JP2007248714A - 複数ヘッド顕微鏡装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】検査工程において装置を停止させる頻度を低下させて生産効率を向上させる。
【解決手段】複数ヘッド顕微鏡装置1は、ガラス基板Wを搬送するステージ6を有し、ステージ6を跨ぐように門型フレーム20が設置されている。門型フレーム20には、2つの顕微鏡ヘッド30,40が移動自在に設けられている。各顕微鏡ヘッド30,40は、観察範囲45内で移動可能であると共に、顕微鏡ヘッド30は退避領域46に、顕微鏡ヘッド40は退避領域47にそれぞれ移動させることができる。
【選択図】図4

Description

本発明は、複数の顕微鏡ヘッドを用いて基板上のパターンなどを観察する複数ヘッド顕微鏡装置に関する。
LCD(液晶ディスプレイ)製造工場などでは、生産数増加を目的として通常24時間生産ラインを稼動させることが多い。一枚の基板あたりのタクトタイムの遅延は、全体の生産効率に影響を与えるために、生産ラインにはタクトタイムを短縮できる工夫が常に求められている。例えば、液晶基板のレジストパターンニングを行うフォトリソグラフィー工程では、レジストパターンの欠陥検査を行う検査装置に顕微鏡ヘッドを1つ備えるものが用いられていたが、近年の急速な基板の大型化によって、顕微鏡ヘッドが1つではタクトタイムを短縮できなくなっていた。そこで、従来の検査装置には、一平面内で一軸方向又は他軸方向に移動可能なステージと、このステージをブリッジ状に跨ぐ支持部材を有し、支持部材に複数の顕微鏡ヘッドを相互間隔が調整可能に設けた複数ヘッド顕微鏡装置が用いられていた(例えば、特許文献1参照)。この複数ヘッド顕微鏡装置を使用すると、一度に複数の検査点を検査できるようになるので、大型の基板の外観検査をする際にタクトタイムが短縮されるようになった。
特開平8−171057号公報
しかしながら、従来の複数ヘッド検査装置では、各顕微鏡ヘッドが基板全面にわたって移動できない構成であるので、いずれか1つの顕微鏡ヘッドが故障した場合には、残りに顕微鏡ヘッドで大型の基板の全面に対して検査を実施することはできなかった。このため、いずれか1つの顕微鏡ヘッドが故障した場合には、顕微鏡ヘッドの交換や修理をする間、検査を停止しなければならなかった。また、顕微鏡ヘッドは、照明用ランプなどの消耗品を有するので定期的に部品交換などのメンテナンスが必要になるが、このような場合にも検査を停止しなければならかった。
この発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、その主な目的は、検査工程において装置を停止させる頻度を低下させて生産効率を向上させることである。
上記の課題を解決する本発明の請求項1に係る発明は、一平面内において、一軸方向に基板を移動可能な基板搬送部と、一軸方向に略直交する他軸方向に前記基板搬送部を跨いで配置される支持部材と、前記支持部材に他軸方向に沿って移動自在に複数配置される顕微鏡ヘッドと、前記顕微鏡ヘッドのそれぞれを前記基板上の観察対象となる範囲内に移動させる駆動部と、観察を停止した前記顕微鏡ヘッドが観察を継続する他の前記顕微鏡ヘッドの移動可能範囲から退避できる退避領域と、を有することを特徴とする複数ヘッド顕微鏡装置とした。
この複数ヘッド顕微鏡装置は、特定の顕微鏡ヘッドが観察を停止するときには、その顕微鏡ヘッドを退避領域に移動させる。その後に、残りの顕微鏡ヘッドが検査範囲内で移動して必要な検査を継続する。顕微鏡ヘッドを退避させる場合としては、故障や定期的なメンテナンスなどがあげられる。
本発明によれば、特定の顕微鏡ヘッドを退避領域に移動させて、残りの顕微鏡ヘッドで検査を継続することが可能になる。したがって、複数の顕微鏡ヘッドを備える構成において、検査効率の低下を最小限に止めることができる。その結果、生産ラインにおける生産効率を向上させることができる。
本発明の第1の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
図1及び図2に示すように、複数ヘッド顕微鏡装置1は、ベース2を有し、ベース2上には一軸方向(以下、X方向という)に一対のガイドレール3が平行に敷設されている。これらガイドレール3の間には、モータ4の動力を伝達するボールネジ5が平行に配置されている。ボールネジ5には、ステージ6が連結されており、モータ4を駆動させると、ステージ6がガイドレール3に沿ってX方向に移動する。基板搬送部であるステージ6の上面には、例えば、1000mm×1500mmのLCD用のガラス基板Wを位置決めして載置する位置決めピン9と、位置決めピン9にガラス基板Wを押し付けるように移動自在な押し付けピン10とがそれぞれ複数突設されている。位置決めピン9と押し付けピン10とは、ガラス基板W上のパターンの中心間を結ぶ線分が、X方向、又はX方向に直交するY方向(他軸方向)に平行になるように配置されている。また、ステージ6の一端部には、リフトピン11が所定の間隔で突没自在に配設されている。これらリフトピン11は、ガラス基板Wを搬入搬出する際に持ち上げるリフターを構成する。
さらに、ベース2には、支持部材である門型フレーム20がY方向に平行にステージ6をブリッジ状に跨ぐように固定されている。門型フレーム20は、ベース2に固定される一対の脚部20Aと、脚部20Aの上部を繋ぐようにステージ6と平行に延びる架設部20Bとを有する。架設部20Bの上面には、リニアガイドレールにスライドブロックをスライド可能に連結させたリニアガイド21(駆動部)がY軸に平行に一対敷設されている。これらリニアガイド21には、Y軸ステージ22が2つスライド自在に所定の距離をもって取り付けられている。Y軸ステージ22同士の干渉防止は、ソフトウェア制御によって行われるが、メカストッパーや、リミットセンサを併用した干渉防止機構を備えても良い。このようなY軸ステージ22のそれぞれには、光学ヘッドである顕微鏡ヘッド30,40が1つずつ固定されている。
顕微鏡ヘッド30,40は、ガラス基板Wに形成されたパターンを結像する結像光学系と、パターンを照明する照明光学系と、像を観察するための観察系と、パターンにピントを合わせるための準焦装置等を有する。結像光学系は、複数の対物レンズ31が装着されたレボルバ32を転換させる転換機能と準焦機能とを有している。照明光学系は、落射照明機能を有し、観察系は、結像を可視化する観察装置(例えば、CCD(Charge Coupled Devices))33を備えている。また、対物レンズ31の転換・準焦は電動化されており、リモート制御できるようになっている。さらに、照明光学系の明るさ絞り(AS)、視野絞り(FS)、明視野/暗視野用の光学系の挿脱、微分干渉プリズム、アナライザなどの光学素子の挿脱も必要に応じて電動、空圧動等でリモート制御できるようになっている。
なお、リニアガイド21は、顕微鏡ヘッド30,40のいずれか一方のみでもガラス基板W上で検査対象となる範囲(観察範囲)を網羅できるように敷設されている。例えば、図4に示すように、顕微鏡ヘッド30を観察範囲45外の退避領域46に退避し、顕微鏡ヘッド40のみでも検査を実施できるようになっている。退避領域46は、基板搬送部であるステージ6によってガラス基板Wが搬送される搬送経路外に設けられている。また、顕微鏡ヘッド40を観察範囲45外の退避領域47に退避させると、顕微鏡ヘッド30のみでも検査を実施できるようになっている。つまり、各顕微鏡ヘッド30,40の移動範囲は、観察範囲45において重複し、退避領域46,47は、いずれかの顕微鏡ヘッド30,40のみが移動可能な範囲になる。
図3に複数ヘッド顕微鏡装置1の制御系のブロック図を示す。複数ヘッド顕微鏡装置1の全体の制御を司る検査制御装置50には、ローダ制御ユニット51が接続されている。ローダ制御ユニット51は、ロボットアームを備えた搬送ロボット52の制御を司る。搬送ロボット52は、ローダ制御ユニット51によって、例えば、PLC(Programmable Logic Controller)制御される。また、顕微鏡ヘッド30,40の制御ユニット53A,53Bや、観察装置33も接続されており、光学系の調整や、観察装置33で取得した像を取り込めるようになっている。検査制御装置50には、画像処理ボード(不図示)が搭載されており、観察装置33から取り込んだ画像データは、表示手段であるモニタ54に表示される。さらに、検査制御装置50には、制御ユニット55が接続されている。制御ユニット55は、リフター(リフトピン11)と、ステージ6を移動させるモータ4のモータドライバ56と、顕微鏡ヘッド30,40をY方向に移動させる一対のリニアガイド21のモータドライバ57,58(駆動部)とが接続されており、例えば、PLC制御される。なお、検査制御装置50が、通知手段にもなるモニタ54と、キーボード59、マウス60などの入力手段とを備える汎用のコンピュータである場合には、検査制御装置50と制御ユニット55とは、例えば、イーサネット(登録商標)接続により通信可能に構成される。顕微鏡ヘッド30,40の制御ユニット53A,53Bは、例えば、RS−232C接続により通信が行われる。
次に、本実施の形態の作用について説明する。なお、以下において、複数ヘッド顕微鏡装置1は、液晶パネルの製造におけるフォトリソ工程において、数種類の配線をガラス基板W上に形成するために線種と同数の成膜、レジスト塗布、パターン焼付け、現像、エッチングを行う際に、1サイクル毎に検査をする際に用いるものとして説明する。また、ガラス基板Wには、X方向に2つのパターンが形成される場合を例にして説明するが、パターンの配置や数、検査対象となる工程などは、これに限定されずに任意に選択できる。
初期段階では、複数ヘッド顕微鏡装置を立ち上げたら、制御系の初期化を実施し、各ユニット間の通信を確立する。この段階では、ガラス基板Wは搬入されていないので、リフトピン11はステージ6の上面から突出した位置で待機している。装置の立ち上げが終了したら、図5に示すようなフローチャートに従って検査を開始する。まず、検査制御装置からの通信によってローダ制御ユニット51が搬送ロボット52を駆動させてガラス基板Wを搬入する(ステップS101)。搬送ロボット52は、ガラス基板Wをリフトピン11に受け渡したら退避するので、リフトピン11を下げてガラス基板Wをリフトダウンする(ステップS102)。ガラス基板Wは、ステージ6の上面に載せられるので、押し付けピン10を移動させて、位置決めピン9にガラス基板Wの側面を押し付け、位置決めピン9と押し付けピン10とでガラス基板Wを挟むようにして位置決めしてホールドする(ステップS103)。
この際、予め検査制御装置50へ記録媒体等を通じて入力される基板情報や、ローダ制御ユニット51又は上位システム(サーバ、CIM(Computer Integrated Manufacturing))から基板情報が検査制御装置50に受け渡されるので、基板情報に基づいた検査条件から検査制御装置50のアプリケーションソフトが不図示のメモリやサーバからそのガラス基板Wについての検査レシピファイルを選択して読み込む(ステップS104)。このとき読み込まれるレシピには、基板上の検査ポイントの座標、検査順序、検査に使用する顕微鏡ヘッド30,40、検査時の対物レンズ31の倍率などが含まれる。次に、レシピに登録されている検査対象座標の数だけ検査処理を行う検査ループ(ステップS105〜S111)に入る。
検査ループでは、最初に顕微鏡ヘッド30,40の1番目の検査ポイントのX座標にステージ6を移動する(ステップS106)。X座標は、2つの顕微鏡ヘッド30,40にとって共通の座標であるので、ステージ6を移動させるだけで同時にX方向の位置合わせが行える。次に、顕微鏡ヘッド30,40を移動させてY座標を1番目の検査ポイントのY座標に合わせる(ステップS107A,S107B)。各顕微鏡ヘッド30,40ごとに対物倍率を変更し(ステップS108A,S108B)、ピント調整(AF)をする(ステップS109A,S109B)。観察条件が整ったら、ガラス基板W表面の画像を観察装置33で撮像して保存する(ステップS110A,S110B)。画像は、検査制御装置50で画像処理されてモニタ54に表示される。作業者は、モニタ54の画面を観察して、欠陥等の有無を確認する。なお、設計CADデータや良品の同じ位置同士のパターンマッチング等の画像処理によって判定を行っても良い。また、検査の内容は、欠陥検出やパターン検出に限らず、パターンの線幅測定等を行っても良い。ここまでの処理は、全ての検査ポイントについての検査が終了するまで繰り返して実施される。
検査が終了したら、ステップS112に進んで、ステージ6を搬出位置まで移動させる。ホールドを解除したら(ステップS113)、リフトピン11を上昇させてガラス基板Wをリフトアップする(ステップS114)。検査制御装置50は、ローダ制御ユニット51に通信を行って搬送ロボット52を駆動させる。搬送ロボット52がガラス基板Wを搬出したら(ステップS115)、ここでの処理を終了する。
ここで、図6に、検査の際に使用するアプリケーションソフトによって提供され、モニタ54に表示される画面の一例を示す。なお、画面のレイアウト等は、任意に変更して使用することが可能である。
メイン画面80は、顕微鏡ヘッド30のライブ画像を表示する画像表示領域81を有する。画像表示領域81の下には、切り離しボタン82と、復旧ボタン83とが配設されている。切り離しボタン82は、顕微鏡ヘッド30の観察を中止して退避領域46(図4参照)に切り離して運用する際に選択される。復旧ボタン83は、切り離し後に顕微鏡ヘッド30での観察を再開するときに選択される。ここでは、顕微鏡ヘッド30が観察中であるので、復旧ボタン83は操作できない状態になっている。復旧ボタン83は、切り離しボタン82を選択して切り離し運用中には、有効になる。また、顕微鏡ヘッド40についても同様に、画像表示領域85と、切り離しボタン86と、復旧ボタン87とが配設されている。
メイン画面80の左下側には、検査座標マップ90が設けられている。検査座標マップ90は、四角形のパネル表示91が4つ表示されている。パネル表示91は、ガラス基板W上のLCDパネル領域(LCDモニタとして使用される部分)の範囲を示すものである。パネル表示91内の丸印は、ガラス基板W内で検査を行う検査ポイントを示す座標ポイント92である。ここでは、レシピに登録されている座標に基づいて表示がなされているが、例えば、上位システムから取得した定義データを用いても良い。検査座標マップ90には、直交する点線93,94が重ねて表示されており、これら点線93,94は2つの交点95,96を形成している。交点95は顕微鏡ヘッド30の現在座標を示し、交点96は顕微鏡ヘッド40の現在座標を示す。
メイン画面80の右上には、基板情報100などが設けられている。基板情報100は、基板搬入時に取得した基板情報が表示される。一時停止ボタン101は、検査ループ(図6のステップS101〜S105)に入っている状態で、次の検査ポイントに顕微鏡ヘッド30,40が自動的に移動する処理を一時的に停止するためのボタンである。再開ボタン102は、一時停止状態を解除して顕微鏡ヘッド30,40の移動を再開するためのボタンで、一時停止中のみ有効になる。次ワークボタン103は、現在のガラス基板Wを搬出し、次のガラス基板Wの搬入を開始するためのボタンであり、検査ループが終了した場合と一時停止中のみ有効になる。
メイン画面80の右下には、検査座標リスト110が設けられている。検査座標リスト110は、レシピで定義された検査座標(X座標、Y座標)と、各顕微鏡ヘッド30,40に割り当てられた番号(例えば、顕微鏡ヘッド30が「1」で、顕微鏡ヘッド40が「2」)と、検査状況とが、検査ポイント(No)ごとに関連付けて表示されている。ここでは、No.05の検査ポイントと、No.06の検査ポイントとに相当する情報に強調表示111,112がなされているが、これは現在検査中であることを示す。なお、判定は、検査が未完了の場合には空欄となり、検査が終了した場合に「完了」の文字が表示される。また、検査ポイントの数が多い場合は、スクロールして表示させることができる。
切り離しボタン82,86を操作した際の動作を説明する。顕微鏡ヘッド30に対応した切り離しボタン82を押すと、顕微鏡ヘッド30が図4に示すように退避領域46に退避する。顕微鏡ヘッド30に故障などの不具合があったり、定期的に行うメンテナンスを行ったりするときには、交換や修理などの必要な作業を実施する。この間は、観察範囲45に残っている顕微鏡ヘッド40のみで検査が継続される。顕微鏡ヘッド30が退避している間は、図7に例示するような画面にモニタ54の表示が切り替わる。顕微鏡ヘッド30に対応する画像表示領域81は、切り離し中を示す画面として、例えば「切り離し中」との文字が表示される。したがって、モニタ54が通知手段となって、オペレータに顕微鏡ヘッド30が退避領域46にあることが通知される。切り離しボタン82は、操作不可状態となり、代わりに復旧ボタン83が操作可能になる。検査座標マップ90上では、顕微鏡ヘッド40の現在位置を示す交点96のみが表示され、検査座標リスト110の未検査の検査ポイントは、符号Cで示すように強制的に稼動中の顕微鏡ヘッド40に割り当てられた番号に変更される。交換や修理が完了したら、復旧ボタン83を押す。顕微鏡ヘッド30が検査を実施可能な位置まで戻るので、以降は2つの顕微鏡ヘッド30,40による検査が再開される。
この実施の形態によれば、2つの顕微鏡ヘッド30,40のそれぞれを観察範囲45内に重複可能に、かつ独立に移動可能に構成し、不具合などが生じた顕微鏡ヘッド30,40の検査を任意のタイミングで中止して退避位置に移動できるようにしたので、顕微鏡ヘッド30,40が故障等したときに復旧するまでの間に残りの顕微鏡ヘッド30,40で検査を継続することが可能になる。不具合が生じた顕微鏡ヘッド30,40の修理や交換作用は、残りの顕微鏡ヘッド30,40で検査を継続している間に行える。したがって、2つの顕微鏡ヘッド30,40を備える構成において、検査効率の低下を最小限に止めることができる。その結果、生産ラインにおける生産効率を向上させることができる。
次に、本発明の第2の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。この実施の形態に係る複数ヘッド顕微鏡装置は、第1の実施の形態と同じ構成を有し、顕微鏡ヘッドの切り離し処理が異なることを特徴とする。したがって、第1の実施の形態と同じ構成要素には同一の符号を付してある。重複する説明は、省略する。
この実施の形態における検査の処理フローを図8に示す。なお、図8には主に顕微鏡ヘッド30についての処理が示されているが、顕微鏡ヘッド40についても同様の処理が行われる。
図8に示すように、検査を開始したら、検査準備を実施する(ステップS201)。ここでの検査準備は、第1の実施の形態のステップS101からステップS104の処理に相当する。ガラス基板Wの検査が可能な状態になったら、検査が完了していない検査ポイントが存在するか否か調べる(ステップS202)。未完了の検査ポイントが存在しない場合には(ステップS202でNo)、検査準備(ステップS201)に戻る。ただし、検査終了の場合は、第1の実施の形態のステップS112からステップS115が行われて終了する。検査ポイントが存在する場合には(ステップS202でYes)、顕微鏡ヘッド30が有効であるか判断する(ステップS203)。顕微鏡ヘッド30が無効である場合には(ステップS203でNo)、既に切り離しが行われ、顕微鏡ヘッド40のみで検査を継続している状態である。この場合には、後述するステップS209に進む。
顕微鏡ヘッド30が有効である場合には(ステップS203でYes)、顕微鏡ヘッド30の検査準備動作を実施し(ステップS204)、指定座標への移動と、顕微鏡ヘッド30の倍率変更、ピント調整を行う。顕微鏡ヘッド30の検査準備動作が正常終了したら(ステップS205でYes)、その検査ポイントにおける検査を行う(ステップS212)。その後、他の検査ポイントの検査をするためにステップS202に戻る。
ここで、顕微鏡ヘッド30の検査準備動作に異常が発生したときには(ステップS205でNo)、復旧方法自動選択を実施し、発生したエラーの種類(エラーコード)によって後の処理を振り分ける(ステップS206)。
例えば、X軸方向やY軸方向への移動が不能になった場合のように、継続不能なエラーが生じたときには、ステップS213の復旧不能オペレータコールを実行し、オペレータに異常発生を報告し、オペレータによる復旧を促す。異常発生の報告は、モニタ54や、警報機などの通知手段によってなされる。
例えば、顕微鏡との通信エラーやオートフォーカスの失敗が生じた場合のように、リトライ可能なエラーが生じたときには、ステップS204に戻り、検査準備動作を再度実施する。
例えば、顕微鏡ヘッド30の移動は可能であるが、顕微鏡ヘッド40の切り替えや、ピント調整に不具合が発生し、リトライをしたが同じエラーが繰り返される場合には、顕微鏡ヘッド30の切り離しを行うためにステップS207に移動して顕微鏡ヘッド30の退避位置移動を実施する。
顕微鏡ヘッド30を退避領域46に移動させたときには、測定ヘッド割付変更(ステップS208)を実施し、残りの検査ポイントの全てを顕微鏡ヘッド40で実施するように設定変更を行う。以降は、顕微鏡ヘッド40のみで検査を継続するため、顕微鏡ヘッド40の検査準備動作が実施される(ステップS209)。この検査準備動作は、ステップS204の検査準備動作と同様の処理が実施される。顕微鏡ヘッド40についても、同様にして異常発生判断を実施し(ステップS210)、正常に動作が終了したときには検査(ステップS212)を実施する。その一方で、エラーが発生したらステップS211で復旧方法自動選択を実施する。リトライすべきエラーの場合には、ステップS209に戻り、継続不可なエラーの場合には、ステップS213に進んで復旧不能オペレータコールを実施する。なお、この場合には、顕微鏡ヘッド30を退避領域46に移動させて残った顕微鏡ヘッド40についてのエラーであるので、他に切り替え可能な顕微鏡ヘッドが無い。したがって、本来であれば顕微鏡ヘッドを切り替えれば検査を継続できるエラーであっても継続不可と判断される。
この実施の形態によれば、エラーの種類に応じてリトライと、オペレータによる復旧処理と、顕微鏡ヘッドの切り離しとを選択するようにしたので、顕微鏡ヘッド30,40の不具合に起因して検査を中断する頻度が低下する。切り離した顕微鏡ヘッド30,40には交換や修理作業を行え、この間にも他の顕微鏡ヘッド30,40で検査を継続できる。これらのことから、生産効率の低下を最小限に止めることができる。
なお、本発明は、前記の各実施の形態に限定されずに広く応用することができる。
光学ヘッドである顕微鏡ヘッドの数は、3つ以上でも良い。
顕微鏡ヘッドの構成は、実施の形態に示すものに限定されない。標本もガラス基板Wに限定されない。
基板搬送部は、X方向にスライド移動するステージ6に限定されない。例えば、ガラス基板Wをエアーの吹き出しによって浮上させるベース部をX方向に沿って設けると共に、エアー浮上させたガラス基板Wを保持し、X方向に沿って移動させるスライダを配設したエアー浮上ステージであっても良い。
門型フレーム20をX軸方向に複数平行に配置し、各門型フレーム20に複数の顕微鏡ヘッド30,40を配設しても良い。検査に必要なガラス基板WのX方向へのストローク量を少なくすることができるので、装置の小型化や、検査のスループット向上が図れる。
本発明の実施の形態に係る複数ヘッド顕微鏡装置の概略構成を示す平面図である。 図1のA矢視図である。 複数ヘッド顕微鏡装置の制御ブロックを示す図である。 一方の顕微鏡ヘッドが退避位置に退避した状態を示す図である。 検査時の処理を示すフローチャートである。 アプリケーションソフトによって提供される画面例を示す図である。 一方の顕微鏡ヘッドが退避位置に退避したときの画面例を示す図である。 検査時の処理を示すフローチャートである。
符号の説明
1 複数ヘッド顕微鏡装置
4 モータ(基板搬送部)
5 軸(基板搬送部)
6 ステージ(基板搬送部)
20 門型フレーム(支持部材)
30,40 顕微鏡ヘッド
21 リニアガイド(駆動部)
45 観察範囲
46,47 退避領域
50 基板検査装置
54 モニタ(通知手段)
57,58 モータドライバ(駆動部)
W ガラス基板(基板)

Claims (4)

  1. 一平面内において、一軸方向に基板を移動可能な基板搬送部と、
    一軸方向に略直交する他軸方向に前記基板搬送部を跨いで配置される支持部材と、
    前記支持部材に他軸方向に沿って移動自在に複数配置される顕微鏡ヘッドと、
    前記顕微鏡ヘッドのそれぞれを前記基板上の観察対象となる範囲内に移動させる駆動部と、
    観察を停止した前記顕微鏡ヘッドが観察を継続する他の前記顕微鏡ヘッドの移動可能範囲から退避できる退避領域と、
    を有することを特徴とする複数ヘッド顕微鏡装置。
  2. 前記退避領域は、前記基板の搬送経路外に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の複数ヘッド顕微鏡装置。
  3. 前記退避領域にある前記顕微鏡ヘッドによる検査を任意のタイミングで再開できるように構成された検査制御装置を有することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の複数ヘッド顕微鏡装置。
  4. 前記退避位置にある前記顕微鏡ヘッドをオペレータに通知する通知手段を有することを特徴とする請求項1から請求項3にいずれか一項に記載の複数ヘッド顕微鏡装置。

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016045428A (ja) * 2014-08-25 2016-04-04 オリンパス株式会社 門型観察装置

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63106591A (ja) * 1986-10-22 1988-05-11 Seikosha Co Ltd はかま付き指針の製造方法
JPH08286718A (ja) * 1995-04-17 1996-11-01 Nippon Steel Corp 故障ロボットの作業代替方法
JPH10197221A (ja) * 1997-01-13 1998-07-31 Topcon Corp 測定顕微鏡
JP2000184596A (ja) * 1998-12-15 2000-06-30 Toshiba Corp 電力系統監視制御装置及びその装置の処理プログラムを記録する記録媒体
JP2000249662A (ja) * 1999-03-01 2000-09-14 Nippon Steel Corp テープキャリア欠陥検査装置及びテープキャリア欠陥検査装置における撮像手段の位置合わせ方法
JP2002082706A (ja) * 2000-09-06 2002-03-22 Niigata Eng Co Ltd 工作機械の復旧支援システム
JP2003139721A (ja) * 2001-11-05 2003-05-14 Olympus Optical Co Ltd 基板検査装置

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63106591A (ja) * 1986-10-22 1988-05-11 Seikosha Co Ltd はかま付き指針の製造方法
JPH08286718A (ja) * 1995-04-17 1996-11-01 Nippon Steel Corp 故障ロボットの作業代替方法
JPH10197221A (ja) * 1997-01-13 1998-07-31 Topcon Corp 測定顕微鏡
JP2000184596A (ja) * 1998-12-15 2000-06-30 Toshiba Corp 電力系統監視制御装置及びその装置の処理プログラムを記録する記録媒体
JP2000249662A (ja) * 1999-03-01 2000-09-14 Nippon Steel Corp テープキャリア欠陥検査装置及びテープキャリア欠陥検査装置における撮像手段の位置合わせ方法
JP2002082706A (ja) * 2000-09-06 2002-03-22 Niigata Eng Co Ltd 工作機械の復旧支援システム
JP2003139721A (ja) * 2001-11-05 2003-05-14 Olympus Optical Co Ltd 基板検査装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016045428A (ja) * 2014-08-25 2016-04-04 オリンパス株式会社 門型観察装置

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