JP2007316305A - 反射型液晶表示素子とその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】反射電極51は、第3層間膜29上に形成されたチタン膜による反射電極チタン511と、反射電極チタン511上に形成されたアルミニウム膜である反射電極アルミ512とで構成されている。反射電極アルミ512の側壁は反射電極チタン511の側壁よりも水平方向に後退している。また、反射電極アルミ512の間隙b内の側壁のみに、間隙形成用酸化膜513によるサイドウォールが形成されており、反射電極チタン511の側壁にはサイドウォールは形成されていない。これにより、反射電極面積が大きくなるため反射率が向上し、プロジェクタとしての明るさやコントラストが向上する。
【選択図】図2
Description
d:反射電極アルミの高さ
λ:入射する光の波長
従って、入射する光の波長が550nmの緑色光の場合、G光用の反射型液晶表示素子の反射電極チタン(図2の511、図5の511G)の高さと反射電極アルミ(図2の512、図5の512G)の高さの差を275nm、550nm、825nm、・・・のいずれかに設定することにより、互いの表面で反射された光は、互いに干渉して強め合い、光の反射率が向上する。
2 水平シフトレジスタ回路
3 垂直シフトレジスタ回路
10 画素トランジスタ
11 保持容量
12 対向電極(共通電極)
13、51 反射電極(画素電極)
28 第1金属遮光膜(第2メタル)
29 第3層間膜
32 液晶
53 開口部
54、513 間隙形成用酸化膜
511、511G、511B 反射電極チタン
512、512R、512G、512B 反射電極アルミ
Claims (5)
- 入射する光を反射する反射電極と、該反射電極に接続されたスイッチング用画素トランジスタと、該画素トランジスタに接続された保持容量とからなる画素が、複数規則的に第1の基板上に配列されており、前記反射電極と前記画素トランジスタとの間には絶縁膜を介して遮光膜が形成されると共に、前記第1の基板上の複数の反射電極に共通して対向するように対向電極が透明な第2の基板上に形成され、前記第1及び第2の基板の間には液晶が封入されており、前記複数の画素トランジスタを順次駆動して、その画素トランジスタに接続された前記保持容量に映像信号を電荷として保持させることで、その画素トランジスタに接続された反射電極と前記対向電極との間の前記液晶の配向を反射電極単位で制御し、前記第2の基板上の前記対向電極及び前記液晶を透過して前記反射電極に入射して反射し、前記液晶及び前記対向電極を透過して外部へ出射する光を前記反射電極単位で変調する反射型液晶表示素子において、
前記反射電極は、
平面形状が一画素の大きさに対応した矩形形状に形成された第1の導電膜と、
前記第1の導電膜に対して光入射側に積層されており、該第1の導電膜と反射率が異なり、かつ、該第1の導電膜の矩形領域内に形成された平面形状が矩形形状の第2の導電膜と
より構成されていることを特徴とする反射型液晶表示素子。 - 各画素の前記第1の導電膜は、前記第2の導電膜よりも大なる面積の矩形形状に形成されており、前記第1の導電膜と前記第2の導電膜は、その外周部において段差が形成されていることを特徴とする請求項1記載の反射型液晶表示素子。
- 前記段差が形成されている前記第1及び第2の導電膜は、前記第1の導電膜の高さと前記第2の導電膜の高さとの差が、前記反射電極に入射する光と前記反射電極で反射された光とが互いに干渉し、光が強め合う値に設定されていることを特徴とする請求項2記載の反射型液晶表示素子。
- 入射する光を反射する反射電極と、該反射電極に接続されたスイッチング用画素トランジスタと、該画素トランジスタに接続された保持容量とからなる画素が、複数規則的に第1の基板上に配列されており、前記反射電極と前記画素トランジスタとの間には絶縁膜を介して遮光膜が形成されると共に、前記第1の基板上の複数の反射電極に共通して対向するように対向電極が透明な第2の基板上に形成され、前記第1及び第2の基板の間には液晶が封入されており、前記複数の画素トランジスタを順次駆動して、その画素トランジスタに接続された前記保持容量に映像信号を電荷として保持させることで、その画素トランジスタに接続された反射電極と前記対向電極との間の前記液晶の配向を反射電極単位で制御し、前記第2の基板上の前記対向電極及び前記液晶を透過して前記反射電極に入射して反射し、前記液晶及び前記対向電極を透過して外部へ出射する光を前記反射電極単位で変調する反射型液晶表示素子の製造方法において、
前記第1の基板上に形成された前記遮光膜の上方に、前記反射電極を構成する互いに反射率が異なる第1の導電膜と第2の導電膜とを順次に積層する第1のステップと、
前記第2の導電膜をパターニングとエッチングにより、複数の前記画素に対応した複数の矩形形状に規則的に形成する第2のステップと、
前記第2のステップを経た前記第1の導電膜及び第2の導電膜の上に間隙形成用絶縁膜を被覆形成する第3のステップと、
前記間隙形成用絶縁膜をエッチバックすると共に、前記第2の導電膜をエッチングストッパとして終点検出を行い、終点検出後、前記第1の導電膜の膜厚分をエッチングするだけの時間をオーバーエッチングすることにより、前記間隙形成用絶縁膜及び前記第1の導電膜を同時にエッチングする第4のステップと
を含み、前記第4のステップにより、前記第2の導電膜の側壁に前記間隙形成用絶縁膜によるサイドウォールを形成すると共に、前記第1の導電膜に複数の前記画素に対応した複数の矩形形状とする間隙を形成することを特徴とする液晶表示素子の製造方法。 - 入射する光を反射する反射電極と、該反射電極に接続されたスイッチング用画素トランジスタと、該画素トランジスタに接続された保持容量とからなる画素が、複数規則的に第1の基板上に配列されており、前記反射電極と前記画素トランジスタとの間には絶縁膜を介して遮光膜が形成されると共に、前記第1の基板上の複数の反射電極に共通して対向するように対向電極が透明な第2の基板上に形成され、前記第1及び第2の基板の間には液晶が封入されており、前記複数の画素トランジスタを順次駆動して、その画素トランジスタに接続された前記保持容量に映像信号を電荷として保持させることで、その画素トランジスタに接続された反射電極と前記対向電極との間の前記液晶の配向を反射電極単位で制御し、前記第2の基板上の前記対向電極及び前記液晶を透過して前記反射電極に入射して反射し、前記液晶及び前記対向電極を透過して外部へ出射する光を前記反射電極単位で変調する反射型液晶表示素子の製造方法において、
前記第1の基板上に形成された前記遮光膜の上方に、前記反射電極を構成する互いに反射率が異なる第1の導電膜と第2の導電膜とを順次に積層する第1のステップと、
前記第2の導電膜をパターニングとエッチングにより、複数の前記画素に対応した複数の矩形形状に規則的に形成する第2のステップと、
前記第2のステップを経た前記第1の導電膜及び第2の導電膜の上に間隙形成用絶縁膜を被覆形成する第3のステップと、
前記間隙形成用絶縁膜をエッチバックして前記第2の導電膜の側壁に前記間隙形成用絶縁膜によるサイドウォールを形成する第4のステップと、
前記第2の導電膜及び前記サイドウォールをマスクとして前記第1の導電膜をエッチングし、セルフアラインにて反射電極間隙を形成する第5のステップと
を含むことを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
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