JP2007264114A - 液浸顕微鏡装置 - Google Patents

液浸顕微鏡装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2007264114A
JP2007264114A JP2006086317A JP2006086317A JP2007264114A JP 2007264114 A JP2007264114 A JP 2007264114A JP 2006086317 A JP2006086317 A JP 2006086317A JP 2006086317 A JP2006086317 A JP 2006086317A JP 2007264114 A JP2007264114 A JP 2007264114A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid
residual
sample
suction
immersion microscope
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006086317A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2007264114A5 (ja
Inventor
Hiromasa Shibata
浩匡 柴田
Tadashi Sakaguchi
直史 坂口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP2006086317A priority Critical patent/JP2007264114A/ja
Publication of JP2007264114A publication Critical patent/JP2007264114A/ja
Publication of JP2007264114A5 publication Critical patent/JP2007264114A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Microscoopes, Condenser (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

【課題】 本発明は、液浸顕微鏡の対物レンズ鏡筒のレンズ部と試料との間を液体で満たして使用される液浸顕微鏡装置に関し、試料面に供給された液体あるいは試料面に付着した液体の有無を確実に検出することを目的とする。
【解決手段】
液浸顕微鏡の対物レンズ鏡筒の先端レンズ部と、試料との間に液体を供給する液体供給手段と、前記先端レンズ部と前記試料との間の前記液体を吸引する液体吸引手段と、前記液体吸引手段の作動後に、前記試料上の残留する前記液体を検出し、前記液体の残留情報を取得する液体検出手段と、前記液体吸引手段で検出された前記液体の残留情報が所定条件を上回ると、前記試料に悪影響を及ぼす量の前記液体が残留していると判別する液体残留判別手段とを備えたことを特徴とする。
【選択図】 図3

Description

本発明は、液浸顕微鏡の対物レンズ鏡筒のレンズ部と試料との間を液体で満たして使用される液浸顕微鏡装置に関する。
従来、半導体の製造工程において半導体基板(ウエハ)を液浸法により露光する工程があるが、この液浸露光後の基板上に液体が残留していると種々の不都合が発生する可能性がある。
この液体の残留を検出するのに赤外線を使うことが知られている。そして、残留水滴があると検出されると、半導体基板からその残留水滴を除去する処理をすることが知られている(特許文献1)。
国際公開番号 WO2005/036621A1
特許文献1の残留液体検出装置は、半導体基板上に液体が1滴でもあれば、残留水滴があると検出するものである。従って、その残留水滴の残留量、例えば、残留水滴の面積やその数により問題がない程度の残留量である場合にも残留水滴ありと検出してしまう。そのため、残留水滴の影響を除去するための処理が不要なものもその処理が実行されてしまい、無駄な処理をすることになり、スループットが悪化する。
本発明は、かかる従来の事情に対処してなされたもので、試料面に供給された液体あるいは試料面に付着した液体の有無を確実に検出することができる液浸顕微鏡装置を提供することを目的とする。
第1の発明の液浸顕微鏡装置は、液浸顕微鏡の対物レンズ鏡筒の先端レンズ部と、試料との間に液体を供給する液体供給手段と、前記先端レンズ部と前記試料との間の前記液体を吸引する液体吸引手段と、前記液体吸引手段の作動後に、前記試料上の残留する前記液体を検出し、前記液体の残留情報を取得する液体検出手段と、前記液体吸引手段で検出された前記液体の残留情報が所定条件を上回ると、前記試料に悪影響を及ぼす量の前記液体が残留していると判別する液体残留判別手段とを備えたことを特徴とする。
第2の発明の液浸顕微鏡装置は、第1の発明の液浸顕微鏡装置において、前記残留情報は、前記液体の残留面積や残留数を含み、前記液体残留判別手段は、前記液体の残留面積および残留数の少なくとも一方の情報に基づいて前記液体の残留有無を判別することを特徴とする。
第3の発明の液浸顕微鏡装置は、第1の発明の液浸顕微鏡装置において、前記液体供給手段の供給条件を調整する第一調整手段と、前記液体吸引手段の吸引条件を調整する第二調整手段と、前記液体残留判別手段により前記液体の残留が確認された場合に、前記液体の残留情報に基づいて前記第一調整手段および前記第二調整手段の少なくとも一方を制御し、前記液体の残留情報が前記所定条件を下回るように制御する制御手段とを備えたことを特徴とする。
第4の発明の液浸顕微鏡装置は、第3の発明の液浸顕微鏡装置において、前記残留情報は、前記液体の残留分布を示す座標データ、前記液体の残留面積、前記液体の残留数を含み、前記制御手段は、前記液体の残留情報の座標データに基づいて前記第一調整手段および前記第二調整手段の少なくとも一方を作動させ、前記液体の残留情報の残留面積、残留数が前記所定条件を下回るように制御することを特徴とする。
第5の発明の液浸顕微鏡装置は、第4の発明の液浸顕微鏡装置において、前記第一調整手段が調整する供給条件には、複数の条件を含み、また、前記第二調整手段が調整する吸引条件には、複数の条件を含み、前記制御手段は、前記残留情報に基づいて、前記第一調整手段あるいは前記第二調整手段を調整する際に前記供給条件あるいは前記吸引条件の複数の条件の中で優先順位を付けて調整制御することを特徴とする。
第6の発明の液浸顕微鏡装置は、第3の発明の液浸顕微鏡装置において、前記試料の撥水性あるいは親水性の条件を入力する入力手段と、前記入力条件に基づいて、前記供給条件あるいは前記吸引条件の初期設定条件を設定する設定手段とを備えることを特徴とする。
第7の発明の液浸顕微鏡装置は、第1ないし第6のいずれか1の発明の液浸顕微鏡装置において、前記液体検出手段は、前記対物レンズ鏡筒を通して赤外線を前記試料に向けて照射する赤外線照射手段と、前記試料からの前記赤外線の反射光あるいは透過光を前記対物レンズ鏡筒を通して検出する赤外線検出手段とを備えたことを特徴とする。
本発明の液浸顕微鏡装置では、試料面に供給された液体あるいは試料面に付着した液体の有無を確実に検出することができる。
以下、本発明の実施形態を図面を用いて詳細に説明する。
(第1の実施形態)
図1は、本発明の液浸顕微鏡装置の第1の実施形態を示している。この実施形態では、本発明が、ウエハ外観検査装置に適用される。
この液浸顕微鏡装置は、基台11を有している。基台11上には、液浸顕微鏡12が配置されている。液浸顕微鏡12は、コ字状の顕微鏡鏡基13を有している。顕微鏡鏡基のベース部13aは基台11上に載置されている。顕微鏡鏡基13のスタンド部13bには、接眼レンズ部15およびランプハウス部17が配置されている。また、スタンド部13bの下面には、液浸対物レンズ鏡筒19が配置されている。この液浸対物レンズ鏡筒19の外側には、赤外線発光光学系21および赤外線検出光学系23が配置されている。
液浸対物レンズ鏡筒19の下方には、観察ステージ25が配置されている。この観察ステージ25は、試料台27、Zステージ29、XYステージ31を有している。試料台27は、試料であるウエハ33を真空吸着等の手段により保持する。Zステージ29は、試料台27の下に配置され、試料台27を上下(Z方向)に移動して焦点合わせをする。XYステージ31は、Zステージ29の下に配置され試料台27を水平方向(XY方向)に移動する。
観察ステージ25の側方には、ウエハ搬送ロボット35、ウエハキャリア37、ウエハ乾燥装置39が配置されている。ウエハ搬送ロボット35は、搬送アーム41を有しており、ウエハキャリア37内のウエハ33を試料台27に搬送する。また、試料台27のウエハ33を、ウエハ乾燥装置39のウエハ乾燥室43またはウエハキャリア37内に搬送する。ウエハキャリア37は、支持部材45上に載置されている。
ウエハ乾燥室43には、ゲートバルブ47が配置されている。このゲートバルブ47は、駆動装置49により開閉可能とされている。ウエハ乾燥室43は、図示しない加熱手段により60〜80℃の温度に維持されている。ウエハ乾燥室43には、窒素、ヘリウム等の不活性ガスを供給するガス供給配管51および排出するガス排出配管53が接続されている。ウエハ乾燥室43内には、ウエハ33を保持するウエハ保持部材55が配置されている。
図2は、図1に示した液浸対物レンズ鏡筒19およびこの近傍の詳細を示している。
液浸対物レンズ鏡筒19の外筒部分には、ブロック部材57が固定されている。このブロック部材57には、液体供給装置59の供給ノズル部61、および、液体吸引装置63の吸引ノズル部65が形成されている。
供給ノズル部61は、配管67を介してシリンダ69に接続されている。シリンダ69の内部には、純水からなる液体Wが蓄えられている。そして、ピストン71を移動することにより、供給ノズル部61の先端から液体Wが吐出される。ピストン71は、モータ等の動力を直線運動に変換する送りねじ(不図示)と連結されており、その移動速度を可変とされている。配管67には、新しい液体Wが入った純水源73から、シリンダ69内に液体Wを供給するための2位置電磁弁75が介装されている。
吸引ノズル部65は、配管77を介して真空源(真空ポンプ)79に接続されている。配管77には、排液貯めタンク81が介装されている。この排液貯めタンク81は、吸引ノズル部65からの液体Wを含んだ空気から排液W1だけを分離して貯め、空気のみを真空源79に流入させる。排液貯めタンク81には、排液W1を排出するコック81aが配置されている。
図3は、赤外線発光光学系21および赤外線検出光学系23の詳細を示している。
赤外線発光光学系21は、赤外光源83、コレクタレンズ85、スリット87、折り曲げミラー89、発光側対物レンズ91を有している。この赤外線発光光学系21は、赤外光源83からの赤外線を、スリット87で細長ビームにし、スリット像Sを発光側対物レンズ91を介してウエハ33上に投影する。赤外光源83からは、波長2.7〜3.5μmの赤外線が発光される。また、発光側対物レンズ91は、ウエハ33の観察面33aに対して角度θで、液浸対物レンズ鏡筒19の光軸Lが通過する位置に赤外線Rを出射する。なお、スリット像Sを、シリンドリカルレンズを用いて形成するようにしても良い。
赤外線検出光学系23は、受光側対物レンズ93、折り曲げミラー95、コレクタレンズ97、1次元撮像素子99を有している。そして、ウエハ33上に投影されたスリット像Sが受光側対物レンズ93、折り曲げミラー95、コレクタレンズ97を介して1次元撮像素子99上に投影される。受光側対物レンズ93は、ウエハ33の観察面33aに対して角度θで、液浸対物レンズ鏡筒19の光軸Lが通過する位置に向けて配置されている。なお、入射角θおよび反射角θを全反射角以上となる角度に設定することにより信号のS/N比を向上することができる。従って、角度θを、液体Wの屈折率に応じて微調整できる機構を赤外線発光光学系21および赤外線検出光学系23に設けるのが望ましい。
図4は、上述した液浸顕微鏡装置を制御する制御装置101の詳細を示している。
制御装置101の入力側には、観察開始スイッチS1、観察完了スイッチS2、赤外線検出光学系23が接続されている。また、制御装置101の出力側には、ウエハ搬送ロボット35、液体供給装置59、液体吸引装置63、赤外線発光光学系21、ウエハ乾燥装置39が接続されている。観察開始スイッチS1および観察完了スイッチS2は、図1に示すように、接眼レンズ部15の近傍に配置されている。観察開始スイッチS1をオンすると、ウエハ33の観察の開始信号が制御装置101に入力される。また、観察完了スイッチS2をオンすると、ウエハ33の観察の完了信号が制御装置101に入力される。
図5は、上述した液浸顕微鏡装置の制御装置101の動作を示すフローチャートである。
先ず、液浸顕微鏡装置では、液浸検査に最適化された液体の吐出制御と吸引制御の装置条件設定を行う。この装置条件設定の初期条件設定では、テストウエハなどを使用して条件設定を行うが、液浸検査処理を実行中にも条件設定の最適化を行う。
この条件設定処理について具体的に説明する。
ステップS1: 液浸検査処理に先立ち、ユーザーは、装置条件の初期設定を行う場合には初期設定スイッチをオンする。
ステップS2: 液浸顕微鏡装置の入力画面から、検査対象のウエハの表面材料や表面張力などの諸条件ファクターを入力する。
ステップS3: 制御装置101は、ステップS2において入力された諸条件ファクターに基づき、液体供給装置59の供給ノズル部61(吐出ノズル)からの浸液の吐出速度、吐出流量などの吐出条件、また、検査工程後の液体吸引装置63の吸引ノズル部65の浸液の吸引流量、吸引時間などの吸引条件が自動的に設定される。この自動設定される装置条件(吐出条件及び吸引条件を含む)は、予め実験などで得られた値としてテーブル化(ルックアップテーブル)されている。
次に、具体的な吐出及び吸引条件の設定方法を実施例1及び2で説明する。
(実施例1:吐出/吸引条件設定(その1))
ウエハ表面状態が、対物レンズ材質(の表面張力)と比較して、「親水性」か「撥水性」かで、吐出/回収ノズルの最適条件が異なるため、製品を検査する際には、あらかじめその製品に対する最適吐出/回収条件を制御装置101(パーソナルコンピュータ)上で初期設定(ステップS1−ステップS3)しておく必要がある。本実施例は、このような設定にも適用できる。以下に、その手法を説明する。
ステップS8によって得られた残留水滴情報を「マッピング表示」することにより、実施例1で示した「面積」、「数」の情報以外に、「場所」の情報が新たに判る。この3つの情報から、例えば、供給ノズル部61の近辺に水滴が集中しているのか、対物レンズ19の先端付近に集中しているのかなどの違いによって条件設定の判断材料になる。以下に、吐出、吸引条件の各々の条件設定例を示す。
(1) 吐出条件
供給ノズル部61の主なパラメータは、「吐出速度」、「吐出流量」及び「対物レンズ先端と試料間の隙間」である。
(1)例えば、観察対象のウエハ33が親水性表面の場合、撥水性表面よりも同一速度条件における水の拡がりが大きくなる傾向がある。そのため、「吐出速度」を小さめに設定すると良い。
(2)また、観察対象のウエハ33が親水性表面の場合、撥水性表面よりも同一吐出量における水の拡がりが大きくなる傾向がある。そのため、「吐出流量」を小さめに設定すると良い。
(3)観察対象のウエハ33が撥水性表面の場合、対物レンズ先端と試料間の隙間が微小(例えば0.2〜0.3mm程度)だと、水が入り込みにくい。そのため、「隙間」を焦点位置より拡げる方向に設定して、水が入り込みやすくすると良い。
(4)上記吐出パラメータのうち、より効果の大きい「吐出水量」を第1パラメータとし、「吐出速度」第2パラメータ、「隙間」を第3パラメータとする。優先順位をつけて、効果をマッピング画像で確認しながら、必要なパラメータを振るようにする。
(2)吸引条件
吸引ノズル部65の主なパラメータは、「吸込流量」、「吸込時間」、「対物レンズ先端と試料間の隙間」である。
(1) たとえば、観察対象のウエハ33が親水性表面の場合、撥水性表面よりも同一吸込流量における水の吸い残しが大きくなる傾向がある。そのため、「吸込流量」を大きめに設定すると良い。
(2) 同じく、親水性表面の場合、「吸引時間」を長くして吸込を良くすることが出来る 。
(3) また、親水性表面の場合、「対物レンズ先端と試料間の隙間」を焦点位置より小さく設定して、(ベルヌーイの定理により)吸込効率を上げることができる。
(4) 上記パラメータのうち、第1パラメータを「吸込流量」、第2パラメータを「吸込時間」、第3パラメータを「対物レンズ先端と試料間の隙間」とし、優先順位付けをして、効果を確認しながらパラメータを振るようにする。
(実施例2:吐出/吸引条件設定(その2))
上記実施例1の応用として、さらに次のような実施例が考えられる。
(1)オペレータは、ウエハ表面の材質が、撥水性か親水性かが予め判っている場合は、制御装置101のモニター表示装置103上に設けられた「撥水性」、「親水性」の条件設定ボタンを選択して条件設定を行う。(簡単モード)
なお、「撥水性」とは、顕微鏡対物レンズ構成部材の表面張力(あるいは接触角)よりも大きい表面張力(あるいは接触角)を持つ試料表面材質を指す。逆に「親水性」とは、顕微鏡対物レンズ構成部材の表面張力(あるいは接触角)よりも小さい表面張力(あるいは接触角)を持つ試料表面材質を指す。
(2)オペレータは、ウエハ表面材質が何か予めわかっている場合は、同じく制御装置101(パーソナルコンピュータ)のモニター表示装置103上に設けられた条件設定画面において材質名(例えばSiO2)をボタン選択あるいはキー入力し、条件設定を行う。(キー入力モード)
これらの材質は、あらかじめ「材質名」と「表面張力(あるいは接触角)」の値が制御PC内にデータとして蓄えられているものとする。
(3)上記(1)、(2)でうまく条件設定が出来ない場合は、実施例1の手法を用いる。
以上、吐出及び吸引条件の説明を終了する。
ステップS4: 初期設定スイッチがオンされた場合には、ウエハキャリア37内のテストウエハ33あるいは、検査対象のウエハロッドの最初のウエハ33がウエハ搬送ロボット35により試料台27(ステージ)に搬送され、所定位置に保持される。
また、初期設定スイッチがオンされていない場合には、通常のウエハ検査工程の液浸検査処理の工程にあるので、その検査工程中のウエハ33がウエハ搬送ロボット35により試料台27(ステージ)に搬送され、所定位置に保持される。
ステップS5: 液浸供給装置59を駆動して、ステップS3あるいはステップS13で設定された装置条件(吐出条件)に基づき、供給ノズル部61から液体W(浸液)を吐出する。具体的には、駆動手段(不図示のモーターなど)によりピストン71の押し出し量を精密に制御して、液体Wの定量吐出制御を行う。これにより、図2に示したように、液浸対物レンズ鏡筒19の先端のレンズ部19aとウエハ33との間隙に最適な表面張力が働くだけの液体Wを供給することができる。
ステップS6: ウエハ33の予め決められた検査ポイントにおいて、浸液が供給され、液浸検査が行われる。すなわち、液浸顕微鏡装置により観察が行われる。
なお、液体Wの供給後に、2位置電磁弁75の位置を切換えて、純水源73から清浄な液体Wをシリンダ69内に取り込む。取り込み後、再び、2位置電磁弁75の位置を切り替えて、供給ノズル部61側に接続される。
ステップS7: ステップS6の液浸検査のための観察が終了すると、ステップS3あるいはステップS13で設定された装置条件(吸引条件)に基づき、液体吸引装置63が作動し、吸引ノズル部65により液体Wを吸引する。具体的には、真空源79を作動し、吸引ノズル部65から配管77を経由して、排液貯めタンク81に液体Wを送り込む。このとき、当然空気も一緒に吸い込むことになるが、排液貯めタンク81に排液だけが落下し、空気だけが配管77aを通って真空源79に流れる。従って、真空源(真空ポンプ)79に液体Wが流入してポンプを損傷させることを防止することができる。
ステップS8: 液体Wが吸引された後のウエハ33の観察面33aの水滴残留検査をする。
具体的には、赤外線発光光学系21の赤外光源83をオンして、図3に示したように、ウエハ33の観察面33aにスリット光Sを照射する。このスリット光Sは、観察面33aで反射して赤外線検出光学系23の一次元撮像素子(例えばCCD素子)99により検出される。そして、XYステージ31をX方向にスキャンして、ウエハ33の観察面33aへの照射位置を少しずつ移動することにより、液体Wが供給された浸水エリアの状態が順次1次元撮像素子99に取り込まれ、制御装置101に出力される。
この実施形態では、図6の(a)に示すように、XYステージ31のX方向へのスキャン距離Dとスリット像Sの長さDが、浸水エリアEの直径d(図2参照)を全てカバーするように設定されている。従って、1次元撮像素子99により検出されたスリット像Sをスキャン位置との関係で画像処理すると図6の(a)に示すような画像を得ることができる。この画像は、液浸対物レンズ鏡筒19の光軸Lを原点とするXY座標系を形成している。画像処理は、制御装置101内に設けられた画像処理部101aにおいて行われる。
次に、ステップS7において、ウエハ33に液体Wが残存しているか否かを判断する。
この判断は、画像処理部101aにおいて画像処理された画像に基づいて行われる。
すなわち、ウエハ33の浸水エリアEに液体W(純水)が残存している場合には、水による赤外線の吸収により、水が存在する位置において、反射率が著しく低くなる。図7は、水による赤外線の吸収を示すもので、波長2.7〜3.5μmの赤外線では、水による赤外線の吸収により透過率が低下しているのがわかる。そして、波長3.0μmの近傍において透過率が極端に低下している。
従って、図6の(a)において液体Wが残存するA−A部では、1次元撮像素子99で検出された輝度とY座標との関係が、図6の(b)に示すようになり、液体Wの存在している部分で輝度が低下する。そして、制御装置101は、輝度が予め定められた所定値より低下している部分が存在している時に、ウエハ33に液体Wが残存していると判断する。なお、液浸対物レンズ鏡筒19の光軸Lの周辺に残存する液体Wの位置(座標)、液体Wの大きさ(何Pixe1相当か)、液体Wの数を算出し、モニター表示装置103の表示画面上に表示する。また、図6の(a)に示すような画像をモニター表示装置103の表示画面上に表示する。
例えば、図7(A1)のように供給ノズル部61の吐出流量が多すぎた場合には、液体Wが観察面33a上に広がり、吸引した際に、図7(B1)のように対物レンズの周囲に水滴Wが残留する危険がある。
また、図7(A2)のように供給ノズル部61の吐出速度が早すぎた場合には、液体Wが吸引ノズル部65のノズル先端部の後方まで届いてしまい、吸引した際に、図7(B2)のように吸引ノズル部65のノズル先端付近に水滴Wが残留する危険がある。
また、図7(A3)のように供給ノズル部61の吐出流量が少なく、吐出速度が遅い場合には、液体Wが供給ノズル61近くに留まり、吸引した際に、図7(B3)のように供給ノズル61近傍に水滴Wが残留する危険がある。
ステップS9: ステップS8において検出された残留した水滴Wの分布情報(XY座標データ)および水滴の面積情報が1次元撮像素子99の画像データにより算出される。この算出された残留水滴情報は、モニター表示装置103において残留水滴のマッピングデータとして表示される。
ステップS10: ウエハ33の観察面33a上に水滴Wが残留した場合に、ウエハ33に悪影響を与え、不良品として判別されるものか否かを、水滴Wの残留量で判定する。
具体的には、ステップS8において検出した水滴Wの画像データに基づき、水滴の「面積」及び「数」の情報がわかる。この情報から、ウエハ表面が「良品」か「不良品」かを、判別することができる。例えば、以下のような判別方法が考えられる。
(1)水滴の「面積」だけに着目し、例えば直径φ0.2mm以上の水滴の有無を検出し、あった場合は「不良」と判定する。
(なお、ここで0.2mm以上の水滴を判断基準としているのは、ある条件下では、0.2mm未満の大きさの水滴は、瞬時に消滅し、試料表面に輪染み等の実害を残さないという理由からである。)
(2)水滴の「面積」と「数」に着目し、水が残留する「総面積(=面積×数)」を算出して、一定値(例えば0.2mm以上の水滴が3個以上)を超えていた場合は不良品と判定する。(水滴総面積がある値を超えると、製品歩留まりが急激に悪化する場合には有効な判定方法である。)
(3)水滴の「数」に着目し、一定値(例えば3個以上)を超えると、「不良」と判断す る。
なお、良品/不良品の判定基準は、装置設置環境や製品の材質・性質などの要因により異なるため、一義的に規定出来ない。そのため、装置使用者が、制御装置101のモニター表示装置103の画面上で適切な値を設定できるようにすることは、非常に効果的である。
ステップS11: ステップS10により求められた水滴Wの残留量が所定量以下であると判定された場合には、その際の装置条件すなわち吐出条件及び吸引条件が登録あるいは更新される。
ステップS12: 次の検査対象であるウエハを、ウエハキャリアから搬送し、ステージ上に載置する。そして、液浸検査処理を実行している場合には、ステップS1からステップS5にジャンプして、ステップS11で記録された装置条件に以後の処理を実行する。
ステップS13: ステップS10において水滴Wの残留量が所定量以上であると判定されと、吐出及び吸引条件を修正する。ステップS8及びステップS9において解析した残留水滴情報に基づいて、吐出速度が早いと解析されれば、吐出速度を下方修正し、また、吐出流量が多いと解析されれば、吐出流量を下方修正する。
具体的には、図8は、吐出条件(吐出流量、吐出速度、吐出時の対物レンズのワーキングディスタンス(WD))や吸引条件(吸引流量、吸引速度、吸引時間)を制御するための制御テーブルを示す。図8は、吐出条件及び吸引条件の各パラメータを調整する係数K,L,R,S,Tをテーブル化したものを示しており、これら係数は、検査対象である半導体ウエハの親水性、撥水性などの条件によって予め決められた値である。そして、図8では、吐出条件及び吸引条件の各パラメータを調整する優先順位を決めている。
図7(B1)のように対物レンズの周囲に水滴が残留した場合には、優先順位1番目の修正を行う、すなわち、前回の吐出流量に係数K2を掛けて、所定量の吐出流量を減らす調整を行う。その結果、ステップS10を通過し、ステップS11に進む場合には、その吐出流量の条件データを更新し、記憶する。逆に、ステップS10をクリアせずに、再度、ステップS13にて修正が必要と判断された場合には、優先順位2番目の修正を行う、すなわち、前回の吸引流量に係数S1を掛けて、所定量の吸引流量を増やす調整を行う。この手順を繰り返し、最適な吐出条件と吸引条件とを記憶する。
同様に、図7(B2)の場合も、図7(B3)の場合も、図8の制御テーブルに基づいて、調整を繰り返し、最適な吐出条件と吸引条件とを記憶する。
ステップS14: ステップS13において修正された吐出及び吸引条件に基づき、ウエハ33の次の観察ポイントへ移動して、ステップS5に戻り、液浸検査処理を実行する。
上述した液浸顕微鏡装置では、残存した水が空気中の酸素や有機物が溶解して輸染みを形成し、ウエハ歩留まりを悪化させることを防止することができる。
なお、この実施形態では、赤外線発光光学系21および赤外線検出光学系23を液浸対物レンズ鏡筒19の両側に配置した例について説明したが、赤外線発光光学系21および赤外線検出光学系23を液浸対物レンズ鏡筒19から離れた位置に配置しても良い。例えば、赤外線発光光学系21および赤外線検出光学系23をウエハ33の片側に寄せて配置してもよい。また、ウエハ搬送ロボット35による搬送路の途中に配置しても良い。
また、この実施形態では、ウエハ33に液体Wが残存している場合には、ウエハ33をウエハ乾燥装置に搬送して液体Wを乾燥しても良い。また、再度、吸引ノズル部65からの吸引を行い、それでも液体Wが残存している場合に、ウエハ33をウエハ乾燥装置39に搬送するようにしても良い。
(第2の実施形態)
図9は、本発明の液浸顕微鏡装置の第2の実施形態の要部を示している。
なお、この実施形態において第1の実施形態と同一の部材には、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
この実施形態では、赤外線発光光学系21と赤外線検出光学系23とが、ウエハ33の水平方向の両側に対向して配置されている。赤外線発光光学系21および赤外線検出光学系23は、支持部材105によりZステージ29に固定されている。従って、試料台27の上下方向の移動に応じて、赤外線発光光学系21および赤外線検出光学系23も上下に移動する。赤外線発光光学系21は、ウエハ33の観察面33aの近傍に、観察面33aに平行に赤外線Rを出射するように位置されている。また、赤外線検出光学系23は、赤外線発光光学系21からの赤外線Rの光路上に位置されている。
この実施形態では、赤外線発光光学系21からウエハ33の観察面33aの近傍に平行に赤外線Rを出射し、この赤外線Rを赤外線検出光学系23により検出することにより液体Wの有無が検出される。すなわち、ウエハ33の観察面33aに液体Wが存在する場合には、赤外線発光光学系21から出射された赤外線Rが液体Wにより吸収され、赤外線検出光学系23の1次元撮像素子99で検出される赤外線Rの輝度が低下するため、液体Wの有無を検出することが可能になる。そして、XYステージ31をY方向にスキャンして、ウエハ33を少しずつ移動することにより、液体Wが供給された浸水エリアEの状態が順次1次元撮像素子99に取り込まれる。
この実施形態においても第1の実施形態と略同様の効果を得ることができるが、この実施形態では、赤外線発光光学系21と赤外線検出光学系23とを、ウエハ33の両側に水平方向に対向して配置したので、第1の実施形態に比較して、赤外線発光光学系21と赤外線検出光学系23のレイアウトを容易なものにすることができる。また、赤外線発光光学系21からの赤外線Rをウエハ33で反射することなく赤外線検出光学系23で受光するようにしたので、赤外線の反射による感度の低下を防止することができる。
図10は、この実施形態の変形例を示すもので、この例では、赤外線発光光学系21から出射した赤外線Rが、ハーフミラー107で2方向に分岐される。ハーフミラー107を直進した赤外線R1は、ウエハ33の側方を通過し、基準信号として赤外線検出光学系23Bに入射される。ハーフミラー107で反射した赤外線R2は、全反射ミラー109で反射し、ウエハ33の観察面33aの近傍を通り、赤外線検出光学系23Aに入射される。この例では、赤外線検出光学系23Aに入射される信号をA、赤外線検出光学系23Bに入射される信号をBとすると、A−Bの差分信号を取ることにより、バックグラウンドノイズを除去することが可能になり、検出精度を向上させることができる。
(第3の実施形態)
図11は、本発明の液浸顕微鏡装置の第3の実施形態の要部を示している。
なお、この実施形態において第1の実施形態と同一の部材には、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
この実施形態では、顕微鏡光学系が同軸落射方式とされ、下側から順に、照明光学系111、オートフォーカス光学系113、液体検出光学系115が配置されている。照明光学系111のランプハウス部17からは、例えば波長248nmの紫外線が照明光として出射される。照明光は、ダイクロイックミラー117で反射し、液浸対物レンズ鏡筒19、液体Wを通りウエハ33の観察面33aに導かれる。観察面33aで反射した照明光は、液体W、液浸対物レンズ鏡筒19、ダイクロイックミラー117を通り、ダイクロイックミラー119で反射した後、接眼レンズ部15に導かれ、ウエハ33の観察が行われる。
オートフォーカス光学系113からは、例えば可視光がオートフォーカス光として出射される。オートフォーカス光は、ダイクロイックミラー121で反射した後、ダイクロイックミラー119,117、液浸対物レンズ鏡筒19、液体Wを通り、ウエハ33の観察面33aに導かれる。観察面33aで反射したオートフォーカス光は、液体W、液浸対物レンズ鏡筒19、ダイクロイックミラー117,119を通り、ダイクロイックミラー121で反射した後、オートフォーカス光学系113に導かれ、ウエハ33の観察面33aの焦点調整が行われる。
液体検出光学系115からは、例えば2.7〜3.5μmの赤外線が出射される。赤外線は、ダイクロイックミラー123で反射した後、ダイクロイックミラー121,119,117、液浸対物レンズ鏡筒19、液体Wを通り、ウエハ33の観察面33aに導かれる。観察面33aで反射した赤外線は、液体W、液浸対物レンズ鏡筒19、ダイクロイックミラー117,119,121を通り、ダイクロイックミラー123で反射した後、液体検出光学系115に導かれる。従って、XYステージ31をスキャンして、ウエハ33を水平移動することにより、ウエハ33に残存する液体Wを検出することができる。
この実施形態では、液浸対物レンズ鏡筒19を介して、観察、オートフォーカスおよび液体Wの検出を行うことができる。
なお、この実施形態では、液体検出光学系115により、赤外線の発光および検出をした例について説明したが、液浸対物レンズ鏡筒19の外側の近傍に赤外線発光光学系を配置するとともに、液体検出光学系115の代わりに赤外線検出光学系を配置し、液浸対物レンズ鏡筒19に入射する赤外散乱光を液体検出光学系で検出するようにしても良い。
(第4の実施形態)
図12は、本発明の液浸顕微鏡装置の第4の実施形態の要部を示している。
なお、この実施形態において第3の実施形態と同一の部材には、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
この実施形態では、赤外線がウエハ33を透過する性質を利用している。そして、第3の実施形態における液体検出光学系115の位置に、赤外線検出光学系23が配置されている。また、ウエハ33の下方となる位置に赤外線発光光学系21が配置されている。より具体的には、ウエハ33の外周部が、Zステージ29に固定される支持部材125により支持されている。そして、Zステージ29における液浸対物レンズ鏡筒19の光軸Lの延長上に赤外線発光光学系21が配置されている。
この実施形態では、赤外線発光光学系21からの赤外線がウエハ33を透過し、液体W、液浸対物レンズ鏡筒19、ダイクロイックミラー117,119,121を通り、ダイクロイックミラー123で反射した後、赤外線検出光学系23に導かれる。従って、XYステージ31をスキャンして、ウエハ33を水平移動することにより、ウエハ33に残存する液体Wを検出することができる。
(実施形態の補足事項)
以上、本発明を上述した実施形態によって説明してきたが、本発明の技術的範囲は上述した実施形態に限定されるものではなく、例えば、以下のような形態でも良い。
(1)上述した実施形態では、ウエハ33の観察面33aに残存する液体Wを検出した例について説明したが、供給ノズル部61から液浸対物レンズ鏡筒19とウエハ33との間に供給された液体Wを検出するようにしても良い。このようにすることで、供給ノズル部61から液体Wが供給されたことを確実に検出することが可能になり、自動化をより促進することができる。
(2)上述した実施形態では、赤外線検出光学系23に1次元撮像素子99を使用した例について説明したが、2次元撮像素子を使用しても良い。
(3)上述した実施形態では、液体Wに純水を用いた例について説明したが、本発明は、赤外線を吸収する液体を使用する液浸顕微鏡装置に広く適用することができる。
(4)上述した実施形態では、超音波振動子103により液体Wの乾燥を促進した例について説明したが、例えば、高周波磁界(マイクロウエーブ)を印加して液体Wの乾燥を促進しても良い。また、ウエハ乾燥室43内にファンを設置し、ファンによりウエハ33に温風を当てて乾燥を促進しても良い。
液浸顕微鏡装置の第1の実施形態を示す説明図である。 図1の液浸顕微鏡装置の要部の詳細を示す説明図である。 赤外線発光光学系および赤外線検出光学系の詳細を示す説明図である。 図1の液浸顕微鏡装置の制御装置を示す説明図である。 図1の液浸顕微鏡装置の動作を示す説明図である。 1次元撮像素子による液体の検出方法を示す説明図である。 液体の状態を示す説明図である。 吐出/吸引条件を示す説明図である。 液浸顕微鏡装置の第2の実施形態の要部を示す説明図である。 第2の実施形態の変形例を示す説明図である。 液浸顕微鏡装置の第3の実施形態の要部を示す説明図である。 液浸顕微鏡装置の第4の実施形態の要部を示す説明図である。
符号の説明
12:液浸顕微鏡、19:液浸対物レンズ鏡筒、19a:レンズ部、21:赤外線発光光学系、23:赤外線検出光学系、33:ウエハ、35:ウエハ搬送ロボット、39:ウエハ乾燥装置、59:液体供給装置、61:供給ノズル部、63:液体吸引装置、65:吸引ノズル部。

Claims (7)

  1. 液浸顕微鏡の対物レンズ鏡筒の先端レンズ部と、試料との間に液体を供給する液体供給手段と、
    前記先端レンズ部と前記試料との間の前記液体を吸引する液体吸引手段と、
    前記液体吸引手段の作動後に、前記試料上の残留する前記液体を検出し、前記液体の残留情報を取得する液体検出手段と、
    前記液体吸引手段で検出された前記液体の残留情報が所定条件を上回ると、前記試料に悪影響を及ぼす量の前記液体が残留していると判別する液体残留判別手段とを備えたことを特徴とする液浸顕微鏡装置。
  2. 前記残留情報は、前記液体の残留面積や残留数を含み、
    前記液体残留判別手段は、前記液体の残留面積および残留数の少なくとも一方の情報に基づいて前記液体の残留有無を判別することを特徴とする請求項1記載の液浸顕微鏡装置。
  3. 前記液体供給手段の供給条件を調整する第一調整手段と、
    前記液体吸引手段の吸引条件を調整する第二調整手段と、
    前記液体残留判別手段により前記液体の残留が確認された場合に、前記液体の残留情報に基づいて前記第一調整手段および前記第二調整手段の少なくとも一方を制御し、前記液体の残留情報が前記所定条件を下回るように制御する制御手段とを備えたことを特徴とする請求項1記載の液浸顕微鏡装置。
  4. 前記残留情報は、前記液体の残留分布を示す座標データ、前記液体の残留面積、前記液体の残留数を含み、
    前記制御手段は、前記液体の残留情報の座標データに基づいて前記第一調整手段および前記第二調整手段の少なくとも一方を作動させ、前記液体の残留情報の残留面積、残留数が前記所定条件を下回るように制御することを特徴とする請求項3記載の液浸顕微鏡装置。
  5. 前記第一調整手段が調整する供給条件には、複数の条件を含み、また、前記第二調整手段が調整する吸引条件には、複数の条件を含み、
    前記制御手段は、前記残留情報に基づいて、前記第一調整手段あるいは前記第二調整手段を調整する際に前記供給条件あるいは前記吸引条件の複数の条件の中で優先順位を付けて調整制御することを特徴とする請求項4記載の液浸顕微鏡装置。
  6. 前記試料の撥水性あるいは親水性の条件を入力する入力手段と、
    前記入力条件に基づいて、前記供給条件あるいは前記吸引条件の初期設定条件を設定する設定手段とを備えることを特徴とする請求項3記載の液浸顕微鏡装置。
  7. 前記液体検出手段は、前記対物レンズ鏡筒を通して赤外線を前記試料に向けて照射する赤外線照射手段と、前記試料からの前記赤外線の反射光あるいは透過光を前記対物レンズ鏡筒を通して検出する赤外線検出手段とを備えたことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項記載の液浸顕微鏡装置。
JP2006086317A 2006-03-27 2006-03-27 液浸顕微鏡装置 Pending JP2007264114A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006086317A JP2007264114A (ja) 2006-03-27 2006-03-27 液浸顕微鏡装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006086317A JP2007264114A (ja) 2006-03-27 2006-03-27 液浸顕微鏡装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007264114A true JP2007264114A (ja) 2007-10-11
JP2007264114A5 JP2007264114A5 (ja) 2009-04-16

Family

ID=38637193

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006086317A Pending JP2007264114A (ja) 2006-03-27 2006-03-27 液浸顕微鏡装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2007264114A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2824498A1 (de) * 2013-07-11 2015-01-14 Carl Zeiss Microscopy GmbH Verfahren zur Detektion und Zufuhrsteuerung eines Immersionsmediums
WO2020219671A1 (en) * 2019-04-23 2020-10-29 Molecular Devices, Llc System and method for formation and detection of immersion fluid boluses on a microscope objective
CN113419338A (zh) * 2021-06-04 2021-09-21 东南大学江北新区创新研究院 一种用于光片和结构光显微镜成像的通用耦合槽

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005012195A (ja) * 2003-05-23 2005-01-13 Nikon Corp 露光装置、並びにデバイス製造方法
WO2005036621A1 (ja) * 2003-10-08 2005-04-21 Zao Nikon Co., Ltd. 基板搬送装置及び基板搬送方法、露光装置及び露光方法、デバイス製造方法
WO2005076321A1 (ja) * 2004-02-03 2005-08-18 Nikon Corporation 露光装置及びデバイス製造方法
JP2005227098A (ja) * 2004-02-12 2005-08-25 Olympus Corp 分析装置及びそのプログラム
JP2005234458A (ja) * 2004-02-23 2005-09-02 Nikon Corp 顕微鏡観察装置
JP2006053422A (ja) * 2004-08-13 2006-02-23 Nikon Corp 顕微鏡観察装置
JP2008506143A (ja) * 2004-07-09 2008-02-28 ヴィステック セミコンダクタ システムス ゲーエムベーハー 液浸対物レンズを有した微細要素の検査用装置

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005012195A (ja) * 2003-05-23 2005-01-13 Nikon Corp 露光装置、並びにデバイス製造方法
WO2005036621A1 (ja) * 2003-10-08 2005-04-21 Zao Nikon Co., Ltd. 基板搬送装置及び基板搬送方法、露光装置及び露光方法、デバイス製造方法
WO2005076321A1 (ja) * 2004-02-03 2005-08-18 Nikon Corporation 露光装置及びデバイス製造方法
JP2005227098A (ja) * 2004-02-12 2005-08-25 Olympus Corp 分析装置及びそのプログラム
JP2005234458A (ja) * 2004-02-23 2005-09-02 Nikon Corp 顕微鏡観察装置
JP2008506143A (ja) * 2004-07-09 2008-02-28 ヴィステック セミコンダクタ システムス ゲーエムベーハー 液浸対物レンズを有した微細要素の検査用装置
JP2006053422A (ja) * 2004-08-13 2006-02-23 Nikon Corp 顕微鏡観察装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2824498A1 (de) * 2013-07-11 2015-01-14 Carl Zeiss Microscopy GmbH Verfahren zur Detektion und Zufuhrsteuerung eines Immersionsmediums
DE102013011543A1 (de) * 2013-07-11 2015-01-15 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Verfahren zur Detektion und Zufuhrsteuerung eines Immersionsmediums
US9753266B2 (en) 2013-07-11 2017-09-05 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Method for detecting and controlling supply of an immersion medium
WO2020219671A1 (en) * 2019-04-23 2020-10-29 Molecular Devices, Llc System and method for formation and detection of immersion fluid boluses on a microscope objective
US11747605B2 (en) 2019-04-23 2023-09-05 Molecular Devices, Llc System and method for formation and detection of immersion fluid boluses on a microscope objective
CN113419338A (zh) * 2021-06-04 2021-09-21 东南大学江北新区创新研究院 一种用于光片和结构光显微镜成像的通用耦合槽

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100995450B1 (ko) 오염을 고려한 광학 소자 검사기구 및 검사방법
JP4121735B2 (ja) ポリシリコン膜評価装置
CN1260800C (zh) 半导体晶片检查设备
US8629382B2 (en) Auto focus apparatus for detecting a focal point with a setting section for shifting an irradiation position outside an observation field of an imaging section
JP5825799B2 (ja) レーザ処理システム、対象物台、およびレーザ処理方法
JP6599965B2 (ja) 細胞撮像装置、細胞撮像方法及び試料セル
JP4521240B2 (ja) 欠陥観察方法及びその装置
JP2005083800A (ja) 欠陥検査方法及び欠陥検査装置
JP2009283633A (ja) 表面検査装置及び表面検査方法
KR20030015207A (ko) 결상 시스템
JP2007264114A (ja) 液浸顕微鏡装置
JP2009182162A (ja) ボンディング装置
JP2007101494A (ja) 表面検査装置
JP2004138470A (ja) 光透過性基板検査装置
US20030095252A1 (en) Method and apparatus for defect analysis of wafers
KR102069743B1 (ko) 마스크 상/하부 리페어를 위한 Dual Head 마스크 리페어 장치
CN112986236A (zh) 用于确定液滴的位置和/或范围的装置和方法
JP2016106571A (ja) スクリーニング装置およびスクリーニング方法
JPH08192282A (ja) レーザ加工装置およびレーザ加工用光学装置
KR101885614B1 (ko) 웨이퍼 검사 방법 및 웨이퍼 검사 장치
JP6741407B2 (ja) 欠陥検査装置
JP2008076071A (ja) 基板検査装置及び基板検査方法
JP2007121500A (ja) 液浸顕微鏡装置
US20230314342A1 (en) Inspection apparatus and inspection method for semiconductor substrate
JP2001160574A (ja) 検査装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090216

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090227

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110927

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20111004

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20120313