JP2007316510A - Active matrix type display device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、例えば有機エレクトロルミネッセンス(以下、ELと称する)素子のような自己発光素子を含む表示画素をマトリクス状に配列して表示画面を構成したアクティブマトリクス型表示装置に関する。 The present invention relates to an active matrix display device in which a display screen is configured by arranging display pixels including self-luminous elements such as organic electroluminescence (hereinafter referred to as EL) elements in a matrix.
パーソナルコンピュータ、情報携帯端末あるいはテレビジョン等の表示装置として、平面型のアクティブマトリクス型表示装置が広く利用されている。近年、このような平面型のアクティブマトリクス型表示装置として、有機EL素子のような自己発光素子を用いた有機EL表示装置が注目され、盛んに研究開発が行われている。この有機EL表示装置は、薄型軽量化の妨げとなるバックライトを必要とせず、高速な応答性から動画再生に適し、さらに低温で輝度低下しないために寒冷地でも使用できるという特徴を備えている。 2. Description of the Related Art Planar active matrix display devices are widely used as display devices for personal computers, portable information terminals, and televisions. In recent years, as such a flat-type active matrix display device, an organic EL display device using a self-luminous element such as an organic EL element has attracted attention and has been actively researched and developed. This organic EL display device does not require a backlight that obstructs the reduction in thickness and weight, is suitable for moving image reproduction because of its high-speed response, and further has a feature that it can be used even in cold regions because the luminance does not decrease at low temperatures. .
一般に、有機EL表示装置は、複数行、複数列に並んで設けられ表示画面を構成した複数の表示画素、表示画素の各行に沿って延びた複数の走査線、表示画素の各列に沿って延びた複数の信号線、各走査線を駆動する走査線駆動回路、各信号線を駆動する信号線駆動回路等を備えている。各表示画素は自己発光素子である有機EL素子、およびこの有機EL素子に駆動電流を供給する画素回路により構成されている。 In general, an organic EL display device includes a plurality of display pixels arranged in a plurality of rows and a plurality of columns and constituting a display screen, a plurality of scanning lines extending along each row of display pixels, and a column of display pixels. A plurality of extended signal lines, a scanning line driving circuit for driving each scanning line, a signal line driving circuit for driving each signal line, and the like are provided. Each display pixel includes an organic EL element that is a self-light-emitting element and a pixel circuit that supplies a drive current to the organic EL element.
例えば、特許文献1に開示されているように、各画素回路は、有機EL素子に流れる電流のオン、オフ制御を行う出力スイッチ、有機EL素子に流す電流量を映像信号に基づいて制御する駆動トランジスタ、駆動トランジスタのゲート制御電圧を保持する保持容量、映像信号電流を画素回路に取り込む画素スイッチ、および、映像信号書き込み時に駆動トランジスタのゲートとドレインとを短絡させるスイッチを備えている。これらのスイッチおよび駆動トランジスタは、薄膜トランジスタ(以下、TFTと称する)により構成されている。 For example, as disclosed in Patent Document 1, each pixel circuit includes an output switch that performs on / off control of a current flowing through the organic EL element, and a drive that controls the amount of current flowing through the organic EL element based on a video signal. A transistor, a storage capacitor for holding the gate control voltage of the driving transistor, a pixel switch for taking in the video signal current into the pixel circuit, and a switch for short-circuiting the gate and drain of the driving transistor when writing the video signal are provided. These switches and drive transistors are constituted by thin film transistors (hereinafter referred to as TFTs).
映像信号電流の書き込み時、画素回路制御用の制御信号線電位をオンレベルに設定し、画素スイッチおよびスイッチをオンさせるとともに、EL発光制御用の制御信号線電位をオフレベルに設定し出力スイッチをオフさせる。これにより、映像信号電流が駆動トランジスタを流れる状態となり、駆動トランジスタのゲート電位は映像信号電流の電流量に応じた電位に設定される。その後、画素スイッチおよびスイッチをオフ状態とし、画素回路を映像信号配線と切り離す。この映像信号はゲート制御電圧として保持容量に書き込まれ所定期間保持される。続いて、出力スイッチをオン状態にすることで映像信号に応じた電流が駆動トランジスタおよび出力スイッチを経由して有機EL素子に供給され、有機EL素子を所望の輝度レベルで発光させる。
ところで上記のような画素回路において、通常、TFTで構成された画素スイッチはソース、ゲート間に形成された寄生容量Cgdを有している。この寄生容量Cgdの存在により、EL発光制御用の制御信号線がオフ電位からオン電位に切り替わる時に駆動トランジスタのゲート電位も変位する。この結果、映像信号電流量と異なる電流がELに流れることとなり低階調領域での階調再現性が劣る結果となる。 By the way, in the pixel circuit as described above, a pixel switch composed of a TFT usually has a parasitic capacitance Cgd formed between a source and a gate. Due to the presence of the parasitic capacitance Cgd, the gate potential of the driving transistor is also displaced when the control signal line for controlling the EL emission is switched from the off potential to the on potential. As a result, a current different from the video signal current amount flows to the EL, resulting in poor gradation reproducibility in the low gradation region.
この発明は以上の点に鑑みなされたもので、その目的は、映像信号電流量と自己発光素子に流れる電流量との偏差を低減でき、低階調領域での階調再現性が高いアクティブマトリックス型表示装置を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide an active matrix that can reduce the deviation between the amount of video signal current and the amount of current flowing through the self-light-emitting element and has high gradation reproducibility in a low gradation region. To provide a mold display device.
上記目的を達成するため、この発明の態様に係るアクティブマトリクス型表示装置は、 基板上にマトリクス状に配設された複数の画素部と、前記画素部の列毎に接続された複数の映像信号線と、それぞれ前記画素部の行毎に接続された複数の第1制御信号線および第2制御信号線と、を備え、各画素部は、低電位の第1電圧電源線と高電位の第2電圧電源線との間に接続され、供給電流に応じて発光する表示素子と、前記第2電圧電源線と前記表示素子との間に接続されゲート制御電圧に応じて前記表示素子に供給される電流量を制御する駆動トランジスタと、前記駆動トランジスタのドレインと前記表示素子との間に接続されているとともに、前記第1制御信号線からの制御信号によりオン、オフ制御される出力スイッチと、前記駆動トランジスタのゲート、ソース間に接続される保持容量と、を有し、前記駆動トランジスタのソース電極が該駆動トランジスタのゲート電極の少なくとも一部を覆っている。 In order to achieve the above object, an active matrix display device according to an aspect of the present invention includes a plurality of pixel portions arranged in a matrix on a substrate, and a plurality of video signals connected to each column of the pixel portions. And a plurality of first control signal lines and second control signal lines connected to each row of the pixel portion, and each pixel portion includes a low potential first voltage power line and a high potential first line. A display element connected between two voltage power supply lines and emitting light according to a supply current; and connected between the second voltage power supply line and the display element and supplied to the display element according to a gate control voltage. A drive transistor that controls the amount of current to be output; an output switch that is connected between the drain of the drive transistor and the display element and that is on / off controlled by a control signal from the first control signal line; Drive A gate of Njisuta, a storage capacitor connected between the source, the source electrode of the driving transistor is over at least a portion of the gate electrode of the driving transistor.
この発明によれば、映像信号電流量と自己発光素子に流れる電流量との偏差を低減でき、低階調領域での階調再現性が高いアクティブマトリックス型表示装置を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide an active matrix display device that can reduce the deviation between the amount of video signal current and the amount of current flowing through the self-light-emitting element and has high gradation reproducibility in a low gradation region.
以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態に係るアクティブマトリクス型表示装置について詳細に説明する。なお、以下には自己発光素子として有機ELを用いた有機EL表示装置を実施例として説明する。
図1に示すように、有機EL表示装置は、有機ELパネル10および有機ELパネル10を制御するコントローラ12を備えている。
Hereinafter, an active matrix display device according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Hereinafter, an organic EL display device using an organic EL as a self-luminous element will be described as an example.
As shown in FIG. 1, the organic EL display device includes an
有機ELパネル10は、ガラス板等の光透過性絶縁基板8上にマトリクス状に配列され表示領域11を構成したm×n個の表示画素PX、表示画素の行毎に接続されているとともにそれぞれ独立してn本ずつ設けられた書込制御線SG(1〜n)および発光制御線BG(1〜n)と、表示画素の列毎にそれぞれ接続されたm本の信号線X(1〜m)を有し、さらに書込制御線SG(1〜n)および発光制御線BG(1〜n)を表示画素の行毎に順次駆動する走査線駆動回路14、および複数の信号線X(1〜m)を駆動する信号線駆動回路15を備えている。
The
図1に示すコントローラ12は有機ELパネル10の外部に配置されたプリント回路基板上に形成され、走査線駆動回路14および信号線駆動回路15を制御する。コントローラ12は外部から供給されるデジタル映像信号および同期信号を受け取り、垂直走査タイミングを制御する垂直走査制御信号、および水平走査タイミングを制御する水平走査制御信号を同期信号に基づいて発生し、これら垂直走査制御信号および水平走査制御信号をそれぞれ走査線駆動回路14および信号線駆動回路15に供給すると共に、水平および垂直走査タイミングに同期してデジタル映像信号を信号線駆動回路15に供給する。
The
信号線駆動回路15は水平走査制御信号の制御により各水平走査期間において順次得られる映像信号Data1〜Datamをアナログ形式に変換し電流信号として複数の信号線X(1〜m)に並列的に供給する。走査線駆動回路14は、シフトレジスタ、出力バッファ等を含み、外部から供給される水平走査スタートパルスを順次次段に転送し、出力バッファを介して各行の表示画素PXに2種類の制御信号、すなわち、制御信号Sa、制御信号Sbを供給する。これにより、各書込制御線SG(1〜n)、発光制御線BG(1〜n)には、それぞれ制御信号Sa、制御信号Sbが供給され、SST、TCTおよびBCTが駆動される。
The signal
一方、各表示画素PXは、表示素子として、自己発光素子である有機EL素子16、およびこの有機EL素子に駆動電流を供給する画素回路18を有している。
図2に表示画素PXの等価回路を示す。図2に示す画素回路18は電流信号からなる映像信号に応じて有機EL素子16の発光を制御する電流信号方式の画素回路であり、画素スイッチSST(以下、SSTと称す)、駆動トランジスタDRT(以下、DRTと称す)、スイッチTCT(以下、TCTと称す)、出力スイッチBCT(以下、BCTと称す)、および保持容量Csを備えている。
SST、DRT、TCT、BCTは、同一導電型、例えばPチャネル型の薄膜トランジスタにより構成されている。
On the other hand, each display pixel PX includes an
FIG. 2 shows an equivalent circuit of the display pixel PX. A
SST, DRT, TCT, and BCT are composed of thin film transistors of the same conductivity type, for example, P-channel type.
DRT、BCT、および有機EL素子16は、高電位電源線Vddと低電位電源線Vssとの間で直列に接続されている。DRTのソースは高電位電源線Vddに接続されている。有機EL素子16は、一方の電極、ここでは陰極が低電位電源線Vssに接続されている。BCTは、ソースがDRTのドレインに、ドレインが有機EL素子16の陽極にそれぞれ接続され、更に、ゲートが発光制御線BGに接続されている。高電位電源線Vddと低電位電源線Vssは、例えば+6Vおよび−9Vの電位にそれぞれ設定される。
The DRT, BCT, and
DRTは、映像信号に応じた信号電流を有機EL素子16に出力する。BCTは、発光制御線BGからの制御信号によりオン(導通状態)、オフ(非導通状態)制御され、DRTと有機EL素子16との接続、非接続を制御する。
The DRT outputs a signal current corresponding to the video signal to the
保持容量Csは、DRTのソース、ゲート間に接続され、映像信号により決定されるDRTのゲート制御電位を保持する。保持容量Csは互いに平行に対向した一対の平板状の電極を有し、ここでは、DRTのゲート電極膜と、ポリシリコン層とにより平行平板容量として形成されている。 The holding capacitor Cs is connected between the source and gate of the DRT and holds the gate control potential of the DRT determined by the video signal. The storage capacitor Cs has a pair of flat electrodes opposed in parallel to each other. Here, the storage capacitor Cs is formed as a parallel plate capacitor by a DRT gate electrode film and a polysilicon layer.
SSTは、対応する信号線XとDRTのドレインとの間に接続され、そのゲートは書込制御線SGに接続されている。SSTは、書込制御線SGから供給される制御信号に応答してオン(導通状態)、オフ(非導通状態)制御され、対応信号線Xから映像信号を取り込む。 SST is connected between the corresponding signal line X and the drain of the DRT, and its gate is connected to the write control line SG. SST is turned on (conducting state) and off (non-conducting state) in response to a control signal supplied from the write control line SG, and takes in a video signal from the corresponding signal line X.
TCTは、DRTのドレイン、ゲート間に接続され、そのゲートが書込制御線SGに接続されている。TCTは、書込制御線SGからの制御信号に応じてオン(導通状態)、オフ(非導通状態)制御され、DRTのゲート、ドレイン間の接続、非接続を制御する。 TCT is connected between the drain and gate of the DRT, and the gate is connected to the write control line SG. TCT is controlled to be on (conductive state) and off (non-conductive state) in accordance with a control signal from the write control line SG, and controls connection / disconnection between the gate and drain of the DRT.
本実施形態において、画素回路18を構成する薄膜トランジスタは全て同一工程、同一層構造で形成され、半導体層にポリシリコンを用いたトップゲート構造の薄膜トランジスタである。全て同一の導電型の薄膜トランジスタで構成することにより、製造工数の増大を抑制することができる。
In this embodiment, all the thin film transistors constituting the
次に、画素回路18の動作について説明する。
映像信号電流の書込時においては、走査線駆動回路14は、発光制御線BGにオフ電位を設定してBCTを非導通状態とし、書込制御線SGにオン電位を設定してSSTとTCTを導通状態とする。そして信号線駆動回路15が、映像信号線Xより映像信号電流を流し、DRTのゲートソース間電圧を保持可能な保持容量Csに書き込む。これによって、DRTのゲート電位はこの電流量に応じた電位に設定される。
映像表示時においては、走査線駆動回路14は、書込制御線SGにオフ電位を設定してSSTとTCTを非導通状態とすることによって、画素回路18と映像信号線Xとを切り離すが、書き込まれた映像電流に対応したDRTのゲート電位は、保持容量Csによって保持されている。
次に走査線駆動回路14は、発光制御線BGにオン電位を設定してBCTを導通状態とする。そうすると、DRTのゲートソース間電圧に対応した発光電流が有機EL素子16に流れ、有機EL素子16は、発光電流に対応した輝度で発光する。
Next, the operation of the
At the time of writing the video signal current, the scanning line drive circuit 14 sets the OFF potential to the light emission control line BG to turn off the BCT, sets the ON potential to the write control line SG, and sets SST and TCT. Is made conductive. Then, the signal
At the time of video display, the scanning line drive circuit 14 disconnects the
Next, the scanning line driving circuit 14 sets an ON potential to the light emission control line BG to make the BCT conductive. Then, a light emission current corresponding to the gate-source voltage of the DRT flows to the
図3は、表示画素に採用可能な構造を概略的に示す平面図であり、図4は、DRTの構造を示す断面図である。本願発明は、DRTの構造に特徴を有している。
図3、図4を参照して、DRTの構成を詳細に説明する。
FIG. 3 is a plan view schematically showing a structure that can be employed in the display pixel, and FIG. 4 is a cross-sectional view showing the structure of the DRT. The present invention is characterized by the structure of the DRT.
The configuration of the DRT will be described in detail with reference to FIGS.
DRTを構成したPチャネル型の薄膜トランジスタは、絶縁基板8上に形成されたポリシリコンからなる半導体層50を備え、この半導体層はソース領域50a、ドレイン領域50b、およびソース、ドレイン領域間に位置したチャネル領域50cを有している。半導体層50に重ねてゲート絶縁膜52が形成され、このゲート絶縁膜上にゲート電極Gが設けられチャネル領域50cと対向している。ゲート電極Gに重ねて層間絶縁膜54が形成され、この層間絶縁膜上にソース電極Sおよびドレイン電極Dが設けられている。ここで、ソース電極Sは高電位電源線Vddと接続されて同電位となり、更にソース電極SはDRTのゲート電極Gをほぼ覆うように延在させたシールド電極SHを備えている。
ソース電極Sおよびドレイン電極Dは、それぞれ層間絶縁膜54およびゲート絶縁膜52に貫通形成されたコンタクトを介して半導体層50のソース領域50aおよびドレイン領域50bにそれぞれ接続されている。DRTのドレイン電極Dは、層間絶縁膜54上に形成された配線を介してBCTに接続されている。
A P-channel type thin film transistor that constitutes a DRT includes a
The source electrode S and the drain electrode D are respectively connected to the
層間絶縁膜54上には映像信号配線X、高電位電源線Vddを含む複数の配線が設けられている。また、層間絶縁膜54上にはソース電極S、シールド電極SH、ドレイン電極D、配線を覆って保護絶縁膜56が形成されている。保護絶縁膜56上には、平坦化層58、色分離層60が順に積層され、さらに有機EL素子16の陰極を構成する共通電極66が設けられている。
なお、SST、TCT、BCTを構成する各薄膜トランジスタも、シールド電極を備えていない点を除いて上記と同一の構造に形成されている。
A plurality of wirings including the video signal wiring X and the high potential power supply line Vdd are provided on the
Each thin film transistor constituting the SST, TCT, and BCT is also formed in the same structure as described above except that the shield electrode is not provided.
図5は、表示画素に採用可能な従来の構造を概略的に示す平面図であり、図6は、従来のDRTの構造を示す断面図である。図5、図6を参照しつつ従来の構造において問題が発生するメカニズムについて説明する。
従来の構造では、図5、図6に示すようにソース電極Sはゲート電極Gを覆うようなシールド電極SHを備えていない。
図6に示すように、DRTのゲート電極Gとドレイン50bとはほぼ近接して配置されているため、両者の間には、並行パターン間の寄生容量Cgdが存在する。
映像表示時では、上述のようにBCTを導通状態とする。この時、DRTのドレイン電極Dの電位は、書込み終了時の電位から有機EL素子16に所定の発光電流を流すためのダイオード電圧に対応する電位に変位する。寄生容量Cgdはこの電位の変位をDRTのゲート電極Gに伝えるため、ゲート電極Gの電位も変位する。この結果、映像信号電流量とは異なる電流が有機EL素子16に流れる。
TCT、DRTを共にPチャネル型のTFTで形成した場合は、ドレイン電極Dの電位はマイナス方向に変位し、ゲート電極Gの電位もマイナス方向に変位する。その結果、DRTを流れる電流は増加方向に変化するため、発光電流が増加して黒輝度の上昇を引き起こす。
FIG. 5 is a plan view schematically showing a conventional structure that can be employed in a display pixel, and FIG. 6 is a cross-sectional view showing the structure of a conventional DRT. A mechanism that causes a problem in the conventional structure will be described with reference to FIGS.
In the conventional structure, the source electrode S does not include the shield electrode SH that covers the gate electrode G, as shown in FIGS.
As shown in FIG. 6, since the gate electrode G and the
During video display, the BCT is turned on as described above. At this time, the potential of the drain electrode D of the DRT is shifted from the potential at the end of writing to a potential corresponding to a diode voltage for allowing a predetermined light emission current to flow through the
When both TCT and DRT are formed of P-channel TFTs, the potential of the drain electrode D is displaced in the minus direction, and the potential of the gate electrode G is also displaced in the minus direction. As a result, since the current flowing through the DRT changes in the increasing direction, the light emission current increases and causes an increase in black luminance.
これに対して、図3、図4に示すように、高電位電源線Vddと接続されて同電位となっているDRTのソース電極Sを延在して、DRTのゲート電極Gをほぼ覆うようなシールド電極SHを形成することで、寄生容量Cgdの影響を低減することができる。
即ち、このような構造をとることでDRTのゲート電極Gから発する電気力線の多くがその上部に配置されたDRTのシールド電極SHに終端するため、DRTのゲート電極Gとソース電極Sとの間の寄生容量Cgdが低減される。
On the other hand, as shown in FIGS. 3 and 4, the source electrode S of the DRT connected to the high potential power supply line Vdd and having the same potential is extended so as to almost cover the gate electrode G of the DRT. By forming a simple shield electrode SH, the influence of the parasitic capacitance Cgd can be reduced.
That is, by adopting such a structure, most of the lines of electric force generated from the gate electrode G of the DRT are terminated at the shield electrode SH of the DRT disposed above the DRT gate electrode G. The parasitic capacitance Cgd is reduced.
なお、このような構造によって、DRTのゲート50cとソース50aとの間の寄生容量は増加することになるが、ソース電極Sと接続する高電位電源線VddはDC電位であるため、DRTのゲート電位の変動を生じさせることは無い。
Such a structure increases the parasitic capacitance between the
ここで、有機EL素子16の陽極をBCTおよびPチャネル型のDRTを介して高電位電源線Vddに接続し、陰極を低電位電源線Vssに接続する場合について説明したが、陰極をBCTのドレインを介してDRTのドレインに、陽極を低電位電源線Vssに接続してもよい。いずれの場合も光出射面側を透明導電材料で形成する必要があり、例えば陰極を光出射面側に配置する場合には、アルカリ土類金属、希土類金属を光透過性を有する程度に薄く形成することで達成できる。
Here, the case where the anode of the
なお本実施の形態では、シールド電極SHがDRTのゲート電極をほぼ覆うようにしているが、ゲート電極Gの一部を覆うようにしても良い。一部を覆っても寄生容量Cgdの影響を低減することが可能となるからである。 In this embodiment, the shield electrode SH substantially covers the gate electrode of the DRT. However, the shield electrode SH may cover a part of the gate electrode G. This is because it is possible to reduce the influence of the parasitic capacitance Cgd even if a portion is covered.
なお本発明は、実施の形態に示す電流を映像信号とするアクティブマトリクス型表示装置に限られず、電圧を映像信号とするアクティブマトリクス型表示装置にも適用することが可能である。
図7は、本発明の他の実施の形態に係るアクティブマトリクス型表示装置の画素回路の等価回路図である。図8は、本発明の他の実施の形態に係るアクティブマトリクス型表示装置の画素回路の平面構成図である。なお、第1の実施の形態と同一の部位には同一の符号を付している。この電圧を映像信号とする画素回路は周知の回路であるためその詳細の構成及び動作の説明は省略する。
図8に示すように、高電位電源線Vddと接続しているDRTのソース電極Sが、DRTのゲート電極Gをほぼ覆うように延在してシールド電極SHを形成している。この構成によって、第1の実施の形態と同様に、寄生容量Cgdの影響を低減することができる。
Note that the present invention is not limited to the active matrix display device using the current as a video signal, and can also be applied to an active matrix display device using a voltage as a video signal.
FIG. 7 is an equivalent circuit diagram of a pixel circuit of an active matrix display device according to another embodiment of the present invention. FIG. 8 is a plan configuration diagram of a pixel circuit of an active matrix display device according to another embodiment of the present invention. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the site | part same as 1st Embodiment. Since the pixel circuit using this voltage as a video signal is a well-known circuit, its detailed configuration and operation will not be described.
As shown in FIG. 8, the source electrode S of the DRT connected to the high potential power supply line Vdd extends so as to substantially cover the gate electrode G of the DRT, thereby forming the shield electrode SH. With this configuration, the influence of the parasitic capacitance Cgd can be reduced as in the first embodiment.
以上説明した各実施の形態のアクティブマトリクス型表示装置では、DRTのゲート電極Gにほぼ重なるようにDRTのソース電極パターンを延在させることによりシールド構造を実現し、BCTがオンからオフに切り替わるときに生じるDRTのゲート電位変動の要因である寄生容量Cgdを低減している。 In the active matrix display device of each of the embodiments described above, the shield structure is realized by extending the source electrode pattern of the DRT so as to substantially overlap the gate electrode G of the DRT, and the BCT is switched from on to off. The parasitic capacitance Cgd, which is a cause of fluctuations in the DRT gate potential, is reduced.
なお本実施の形態では、シールド電極SHがDRTのゲート電極をほぼ覆うようにしているが、ゲート電極Gの一部を覆うようにしても良い。一部を覆っても寄生容量Cgdの影響を低減することが可能となるからである。 In this embodiment, the shield electrode SH substantially covers the gate electrode of the DRT. However, the shield electrode SH may cover a part of the gate electrode G. This is because it is possible to reduce the influence of the parasitic capacitance Cgd even if a portion is covered.
その他、本発明は前述した実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化することできる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。 In addition, the present invention is not limited to the above-described embodiments as they are, and can be embodied by modifying the constituent elements without departing from the scope of the invention in the implementation stage. In addition, various inventions can be formed by appropriately combining a plurality of components disclosed in the embodiment. For example, some components may be deleted from all the components shown in the embodiment. Furthermore, constituent elements over different embodiments may be appropriately combined.
前述した実施形態では、画素回路を構成する薄膜トランジスタを全て同一の導電型、ここではPチャネル型で構成する場合について説明したが、これに限定されず、全てをNチャネル型の薄膜トランジスタで構成することも可能である。また、画素スイッチ、スイッチをNチャネル型の薄膜トランジスタ、駆動トランジスタおよび出力スイッチをPチャネル型の薄膜トランジスタでそれぞれ構成するなど、画素回路を異なる導電型の薄膜トランジスタを混在して形成することも可能である。 In the above-described embodiment, the case where all the thin film transistors constituting the pixel circuit are formed of the same conductivity type, here, the P channel type is described. However, the present invention is not limited to this, and all the thin film transistors are formed of N channel type thin film transistors. Is also possible. It is also possible to form pixel circuits in a mixture of thin film transistors of different conductivity types, such as pixel switches and switches composed of N-channel thin film transistors, and drive transistors and output switches composed of P-channel thin film transistors.
更に、薄膜トランジスタの半導体層は、ポリシリコンに限らず、アモルファスシリコンで構成することも可能である。表示画素を構成する自己発光素子は、有機EL素子に限定されず自己発光可能な様々な発光素子を適用可能である。 Furthermore, the semiconductor layer of the thin film transistor is not limited to polysilicon, but may be composed of amorphous silicon. The self-light-emitting elements constituting the display pixel are not limited to organic EL elements, and various light-emitting elements capable of self-light emission are applicable.
12…コントローラ、14…走査線駆動回路、15…信号線駆動回路、16…有機EL素子、18…画素回路、50a…ソース、50b…ドレイン、50c…ゲート、SST…画素スイッチ、DRT…駆動トランジスタ、TCT…スイッチ、BCT…出力スイッチ、X…映像信号線、BG…発光制御線、SG…書込制御線、CG…キャンセル制御線、S…ソース電極、G…ゲート電極、D…ドレイン電極、SH…シールド電極、PX…表示画素、Cs…保持容量、Cgd…寄生容量、Vdd…高電位電源線、Vss…低電位電源線、X…映像信号線。
DESCRIPTION OF
Claims (4)
前記画素部の列毎に接続された複数の映像信号線と、
それぞれ前記画素部の行毎に接続された複数の第1制御信号線および第2制御信号線と、を備え、
各画素部は、低電位の第1電圧電源線と高電位の第2電圧電源線との間に接続され、供給電流に応じて発光する表示素子と、前記第2電圧電源線と前記表示素子との間に接続されゲート制御電圧に応じて前記表示素子に供給される電流量を制御する駆動トランジスタと、前記駆動トランジスタのドレインと前記表示素子との間に接続されているとともに、前記第1制御信号線からの制御信号によりオン、オフ制御される出力スイッチと、前記駆動トランジスタのゲート、ソース間に接続される保持容量と、を有し、
前記駆動トランジスタのソース電極が該駆動トランジスタのゲート電極の少なくとも一部を覆っていることを特徴とするアクティブマトリクス型表示装置。 A plurality of pixel portions arranged in a matrix on the substrate;
A plurality of video signal lines connected to each column of the pixel portion;
A plurality of first control signal lines and second control signal lines connected to each row of the pixel portion,
Each pixel unit is connected between a low potential first voltage power supply line and a high potential second voltage power supply line, and emits light in response to a supply current; the second voltage power supply line and the display element A drive transistor for controlling the amount of current supplied to the display element in accordance with a gate control voltage, a drain of the drive transistor and the display element, and the first transistor An output switch that is turned on and off by a control signal from a control signal line, and a storage capacitor connected between the gate and source of the drive transistor,
An active matrix display device, wherein a source electrode of the driving transistor covers at least a part of a gate electrode of the driving transistor.
各画素部は、一方の電極が前記駆動トランジスタのゲートに接続された書込容量と、トランジスタにより形成され前記書込容量の他方の電極と前記映像信号線との間に接続されているとともに、前記第2制御信号線からの制御信号によりオン、オフ制御され前記映像信号線からの映像信号を前記画素部に取り込む画素スイッチと、前記駆動トランジスタのゲート、ドレイン間に接続されているとともに、前記第3制御信号線からの制御信号によりオン、オフ制御されるスイッチとを更に有することを特徴とする請求項1又は2に記載のアクティブマトリクス型表示装置。 A plurality of third control signal lines connected to each row of the pixel portion,
Each pixel portion has one electrode connected between the write capacitor connected to the gate of the drive transistor and the other electrode of the write capacitor formed by the transistor and the video signal line. A pixel switch that is on / off controlled by a control signal from the second control signal line and that takes in a video signal from the video signal line to the pixel unit, and is connected between the gate and drain of the driving transistor, and The active matrix display device according to claim 1, further comprising a switch that is on / off controlled by a control signal from a third control signal line.
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