JP2007328060A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2007328060A5
JP2007328060A5 JP2006157873A JP2006157873A JP2007328060A5 JP 2007328060 A5 JP2007328060 A5 JP 2007328060A5 JP 2006157873 A JP2006157873 A JP 2006157873A JP 2006157873 A JP2006157873 A JP 2006157873A JP 2007328060 A5 JP2007328060 A5 JP 2007328060A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mass parts
sensitizer
preferable
moreover
respect
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2006157873A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2007328060A (ja
JP4725427B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2006157873A priority Critical patent/JP4725427B2/ja
Priority claimed from JP2006157873A external-priority patent/JP4725427B2/ja
Publication of JP2007328060A publication Critical patent/JP2007328060A/ja
Publication of JP2007328060A5 publication Critical patent/JP2007328060A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4725427B2 publication Critical patent/JP4725427B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2006157873A 2006-06-06 2006-06-06 パターン形成方法並びにそれに用いられる感放射線性樹脂組成物及び感放射線性酸発生基含有樹脂 Active JP4725427B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006157873A JP4725427B2 (ja) 2006-06-06 2006-06-06 パターン形成方法並びにそれに用いられる感放射線性樹脂組成物及び感放射線性酸発生基含有樹脂

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006157873A JP4725427B2 (ja) 2006-06-06 2006-06-06 パターン形成方法並びにそれに用いられる感放射線性樹脂組成物及び感放射線性酸発生基含有樹脂

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2007328060A JP2007328060A (ja) 2007-12-20
JP2007328060A5 true JP2007328060A5 (enExample) 2009-12-24
JP4725427B2 JP4725427B2 (ja) 2011-07-13

Family

ID=38928587

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006157873A Active JP4725427B2 (ja) 2006-06-06 2006-06-06 パターン形成方法並びにそれに用いられる感放射線性樹脂組成物及び感放射線性酸発生基含有樹脂

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4725427B2 (enExample)

Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5124806B2 (ja) * 2006-06-27 2013-01-23 信越化学工業株式会社 光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法
JP5124805B2 (ja) * 2006-06-27 2013-01-23 信越化学工業株式会社 光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法
EP2080774B1 (en) * 2006-11-10 2014-01-15 JSR Corporation Polymerizable sulfonic acid onium salt and resin
JP4849268B2 (ja) * 2007-10-18 2012-01-11 信越化学工業株式会社 レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法
US20100255420A1 (en) * 2007-10-29 2010-10-07 Jsr Corporation Radiation sensitive resin composition and polymer
JP5131482B2 (ja) * 2008-02-13 2013-01-30 信越化学工業株式会社 ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
JP4998746B2 (ja) 2008-04-24 2012-08-15 信越化学工業株式会社 スルホニウム塩を含む高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
JP5104535B2 (ja) * 2008-05-15 2012-12-19 Jsr株式会社 上層膜用組成物及びレジストパターン形成方法
JP5201363B2 (ja) * 2008-08-28 2013-06-05 信越化学工業株式会社 重合性アニオンを有するスルホニウム塩及び高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
TWI417274B (zh) * 2008-12-04 2013-12-01 Shinetsu Chemical Co 鹽、酸發生劑及使用其之抗蝕劑材料、空白光罩,及圖案形成方法
TWI485511B (zh) * 2009-03-27 2015-05-21 Jsr Corp 敏輻射線性樹脂組成物及聚合物
WO2010119910A1 (ja) * 2009-04-15 2010-10-21 Jsr株式会社 感放射線性樹脂組成物、それに用いる重合体及びそれに用いる化合物
KR20120012792A (ko) 2009-04-15 2012-02-10 제이에스알 가부시끼가이샤 감방사선성 수지 조성물, 이것에 이용하는 중합체 및 이것에 이용하는 화합물
JP5481979B2 (ja) * 2009-07-15 2014-04-23 Jsr株式会社 感放射線性樹脂組成物及びそれに用いられる重合体
JP5512431B2 (ja) * 2009-07-17 2014-06-04 住友化学株式会社 重合体、フォトレジスト組成物及びパターンの製造方法
WO2011070947A1 (ja) * 2009-12-08 2011-06-16 Jsr株式会社 感放射線性樹脂組成物、重合体、単量体及び感放射線性樹脂組成物の製造方法
JP5851688B2 (ja) * 2009-12-31 2016-02-03 ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーRohm and Haas Electronic Materials LLC 感光性組成物
JP5713004B2 (ja) * 2010-03-17 2015-05-07 Jsr株式会社 感放射線性樹脂組成物
JP2011215428A (ja) * 2010-03-31 2011-10-27 Jsr Corp 感放射線性樹脂組成物およびそれに用いる重合体
KR101184901B1 (ko) * 2010-06-10 2012-09-20 금호석유화학 주식회사 화합물, 이를 포함하는 중합체 및 상기 중합체를 포함하는 화학증폭형 레지스트 조성물
JP5572501B2 (ja) * 2010-09-24 2014-08-13 富士フイルム株式会社 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法
JP5365651B2 (ja) 2011-02-28 2013-12-11 信越化学工業株式会社 化学増幅ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法
JP2012056956A (ja) * 2011-11-01 2012-03-22 Shin-Etsu Chemical Co Ltd 新規スルホン酸塩及びその誘導体並びにそれらの製造方法
JP6346129B2 (ja) * 2015-08-05 2018-06-20 信越化学工業株式会社 化合物、高分子化合物、レジスト組成物、及びパターン形成方法
JP6298022B2 (ja) * 2015-08-05 2018-03-20 信越化学工業株式会社 高分子化合物、ポジ型レジスト組成物、積層体、及びレジストパターン形成方法
JP2022191163A (ja) * 2021-06-15 2022-12-27 信越化学工業株式会社 レジスト材料及びパターン形成方法
JP2025166441A (ja) * 2024-04-24 2025-11-06 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6326653A (ja) * 1986-07-21 1988-02-04 Tosoh Corp フオトレジスト材
JP3613491B2 (ja) * 1996-06-04 2005-01-26 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JPH10221852A (ja) * 1997-02-06 1998-08-21 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型感光性組成物
JP2983948B2 (ja) * 1997-02-20 1999-11-29 松下電器産業株式会社 パターン形成材料及びパターン形成方法
JP4105377B2 (ja) * 2000-10-03 2008-06-25 富士フイルム株式会社 平版印刷版用原版
JP2005067041A (ja) * 2003-08-25 2005-03-17 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷方法および機上現像用平版印刷原版
JP4425776B2 (ja) * 2004-12-24 2010-03-03 信越化学工業株式会社 レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2007328060A5 (enExample)
Cabada et al. Expression of the Lebesgue Δ-integral on time scales as a usual Lebesgue integral; application to the calculus of Δ-antiderivatives
Peltier et al. Recent knowledge and innovations related to hexofuranosides: structure, synthesis and applications
ES2566391T3 (es) Composiciones a base de hidrofluoroolefinas
WO2009129311A3 (en) Somatostatin receptor 2 antagonists
BRPI0710485A8 (pt) composições e métodos úteis para tratamento de doenças respiratórias
JP2011207901A5 (enExample)
JP2011505522A5 (enExample)
JP2009225798A5 (enExample)
CL2007001784A1 (es) Compuestos derivados de benzoxazol de formula la, su composicion farmaceutica, metodo para medir in vivo depositos de amoloide empleando dicha composicion, y uso del compuesto la para preparar un medicamento, y compuesto de formula ib, y su uso como precursor en la preparacion de un compuesto marcado.
MX2011010295A (es) Reactivos de radiomarcado y metodos.
EP2551266A4 (en) 2',2-dithiazol non-nucleoside compounds, preparation methods, pharmaceutical compositions and uses as hepatitis virus inhibitors thereof
JP2005162951A5 (enExample)
JP2008278122A5 (enExample)
RU2005114653A (ru) Способ получения 5-[орто-(пара-)-гидроксифенил]-1,3,5-дитиазинов
JP2009520819A5 (enExample)
JP2008308572A5 (enExample)
JP2009001771A5 (enExample)
JP2008036532A5 (enExample)
JP2010030903A5 (enExample)
JP2009509934A5 (enExample)
Christensen From Direct Public Use to Indirect Public Benefit: Kelo v. New London's Bridge from Rational Basis to Heightened Scrutiny for Eminent Domain Takings
RU2008145779A (ru) Система доставки для гигиенического средства
JP2005506988A5 (enExample)
Greiser et al. 27Al-1H and 27Al-29Si double resonance NMR of one-part geopolymers