JP2007263547A - ガラス基板の熱処理用定盤及び熱処理方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】品質が良好なフラットパネルディスプレイ基板等のガラス基板を製造することができるガラス基板の熱処理用定盤を提供する。
【解決手段】上面にガラス基板を載せて熱処理するための定盤であって、全体として均質な板状のセラミックス焼結体よりなるガラス基板の熱処理用定盤において、該定盤の上面の表面が研磨され、該セラミックス焼結体の気孔が露呈していることを特徴とするガラス基板の熱処理用定盤。定盤の上面の表面に露呈した気孔の直径が10〜500μmであり、該気孔が500個/mm2以上の割合で存在する。
【選択図】図1
【解決手段】上面にガラス基板を載せて熱処理するための定盤であって、全体として均質な板状のセラミックス焼結体よりなるガラス基板の熱処理用定盤において、該定盤の上面の表面が研磨され、該セラミックス焼結体の気孔が露呈していることを特徴とするガラス基板の熱処理用定盤。定盤の上面の表面に露呈した気孔の直径が10〜500μmであり、該気孔が500個/mm2以上の割合で存在する。
【選択図】図1
Description
本発明は、フラットパネルディスプレイ基板などのガラス基板を載せて熱処理するためのガラス基板の熱処理用定盤と、この熱処理用定盤を用いたガラス基板の熱処理方法に関するものである。
プラズマディスプレイ等の表示部のフラットなディスプレイ基板は、ガラス基板上に電極、絶縁体、発光体等が複数積層された一体構造となっている。このディスプレイ基板を製作する工程の一つとして、ディスプレイ基板をガラス基板の熱処理用定盤(セッターと称されることもある。)に載せて加熱装置内に配置(又は通過)させて熱処理(例えば、電極や絶縁体の焼付け処理)する工程がある。
このフラットパネルディスプレイ基板は、反りが小さいこと、及び表面の凹凸が小さいことが求められ、その製造のための棚板にも同様に反り・うねりが小さいこと、表面の凹凸が小さいことが求められる。特開2002−114537号には、熱膨張係数が15×10−7/K以下であり、表面の平坦度が0.3%以下であり、表面粗さRaが0.1〜1μmである結晶化ガラスよりなるガラス基板熱処理用セッターが記載されている。
特開2005−235612号には、表面粗さRaが1〜5μmである耐熱性ガラスよりなるガラス基板の熱処理用定盤が記載されている。
特開2002−114537号公報
特開2005−235612号公報
上記各特許文献に記載のセッター(定盤)は、上面に載せたガラス基板が密着したり、あるいはスリップして位置ずれしたりしないようにするために表面粗さをある程度粗くしたものである。
ところで、ガラス基板を熱処理すると、ガラス基板から低融点金属の蒸気、あるいはその他の昇華物などよりなるガス成分が発生し、このガス成分が再度ガラス基板表面に析出し、熱処理されたガラス基板製品の品質を落すことがある。上記特許文献のようにガラス基板の熱処理用定盤の表面粗さをある程度粗くするだけでは、このガス成分の影響を防ぐことはできない。
本発明は、熱処理中にガラス基板から発生したガス成分を吸収ないし包蔵することができ、これにより高品質の熱処理ガラス基板を製造することができるガラス基板の熱処理用定盤と、この熱処理用定盤を用いたガラス基板の熱処理方法を提供することを目的とする。
請求項1のガラス基板の熱処理用定盤は、上面にガラス基板を載せて熱処理するための定盤であって、板状のセラミックス焼結体よりなるガラス基板の熱処理用定盤において、該定盤の上面の表面が研磨され、該セラミックス焼結体の気孔が露呈していることを特徴とするものである。
請求項2のガラス基板の熱処理用定盤は、該定盤の上面の表面に、直径が10〜500μmの気孔が500〜5000個/mm2の割合で存在することを特徴とするものである。
請求項3のガラス基板の熱処理用定盤は、請求項1又は2において、該定盤の上面の表面の表面粗さRaが0.1〜20μmであることを特徴とするものである。
請求項4のガラス基板の熱処理用定盤は、請求項1ないし3のいずれか1項において、セラミックス焼結体が、主成分としてのLi2O・Al2O3・nSiO2を原料の総量に対して96重量%以上含有するように、且つnが1.8〜12.5でLi2OとAl2O3との比率Li2O/Al2O3が2.0〜0.5の範囲となるように調製された原料粉を成形・焼成してなるセラミックス焼結体であることを特徴とするものである。
請求項5のガラス基板の熱処理方法は、請求項1ないし4のいずれか1項に記載のガラス基板の熱処理用定盤の上にガラス基板を載せて熱処理することを特徴とするものである。
本発明では、ガラス基板の熱処理用定盤の上面が研磨され、セラミックス焼結体の気孔が該上面の表面に露呈している。熱処理途中でガラス基板から発生したガス成分は、この気孔内に入って吸収ないし包蔵されるようになり、ガラス基板表面に析出することが防止ないし抑制される。これにより、高品質の熱処理ガラス基板を製造することが可能となる。
本発明のガラス基板の熱処理用定盤は、全体として一様な板状のセラミックス焼結体よりなるため、表面を研磨して繰り返し多数回使用することができる。
この気孔が直径10〜500μmの直径を有し、500〜5000個/mm2の割合で存在することにより、上記効果が顕著となる。
本発明のガラス基板の熱処理用定盤は、研磨した定盤の表面粗さRaを0.1〜20μmとすることにより、ガラス基板の密着(吸収)現象やスリップを防ぐことができる。
本発明のガラス基板の熱処理用定盤を構成するセラミックス焼結体は、主成分としてのLi2O・Al2O3・nSiO2を原料の総量に対して96重量%以上含有するように、且つnが1.8〜12.5でLi2OとAl2O3との比率Li2O/Al2O3が2.0〜0.5の範囲となるように調製された原料粉を成形・焼成してなるセラミックス焼結体であることが望ましい。
かかるセラミックス焼結体は、リチア系であり、耐熱衝撃性に優れる。また、研磨したときに表面に露呈する気孔の直径が10〜500μmとなる粒界が存在し、かつ、気孔が500個/mm2以上の割合で存在している。
本発明のガラス基板の熱処理用定盤は、セラミックス焼結体よりなる板状体の少なくとも上面を研磨することにより製造される。
このセラミックス焼結体は、熱処理用定盤として十分な耐熱性を有すると共に、研磨することにより表面に好ましくは10〜500μm特に好ましくは20〜100μmの気孔が500〜5000個/mm2特に700〜2000個/mm2以上の割合で露呈するものが望ましい。
なお、気孔が過度に小さかったり気孔量が少ないと、ガスの吸蔵量、吸蔵速度が小さくなる。気孔が過度に大きかったり気孔量が過大であると、研磨面が粗くなる。
このようなセラミックス焼結体は、主成分としてのLi2O・Al2O3・nSiO2を原料の総量に対して96重量%以上含有するように、且つnが1.8〜12.5でLi2OとAl2O3との比率Li2O/Al2O3が2.0〜0.5の範囲となるように調製された原料粉を成形・焼成してなるセラミックス焼結体であることが望ましい。
このセラミックス焼結体は、特に、ペタライト(Li2O・Al2O3・8SiO2)系セラミックスよりなることが好ましい。具体的には、ペタライト50〜90重量%好ましくは60〜80重量%に対し、融剤としてガラスフリットを好ましくは5〜30重量%特に好ましくは10〜25重量%を配合すると共に、成形時の可塑性を付与する成分として粘土を好ましくは3〜20重量%特に好ましくは5〜15重量%を配合し、水及び必要に応じポリビニルアルコール、メチルセルロース等の成形助剤を添加して混練し、乾式プレス成形、押出成形等により板状に成形する。これを乾燥後、好ましくは1050〜1250℃程度特に好ましくは1100〜1220℃程度で焼結して原板とする。この原板を平面研磨盤等により好ましくは表面粗さRaが0.1〜20μm特に0.1〜10μmとなるように研磨する。
上記の条件で製造されたペタライト質セラミックスは、熱膨張係数が2.0×10−6/℃以下、曲げ強さが40MPa以上(通常は40〜100MPa程度)、ヤング率が30GPa以上(通常は30〜70GPa程度)の機械的特性を有し、耐熱衝撃性に優れる。また、研磨により上記範囲の直径の気孔が表面に露呈する粒界を有する。
なお、本発明の定盤を構成するセラミックス焼結体は、β−スポジュメン(Li2O・Al2O3・4SiO2)系セラミックス又はβ−ユークリプタイト(Li2O・Al2O3・2SiO2)系セラミックスであってもよい。いずれの場合も、上記ペタライト質セラミックス同様の配合及び製造方法により定盤を製造することができる。
製造された定盤の組成の好適な範囲は次の通りである。
SiO2 65〜79重量%
Al2O3 12〜23重量%
Li2O 3〜10重量%
Na2O 1重量%以下
K2O 1重量%以下
CaO 1重量%以下
Fe2O3 1重量%以下
TiO2 1重量%以下
SiO2 65〜79重量%
Al2O3 12〜23重量%
Li2O 3〜10重量%
Na2O 1重量%以下
K2O 1重量%以下
CaO 1重量%以下
Fe2O3 1重量%以下
TiO2 1重量%以下
本発明の定盤は、各種ディスプレイ用ガラス基板の熱処理に用いることができる。この定盤は、例えば1辺が500mm以上の大形のフラットパネルディスプレイ基板の熱処理にも用いることができる大きさとしうる。なお、この定盤の厚さは3〜15mm特に5〜10mm程度が好適である。
この定盤を用いてフラットパネルディスプレイ基板を熱処理するには、該パネルを定盤の上面に載せ、熱処理炉に導入し、所定の温度(例えば500〜700℃)に所定時間保持した後、取り出せばよい。
この熱処理に際しガラス基板から発生する鉛蒸気などのガス成分は、気孔内に吸収又は包蔵され、ガラス基板に再付着しない。このため、品質の良いガラス基板熱処理品が得られる。
実施例1
表1に示す組成のペタライト71重量%、ガラスフリット20重量%及び蛙目粘土9重量%の調合物100重量部に対し水65重量部及び成形助剤(ポリビニルアルコール)1.8重量部を添加し、ボールミルを用いて細磨混合した後、鋳込み成形し、3000mm×4000mm×12mmtの成形体とした。これを、1150℃×1時間の焼成を行って焼結元板とした。この元板をダイヤモンド砥石(粗さ#100)を用いた平面研磨盤を用いて表面研磨して定盤とした。表面粗さRaは0.53μmであった。
表1に示す組成のペタライト71重量%、ガラスフリット20重量%及び蛙目粘土9重量%の調合物100重量部に対し水65重量部及び成形助剤(ポリビニルアルコール)1.8重量部を添加し、ボールミルを用いて細磨混合した後、鋳込み成形し、3000mm×4000mm×12mmtの成形体とした。これを、1150℃×1時間の焼成を行って焼結元板とした。この元板をダイヤモンド砥石(粗さ#100)を用いた平面研磨盤を用いて表面研磨して定盤とした。表面粗さRaは0.53μmであった。
このようにして製造した定盤について、SEMにより表面の気孔を測定したところ、図1,2に示すように気孔の平均直径は20μmであり、1000個/mm2の割合で気孔が存在していた。
また、この定盤の熱膨張係数は0.7×10−6/℃、曲げ強さは60MPa、ヤング率は45GPaであった。
この定盤を用いてフラットパネルディスプレイ基板を750℃で熱処理したところ、表面性状が良好なフラットパネルディスプレイ基板が得られた。
比較例1
実施例1において、元板の焼成温度を1300℃×1時間とした他は同一条件にて定盤を製造したところ、表面に気孔は見られない緻密な焼結体よりなるものであった。表面粗さRaは0.59μmであった。
実施例1において、元板の焼成温度を1300℃×1時間とした他は同一条件にて定盤を製造したところ、表面に気孔は見られない緻密な焼結体よりなるものであった。表面粗さRaは0.59μmであった。
この定盤を用いてフラットパネルディスプレイ基板を製造したところ、ガラス基板にガス成分が付着し、良品が得られなかった。また、定盤にガラス基板を載置する際には、後述のスリップ試験にも見られる通りスリップし易く、載置に手間どった。更に熱処理後には定盤とガラス基板が吸着しており、ガラス基板の脱離に手間どった。
[スリップ試験1]
上記実施例1及び比較例1の定盤と、市販の定盤(日本電気硝子株式会社製ネオセラム N−O(表面粗さ0.65μm。以下、比較例2とする。))とについて、次のようにしてスリップ試験を行った。
上記実施例1及び比較例1の定盤と、市販の定盤(日本電気硝子株式会社製ネオセラム N−O(表面粗さ0.65μm。以下、比較例2とする。))とについて、次のようにしてスリップ試験を行った。
図3に示す通り、長辺48×短辺28×厚さ1.3mmの長方形状のガラス板1を、定盤2上に傾斜又は直立状に配置した。即ち、定盤2の上面に、滑り止め部材3を配置した。ガラス板1の一方の長辺を、この滑り止め部材3と定盤2の上面よりなる隅角部に当接させ、ガラス板1の他方の長辺が上位となるように、この他方の長辺側の底面を保持部材4で保持した。ガラス板1と定盤2上面との挟角θは30°、45°、90°とした。
この状態から保持部材4を取り除き、ガラス板1をその自重によって定盤2上に倒状させ、このときのスリップ距離(滑り動いた距離)を測定した。スリップ量は、ガラス板1の上記一方の長辺が元位置からどれ位動いたかを計測することにより求めた。その結果を表2に示す。
[スリップ試験2]
ガラス板の厚みを2.6mmとし、ガラス板と定盤上面との挟角θを90°としたこと以外はスリップ試験1と同様にして測定を行った。結果を表2に示す。
ガラス板の厚みを2.6mmとし、ガラス板と定盤上面との挟角θを90°としたこと以外はスリップ試験1と同様にして測定を行った。結果を表2に示す。
[スリップ試験3]
水平方向に往復振動可能であり、かつ振動数(回/分)を無段階で変化させることができる振動装置上に定盤を据え付けた。この定盤の上に試料ガラス板を載せ、振幅40mmにて振動を開始させ、ガラス板が滑り移動し始めたときの振動数を求めた。また、滑り移動を開始したときの振動数に基づいてそのときの振動の加速度を算出した。
水平方向に往復振動可能であり、かつ振動数(回/分)を無段階で変化させることができる振動装置上に定盤を据え付けた。この定盤の上に試料ガラス板を載せ、振幅40mmにて振動を開始させ、ガラス板が滑り移動し始めたときの振動数を求めた。また、滑り移動を開始したときの振動数に基づいてそのときの振動の加速度を算出した。
さらに、振動数を130回/分としたときのガラス板のスリップ距離を計測した。実施例1、比較例1,2の各定盤について試験した結果を表3に示す。
なお、用いたガラス板は48×28×2.6mmの長方形のものである。
表2,3より、実施例1に係る定盤は、その上に載置したガラス板が比較例1,2に比べて滑りにくいものであることが明瞭に認められる。
Claims (5)
- 上面にガラス基板を載せて熱処理するための定盤であって、板状のセラミックス焼結体よりなるガラス基板の熱処理用定盤において、
該定盤の上面の表面が研磨され、該セラミックス焼結体の気孔が露呈していることを特徴とするガラス基板の熱処理用定盤。 - 請求項1において、前記定盤の上面の表面に、直径10〜500μmの気孔が500〜5000個/mm2の割合で露呈していることを特徴とするガラス基板の熱処理用定盤。
- 請求項1又は2において、該定盤の上面の表面の表面粗さRaが0.1〜20μmであることを特徴とするガラス基板の熱処理用定盤。
- 請求項1ないし3のいずれか1項において、セラミックス焼結体が、主成分としてのLi2O・Al2O3・nSiO2を原料の総量に対して96重量%以上含有するように、且つnが1.8〜12.5でLi2OとAl2O3との比率Li2O/Al2O3が2.0〜0.5の範囲となるように調製された原料粉を成形・焼成してなるセラミックス焼結体であることを特徴とするガラス基板の熱処理用定盤。
- 請求項1ないし4のいずれか1項に記載のガラス基板の熱処理用定盤の上にガラス基板を載せて熱処理することを特徴とするガラス基板の熱処理方法。
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JP2007033721A JP2007263547A (ja) | 2006-02-28 | 2007-02-14 | ガラス基板の熱処理用定盤及び熱処理方法 |
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JP2006053097 | 2006-02-28 | ||
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---|---|---|---|---|
JP2008266053A (ja) * | 2007-04-18 | 2008-11-06 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ガラス基板熱処理用セッター |
-
2007
- 2007-02-14 JP JP2007033721A patent/JP2007263547A/ja active Pending
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