及びハードコート層の形状、又は透明フィルム、導電層、ハードコート層及び近赤外線吸収層の形状が矩形である請求項1〜5のいずれか1項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。   The shape of the transparent film, the conductive layer and the hard coat layer, or the shape of the transparent film, the conductive layer, the hard coat layer and the near-infrared absorbing layer is rectangular. . 該斜面の角度が導電層の垂線に対して30〜60度である請求項1〜6のいずれか1項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。   The optical filter for display according to any one of claims 1 to 6, wherein an angle of the inclined surface is 30 to 60 degrees with respect to a perpendicular of the conductive layer. 積層体の各面一の端面が、端面全体において斜面である請求項1〜7のいずれか1項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。   The optical filter for display according to any one of claims 1 to 7, wherein an end surface of each surface of the laminate is a slope in the entire end surface. 少なくとも対向する2辺の端面が斜面である請求項6〜8のいずれか1項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。   The optical filter for display according to any one of claims 6 to 8, wherein at least two opposing end faces are inclined surfaces. 端面に露出した導電層の斜面に、導電材料含有接着剤又はハンダにより電極部が形成されている請求項1〜9のいずれか1項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。   The optical filter for a display according to any one of claims 1 to 9, wherein an electrode part is formed on a slope of the conductive layer exposed at the end face by a conductive material-containing adhesive or solder. ハードコート層又は近赤外線吸収層、或いはその上に設けられた最上層における矩形状表面の、少なくとも対向する2辺の端部領域に一部が突き出るように長尺状導電性テープが設けられ、その突き出た部分の少なくとも一部が斜面上の電極部に接着されている請求項10に記載のディスプレイ用光学フィルタ。   A long conductive tape is provided so that a part of the hard coat layer or near-infrared absorbing layer, or the rectangular surface of the uppermost layer provided thereon, protrudes at least at the end regions of the two sides facing each other, The optical filter for display according to claim 10, wherein at least a part of the protruding portion is bonded to the electrode portion on the slope. ハードコート層又はその上に設けられた最上層における少なくとも対向する2辺の端部領域に、長尺状導電性テープが、辺とテープの長手方向が平行となるように接着されている請求項11に記載のディスプレイ用光学フィルタ。   A long conductive tape is bonded to at least two opposite end regions of the hard coat layer or the uppermost layer provided thereon so that the sides and the longitudinal direction of the tape are parallel to each other. 11. An optical filter for display according to 11. ハードコート層を有する透明フィルムの裏面の全面に、近赤外線吸収層が設けられている請求項4に記載のディスプレイ用光学フィルタ。   The optical filter for display according to claim 4, wherein a near-infrared absorbing layer is provided on the entire back surface of the transparent film having a hard coat layer. 導電層を有する透明フィルムの裏面の全面に、近赤外線吸収層が設けられている請求項4に記載のディスプレイ用光学フィルタ。   The optical filter for display according to claim 4, wherein a near-infrared absorbing layer is provided on the entire back surface of the transparent film having a conductive layer. 導電層が、メッシュ状導電層である請求項1〜14のいずれか1項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。   The optical filter for display according to any one of claims 1 to 14, wherein the conductive layer is a mesh-like conductive layer. ハードコート層の上に、さらに低屈折率層が形成されている請求項1〜15のいずれか1項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。   The optical filter for display according to any one of claims 1 to 15, wherein a low refractive index layer is further formed on the hard coat layer. 近赤外線吸収層の透明フィルムと反対側の表面に透明粘着剤層が設けられている請求項1〜3及び5〜16のいずれか1項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。   The optical filter for a display according to any one of claims 1 to 3 and 5 to 16, wherein a transparent adhesive layer is provided on a surface of the near-infrared absorbing layer opposite to the transparent film. 近赤外線吸収層が粘着性を有する請求項1〜3及び5〜16のいずれか1項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。   The optical filter for display according to any one of claims 1 to 3 and 5 to 16, wherein the near-infrared absorbing layer has adhesiveness. メッシュ状導電層のメッシュの間隙にはハードコート層が埋め込まれている請求項15〜18のいずれか1項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。   The optical filter for display according to any one of claims 15 to 18, wherein a hard coat layer is embedded in the mesh gap of the mesh-like conductive layer. 透明フィルムがプラスチックフィルムである請求項1〜19のいずれか1項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。   The optical filter for display according to any one of claims 1 to 19, wherein the transparent film is a plastic film. 透明粘着剤層又は粘着性近赤外線吸収層の上に剥離シートが設けられている請求項17〜20のいずれか1項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。   21. The optical filter for display according to any one of claims 17 to 20, wherein a release sheet is provided on the transparent adhesive layer or the adhesive near-infrared absorbing layer. プラズマディスプレイパネル用フィルタである請求項1〜21のいずれか1項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。   It is a filter for plasma display panels, The optical filter for displays of any one of Claims 1-21. 長尺状透明フィルムのその幅方向一杯に、導電層を形成し、次いで導電層上にその幅方向一杯にハードコート層を形成し、その後長尺状透明フィルムの裏側にその幅方向一杯に近赤外線吸収層を形成することにより、導電層を有する積層体を形成し、さらに該積層体を幅方向に且つ水平面に対して斜めに裁断することを特徴とするディスプレイ用光学フィルタの製造方法。   A conductive layer is formed on the entire length of the long transparent film, and then a hard coat layer is formed on the conductive layer in the width direction. A method for producing an optical filter for display, comprising: forming a laminate having a conductive layer by forming an infrared absorbing layer; and further cutting the laminate in the width direction and obliquely with respect to a horizontal plane. 一方の表面にハードコート層がこの順で設けられた長尺状透明フィルムと、一方の表面に近赤外線吸収層が設けられ、他方の表面に導電層が設けられた別の透明フィルムとの、2枚の透明フィルムを、前者の長尺状透明フィルムの裏面と別の透明フィルムの導電層とが接着剤層を介して対向するようにして配置し、接着することにより積層体を形成し、さらに該積層体を幅方向に且つ水平面に対して斜めに裁断することを特徴とするディスプレイ用光学フィルタの製造方法。   A long transparent film in which a hard coat layer is provided in this order on one surface, and another transparent film in which a near infrared absorption layer is provided on one surface and a conductive layer is provided on the other surface, The two transparent films are arranged so that the back surface of the former long transparent film and the conductive layer of another transparent film face each other through the adhesive layer, and a laminate is formed by bonding, Furthermore, the laminated body is cut in the width direction and obliquely with respect to the horizontal plane. 請求項1〜22のいずれか1項に記載のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするディスプレイ。   23. A display, wherein the display optical filter according to claim 1 is bonded to a surface of an image display glass plate. 請求項1〜22のいずれか1項に記載のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
23. A plasma display panel, wherein the display optical filter according to claim 1 is bonded to a surface of an image display glass plate.
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