JP2007250611A - 窒化物半導体発光素子およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】
基板上に多孔性のボイド窒化物半導体層を少なくとも1層形成する。このボイド窒化物半導体層の上に少なくとも1層の発光素子形成用窒化物半導体層を形成する。
【選択図】
図2
Description
ステップS10において、マグネシウム(Mg)を添加したp型アルミガリウムナイトライド(AlGaN)層を成長させる。TMGを8.1μmol/min、トリメチルアルミニウム(TMA)を7.56μmol/min、NH3を4.4LM供給し、水素と窒素の混合雰囲気下で、基板温度を870℃にして5分間、厚さ40nmまでp型AlGaN層を成長させる。添加するMgのGaNに対する分子(原子)数の比Mg/GaNは0.0184である。
2 低温窒化物半導体層
3 ボイド形成層
4 ボイド窒化物半導体層
5 ボイド
6 n型窒化物半導体層
7 発光層
8 p型窒化物半導体層
9 n型電極
10 p型電極
11 サブマウント
12 絶縁膜
13 カソード引き出し電極
14 アノード引き出し電極
15 共晶電極
Claims (13)
- (a)基板上に多孔性のボイド窒化物半導体層を少なくとも1層形成する工程と、
(b)前記ボイド窒化物半導体層の上に少なくとも1層の発光素子形成用窒化物半導体層を形成する工程と
を含む窒化物半導体発光素子の製造方法。 - 前記工程(a)は、
(a−1)第1窒化物半導体層を形成する工程と、
(a−2)前記第1窒化物半導体層を加熱処理し、多数の島状ないしポラス状のボイド形成層を形成する工程と、
(a−3)前記ボイド形成層の上に第2窒化物半導体層を形成する工程と
を含み、
工程(a−1)〜(a−3)を1サイクルとして少なくとも1層のボイド窒化物半導体層を形成する請求項1に記載の窒化物半導体発光素子の製造方法。 - 前記加熱処理の時間が約2分〜約40分である請求項2に記載の窒化物半導体発光素子の製造方法。
- 前記加熱処理の時間が約5分〜約35分である請求項2に記載の窒化物半導体発光素子の製造方法。
- 前記第1窒化物半導体層の厚さが200nm〜400nmである請求項2〜4のいずれか1項に記載の窒化物半導体発光素子の製造方法。
- 基板と、
前記基板上に形成された多孔性の少なくとも1層のボイド窒化物半導体層と、
前記ボイド窒化物半導体層上に形成された少なくとも1層の発光素子形成用窒化物半導体層とを有する窒化物半導体発光素子。 - 前記ボイド窒化物半導体層中のボイドは窒化物半導体ではない請求項6に記載の窒化物半導体発光素子。
- 前記ボイド窒化物半導体層中のボイドの屈折率が前記発光素子形成用窒化物半導体層の屈折率よりも小さい請求項6または7に記載の窒化物半導体発光素子。
- 前記ボイド窒化物半導体層中のボイドは屈折率が約1の気体である請求項6〜8のいずれか1項に記載の窒化物半導体発光素子。
- 前記ボイド窒化物半導体層中のボイドの大きさが150nm〜300nmである請求項6〜9のいずれか1項に記載の窒化物半導体発光素子。
- 前記ボイド窒化物半導体層のボイド密度が1E+8個/cm2〜1E+9個/cm2である請求項6〜10のいずれか1項に記載の窒化物半導体発光素子。
- 前記ボイド窒化物半導体層を形成する材料は組成式AlxInyGa1−x−yN[0≦x≦1、0≦y≦1、0≦x+y≦1]の窒化物半導体である請求項6〜11のいずれか1項に記載の窒化物半導体発光素子。
- 前記発光素子形成用窒化物半導体層を形成する材料は組成式AlxInyGa1−x−yN[0≦x≦1、0≦y≦1、0≦x+y≦1]の窒化物半導体である請求項6〜12のいずれか1項に記載の窒化物半導体発光素子。
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Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009152610A (ja) * | 2007-12-18 | 2009-07-09 | Samsung Corning Precision Glass Co Ltd | 窒化ガリウム基板の製造方法 |
WO2011046292A2 (ko) * | 2009-10-16 | 2011-04-21 | 서울옵토디바이스주식회사 | 다공성 질화물 반도체 상의 고품질 비극성/반극성 반도체 소자 및 그 제조 방법 |
CN102376830A (zh) * | 2010-08-19 | 2012-03-14 | 展晶科技(深圳)有限公司 | 发光二极管及其制造方法 |
WO2013141032A1 (ja) * | 2012-03-23 | 2013-09-26 | シャープ株式会社 | 半導体発光素子、半導体発光素子の製造方法、半導体発光装置及び基板 |
JP2014123765A (ja) * | 2014-02-27 | 2014-07-03 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ウエハ生産物、窒化ガリウム系半導体光素子 |
KR20150123138A (ko) * | 2014-04-24 | 2015-11-03 | 고쿠리쓰 겐큐 가이하쓰 호징 리가가쿠 겐큐소 | 자외선 발광 다이오드 및 그것을 구비한 전기 기기 |
JP2015216352A (ja) * | 2014-04-24 | 2015-12-03 | 国立研究開発法人理化学研究所 | 紫外発光ダイオードおよびそれを備える電気機器 |
JP2016526281A (ja) * | 2013-05-01 | 2016-09-01 | センサー エレクトロニック テクノロジー インコーポレイテッド | 応力を解放する半導体層 |
US9653313B2 (en) | 2013-05-01 | 2017-05-16 | Sensor Electronic Technology, Inc. | Stress relieving semiconductor layer |
US10032956B2 (en) | 2011-09-06 | 2018-07-24 | Sensor Electronic Technology, Inc. | Patterned substrate design for layer growth |
JP2018530924A (ja) * | 2015-10-15 | 2018-10-18 | エルジー イノテック カンパニー リミテッド | 半導体素子、半導体素子パッケージ、およびこれを含む照明システム |
US10460952B2 (en) | 2013-05-01 | 2019-10-29 | Sensor Electronic Technology, Inc. | Stress relieving semiconductor layer |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001223165A (ja) * | 2000-02-10 | 2001-08-17 | Hitachi Cable Ltd | 窒化物半導体及びその製造方法 |
-
2006
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Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001223165A (ja) * | 2000-02-10 | 2001-08-17 | Hitachi Cable Ltd | 窒化物半導体及びその製造方法 |
Cited By (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009152610A (ja) * | 2007-12-18 | 2009-07-09 | Samsung Corning Precision Glass Co Ltd | 窒化ガリウム基板の製造方法 |
WO2011046292A2 (ko) * | 2009-10-16 | 2011-04-21 | 서울옵토디바이스주식회사 | 다공성 질화물 반도체 상의 고품질 비극성/반극성 반도체 소자 및 그 제조 방법 |
WO2011046292A3 (ko) * | 2009-10-16 | 2011-06-30 | 서울옵토디바이스주식회사 | 다공성 질화물 반도체 상의 고품질 비극성/반극성 반도체 소자 및 그 제조 방법 |
US9153737B2 (en) | 2009-10-16 | 2015-10-06 | Seoul Viosys Co., Ltd. | High-quality non-polar/semi-polar semiconductor device on porous nitride semiconductor and manufacturing method thereof |
CN102376830A (zh) * | 2010-08-19 | 2012-03-14 | 展晶科技(深圳)有限公司 | 发光二极管及其制造方法 |
US10032956B2 (en) | 2011-09-06 | 2018-07-24 | Sensor Electronic Technology, Inc. | Patterned substrate design for layer growth |
CN104247053A (zh) * | 2012-03-23 | 2014-12-24 | 夏普株式会社 | 半导体发光元件、半导体发光元件的制造方法、半导体发光装置及基板 |
JPWO2013141032A1 (ja) * | 2012-03-23 | 2015-08-03 | シャープ株式会社 | 半導体発光素子、半導体発光素子の製造方法、半導体発光装置及び基板 |
WO2013141032A1 (ja) * | 2012-03-23 | 2013-09-26 | シャープ株式会社 | 半導体発光素子、半導体発光素子の製造方法、半導体発光装置及び基板 |
US10460952B2 (en) | 2013-05-01 | 2019-10-29 | Sensor Electronic Technology, Inc. | Stress relieving semiconductor layer |
US10297460B2 (en) | 2013-05-01 | 2019-05-21 | Sensor Electronic Technology, Inc. | Stress relieving semiconductor layer |
JP2016526281A (ja) * | 2013-05-01 | 2016-09-01 | センサー エレクトロニック テクノロジー インコーポレイテッド | 応力を解放する半導体層 |
US9653313B2 (en) | 2013-05-01 | 2017-05-16 | Sensor Electronic Technology, Inc. | Stress relieving semiconductor layer |
JP2014123765A (ja) * | 2014-02-27 | 2014-07-03 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ウエハ生産物、窒化ガリウム系半導体光素子 |
JP2015216352A (ja) * | 2014-04-24 | 2015-12-03 | 国立研究開発法人理化学研究所 | 紫外発光ダイオードおよびそれを備える電気機器 |
KR20150123138A (ko) * | 2014-04-24 | 2015-11-03 | 고쿠리쓰 겐큐 가이하쓰 호징 리가가쿠 겐큐소 | 자외선 발광 다이오드 및 그것을 구비한 전기 기기 |
JP2020061579A (ja) * | 2014-04-24 | 2020-04-16 | 国立研究開発法人理化学研究所 | 紫外発光ダイオードおよびそれを備える電気機器 |
KR102300718B1 (ko) * | 2014-04-24 | 2021-09-09 | 고쿠리쓰 겐큐 가이하쓰 호징 리가가쿠 겐큐소 | 자외선 발광 다이오드 및 그것을 구비한 전기 기기 |
JP7100903B2 (ja) | 2014-04-24 | 2022-07-14 | 国立研究開発法人理化学研究所 | 紫外発光ダイオードおよびそれを備える電気機器 |
JP2018530924A (ja) * | 2015-10-15 | 2018-10-18 | エルジー イノテック カンパニー リミテッド | 半導体素子、半導体素子パッケージ、およびこれを含む照明システム |
JP7224020B2 (ja) | 2015-10-15 | 2023-02-17 | スージョウ レキン セミコンダクター カンパニー リミテッド | 半導体素子、半導体素子パッケージ、およびこれを含む照明システム |
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