JP2007268563A - レーザスクライブ装置及びレーザスクライブ方法 - Google Patents

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    • B23K26/362Laser etching
    • B23K26/364Laser etching for making a groove or trench, e.g. for scribing a break initiation groove

Abstract

【課題】正常なスクライブ線が確実に形成されているか否かを、スクライブ線形成中に確認できるようにする。
【解決手段】テーブル20と、レーザ光照射ユニット40と、テーブルとレーザ光照射ユニットとを相対移動させる駆動手段21とを備え、基板の割断予定線Jに沿うようにレーザ光Lを相対移動させることで割断予定線上にスクライブ線形成を行うレーザスクライブ装置において、スクライブ線形成時に当該スクライブ線SBにおける亀裂発生部分より放出される超音波をリアルタイムで検出するAEセンサ1と、正常なスクライブ線形成時に当該正常なスクライブ線における亀裂発生部分より放出される超音波を正常超音波信号S2として予め登録した記憶手段42と、AEセンサから出力された超音波信号S1と、記憶手段に登録された正常超音波信号とに基づき、スクライブ線形成が正常か否かを判定する判定手段43とを備える。
【選択図】 図1

Description

本発明はレーザスクライブ装置及びレーザスクライブ方法に関する。より詳しくは、被割断基板における割断予定線に沿うようにレーザ光を相対移動させることによりこの割断予定線上にスクライブ線形成を行う装置及び方法に関する。
ガラス板、セラミックスまたはウエハーなどの脆性材料を切断加工する方法として、レーザスクライブ法がある。レーザスクライブ法では、被割断基板とする脆性材料(以下、単に基板と記述することがある)に対し、まず、その割断予定線の始端に初期亀裂を形成する。次いで、割断予定線の始端から終端に沿ってレーザ光により短時間内に加熱するとともに、加熱された部位をそのレーザ光に追随して急冷させることにより、連続した亀裂、つまりスクライブ線を基板の表面に形成する。次いで、このスクライブ線のまわりに物理的な力(曲げモーメント)を加え、浅い亀裂を基板の板厚方向に伸展させることで、スクライブ線を境に基板を割断する。レーザスクライブ法によるスクライブ線の形成は、可動テーブル、初期亀裂形成機構、レーザ光照射ユニット及び冷却ユニットなどを備えるレーザスクライブ装置を用いて行う。
レーザスクライブ装置において、スクライブ線の形成動作中、例えば初期亀裂が形成されていなかったり、レーザ光の強度が低下していたりして、規程の深さの正常なスクライブ線が形成されないことがある。そのような場合は、割断工程において基板を割断できない。従って、形成されたスクライブ線が正常か異常かを割断前に判断できることが望ましい。しかし、レーザスクライブ法によるスクライブ線が正常であるか否かは、目視しても或いは光学顕微鏡で観察しても正確には判断できず、実際に割断してみなければ分からない。このため視認以外による検査方法が有効である。
視認以外による脆性材料の検査方法として、特許文献1や特許文献2には、アコースティックエミッション法(以下、AE法と略記する)を用いた脆性材料の欠陥検査に関する技術が開示されている。そこで、例えばスクライブ線を形成する工程の後段に、特許文献1及び特許文献2に記載のような技術を用いて、スクライブ線の状態を検査する工程を設け、スクライブ線形成工程から搬出された基板1枚1枚に対し順次に検査を行うことで、異常なスクライブ線の形成された基板を排除する手法が考えられる。
特開平8−94592号公報 特開2003−232782号公報
しかし、このような手法によると、正常なスクライブ線が形成されているか否かを確認することはできても、検査をスクライブ線形成工程の後段で行うため、異常なスクライブ線の形成された基板は全く無駄なものとなり、歩留まりの低下は避けられない。併せて生産時間の延長を招く。本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、正常なスクライブ線が確実に形成されているか否かを、スクライブ線形成中に確認することのできるレーザスクライブ装置及びレーザスクライブ方法を提供することを目的とする。
上述の目的を達成するために、本発明のレーザスクライブ装置10は、被割断基板Kを載置保持するためのテーブル20と、スクライブ線形成のためのレーザ光Lを被割断基板Kの表面に向けて照射可能なレーザ光照射ユニット40と、テーブル20とレーザ光照射ユニット40とを相対移動させる駆動手段21とを備え、被割断基板Kにおける割断予定線Jに沿うようにレーザ光Lを相対移動させることによりこの割断予定線J上にスクライブ線形成を行うレーザスクライブ装置10において、スクライブ線形成時に当該スクライブ線SBにおける亀裂発生部分より放出される超音波をリアルタイムで検出するAEセンサ1と、正常なスクライブ線形成時に当該正常なスクライブ線における亀裂発生部分より放出される超音波を正常超音波信号S2として予め登録した記憶手段42と、AEセンサ1から出力された超音波信号S1と、記憶手段42に登録された正常超音波信号S2とに基づいて、正常なスクライブ線形成が行われているか否かを判定する判定手段43とを備えることを特徴とする。
また、本発明のレーザスクライブ方法は、被割断基板Kを載置保持するためのテーブル20と、スクライブ線形成のためのレーザ光Lを被割断基板Kの表面に向けて照射可能なレーザ光照射ユニット40と、テーブル20とレーザ光照射ユニット40とを相対移動させる駆動手段21とを備え、被割断基板Kにおける割断予定線Jに沿うようにレーザ光Lを相対移動させることによりこの割断予定線J上にスクライブ線形成を行うレーザスクライブ方法において、正常なスクライブ線形成時に当該正常なスクライブ線における亀裂発生部分より放出される超音波を正常超音波信号S2として予め記憶手段42に登録しておき、スクライブ線形成時に当該スクライブ線SBにおける亀裂発生部分より放出される超音波をAEセンサ1によりリアルタイムで検出し、AEセンサ1から出力された超音波信号S1と、記憶手段42に登録された正常超音波信号S2とに基づいて、正常なスクライブ線形成が行われているか否かを判定手段43により判定することを特徴とする。
なお、前記判定手段43により異常なスクライブ線形成が行われていると判定されたときに警報装置5から警報を発するようにすることが好ましい。また、前記AEセンサ1から出力された超音波信号S1と、記憶手段42に予め登録された正常超音波信号S2との振幅及び/または周波数の違いに基づいて前記判定を行うことが好ましい。
本発明のレーザスクライブ装置及びレーザスクライブ方法によると、正常なスクライブ線が確実に形成されているか否かを、スクライブ線形成中に確認することができる。スクライブ線形成が異常であった場合、直ちに対処できるので、割断工程において基板を確実に割断できるようになる。また、続けて多くの基板に異常なスクライブ線を形成してしまうことが防止でき、歩留まりの向上を図ることができる。併せて生産時間の延長も招かない。
以下に、本発明を実施するための最良の形態を、添付図面を参照しながら説明する。図1は本発明に係るレーザスクライブ装置10の正面概略図、図2は本発明に係るレーザスクライブ装置10によるレーザスクライブ動作を平面視的に示す図、図3は解析用コンピュータの構成概要を示す図である。各図において直交座標系の3軸をX、Y、Zとし、XY平面は水平面、Z方向は鉛直方向であり、Z方向まわりの回転方向をθ方向とする。
図1に示すように、レーザスクライブ装置10は、可動テーブル20、初期亀裂形成機構30、レーザ光照射ユニット40、冷却ユニット50及びスクライブ状態検査装置60を備える。初期亀裂形成機構30、レーザ光照射ユニット40及び冷却ユニット50は、可動テーブル20よりも高い位置において一体的に基台70に固設される。
可動テーブル20は、載置された基板Kを真空吸着により保持可能なテーブル面を備えると共に、テーブル駆動装置21によりXYZθ各方向に駆動可能とされる。スクライブ線形成時はY1方向に駆動される。
初期亀裂形成機構30は、先端に回転刃31を有し上下駆動可能とされた回転刃ユニット32を備え、可動テーブル20に載置保持された基板Kにおける割断予定線Jの始端JSに極微少な初期亀裂Cを形成可能に構成される。
レーザ光照射ユニット40は、レーザ発振器から出力されたレーザ光Lを、反射ミラーやエキスパンドレンズなどからなる光学系を経由して、レーザ照射窓41から基板Kの表面に向けて照射可能に構成される。レーザ照射窓41から照射されるレーザ光Lは、基板Kにスクライブ線SBを形成するのに十分な出力を有するものとされる。レーザ照射窓41は、スクライブ線形成時における可動テーブル20に対するレーザ光Lの相対移動の方向Y2を基準に回転刃31の後方部に設けられる。
冷却ユニット50は、霧状の冷却ミストMを噴射可能な噴射ノズル51を備える。噴射ノズル51は、基板K上に照射されるレーザ光Lに追随するように、スクライブ線形成時における可動テーブル20に対するレーザ光Lの相対移動の方向Y2を基準にレーザ照射窓41の後方部に設けられる。
スクライブ状態検査装置60は、スクライブ線形成時に当該スクライブ線における亀裂発生部分より放出される超音波をリアルタイムで検出可能なように可動テーブル20に取り付けられたAEセンサ1、AEセンサ1の出力信号を増幅するアンプ2、アンプ2の出力信号をA−D(アナログ−デジタル)変換するAD変換器3、AD変換器3に接続された解析用コンピュータ4、ブザーやランプにより警報を発する警報装置5、解析用コンピュータ4が出力した異常信号S3に基づいてレーザ光照射ユニット40、冷却ユニット50及びテーブル駆動装置21を停止させると共に警報装置5を励起させる制御装置6を備える。
解析用コンピュータ4は、形成中のスクライブ線SBが正常か否かを解析するコンピュータであり、図3に示すように、記憶部42と比較処理部43とを有する。記憶部42には、次に示す正常超音波信号S2が予め登録されている。すなわち正常超音波信号S2とは、正常なレーザスクライブ動作時の亀裂成長時にその亀裂発生部分より放出される固有の音波信号のことである。比較処理部43は、AEセンサ1で検出した基板Kからの超音波信号S1と、記憶部42に登録された正常超音波信号S2とを比較して、両者が一致する場合はレーザスクライブ動作が正常であると判断し、不一致の場合はレーザスクライブ動作が異常であると判断して異常信号S3を出力するように構成される。このような記憶部42及び比較処理部43は、メモリチップやマイクロプロセッサーなどを主体とした適当なハードウエア及びこれに組み込んだコンピュータプログラムにより実現される。
次に、図4を参照して、レーザスクライブ装置10のスクライブ線形成動作について説明する。図4はレーザスクライブ装置10によるスクライブ線形成動作を示すフローチャートである。
まず、ステップ100において、テーブル駆動装置21は、基板Kを載置保持した可動テーブル20を、回転刃31と基板Kにおける割断予定線Jの始端JSとを結ぶ直線t1(図2(A)参照)がY方向に平行となるように駆動配置する。続いて、ステップ110において、初期亀裂形成機構30は回転刃31を降下させて、その刃先が基板Kの表面よりも低くなる位置に配置する。
続いて、ステップ120において、テーブル駆動装置21は、可動テーブル20をY1方向に駆動する(図2(B)参照)。可動テーブル20の移動により、回転刃31が基板Kにおける割断予定線Jの始端JSに衝突する。その直後に初期亀裂形成機構30は回転刃31を上昇させる。これにより、割断予定線Jの始端JSに所定深さ及び長さの極微少な初期亀裂Cが形成される。
初期亀裂Cが形成されると、ステップ130において、レーザ光照射ユニット40は、レーザ照射窓41から基板Kに向けてレーザ光Lを照射する。また、ステップ140において、冷却ユニット50は、レーザ光Lに追随するように噴射ノズル51から冷却ミストMを噴射する。基板Kに対するレーザ光L及び冷却剤Mの相対的な移動により、始端JSを起点として、レーザ光Lは割断予定線Jを急激に加熱し局所的に熱膨張させて圧縮応力を生じさせ、冷却剤Mはその直後に加熱部分を急激に冷却することで局所的に収縮させて引張応力を生じさせる。これにより、初期亀裂Cを亀裂進展の開始点として、基板Kの表面に、割断予定線Jに沿う微小亀裂を連続成長させてスクライブ線SBを形成していく。
スクライブ線SBの形成動作時に、AEセンサ1は、当該スクライブ線SBにおける亀裂発生部分より放出される超音波をリアルタイムで検出して解析用コンピュータ4に送信している。解析用コンピュータ4は、比較処理部43において、AEセンサ1から出力された超音波信号S1と、記憶部42に登録された正常超音波信号S2とを比較する。検出した超音波信号S1と正常超音波信号S2とが一致している限りは、比較処理部43はレーザスクライブ動作が正常であると判断して(ステップ150でイエス)、割断予定線Jの終端JEに至るまでレーザスクライブ動作を続行する。終端JEまでスクライブ線SBを形成した時点でレーザ光Lの照射、ミストMの噴射、及び可動テーブル20の走行を停止する(ステップ180)。
割断予定線Jの終端JEまでに到達するまでに、両超音波信号が不一致となる部分があった場合は(ステップ150でノー)、比較処理部43はレーザスクライブ動作が異常であると判断して異常信号S3を出力する。制御装置6は、異常信号S3により機器制御信号S4を出力する。機器制御信号S4により、警報装置5が励起して警報を発し(ステップ160)、レーザ光Lの照射、ミストMの噴射、及び可動テーブル20の走行を停止する(ステップ180)。なお、上記両超音波信号の一致または不一致の判定基準は、振幅及び/または周波数、すなわち振幅の強さの違いと周波数の違いとの両方またはいずれか一方に基づいて行うことが好ましい。また、ノイズによる判断ミスを防止するため100kHz以下、200kHz以上の周波数信号は除去しておくことが好ましい。
このように、レーザスクライブ装置10によると、正常なスクライブ線が確実に形成されているか否かを、スクライブ線形成中に確認することができる。スクライブ線形成が異常であった場合、直ちに対処できるので、割断工程において基板を確実に割断できるようになる。また、割断後の基板は、割断部分の直進性や断面品質が優れたものとなる。また、続けて多くの基板に異常なスクライブ線を形成してしまうことが防止でき、歩留まりの向上を図ることができる。併せて生産時間の延長も招かない。
以下、本発明を実施例により説明する。図5は本発明の実施例に用いたレーザスクライブ装置11の正面概略図、図6は図5に示すレーザスクライブ装置11により得た正常超音波信号と異常超音波信号を示す図であり、図6(A)は正常超音波信号を示し、図6(B)は異常超音波信号を示す。
スクライブ状態検査装置60を有さない従来型のレーザスクライブ装置11の可動テーブル20に、AEセンサ1を図5のように取り付け、アンプ2、ディスクリミネータ7及びAD変換器3を介してオシロスコープ8に接続し、正常レーザスクライブ時、及び異常レーザスクライブ時の波形を観測した。
このときの具体的諸元は次のとおりである。
〔基板〕製造会社:旭硝子株式会社、型番:AN100、品種:厚さ0.7mmのガラス基板
〔テーブル速度〕100mm/sec
〔AEセンサ〕製造会社:株式会社エヌエフ回路設計ブロック、型番:AE901S−WP
〔ディスクリミネータ〕製造会社:株式会社エヌエフ回路設計ブロック製、型番:AE9922
異常スクライブ線形成時は、基板Kにおける割断予定線Jの始端JSに意図的に初期亀裂Cを形成しないでレーザ光Lの照射及びミストMの噴射を行った。なお、ノイズが多かったため、100kHz以下、200kHz以上の周波数信号は、ディスクリミネータ7により除去した。その結果、異常超音波信号の振幅は、正常超音波信号の振幅よりも大きいことがわかった。これは、正常な亀裂が進展しているときにスクライブ線における亀裂発生部分(進展部分)より放出される音波が、異常なときに比べて大きいことによる。その他、レーザ出力が規程値から逸脱している場合や、ミストの噴射量が規程値から逸脱している場合なども、正常時に比べて波形の特性に違いが表れると考えられ、その違いを基に正常か異常かの判定基準とすることができる。
以上、本発明の実施の形態について説明を行ったが、上に開示した実施の形態は、あくまで例示であって、本発明の範囲はこの実施の形態に限定されるものではない。本発明の範囲は、特許請求の範囲の記載によって示され、更に特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内でのすべての変更を含むことが意図される。
本発明に係るレーザスクライブ装置の正面概略図である。 本発明に係るレーザスクライブ装置によるレーザスクライブ動作を平面視的に示す図である。 解析用コンピュータの構成概要を示す図である。 レーザスクライブ装置によるスクライブ線形成動作を示すフローチャートである。 本発明の実施例に用いたレーザスクライブ装置の正面概略図である。 図5に示すレーザスクライブ装置により得た正常超音波信号と異常超音波信号を示す図である。
符号の説明
1 AEセンサ
5 警報装置
10 レーザスクライブ装置
20 可動テーブル(テーブル)
21 テーブル駆動装置(駆動手段)
40 レーザ光照射ユニット
42 記憶部(記憶手段)
43 比較処理部(判定手段)
J 割断予定線
K 基板(被割断基板)
L レーザ光
S1 超音波信号
S2 正常超音波信号

Claims (6)

  1. 被割断基板Kを載置保持するためのテーブル20と、スクライブ線形成のためのレーザ光Lを被割断基板Kの表面に向けて照射可能なレーザ光照射ユニット40と、テーブル20とレーザ光照射ユニット40とを相対移動させる駆動手段21とを備え、被割断基板Kにおける割断予定線Jに沿うようにレーザ光Lを相対移動させることによりこの割断予定線J上にスクライブ線形成を行うレーザスクライブ装置10において、
    スクライブ線形成時に当該スクライブ線SBにおける亀裂発生部分より放出される超音波をリアルタイムで検出するAEセンサ1と、
    正常なスクライブ線形成時に当該正常なスクライブ線における亀裂発生部分より放出される超音波を正常超音波信号S2として予め登録した記憶手段42と、
    AEセンサ1から出力された超音波信号S1と、記憶手段42に登録された正常超音波信号S2とに基づいて、正常なスクライブ線形成が行われているか否かを判定する判定手段43とを備えることを特徴とするレーザスクライブ装置。
  2. 前記判定手段43により異常なスクライブ線形成が行われていると判定されたときに警報を発する警報装置5を備える請求項1に記載のレーザスクライブ装置。
  3. 前記判定手段43は、AEセンサ1から出力された超音波信号S1と、記憶手段42に予め登録された正常超音波信号S2との振幅及び/または周波数の違いに基づいて前記判定を行う請求項1または請求項2に記載のレーザスクライブ装置。
  4. 被割断基板Kを載置保持するためのテーブル20と、スクライブ線形成のためのレーザ光Lを被割断基板Kの表面に向けて照射可能なレーザ光照射ユニット40と、テーブル20とレーザ光照射ユニット40とを相対移動させる駆動手段21とを備え、被割断基板Kにおける割断予定線Jに沿うようにレーザ光Lを相対移動させることによりこの割断予定線J上にスクライブ線形成を行うレーザスクライブ方法において、
    正常なスクライブ線形成時に当該正常なスクライブ線における亀裂発生部分より放出される超音波を正常超音波信号S2として予め記憶手段42に登録しておき、
    スクライブ線形成時に当該スクライブ線SBにおける亀裂発生部分より放出される超音波をAEセンサ1によりリアルタイムで検出し、
    AEセンサ1から出力された超音波信号S1と、記憶手段42に登録された正常超音波信号S2とに基づいて、正常なスクライブ線形成が行われているか否かを判定手段43により判定することを特徴とするレーザスクライブ方法。
  5. 前記判定手段43により異常なスクライブ線形成が行われていると判定されたときに警報装置5から警報を発する請求項4に記載のレーザスクライブ方法。
  6. 前記AEセンサ1から出力された超音波信号S1と、記憶手段42に予め登録された正常超音波信号S2との振幅及び/または周波数の違いに基づいて前記判定を行う請求項4または請求項5に記載のレーザスクライブ方法。
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