JP2007281024A - Mounting device of electronic component and mounting method - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To accurately inspect the thickness of a flux film to be transferred to a solder ball electrode of an electronic component by simplified structure. <P>SOLUTION: An electronic component provided with a ball electrode is sucked and picked up by a nozzle 101, and the solder ball electrode of the sucked electronic part is immersed in a flux unit 108 to transfer flux thereto. The surface on which the solder ball electrode of the electronic component is illuminated by an illumination 103, and the illuminated solder ball electrode illuminated by the illumination in the photographing part 104 is photographed to acquire a video signal. At the same time, the luminance of the solder ball electrode is detected by a luminance detector 105, and when the detected luminance of the solder ball electrode is higher than a predetermined threshold value, it is judged to be flux transfer failure. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は電子部品の実装装置および実装方法、特にBGA、CSP等のはんだボール電極にフラックスを転写した後に検査して実装する電子部品の実装機および実装方法に関する。   The present invention relates to an electronic component mounting apparatus and mounting method, and more particularly to an electronic component mounting machine and mounting method for inspecting and mounting after transferring a flux to a solder ball electrode such as BGA or CSP.

一般的にはんだ接合においては、はんだ合金の表面に形成される酸化膜を除去し、はんだ合金溶融時のぬれ性を向上させ、接合を確保するために、はんだ合金の表面にフラックスを供給することが不可欠である。それゆえ、電子部品を搭載したプリント基板等を炉中に入れはんだ接合を行うに先立って、フラックスが確実に供給されているかを検査することは、接合部の品質を確保するために、必要不可欠な課題となっている。
近年、高密度で電子部品を基板上に搭載し機器の小型化を図るために、パッケージ下部にはんだボールを電極として配置したBGA(Ball Grid Array)やCSP(Chip Size Package)が実装面積のより一層の縮小のために用いられている。このようなBGAやCSPといったはんだボール電極がパッケージ下部に設けられているパッケージに対するフラックス供給状態の検査として、特許文献1は基板への搭載前にフラックスが転写されたはんだボール電極の画像認識を行い、その画像認識結果からフラックスが転写されたはんだボール電極の直径を求め、その値からはんだボール電極そのものの直径との差を計算し、その差が一定値以下の場合、フラックス転写不良として部品の搭載を行わないとする検査方法を開示している。
しかし、このような従来の方法においては、大きくは二点の問題点が生じる。第一に、パッケージの小型化・高密度化に伴う問題である。近年一層電極間隔の狭ピッチ化やはんだボール電極自体の大きさの縮小が進んできており、それに伴って検査精度の向上がより一層求められてきている。具体的には、パッケージに設けられるはんだボール電極の直径も数百から数十マイクロメートルオーダであるので、フラックスの転写量の検査には数十マイクロメートルオーダでの精度が要求される。そのため、画像認識による径の判定はますます困難になってきており、従来の方法では対応困難である。第二の問題点として、はんだボール電極の形状の問題がある。パッケージに設けられるはんだボールは略球状に形成されているが、これはアトマイズ等の方法により形成されるので、実際には表面に凹凸があるなど歪な形状をしているボール電極も少なからず存在する。そのため、ある断面において検査条件を満たしていても十分なフラックス転写量が得られていない場合が存在する可能性がある。たとえば、真下から撮像した場合に検査条件を満たしていたとしても、少し角度がずれた点から撮像すると検査条件を満たさない、ということもありうる。そのため、形状の不均一性を考慮すると十分な検査精度を確保することは困難である。
特開2003−60398号公報
Generally, in solder bonding, flux is supplied to the surface of the solder alloy in order to remove the oxide film formed on the surface of the solder alloy, improve the wettability when the solder alloy melts, and ensure the bonding. Is essential. Therefore, in order to ensure the quality of the joint, it is essential to inspect whether the flux is supplied securely before placing the printed circuit board with electronic components in the furnace and performing soldering. It is a difficult issue.
In recent years, BGA (Ball Grid Array) and CSP (Chip Size Package) in which solder balls are arranged as electrodes at the bottom of the package in order to reduce the size of the device by mounting electronic components on the substrate at high density are more effective than the mounting area. Used for further reduction. As an inspection of the flux supply state for a package in which solder ball electrodes such as BGA and CSP are provided at the bottom of the package, Patent Document 1 performs image recognition of the solder ball electrode to which the flux has been transferred before mounting on the substrate. The diameter of the solder ball electrode to which the flux has been transferred is obtained from the image recognition result, and the difference from the diameter of the solder ball electrode itself is calculated from that value. An inspection method for not mounting is disclosed.
However, in such a conventional method, there are two major problems. First, there are problems associated with downsizing and increasing the density of packages. In recent years, the pitch between the electrodes has been further narrowed and the size of the solder ball electrode itself has been reduced. Accordingly, further improvement in inspection accuracy has been demanded. Specifically, since the diameter of the solder ball electrode provided in the package is also in the order of several hundreds to several tens of micrometers, accuracy in the order of several tens of micrometers is required for the inspection of the transfer amount of the flux. For this reason, it is increasingly difficult to determine the diameter by image recognition, and it is difficult to cope with the conventional method. The second problem is the shape of the solder ball electrode. The solder balls provided on the package are formed in a substantially spherical shape, but since this is formed by a method such as atomization, there are actually not a few ball electrodes that have a distorted shape such as irregularities on the surface. To do. Therefore, there is a possibility that a sufficient amount of flux transfer is not obtained even if the inspection condition is satisfied in a certain cross section. For example, even if the inspection condition is satisfied when the image is taken from directly below, the inspection condition may not be satisfied if the image is picked up from a point slightly shifted in angle. Therefore, it is difficult to ensure sufficient inspection accuracy in consideration of the non-uniformity of the shape.
JP 2003-60398 A

そこで、本発明は従来技術が持つ問題点を解決し、BGAやCSP等のはんだボール電極に供給されるフラックス量を簡単な構成により正確に検査することができる電子部品実装検査装置ならびに電子部品実装検査方法を提供することを目的とするものである。 Accordingly, the present invention solves the problems of the prior art, and an electronic component mounting inspection apparatus and electronic component mounting capable of accurately inspecting the amount of flux supplied to solder ball electrodes such as BGA and CSP with a simple configuration. The purpose is to provide an inspection method.

本願第一の解決手段は、はんだボール電極を備える電子部品を吸着してピックするノズル部と、前記吸着された電子部品に設けられたはんだボール電極が浸漬されるフラックスユニットと、前記電子部品のはんだボール電極が設けられた面を照光する照光部と、前記電子部品のはんだボール電極が設けられた面を撮像し、輝度を検出する輝度検出部と、前記
輝度検出部により検出されたはんだボール電極の輝度が予め定めた閾値より高い場合にフラックス転写不良の判定制御を行う制御部から構成されることを特徴とする。
The first solution of the present application includes a nozzle unit that sucks and picks an electronic component including a solder ball electrode, a flux unit in which a solder ball electrode provided on the sucked electronic component is immersed, and the electronic component. An illumination unit that illuminates the surface provided with the solder ball electrode, a luminance detection unit that images the surface of the electronic component provided with the solder ball electrode and detects luminance, and the solder ball detected by the luminance detection unit It is characterized by comprising a control unit that performs determination control of flux transfer failure when the luminance of the electrode is higher than a predetermined threshold value.

この構成により、はんだボール電極を備える電子部品のフラックスの転写状態を高精度に検出することができ、フラックス不足に伴う接合不良を抑制した電子部品の実装を行うことができる。
本願第二の解決手段は、はんだボール電極を備える電子部品を吸着してピックするノズル部と、前記吸着された電子部品に設けられたはんだボール電極が浸漬される、ゲート高さを可変としたフラックスユニットと、前記電子部品のはんだボール電極が設けられた面を照光する照光部と、前記電子部品のはんだボール電極が設けられた面を撮像し輝度を検出する輝度検出部と、前記輝度検出部により検出されたはんだボール電極の輝度が予め定めた閾値より高い場合にフラックス転写不良の判定制御を行う制御部から構成されることを特徴とする。
この構成により、はんだボール電極を備える電子部品のフラックスの転写状態を高精度に検出することができるとともに、装置の周辺温度などの動作環境が変化し、反り等の影響が発生する場合に適切なフラックス転写量を確保し、フラックス不足に伴う接合不良を抑制した電子部品の実装を行うことができる。
With this configuration, it is possible to detect the transfer state of the flux of the electronic component including the solder ball electrode with high accuracy, and it is possible to mount the electronic component in which the bonding failure due to insufficient flux is suppressed.
The second solution of the present application is that the nozzle height for sucking and picking an electronic component including a solder ball electrode and the solder ball electrode provided on the sucked electronic component are immersed, and the gate height is variable. A flux unit; an illumination unit that illuminates a surface of the electronic component provided with the solder ball electrode; a luminance detection unit that captures an image of the surface of the electronic component provided with the solder ball electrode; and the luminance detection It is characterized by comprising a control unit that performs determination control of flux transfer failure when the brightness of the solder ball electrode detected by the unit is higher than a predetermined threshold value.
With this configuration, it is possible to detect the transfer state of the flux of the electronic component including the solder ball electrode with high accuracy, and it is appropriate when the operating environment such as the ambient temperature of the apparatus changes and the influence of warpage or the like occurs. It is possible to mount an electronic component that secures a flux transfer amount and suppresses bonding failure due to insufficient flux.

本願第三の解決手段は、本願第一の解決手段および本願第二の解決手段における照光部の照射強度を調整することを可能にしたことを特徴とする。この構成により、使用するフラックスの種類やはんだボール電極径などの条件が変化した場合に、より適切なフラックス転写不良の検出条件の設定が可能になる。   The third solving means of the present application is characterized in that it is possible to adjust the irradiation intensity of the illumination part in the first solving means and the second solving means of the present application. With this configuration, when conditions such as the type of flux to be used and the diameter of the solder ball electrode change, it is possible to set more appropriate detection conditions for flux transfer failure.

本願第四の解決手段は、第二の解決手段における制御部は予め定めた一定の頻度以上で転写不良が生じる場合に前記フラックスユニットのゲート高さを変更する制御を行う、または作業者に対してゲート高さを変更するよう告知を行うよう構成されていることを特徴とする。
この構成により、はんだボール電極を備える電子部品のフラックスの転写状態を高精度に検出することができるとともに、実装条件が随時変化する場合に、適切なフラックス転写量を確保し、フラックス不足に伴う接合不良を抑制した電子部品の実装を行うことができる。
In the fourth solution of the present application, the control unit in the second solution performs control to change the gate height of the flux unit when a transfer failure occurs at a predetermined frequency or more, or to the operator It is configured to notify that the gate height is changed.
With this configuration, it is possible to detect the transfer state of the flux of the electronic component including the solder ball electrode with high accuracy, and to ensure an appropriate amount of flux transfer when the mounting conditions change from time to time, and joining due to insufficient flux It is possible to mount an electronic component in which defects are suppressed.

本願第五の解決手段は、はんだボール電極を備える電子部品を吸着してピックするステップと、前記吸着された電子部品に設けられたはんだボール電極をフラックスユニットに浸漬しフラックスを転写するステップと、前記吸着された電子部品のはんだボール電極が設けられた面に照光するステップと、前記吸着された電子部品のはんだボール電極が設けられた面を撮像し輝度を検出するステップと、検出されたはんだボール電極の輝度が予め定めた閾値より高い場合にフラックス転写不良を判定制御するステップから構成されることを特徴とする。   The fifth solution of the present application includes a step of sucking and picking an electronic component including a solder ball electrode, a step of immersing a solder ball electrode provided on the sucked electronic component in a flux unit, and transferring a flux, Illuminating the surface of the adsorbed electronic component provided with the solder ball electrode, imaging the surface of the adsorbed electronic component provided with the solder ball electrode, detecting the brightness, and detecting the detected solder It is characterized by comprising a step of determining and controlling flux transfer failure when the brightness of the ball electrode is higher than a predetermined threshold value.

この構成により、はんだボール電極を備える電子部品のフラックスの転写状態を高精度に検出することができ、フラックス不足に伴う接合不良を抑制した電子部品の実装方法を行うことができる。
本願第六の解決手段は、はんだボール電極を備える電子部品を吸着してピックするステップと、前記吸着された電子部品に設けられたはんだボール電極をフラックスユニットに浸漬しフラックスを転写するステップと、前記吸着された電子部品のはんだボール電極が設けられた面に照光するステップと、前記吸着された電子部品のはんだボール電極が設けられた面を撮像し輝度を検出するステップと、検出されたはんだボール電極の輝度が予め定めた閾値より高い場合にフラックス転写不良を判定制御するステップと、予め定めた頻度以上にフラックスの転写不良が生じる場合に前記フラックスユニットのゲート高さを変化
させるステップから構成されることを特徴とする。
この構成により、はんだボール電極を備える電子部品のフラックスの転写状態を高精度に検出することができ、フラックス不足に伴う接合不良を抑制した電子部品の実装方法を行うことができる。
本願第七の解決手段は、はんだボール電極を備える電子部品を吸着してピックするステップと、前記吸着された電子部品に設けられたはんだボール電極をフラックスユニットに浸漬しフラックスを転写するステップと、前記吸着された電子部品のはんだボール電極が設けられた面に照光するステップと、前記吸着された電子部品のはんだボール電極が設けられた面を撮像し輝度を検出するステップと、検出されたはんだボール電極の輝度が予め定めた閾値より高い場合にフラックス転写不良を判定制御するステップと、予め定めた頻度以上にフラックスの転写不良が生じる場合に前記フラックスユニットのゲート高さを変化させるよう告知するステップから構成されることを特徴とする。
With this configuration, it is possible to detect the transfer state of the flux of the electronic component including the solder ball electrode with high accuracy, and it is possible to perform the mounting method of the electronic component that suppresses the bonding failure due to the insufficient flux.
The sixth solution of the present application includes a step of sucking and picking an electronic component including a solder ball electrode, a step of transferring a flux by immersing a solder ball electrode provided in the sucked electronic component in a flux unit, and Illuminating the surface of the adsorbed electronic component provided with the solder ball electrode, imaging the surface of the adsorbed electronic component provided with the solder ball electrode, detecting the brightness, and detecting the detected solder It comprises a step of determining and controlling flux transfer failure when the brightness of the ball electrode is higher than a predetermined threshold value, and a step of changing the gate height of the flux unit when flux transfer failure occurs more than a predetermined frequency. It is characterized by being.
With this configuration, it is possible to detect the transfer state of the flux of the electronic component including the solder ball electrode with high accuracy, and it is possible to perform the mounting method of the electronic component that suppresses the bonding failure due to the insufficient flux.
The seventh solution of the present application includes a step of sucking and picking an electronic component including a solder ball electrode, a step of transferring a flux by immersing a solder ball electrode provided on the sucked electronic component in a flux unit, and Illuminating the surface of the adsorbed electronic component provided with the solder ball electrode, imaging the surface of the adsorbed electronic component provided with the solder ball electrode, detecting the brightness, and detecting the detected solder A step of determining and controlling a flux transfer failure when the brightness of the ball electrode is higher than a predetermined threshold value, and a notification of changing the gate height of the flux unit when a flux transfer failure occurs more than a predetermined frequency. It is characterized by comprising steps.

この構成により、はんだボール電極を備える電子部品のフラックスの転写状態を高精度に検出することができ、フラックス不足に伴う接合不良を抑制した電子部品の実装方法を行うことができる。   With this configuration, it is possible to detect the transfer state of the flux of the electronic component including the solder ball electrode with high accuracy, and it is possible to perform the mounting method of the electronic component that suppresses the bonding failure due to the insufficient flux.

本発明の電子部品の実装装置および電子部品の実装方法によれば、はんだボール電極を備える電子部品のフラックスの転写状態を高精度に検出することができ、フラックス不足に伴う接合不良を抑制した電子部品の実装を行うことができる。   According to the electronic component mounting apparatus and electronic component mounting method of the present invention, it is possible to detect the transfer state of the flux of the electronic component including the solder ball electrode with high accuracy, and to suppress the bonding failure due to the lack of flux. Components can be mounted.

以下図を参照して本発明における電子部品の実装装置の実施の形態を説明する。第一の実施の形態では、電子部品の実装装置の構成および基本的な動作について説明する。第二の実施形態以下では、種々の変形例を説明する。
(第一の実施形態)
図1は、本発明における電子部品の実装装置の全体構成を示すブロック図である。本実施形態における電子部品の実装装置は、ノズル部101、駆動部102、照射部103、撮像部104、輝度検出部105、制御部106、テーブル部107およびフラックスユニット108から構成される。
Embodiments of an electronic component mounting apparatus according to the present invention will be described below with reference to the drawings. In the first embodiment, the configuration and basic operation of an electronic component mounting apparatus will be described. In the second embodiment and below, various modifications will be described.
(First embodiment)
FIG. 1 is a block diagram showing the overall configuration of an electronic component mounting apparatus according to the present invention. The electronic component mounting apparatus according to the present embodiment includes a nozzle unit 101, a drive unit 102, an irradiation unit 103, an imaging unit 104, a luminance detection unit 105, a control unit 106, a table unit 107, and a flux unit 108.

ノズル部101は部品供給フィーダからはんだボール電極が設けられた電子部品109を吸着するためのノズルを有している。駆動部102は前記ノズル部をX軸方向、Y軸方向(なお基板110の平面をXY平面とする)、Z軸方向(基板110に垂直な軸方向)およびθ軸方向(XY平面上での回転方向)に駆動するモータで構成され、ノズル部の駆動が行われる。これにより、フラックスユニット108上へノズル部101が移動し、ノズル部101に吸着された電子部品のはんだ電極にフラックスが転写されるとともに、基板110が載置されたテーブル部107上へ移動し、基板110上への電子部品の搭載が行われる。本実施形態においては、駆動部102がノズル部をX軸方向、Y軸方向、Z軸方向およびθ軸方向に駆動するように構成しているが、この構成に限定されるものではなく、駆動部102は基板110が載置されるテーブル部107に接続し、テーブル部を駆動させることでX軸方向、Y軸方向、Z軸方向およびθ軸方向の位置あわせを行ってもよい。照射部103は発光ダイオード(LED)等の光源を用いて、吸着された電子部品のはんだボール電極が設けられた面に対して光を照射する。撮像部104は前記照射部103によって光が照射された電子部品のはんだボール電極が設けられた面の画像を撮像するためCCD等の撮像素子が設けられており、前記電子部品のはんだ電極が設けられた面の画像信号を取得する。輝度検出部105は前記撮像部104により取得された画像信号から、信号解析を行い、電子部品109のはんだボール電極部分の輝度レベルを算出する。この輝度レベルの算出方式は任意である。例えば、フラックスが転写された状態の輝度を、フ
ラックスが全く転写されていない状態の輝度で正規化した相対的輝度レベルでも、輝度の単位であるcd/m2などの絶対的な輝度レベルでもよい。制御部106は、駆動部102の位置あわせ制御を行うとともに、前記輝度検出部で検出された電子部品109のはんだボール電極部分の輝度レベルに基づき、電子部品109のはんだボール電極へのフラックス転写状態を判別し、電子部品109を基板110上への搭載を行うか否かの判定を行う。フラックスユニット108にははんだ合金の表面に形成されている酸化皮膜の除去するためのフラックスが充填されており、駆動部102によりノズル部101をX軸方向およびY軸方向に移動させることでフラックスユニット108の上方へ位置させるとともに、Z軸方向に昇降させ電子部品109のはんだボール電極部を浸漬させることでフラックスの転写を行う。
The nozzle unit 101 has a nozzle for sucking an electronic component 109 provided with a solder ball electrode from a component supply feeder. The drive unit 102 has the nozzle unit in the X-axis direction, the Y-axis direction (note that the plane of the substrate 110 is the XY plane), the Z-axis direction (the axial direction perpendicular to the substrate 110), and the θ-axis direction (on the XY plane). The motor is driven in the rotation direction), and the nozzle portion is driven. Thereby, the nozzle unit 101 moves onto the flux unit 108, the flux is transferred to the solder electrode of the electronic component adsorbed on the nozzle unit 101, and moves onto the table unit 107 on which the substrate 110 is placed, Electronic components are mounted on the substrate 110. In the present embodiment, the drive unit 102 is configured to drive the nozzle unit in the X-axis direction, the Y-axis direction, the Z-axis direction, and the θ-axis direction. However, the present invention is not limited to this configuration. The unit 102 may be connected to the table unit 107 on which the substrate 110 is placed, and may be aligned in the X-axis direction, the Y-axis direction, the Z-axis direction, and the θ-axis direction by driving the table unit. The irradiation unit 103 uses a light source such as a light emitting diode (LED) to irradiate light onto the surface of the attracted electronic component on which the solder ball electrode is provided. The image pickup unit 104 is provided with an image pickup device such as a CCD for picking up an image of the surface on which the solder ball electrode of the electronic component irradiated with light by the irradiation unit 103 is provided, and the solder electrode of the electronic component is provided. The image signal of the given surface is acquired. The luminance detection unit 105 performs signal analysis from the image signal acquired by the imaging unit 104 and calculates the luminance level of the solder ball electrode portion of the electronic component 109. This luminance level calculation method is arbitrary. For example, the luminance in a state where the flux is transferred may be a relative luminance level normalized by the luminance in a state where the flux is not transferred at all, or may be an absolute luminance level such as cd / m 2 which is a unit of luminance. The control unit 106 controls the alignment of the driving unit 102, and based on the luminance level of the solder ball electrode portion of the electronic component 109 detected by the luminance detection unit, the state of flux transfer to the solder ball electrode of the electronic component 109 And whether or not the electronic component 109 is to be mounted on the substrate 110 is determined. The flux unit 108 is filled with a flux for removing an oxide film formed on the surface of the solder alloy, and the nozzle unit 101 is moved in the X-axis direction and the Y-axis direction by the driving unit 102, thereby the flux unit. The magnetic flux is transferred by moving the solder ball electrode part of the electronic component 109 by being moved up and down in the Z-axis direction while being positioned above 108.

次にフラックスの転写膜厚と検出される輝度レベルとの関係を示すグラフを図2に示す。図2において、フラックス転写膜厚の増加に伴い、検出される輝度レベルが低下する様子が示されている。この関係から、溶融時のぬれ性が十分得られるフラックス転写膜厚の下限値を予め測定しておき、それに考慮して一定の閾値となる輝度を設定しておくことで、電子部品109のはんだボール電極部の輝度レベルを測定し、フラックス転写状態の良否判定を行うことが出来る。
次に本実施形態における電子部品の実装装置の動作を説明する。図3に本実施形態における電子部品の実装装置の動作フローチャートを示す。以下、図3に従って本実施形態における電子部品の実装装置の動作を説明する。まず、フィーダから電子部品109の供給を受け、ノズル部101が電子部品109を吸着する(ステップ1)。次に制御部106は電子部品109を吸着したノズル部101をフラックスユニット108上へ位置させるように、駆動部102に対してノズル部101をX軸方向およびY軸方向へ移動させる制御を行うとともに、Z軸方向へ昇降させ、電子部品109に設けられたはんだボール電極にフラックスの転写を行う(ステップ2)。次に照射部103によって、フラックスが転写された電子部品109のはんだボール電極が設けられた面に光を照射するとともに、撮像部104により照射部103によって光が照射された電子部品109のはんだボール電極が設けられた面を撮像し、画像信号を取得する(ステップ3)。そして取得した画像信号からはんだボール電極の輝度レベルを算出し、はんだボール電極部の輝度レベルが一定の閾値以上の場合、制御部106は、フラックスの転写不良と判定するとともに、制御信号を出力し、その出力に基づきその電子部品109の基板110上への搭載を行わないよう制御を行う(ステップ4)。はんだボール電極の輝度レベルが一定の閾値以下の場合、次のはんだボール電極に同様の輝度レベルの検出を行い、すべてのはんだボール電極について輝度レベルが一定の閾値以下の場合、制御部106は電子部品109を実装可能と判定する(ステップ5)。本実施形態においては、各々のはんだボールの転写状態を判定するように構成したが、すべてのはんだボールについて判定を行わず、効率化のために代表的な電極についてのみ転写状態の判定を行うように構成してもよい。また、フラックスユニットに充填するフラックスの種類は特に制限されないが、フラックスに顔料を添加することで、フラックス転写膜厚の変化に伴う輝度の変化が急峻になるので、フラックスに顔料を添加してもよい。
Next, a graph showing the relationship between the transfer film thickness of the flux and the detected luminance level is shown in FIG. FIG. 2 shows a state in which the detected luminance level decreases as the flux transfer film thickness increases. From this relationship, the lower limit value of the flux transfer film thickness that provides sufficient wettability at the time of melting is measured in advance, and a brightness that becomes a certain threshold value is set in consideration of this, so that the solder of the electronic component 109 can be obtained. The brightness level of the ball electrode portion can be measured to determine whether the flux transfer state is good or bad.
Next, the operation of the electronic component mounting apparatus according to this embodiment will be described. FIG. 3 shows an operation flowchart of the electronic component mounting apparatus according to this embodiment. The operation of the electronic component mounting apparatus according to this embodiment will be described below with reference to FIG. First, the electronic component 109 is supplied from the feeder, and the nozzle unit 101 sucks the electronic component 109 (step 1). Next, the control unit 106 controls the drive unit 102 to move the nozzle unit 101 in the X-axis direction and the Y-axis direction so that the nozzle unit 101 that has attracted the electronic component 109 is positioned on the flux unit 108. Then, the flux is transferred to the solder ball electrode provided on the electronic component 109 by moving up and down in the Z-axis direction (step 2). Next, the irradiation unit 103 irradiates light onto the surface on which the solder ball electrode of the electronic component 109 to which the flux has been transferred is provided, and also the solder ball of the electronic component 109 irradiated with light by the irradiation unit 103 by the imaging unit 104. The surface on which the electrodes are provided is imaged and an image signal is acquired (step 3). Then, the brightness level of the solder ball electrode is calculated from the acquired image signal, and when the brightness level of the solder ball electrode portion is equal to or greater than a certain threshold, the control unit 106 determines that the transfer of the flux is defective and outputs a control signal. Based on the output, control is performed so that the electronic component 109 is not mounted on the substrate 110 (step 4). When the brightness level of the solder ball electrode is equal to or less than a certain threshold value, the same brightness level is detected for the next solder ball electrode. It is determined that the component 109 can be mounted (step 5). In this embodiment, the transfer state of each solder ball is determined. However, the determination is not performed for all the solder balls, and the transfer state is determined only for representative electrodes for efficiency. You may comprise. In addition, the type of flux to be filled in the flux unit is not particularly limited, but by adding a pigment to the flux, the brightness change accompanying the change of the flux transfer film thickness becomes steep, so even if a pigment is added to the flux Good.

図4に照射部103が照射する光の強度を変化させた場合に検出される輝度レベルとフラックス転写膜厚の関係を示す。図4から光の強度によって膜厚が薄いときと膜圧が厚いときの輝度レベル差が顕著になっている。そのため、照射部が照射する光の強度を可変とすることで、用いるフラックスの種類等の条件が変わったときにも柔軟に対応することができる。以上、本実施形態によると、フラックスの膜厚を直接測定することなくフラックスの転写状態が判定できるので、数十マイクロメーターレベルでの高精度の画像認識が必要なく簡易かつ正確なフラックス転写状態判定が可能になる。
(実施の形態2)
図5は第二の実施形態における電子部品の実装装置の全体構成を示すブロック図である。
なお、図1の第一の実施形態における電子部品実装装置と同じ部分については同様の符号を付している。第二の実施形態においては、第一の実施形態の構成に加え、フラックスユニット401が制御部406に接続されている。図6に本実施携帯におけるフラックスユニットの模式図を示す。図6(A)はフラックスユニット408の平面図、図6(B)はフラックスユニット408の断面図を示している。このような往復スキージ方式のフラックスユニットでは、往路では掻き取りスキージによりフラックスユニット底面のフラックスが掻きとられ、復路において成膜スキージにより一定の厚さにフラックスが成膜される。このフラックス膜厚は、成膜スキージ下端とフラックス槽底面との距離であるゲート高さによって決定される。そしてフラックスをフラックス膜に浸漬した際の転写量は、この膜厚によって大きく影響される。本実施の形態におけるフラックスユニットはスキージの交換または位置の制御によりこのゲート高さが可変となるように構成されている。
また制御部406は、第一の実施形態同様、輝度検出部の出力に応じてフラックス転写の良否判定を行うとともに、フラックス転写不良が予め定めた頻度以上で場合にフラックスユニット401に対してゲート膜厚を変化させるように制御を行う。
次に本実施形態における電子部品の実装装置の動作を説明する。図7に本実施形態における電子部品の実装装置の動作フローチャートを示す。まず、電子部品109の供給を受け、ノズル部101が電子部品109を吸着する(ステップ1)。次に制御部406は電子部品109を吸着したノズル部101をフラックスユニット109上へ位置させるように、駆動部102に対してノズル部をX軸方向およびY軸方向へ移動させる制御を行うとともに、Z軸方向へ昇降させ、電子部品109のはんだボール電極にフラックスの転写を行う(ステップ2)。次に照射部103によって、フラックスが転写された電子部品109のはんだボール電極が設けられた面に光を照射するとともに、撮像部104により照射部103によって光が照射された電子部品109のはんだボール電極が設けられた面を撮像し、画像信号を取得する(ステップ3)。そして取得した画像信号からはんだボール電極部の輝度レベルを算出し、はんだボール電極の輝度レベルがそれぞれ一定の閾値以上の場合、制御部406はフラックスの転写不良と判定するとともに、制御信号を出力し、その出力に基づき電子部品109の基板110上への搭載を行わないよう制御を行う(ステップ4)。はんだボール電極の輝度レベルが一定の閾値以下の場合、次のはんだボール電極に同様の輝度レベルの検出を行い、すべてのはんだボール電極について輝度レベルが一定の閾値以下の場合、制御部106は電子部品109を実装可能と判定する(ステップ5)。また、制御部406は一定の頻度で転写不良が生じる場合にフラックスユニットにおける成膜スキージのゲート高さの制御を行いフラックス転写量の確保を行う(ステップ6)。
この構成により、高精度の画像認識が必要なく簡易かつ正確なフラックス転写状態判定が可能になるとともに、フラックス転写量を適応的に制御できるので、温度などの装置の使用環境が変化し、実装される電子部品にそり等が生じてフラックス転写量が変化してしまう場合にも対応することができる。なお本実施形態においては、フラックスユニットを制御部406に接続し、ゲートの高さを自動制御することとしているが、フラックスユニットに制御部を接続せず一定の頻度以上で転写不良が生じる場合に作業者に対して告知を行い、手動でスキージの交換等のゲート高さの調整を行い、フラックス転写量の確保を行うように構成してもよい。
FIG. 4 shows the relationship between the luminance level detected when the intensity of the light irradiated by the irradiation unit 103 is changed and the flux transfer film thickness. From FIG. 4, the brightness level difference between the thin film thickness and the thick film pressure is significant depending on the light intensity. Therefore, by changing the intensity of light emitted from the irradiation unit, it is possible to flexibly cope with changes in conditions such as the type of flux used. As described above, according to the present embodiment, since the transfer state of the flux can be determined without directly measuring the film thickness of the flux, it is possible to easily and accurately determine the transfer state of the flux without the need for high-precision image recognition at the tens of micrometers level. Is possible.
(Embodiment 2)
FIG. 5 is a block diagram showing the overall configuration of the electronic component mounting apparatus according to the second embodiment.
In addition, the same code | symbol is attached | subjected about the same part as the electronic component mounting apparatus in 1st embodiment of FIG. In the second embodiment, the flux unit 401 is connected to the control unit 406 in addition to the configuration of the first embodiment. FIG. 6 shows a schematic diagram of the flux unit in this embodiment. FIG. 6A is a plan view of the flux unit 408, and FIG. 6B is a cross-sectional view of the flux unit 408. In such a reciprocating squeegee type flux unit, the flux on the bottom surface of the flux unit is scraped off by the scraping squeegee in the forward path, and the flux is deposited to a certain thickness by the film forming squeegee in the return path. This flux film thickness is determined by the gate height which is the distance between the film forming squeegee lower end and the flux tank bottom. The transfer amount when the flux is immersed in the flux film is greatly influenced by the film thickness. The flux unit in the present embodiment is configured such that the gate height is variable by changing the squeegee or controlling the position.
Further, as in the first embodiment, the control unit 406 determines whether or not the flux transfer is good according to the output of the luminance detection unit, and when the flux transfer failure is more than a predetermined frequency, Control is performed to change the thickness.
Next, the operation of the electronic component mounting apparatus according to this embodiment will be described. FIG. 7 shows an operation flowchart of the electronic component mounting apparatus according to this embodiment. First, the supply of the electronic component 109 is received, and the nozzle unit 101 sucks the electronic component 109 (step 1). Next, the control unit 406 controls the drive unit 102 to move the nozzle unit in the X-axis direction and the Y-axis direction so that the nozzle unit 101 that has attracted the electronic component 109 is positioned on the flux unit 109. The flux is transferred to the solder ball electrode of the electronic component 109 by moving up and down in the Z-axis direction (step 2). Next, the irradiation unit 103 irradiates light onto the surface on which the solder ball electrode of the electronic component 109 to which the flux has been transferred is provided, and also the solder ball of the electronic component 109 irradiated with light by the irradiation unit 103 by the imaging unit 104. The surface on which the electrodes are provided is imaged and an image signal is acquired (step 3). Then, the brightness level of the solder ball electrode part is calculated from the acquired image signal, and when the brightness level of the solder ball electrode is equal to or higher than a certain threshold value, the control unit 406 determines that the transfer of the flux is defective and outputs a control signal. Based on the output, control is performed so that the electronic component 109 is not mounted on the substrate 110 (step 4). When the brightness level of the solder ball electrode is equal to or less than a certain threshold value, the same brightness level is detected for the next solder ball electrode. It is determined that the component 109 can be mounted (step 5). Further, the control unit 406 controls the gate height of the film formation squeegee in the flux unit when the transfer failure occurs at a constant frequency to secure the flux transfer amount (step 6).
With this configuration, it is possible to easily and accurately determine the flux transfer state without the need for high-accuracy image recognition, and the amount of flux transfer can be adaptively controlled. It is also possible to deal with a case where the amount of flux transferred changes due to warpage or the like in the electronic component. In this embodiment, the flux unit is connected to the control unit 406 and the height of the gate is automatically controlled. However, when a transfer failure occurs at a certain frequency or more without connecting the control unit to the flux unit. The operator may be notified, the gate height may be adjusted manually such as by changing the squeegee, and the flux transfer amount may be secured.

以上のように、本発明にかかる電子部品の実装装置および電子部品の実装方法は、電子部品のはんだボール電極フラックス転写不良を高精度に検出することで接合不良を防止可能であり、より軽量・小型・高機能の電子機器の製造に大きく寄与しうるものである。   As described above, the electronic component mounting apparatus and the electronic component mounting method according to the present invention can prevent a bonding failure by detecting a solder ball electrode flux transfer defect of an electronic component with high accuracy, and are lighter. It can greatly contribute to the manufacture of small and highly functional electronic devices.

本発明第一の実施形態の電子部品の実装装置のブロック図The block diagram of the electronic component mounting apparatus of 1st embodiment of this invention フラックスの転写膜厚と検出される輝度レベルとの関係を示す図Diagram showing the relationship between the transfer film thickness of the flux and the detected brightness level 本発明の第一の実施例における電子部品の実装装置の動作フロー図Operation flow diagram of electronic component mounting apparatus in first embodiment of the present invention 照射部103の照射する光の強度を変化させた際の輝度レベルとフラックス転写膜厚の関係を示す図The figure which shows the relationship between the luminance level at the time of changing the intensity | strength of the light which the irradiation part 103 irradiates, and a flux transfer film thickness 本発明第二の実施形態の電子部品の実装装置のブロック図The block diagram of the mounting device of the electronic component of 2nd embodiment of this invention 本発明第二の実施形態におけるフラックスユニットの構成図The block diagram of the flux unit in the second embodiment of the present invention 本発明第二の実施形態における電子部品の実装装置の動作フロー図Operation flow diagram of electronic component mounting apparatus according to second embodiment of the present invention

符号の説明Explanation of symbols

101 ノズル部
102 駆動部
103 照射部
104 撮像部
105 輝度検出部
106 制御部
107 テーブル部
108 フラックスユニット
109 電子部品
110 基板
406 制御部
408 フラックスユニット
601 掻きとりスキージ
602 成膜スキージ
603 フラックス槽


DESCRIPTION OF SYMBOLS 101 Nozzle part 102 Drive part 103 Irradiation part 104 Imaging part 105 Luminance detection part 106 Control part 107 Table part 108 Flux unit 109 Electronic component 110 Substrate 406 Control part 408 Flux unit 601 Scraping squeegee 602 Deposition squeegee 603 Flux tank


Claims (7)

はんだボール電極を備える電子部品を吸着してピックするノズル部と、前記吸着された電子部品に設けられたはんだボール電極が浸漬されるフラックスユニットと、前記電子部品のはんだボール電極が設けられた面を照光する照光部と、前記電子部品のはんだボール電極が設けられた面を撮像し、輝度を検出する輝度検出部と、前記輝度検出部により検出されたはんだボール電極の輝度が予め定めた閾値より高い場合にフラックス転写不良の判定制御を行う制御部を有する電子部品の実装装置。 Nozzle portion for picking up and picking up electronic components including solder ball electrodes, flux unit in which solder ball electrodes provided on the picked-up electronic components are immersed, and surface of the electronic components on which the solder ball electrodes are provided An illumination unit that illuminates the surface of the electronic component, a luminance detection unit that detects the luminance of the surface on which the solder ball electrode of the electronic component is provided, and a predetermined threshold value for the luminance of the solder ball electrode detected by the luminance detection unit An electronic component mounting apparatus having a control unit that performs determination control of a flux transfer defect when it is higher. はんだボール電極を備える電子部品を吸着してピックするノズル部と、前記吸着された電子部品に設けられたはんだボール電極が浸漬される、ゲート高さを可変としたフラックスユニットと、前記電子部品のはんだボール電極が設けられた面を照光する照光部と、前記電子部品のはんだボール電極が設けられた面を撮像し輝度を検出する輝度検出部と、前記輝度検出部により検出されたはんだボール電極の輝度が予め定めた閾値より高い場合にフラックス転写不良の判定制御を行う制御部を有する電子部品の実装装置。 A nozzle unit that picks up and picks up an electronic component including a solder ball electrode, a flux unit in which a solder ball electrode provided on the picked-up electronic component is immersed, and a variable gate height, and the electronic component An illumination unit that illuminates the surface provided with the solder ball electrode, a luminance detection unit that images the surface of the electronic component provided with the solder ball electrode and detects luminance, and the solder ball electrode detected by the luminance detection unit An electronic component mounting apparatus having a control unit that performs determination control of a flux transfer failure when the luminance of the light is higher than a predetermined threshold. 前記照光部は照射強度が変更可能である、請求項1および請求項2に記載の電子部品の実装装置。 The electronic component mounting apparatus according to claim 1, wherein irradiation intensity of the illumination unit is changeable. 前記制御部は、予め定めた一定の頻度以上でフラックスの転写不良が生じる場合に前記フラックスユニットのゲート高さを変更する、または作業者に対してゲート高さを変更するよう告知を行う、請求項2に記載の電子部品の実装装置。 The control unit notifies the operator that the gate height of the flux unit is changed or the gate height is changed when the flux transfer failure occurs at a predetermined frequency or more. Item 3. The electronic component mounting apparatus according to Item 2. はんだボール電極を備える電子部品を吸着してピックするステップと、前記吸着された電子部品に設けられたはんだボール電極をフラックスユニットに浸漬しフラックスを転写するステップと、前記吸着された電子部品のはんだボール電極が設けられた面に照光するステップと、前記吸着された電子部品のはんだボール電極が設けられた面を撮像し輝度を検出するステップと、検出されたはんだボール電極の輝度が予め定めた閾値より高い場合にフラックス転写不良を判定制御するステップを含む電子部品の実装方法。 A step of adsorbing and picking an electronic component having a solder ball electrode; a step of immersing a solder ball electrode provided on the adsorbed electronic component in a flux unit; and transferring a flux; and a solder of the adsorbed electronic component Illuminating the surface on which the ball electrode is provided, imaging the surface of the attracted electronic component on which the solder ball electrode is provided, detecting the luminance, and the detected luminance of the solder ball electrode is predetermined. An electronic component mounting method including a step of determining and controlling a flux transfer defect when the value is higher than a threshold. はんだボール電極を備える電子部品を吸着してピックするステップと、前記吸着された電子部品に設けられたはんだボール電極をフラックスユニットに浸漬しフラックスを転写するステップと、前記吸着された電子部品のはんだボール電極が設けられた面に照光するステップと、前記吸着された電子部品のはんだボール電極が設けられた面を撮像し輝度を検出するステップと、検出されたはんだボール電極の輝度が予め定めた閾値より高い場合にフラックス転写不良を判定制御するステップと、予め定めた頻度以上にフラックスの転写不良が生じる場合に前記フラックスユニットのゲート高さを変化させるステップを含む電子部品の実装方法。 A step of adsorbing and picking an electronic component having a solder ball electrode; a step of immersing a solder ball electrode provided on the adsorbed electronic component in a flux unit; and transferring a flux; and a solder of the adsorbed electronic component Illuminating the surface on which the ball electrode is provided, imaging the surface of the attracted electronic component on which the solder ball electrode is provided, detecting the luminance, and the detected luminance of the solder ball electrode is predetermined. An electronic component mounting method comprising: determining and controlling a flux transfer failure when higher than a threshold value; and changing a gate height of the flux unit when a flux transfer failure occurs more than a predetermined frequency. はんだボール電極を備える電子部品を吸着してピックするステップと、前記吸着された電子部品に設けられたはんだボール電極をフラックスユニットに浸漬しフラックスを転写するステップと、前記吸着された電子部品のはんだボール電極が設けられた面に照光するステップと、前記吸着された電子部品のはんだボール電極が設けられた面を撮像し輝度を検出するステップと、検出されたはんだボール電極の輝度が予め定めた閾値より高い場合にフラックス転写不良を判定制御するステップと、予め定めた頻度以上にフラックスの転写不良が生じる場合に前記フラックスユニットのゲート高さを変化させるよう告知するステップを含む電子部品の実装方法。

A step of adsorbing and picking an electronic component having a solder ball electrode; a step of immersing a solder ball electrode provided on the adsorbed electronic component in a flux unit; and transferring a flux; and a solder of the adsorbed electronic component Illuminating the surface on which the ball electrode is provided, imaging the surface of the attracted electronic component on which the solder ball electrode is provided, detecting the luminance, and the detected luminance of the solder ball electrode is predetermined. An electronic component mounting method comprising the steps of: determining and controlling a flux transfer failure when higher than a threshold; and notifying that the gate height of the flux unit is changed when a flux transfer failure occurs more than a predetermined frequency .

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