JP2007293966A - 記録マーク保存安定性に優れたGeSb系相変化型記録膜およびこのGeSb系相変化型記録膜を形成するためのスパッタリングターゲット - Google Patents
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Abstract
【課題】CDやDVDなど各種相変化型記録媒体に使用される記録マーク保存安定性に優れたGeSb系相変化型記録膜およびそのGeSb系相変化型記録膜を形成するためのスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】原子%でGe:3〜14%未満、In:1〜10%、Bi:1〜10%、Ga:1〜10%を含有し、残部がSbおよび不可避不純物からなる組成を有する記録マーク保存安定性に優れたGeSb系相変化型記録膜、並びに前記GeSb系相変化型記録膜の成分組成と同じ成分組成を有するスパッタリングターゲット。
【選択図】なし
【解決手段】原子%でGe:3〜14%未満、In:1〜10%、Bi:1〜10%、Ga:1〜10%を含有し、残部がSbおよび不可避不純物からなる組成を有する記録マーク保存安定性に優れたGeSb系相変化型記録膜、並びに前記GeSb系相変化型記録膜の成分組成と同じ成分組成を有するスパッタリングターゲット。
【選択図】なし
Description
この発明は、CDやDVDなど各種相変化型記録媒体に使用される記録マーク保存安定性に優れたGeSb系相変化型記録膜およびそのGeSb系相変化型記録膜を形成するためのスパッタリングターゲットに関するものである。
光ビーム照射による非晶質相と結晶相との可逆的な相変化を利用して情報の記録、再生および消去を行うCDやDVDなどの記録媒体において用いられる記録膜として、Inを含むGeSb系相変化型記録膜、例えば、(SbxGe1−x)Iny(ただし、0.65≦x≦0.95、0<y≦0.2)の成分組成を有する記録膜(特許文献1参照)や(SbxGe1−x)Iny(ただし、0.01≦x≦0.25、0.05≦y≦0.40)の成分組成を有する記録膜(特許文献2参照)などが知られている。
特開2001−39031号公報
特開2002−347341号公報
しかし、これら従来のInを含む記録膜は高速での書き換え(オーバーライト)が可能であるもののアモルファスの安定性が低く、したがって、記録マークを長期間安定して保持することができないためにデータを長期間保存することができないという欠点があった。
そこで、本発明者らは、より一層記録マークの保存安定性に優れた相変化型記録膜を得るべく研究を行なった結果、
原子%で(以下、%は原子%を示す)Ge:3〜14%未満を含有し、さらにIn、BiおよびGaをIn:1〜10%、Bi:1〜10%、Ga:1〜10%の範囲内で同時に含有し、残部がSbおよび不可避不純物からなるように成分組成を調整したGeSb共晶系相変化型記録膜は、従来のInを含むGeSb共晶系相変化型記録膜に比べてアモルファスの安定性が優れ、したがって記録マークを一層長期間安定して保存することができる、という研究結果が得られたのである。
原子%で(以下、%は原子%を示す)Ge:3〜14%未満を含有し、さらにIn、BiおよびGaをIn:1〜10%、Bi:1〜10%、Ga:1〜10%の範囲内で同時に含有し、残部がSbおよび不可避不純物からなるように成分組成を調整したGeSb共晶系相変化型記録膜は、従来のInを含むGeSb共晶系相変化型記録膜に比べてアモルファスの安定性が優れ、したがって記録マークを一層長期間安定して保存することができる、という研究結果が得られたのである。
この発明は、かかる研究結果に基づいて成されたものであって、
(1)Ge:3〜14%未満、In:1〜10%、Bi:1〜10%、Ga:1〜10%を含有し、残部がSbおよび不可避不純物からなる組成を有する記録マーク保存安定性に優れたGeSb系相変化型記録膜、に特徴を有するものである。
(1)Ge:3〜14%未満、In:1〜10%、Bi:1〜10%、Ga:1〜10%を含有し、残部がSbおよび不可避不純物からなる組成を有する記録マーク保存安定性に優れたGeSb系相変化型記録膜、に特徴を有するものである。
前記(1)記載のGeSb系相変化型記録膜は、前記(1)記載のGeSb系相変化型記録膜の成分組成と同じ成分組成を有するターゲットを用い、スパッタリングすることにより得られる。したがって、この発明は、
(2)Ge:3〜14%未満、In:1〜10%、Bi:1〜10%、Ga:1〜10%を含有し、残部がSbおよび不可避不純物からなる組成を有する前記(1)記載の記録マーク保存安定性に優れたGeSb系相変化型記録膜を形成するためのスパッタリングターゲット、に特徴を有するものである。
(2)Ge:3〜14%未満、In:1〜10%、Bi:1〜10%、Ga:1〜10%を含有し、残部がSbおよび不可避不純物からなる組成を有する前記(1)記載の記録マーク保存安定性に優れたGeSb系相変化型記録膜を形成するためのスパッタリングターゲット、に特徴を有するものである。
この発明の記録マーク保存安定性に優れたGeSb系相変化型記録膜およびそのGeSb系相変化型記録膜を形成するためのターゲットの成分組成を前述のごとく限定した理由を説明する。
(a) Ge
この発明の記録マーク保存安定性に優れたGeSb系相変化型記録膜に含まれるGeを3〜14%未満に限定したのは、Geの含有量が3%未満では結晶化温度が低くなり過ぎるので好ましくなく、一方、Ge:14%以上となると、結晶化温度が高くなり過ぎて結晶化が困難になるので好ましくないことによるものである。
この発明の記録マーク保存安定性に優れたGeSb系相変化型記録膜に含まれるGeを3〜14%未満に限定したのは、Geの含有量が3%未満では結晶化温度が低くなり過ぎるので好ましくなく、一方、Ge:14%以上となると、結晶化温度が高くなり過ぎて結晶化が困難になるので好ましくないことによるものである。
(b) In
In成分は、GeSb系相変化型記録膜の融点を下げ、結晶化速度を高めるために添加するが、In成分を1%未満添加しても膜の結晶化速度を上げる効果が薄いので好ましくなく、一方、10%を越えて含有させるとGeSb系相変化型記録膜の融点が低くなりすぎて記録膜が変質しやすくなるので好ましくない。したがって、この発明のGeSb系相変化型記録膜に含まれるInを1〜10%に定めた。
In成分は、GeSb系相変化型記録膜の融点を下げ、結晶化速度を高めるために添加するが、In成分を1%未満添加しても膜の結晶化速度を上げる効果が薄いので好ましくなく、一方、10%を越えて含有させるとGeSb系相変化型記録膜の融点が低くなりすぎて記録膜が変質しやすくなるので好ましくない。したがって、この発明のGeSb系相変化型記録膜に含まれるInを1〜10%に定めた。
(c) Bi
Bi成分は、記録マークの保存安定性を向上させるために添加するが、Bi成分を1%未満添加しても記録マーク保存安定の効果が薄いので好ましくなく、一方、10%を越えて含有させるとGeSb系相変化型記録膜の融点が低くなりすぎて記録膜が変質しやすくなるので好ましくない。したがって、この発明のGeSb系相変化型記録膜に含まれるBiを1〜10%に定めた。
Bi成分は、記録マークの保存安定性を向上させるために添加するが、Bi成分を1%未満添加しても記録マーク保存安定の効果が薄いので好ましくなく、一方、10%を越えて含有させるとGeSb系相変化型記録膜の融点が低くなりすぎて記録膜が変質しやすくなるので好ましくない。したがって、この発明のGeSb系相変化型記録膜に含まれるBiを1〜10%に定めた。
(c) Ga
Ga成分は、GeSb系相変化型記録膜の結晶化速度を高めるために添加するが、Ga成分を1%未満添加しても結晶化速度を上げる効果が薄いので好ましくなく、一方、10%を越えて含有させると必要以上に結晶化しやすくなり、記録マーク保存安定性が悪くなるので好ましくない。したがって、この発明のGeSb系相変化型記録膜に含まれるGaを1〜10%に定めた。
Ga成分は、GeSb系相変化型記録膜の結晶化速度を高めるために添加するが、Ga成分を1%未満添加しても結晶化速度を上げる効果が薄いので好ましくなく、一方、10%を越えて含有させると必要以上に結晶化しやすくなり、記録マーク保存安定性が悪くなるので好ましくない。したがって、この発明のGeSb系相変化型記録膜に含まれるGaを1〜10%に定めた。
この発明のGeSb系相変化型記録膜は、この発明のGeSb系相変化型記録膜の成分組成と同じ成分組成を有する合金をArガス雰囲気中で溶解した後、鉄製モールドに出湯して合金インゴットを作製し、これらを不活性ガス雰囲気中で粉砕して合金粉末を作製し、この合金粉末を真空ホットプレスすることによりスパッタリングターゲットを作製し、かかる条件で作製したスパッタリングターゲットを通常のスパッタリング装置に装入し、通常の条件でスパッタすることにより形成することができる。
前記真空ホットプレスは、圧力:146〜155MPa、温度:370〜430℃、1〜2時間保持の条件で行なわれ、その後、モールドの温度が270〜300℃まで下がった時点で冷却速度:1〜3℃/min.で常温まで冷却することにより行われることが一層好ましい。
前記真空ホットプレスは、圧力:146〜155MPa、温度:370〜430℃、1〜2時間保持の条件で行なわれ、その後、モールドの温度が270〜300℃まで下がった時点で冷却速度:1〜3℃/min.で常温まで冷却することにより行われることが一層好ましい。
この発明によると、一層記録マーク保存安定性に優れたGeSb系相変化型記録膜を提供することができ、したがってCDやDVDなど各種相変化型記録媒体に書き込まれたデータを一層長期間保存することが可能となって、光メモリー産業の発展に大いに貢献し得るものである。
直径:125mm、厚さ:5mmの寸法を有する円盤形状を有するZnS−SiO2ターゲットを用意し、さらにガラス基板を用意した。
さらにGe、Sb、In、BiおよびGaをArガス雰囲気中で溶解し鋳造して合金インゴットを作製し、この合金インゴットをAr雰囲気中で粉砕することにより、いずれも粒径:250μm以下の合金粉末を作製し、この合金粉末を温度:400℃、圧力:146MPaで真空ホットプレスすることによりホットプレス体を作製し、これらホットプレス体を超硬バイトを使用し、旋盤回転数:200rpmの条件で研削加工することにより直径:125mm、厚さ:5mmの寸法を有する円盤状の表1に示される成分組成を有する本発明ターゲット1〜10、比較ターゲット1〜14および従来ターゲットを作製した。
さらにGe、Sb、In、BiおよびGaをArガス雰囲気中で溶解し鋳造して合金インゴットを作製し、この合金インゴットをAr雰囲気中で粉砕することにより、いずれも粒径:250μm以下の合金粉末を作製し、この合金粉末を温度:400℃、圧力:146MPaで真空ホットプレスすることによりホットプレス体を作製し、これらホットプレス体を超硬バイトを使用し、旋盤回転数:200rpmの条件で研削加工することにより直径:125mm、厚さ:5mmの寸法を有する円盤状の表1に示される成分組成を有する本発明ターゲット1〜10、比較ターゲット1〜14および従来ターゲットを作製した。
先に用意したZnS−SiO2ターゲットおよび表1に示される本発明ターゲット1〜10、比較ターゲット1〜14および従来ターゲットをそれぞれ銅製の冷却用バッキングプレートに純度:99.999重量%のインジウムろう材にてハンダ付けし、これを直流マグネトロンスパッタリング装置に装入してスパッタリングすることにより、下記の条件でガラス基板の上に本発明記録膜1〜10、比較記録膜1〜14および従来記録膜を形成し、その上にZnS−SiO2保護膜を成膜することにより表2〜3に示されるサンプル記録媒体を作製した。
記録膜成膜条件:
まず、表1に示される本発明ターゲット1〜10、比較ターゲット1〜14および従来ターゲットを直流マグネトロンスパッタリング装置に装入し、ガラス基板との間の距離を180mmになるようにセットした後、到達真空度:4×10−4Pa(3×10−6Torr)以下になるまで真空引きを行い、その後、全圧:0.83Pa(6.2×10−3Torr)になるまでArガスを供給し、
・基板温度:室温、
・投入電力:150W(DC)、
の条件でスパッタリングを行い、ガラス基板表面に、いずれも厚さ:30nmを有する表2〜3に示される成分組成を有する本発明記録膜1〜10、比較記録膜1〜14および従来記録膜を形成した。
保護膜成膜条件:
先に用意したZnS−SiO2ターゲットとガラス基板を直流マグネトロンスパッタリング装置に装入し、ZnS−SiO2ターゲットと表2〜3に示される本発明記録膜1〜10、比較記録膜1〜14および従来記録膜を形成したガラス基板表面の間の距離をそれぞれ80mmとなるようにセットした後、到達真空度:4×10−4Pa(3×10−6Torr)以下になるまで真空引きを行い、その後、全圧:0.67Pa(5×10−3Torr)になるまでArガスを供給し、
・基板温度:室温、
・投入電力:150W、
の条件でスパッタリングを行い、ガラス基板の表面の本発明記録膜1〜10、比較記録膜1〜14および従来記録膜の上に、それぞれ厚さ:15nmを有するZnS−SiO2保護膜を形成することによりサンプル相変化型記録媒体1〜25を作製した。
得られたサンプル相変化型記録媒体1〜25の反射率を日本分光株式会社製の絶対反射率測定装置を使用して測定し、その後温度:150℃に保持された高温炉に表2〜3に示される時間保持したのち再び同様にして反射率を測定し、その結果を表2〜3に示した。
表1〜3に示される結果から、本発明反射膜1〜10を形成したサンプル相変化型記録媒体1〜10は、従来反射膜を形成したサンプル相変化型記録媒体25および比較反射膜1〜14を形成したサンプル相変化型記録媒体11〜24に比べて、高温に長時間保持しても反射率の変化が小さいことから、この発明のGeSb系相変化型記録膜は記録マーク保存安定性に優れていることが分かる。
Claims (2)
- 原子%で(以下、%は原子%を示す)Ge:3〜14%未満、In:1〜10%、Bi:1〜10%、Ga:1〜10%を含有し、残部がSbおよび不可避不純物からなる組成を有することを特徴とする記録マーク保存安定性に優れたGeSb系相変化型記録膜。
- 原子%で(以下、%は原子%を示す)Ge:3〜14%未満、In:1〜10%、Bi:1〜10%、Ga:1〜10%を含有し、残部がSbおよび不可避不純物からなる組成を有することを特徴とする請求項1記載の記録マーク保存安定性に優れたGeSb系相変化型記録膜を形成するためのスパッタリングターゲット。
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JP2006118861A JP2007293966A (ja) | 2006-04-24 | 2006-04-24 | 記録マーク保存安定性に優れたGeSb系相変化型記録膜およびこのGeSb系相変化型記録膜を形成するためのスパッタリングターゲット |
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CN106206942A (zh) * | 2016-07-30 | 2016-12-07 | 江苏理工学院 | 稀土Er掺杂改性的GeSb纳米薄膜及其制备方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006103075A (ja) * | 2004-10-04 | 2006-04-20 | Mitsubishi Materials Corp | 記録マークの保存安定性に優れた相変化型記録媒体を作製するためのGaSb系相変化型記録膜およびこの記録膜を形成するためのスパッタリングターゲット |
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2006
- 2006-04-24 JP JP2006118861A patent/JP2007293966A/ja active Pending
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