JP2005012195A - 露光装置、並びにデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板上に投影することにより基板を露光する際、記憶装置に記憶された液浸条件の中から基板上の液体接触面に形成される膜部材に最適なものを選択する。
【選択図】 図5
Description
δ=±k2・λ/NA2 … (2)
ここで、λは露光波長、NAは投影光学系の開口数、k1、k2はプロセス係数である。(1)式、(2)式より、解像度Rを高めるために、露光波長λを短くして、開口数NAを大きくすると、焦点深度δが狭くなることが分かる。
Claims (27)
- 投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板上に投影することにより前記基板を露光する露光装置において、
液浸露光用の液体を供給する液体供給機構を備え、
前記液体供給機構は、前記基板上の液体接触面に形成される膜部材に応じて供給する液体を変えることを特徴とする露光装置。 - 前記液体供給機構は、複数種の液浸露光用の液体を選択的に使用するための複数の配管系を有することを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 前記液体供給機構から供給される液体に応じて液浸条件を調整することを特徴とする請求項1又は2記載の露光装置。
- 前記膜部材と前記液体との親和性を計測する計測装置を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項記載の露光装置。
- 投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板上に投影することにより前記基板を露光する露光装置において、
前記基板上の液体接触面に形成される膜部材と前記液体との親和性を計測する計測装置を備えたことを特徴とする露光装置。 - 前記膜部材と前記液体との親和性と、その親和性に対応する液浸条件との関係を複数記憶する記憶装置を備え、
前記計測された親和性に応じて、前記記憶装置から液浸条件を選択することを特徴とする請求項4又は5記載の露光装置。 - 投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板上に投影することにより前記基板を露光する露光装置において、
前記液体との親和性と、その親和性に対応する液浸条件との関係を複数記憶する記憶装置を備え、
前記基板上の液体接触面に形成される膜部材に応じて、前記記憶装置から液浸条件を選択することを特徴とする露光装置。 - 前記液浸条件は、前記液体の前記基板上への供給条件を含むことを特徴とする請求項6又は7記載の露光装置。
- 前記供給条件は、前記液体の供給位置と供給量との少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項8記載の露光装置。
- 前記液浸条件は、液浸露光用の液体の前記基板上からの回収条件を含むことを特徴とする請求項6〜9のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記回収条件は、前記液体の回収位置と回収量との少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項10記載の露光装置。
- 前記液浸条件は、前記基板上の複数のショット領域を露光するときの前記基板の移動条件も考慮して選択されることを特徴とする請求項6〜11のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記膜部材と前記液体との親和性に応じて、前記基板の露光条件を決定することを特徴とする請求項4〜11のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記基板は所定の走査方向に移動しながら走査露光され、前記露光条件は、走査露光条件を含むことを特徴とする請求項13記載の露光装置。
- 前記走査露光条件は、前記走査露光中の基板の移動速度を含むことを特徴とする請求項14記載の露光装置。
- 前記親和性は、前記膜部材に対する前記液体の接触角で定められることを特徴とする請求項4〜15のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記親和性または前記膜部材に応じて前記記憶装置から液浸条件を選択することを特徴とする請求項6〜16のいずれか一項に記載の露光装置。
- 投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板上に投影することにより前記基板を露光する露光装置において、
前記基板上の液体接触面に形成可能な種々の膜部材とそれぞれの膜部材に適した液浸条件との関係を記憶する記憶装置を備えたことを特徴とする露光装置。 - 液浸露光に用いられる膜部材に応じて前記記憶装置から液浸条件を選択して液浸条件を設定する制御装置を備えたことを特徴とする請求項18記載の露光装置。
- 前記制御装置は、前記液浸露光に用いられる液体の物理特性に応じて液浸条件を調整することを特徴とする請求項19記載の露光装置。
- 前記液浸条件は、前記液体を前記基板上に供給する条件、前記基板上から液体を回収する条件、及び前記基板上に供給する液体の種類の少なくとも一種であることを特徴とする請求項18〜20のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記液体を前記基板上に供給するための液体供給機構を備え、前記供給条件は、前記液体供給機構の液体供給口の位置、開口面積、開口形状、及び供給方向の少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項21記載の露光装置。
- 前記液体を前記基板上から回収するための液体回収機構を備え、前記回収条件は、前記液体回収機構の液体回収口の位置、開口面積、及び開口形状の少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項21又は22記載の露光装置。
- 投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板上に投影することにより前記基板を露光する露光装置において、
前記液体を供給するための供給口を有する液体供給機構を備え、
前記供給口の大きさ、形状の少なくとも一方は変更可能であることを特徴とする露光装置。 - 前記液体を回収するための回収口を有する液体回収機構を備え、
前記回収口の大きさ、形状の少なくとも一方が変更可能であることを特徴とする請求項24記載の露光装置。 - 投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板上に投影することにより前記基板を露光する露光装置において、
前記液体を回収するための回収口を有する液体回収機構を備え、
前記回収口の大きさ、形状の少なくとも一方は変更可能であることを特徴とする露光装置。 - 請求項1〜請求項26のいずれか一項記載の露光装置を用いることを特徴とするデバイス製造方法。
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