JP2007245106A

JP2007245106A - ガス処理システム

Info

Publication number: JP2007245106A
Application number: JP2006075915A
Authority: JP
Inventors: Tetsushi Nakai; 哲志中井; Yuichi Takahashi; 裕一高橋; Takafumi Yamazaki; 崇文山崎
Original assignee: Miura Co Ltd; Miura Protec Co Ltd
Current assignee: Miura Co Ltd; Miura Protec Co Ltd
Priority date: 2006-03-20
Filing date: 2006-03-20
Publication date: 2007-09-27

Abstract

【課題】ガス滅菌器から有害なガスが室内に漏れ出した時、漏洩ガスを速やかに処理し、ガス濃度を低下させるガス処理システムを提供することである。
【解決手段】室内に設置されたガス滅菌器と、前記室内の空気に含有するガスを処理する処理手段と、前記室内の空気を前記処理手段に通して前記室内へ循環または前記室内から排出する送気手段と、前記室内のガス濃度を検出する濃度検出手段と、前記濃度検出手段が一定濃度に達したとき、前記送気手段を駆動する制御器とを含む。
【選択図】図２

Description

この発明は、ガス滅菌器に使用される酸化エチレンガスに代表される有害ガスを処理するためのガス処理システムに関するものである。

一般に、ガス滅菌器の滅菌ガスとして使用される酸化エチレンガス（またはエチレンオキサイトガス）は、人体や環境への悪影響を及ぼすことから、取扱いに注意が必要なことで知られている。近年、この酸化エチレンガスの取扱いは、特定化学物質等予防規則により規制が進められる等、とくに重要視されている。そして、酸化エチレンガスのガス処理装置としては、特許文献１に開示されるように、外部へ排気することなくガス滅菌器内の滅菌ガスを無害化処理する装置が知られている。

特開２０００−３３４０３０号公報

特許文献１のガス処理装置は、ガス滅菌器内の滅菌ガスを循環させながら処理部にて無害化しているが、ガス滅菌器の整備不良または誤った使用により、酸化エチレンガスがガス滅菌器を設置する室へ漏れ出すおそれがある。そして、漏れ出した酸化エチレンガスは、室内に滞留し、室内に換気扇等の外部排出装置が整備されていれば、時間の経過とともに室内の酸化エチレンガス濃度は低下すると考えられるが、作業者が室内に入れる程度（労働安全衛生法上の作業環境評価基準は１ppm）まで酸化エチレンガス濃度を低下させるには時間を要する。また、外部排出装置が整備されていたとしても、単に排出したのでは外部環境へ悪影響を与えることになる。

この発明が解決しようとする課題は、ガス滅菌器から有害なガスが室内に漏れ出した時、漏洩ガスを速やかに処理し、ガス濃度を低下させるガス処理システムを提供することである。

この発明は、前記課題を解決するためになされたもので、請求項１に記載の発明は、室内に設置されたガス滅菌器と、前記室内の空気に含有するガスを処理する処理手段と、前記室内の空気を前記処理手段に通して前記室内へ循環または前記室内から排出する送気手段と、前記室内のガス濃度を検出する濃度検出手段と、前記濃度検出手段が一定濃度に達したとき、前記送気手段を駆動する制御器とを含むことを特徴としている。

この発明によれば、ガス滅菌器から有害なガスが室内に漏れ出した場合でも、漏洩ガスを前記送気手段の駆動により前記処理手段にて処理することで、前記室内のガスは短時間で処理され、外部環境へ影響を与えることなく、速やかに適正な室内環境にすることができる。さらに、前記濃度検出手段が一定濃度に達したときに、前記送気手段を駆動することで、前記室内に漏洩したときに送気するため、効率的なガス処理が可能になる。

つぎに、この発明の実施の形態について説明する。この実施の形態は、室内に設置されたガス滅菌器と、前記室内の空気に含有するガスを処理する処理手段と、前記室内の空気を前記処理手段に通して前記室内へ循環または前記室内から排出する送気手段と、前記室
内のガス濃度を検出する濃度検出手段と、前記濃度検出手段が一定濃度に達したとき、前記送気手段を駆動する制御器とを含むことを特徴としている。

この実施の形態においては、前記ガス滅菌器の運転時、前記ガス滅菌器からのガスが前記室内に漏洩した際、前記濃度検出手段が一定のガス濃度を検出することで、前記制御器により前記送気手段を駆動させる。これにより、前記室内の空気に含有するガスは、前記処理手段を介することで、適正なガス濃度となって前記室内へ循環または前記室外へ排出される。

つぎに、この実施の形態の各構成要素について説明する。前記室は、前記ガス滅菌器を設置可能で、かつこのガス滅菌器の操作者等の人が出入り可能な区域であり、部屋，領域または空間と称することもできる。

前記ガス滅菌器は、典型的には酸化エチレンガスを滅菌ガスとして用いる滅菌器である。このガス滅菌器は、高圧容器の滅菌器本体と別体にガスタンクを設けるような大型の滅菌器から、カートリッジ式のガスボンベを用いてガス滅菌器自体に装填して使用する小型の滅菌器まで、その大きさは限定されない。

前記処理手段は、前記室内の空気に含有するガスを処理するものである。前記処理手段は、液体酸，固体酸，吸着物質，触媒からなり、１つまたは複数を選択して設けておき、前記室内の空気に含有するガスがこの処理手段を通過することで無害化処理される。ここで、吸着物質としては、活性炭であることが望ましく、触媒としては、燃焼触媒，光触媒等であることが望ましい。

前記送気手段は、前記室内の空気を前記処理手段に通して前記室内へ循環または前記室内から排出するものである。この送気手段は、送気ライン（配管またはダクト）と、この送気ラインに設けるファンとで構成され、前記送気ラインの中途に前記処理手段を備える。前記送気ラインは、前記室内の空気を前記室外へ排出するように施工しても良いし、前記室内へ循環させるように施工しても良い。前記ファンは、前記室内の空気を循環または排出可能なものであれば、とくに限定されない。

前記濃度検出手段は、前記室内のガス濃度を検出することで、前記ガス滅菌器から漏洩した滅菌ガスの濃度を検知するものである。この濃度検出手段は、前記室内の下方または前記ガス滅菌器の近くに設置することが望ましいが、前記室内の濃度を検知できるところに設置されていれば、設置場所はとくに限定されない。

前記制御器は、前記濃度検出手段からの信号を入力して、前記処理手段，前記送気手段などを制御する。具体的には、前記制御器は、前記濃度検出手段にて前記室内の濃度が一定濃度であることを検出した際、前記送気手段を駆動する。これにより、前記室内の空気は、前記処理手段を通って前記室内へ循環または前記室内から排出される。この制御器は、単体として前記室内または前記室外に設置しても良いし、前記ガス滅菌器の制御器と併用することも可能である。また、この制御器は、前記ガス滅菌器からガスの漏洩を検出し、このガス滅菌器の運転を停止させる等、前記ガス滅菌器の制御も可能である。

以下、この発明の具体的実施例を図面に基づいて説明する。図１は、実施例のガス処理システムの概略構成図である。図２は、実施例のガス処理装置を示す具体的構成図である。

まず、図１において、前記室１には、卓２上に置かれたガス滅菌器３と、ガス処理装置
４とが設置されている。この実施例のガス滅菌器３は、酸化エチレンガスを使用するガス滅菌器である。

図１および図２に基づいて前記ガス処理装置４について説明する。このガス処理装置４は、前記室１内の空気に含有する酸化エチレンガスを処理する処理手段５と、前記室１内の空気を前記処理手段５に通してこの室１の外へ排出する送気手段６と、前記室１内のガス濃度を検出するガス濃度センサ７と、前記ガス濃度センサ７からの信号を入力して、前記室１内の空気の送気等を制御する制御器８とを主要部として備えている。

前記処理手段５は、水を貯留する貯留槽９，前記貯留槽９内の水位を検出する水位検出部１０，一端が前記貯留槽９の底部に接続され、他端がこの貯留槽９の上部側壁に接続される循環ライン（配管）１２，この循環ライン１２の中途に設けられ、前記貯留槽９内の水を液送する循環ポンプ１３，前記循環ライン１２の中途に設けられ、水中に含まれるガスを加水分解する樹脂筒１４，前記循環ライン１２の他端に設けられ、前記貯留槽９内の上部中心部から水を噴霧するノズル１５を含んで構成される。前記樹脂筒１４には、固体酸である強酸性イオン交換樹脂が充填されている。

前記貯留槽９内の水は、このガス処理装置４の外部に設ける給水タンク１６から給水ライン（配管）１７，前記循環ライン１２を介して前記貯留槽９へ給水され、あらかじめ所定量貯留されている。本実施例における水は、水道水であるが、純水や薬液を混合した水を使用してもよい。また、水の給水量は、給水制御弁１８により調整される。また、前記貯留槽９の底部には、前記循環ライン１２を介して水を前記室１外へ排出する排出ライン（配管）１９と、水の排出を制御する排水制御弁２０とを備える。前記各制御弁１８，２０は、開度調整可能な電磁弁，モータバルブまたは比例制御弁とすることができる。

前記送気手段６は、前記室１内の空気を室外へ排出する送気（換気）ライン（配管またはダクト）２１と、この送気ライン２１の吸気口（不図示）に設けるファン２２とで構成される。前記送気ライン２１は、前記ファン２２の後流側（排出側）に前記貯留槽９を設けて、吸気された空気と水とが混合するように、前記ノズル１５より下方位置の側壁に接続される。また、前記送気ライン２１は、排気口（不図示）と前記貯留槽９の上部と接続される。

また、前記ガス処理装置４には、前記室１内のガス濃度を検出するガス濃度センサ７を備える。前記室１内に漏洩した酸化エチレンガスは、空気よりも重いため、前記室１内の下方の濃度が高くなる。そのため、このガス濃度センサ７は、図１に示すように前記ガス処理装置４の下方位置に取付ける。

前記制御器８は、前記ガス濃度センサ７および水位検出部１０からの信号を入力し、循環ポンプ１３，前記各制御弁１８，２０，前記ファン２２を制御するように構成されている。

以上の構成の実施例の動作を説明する。まず、前記ガス滅菌器３内へチューブや内視鏡等の被滅菌物（図示省略）を収容し、扉（図示省略）を閉めて密閉状態にする。そして、運転スイッチ（図示省略）をオンすることで、前記ガス滅菌器３内に酸化エチレンガスを充満させ、被滅菌物（図示省略）の滅菌を行う。以下、前記ガス滅菌器３に不良が生じ、前記ガス滅菌器３内の酸化エチレンガスが前記室１内へ漏れたことを想定して説明する。

前記制御器８は、前記ガス濃度センサ７が一定のガス濃度（たとえば２５ppm）以上になったことを検知すると、前記ガス滅菌器３から前記室１内へ酸化エチレンガスが漏れているとして、前記循環ポンプ１３および前記ファン２２を駆動させる。前記貯留槽９に貯
留されている水は、前記循環ポンプ１３の駆動により、前記循環ライン１２を介して前記ノズル１５から細かな水滴として前記貯留槽９内上部より噴霧される。

前記室１内の酸化エチレンガスを含んだ空気は、前記ファン２２の駆動により、前記送気ライン２１を介して前記貯留槽９へ導入される。そして、前記貯留槽９内に導入された空気中に含まれる酸化エチレンガスは、前記ノズル１５から水をスプレー状に噴霧することで、水に溶解する。これにより、水に溶け込んだ酸化エチレンガスは、前記循環ライン１２を介して循環させられ、この循環ライン１２の途中に設けた前記樹脂筒１４でエチレングリコールに加水分解される。

以上の実施例の動作において、水に溶け込んだ酸化エチレンガスは、前記樹脂筒１４内でエチレングリコールに加水分解されることで、液体として水中に固定される。その結果、前記貯留槽９から排出される空気は、酸化エチレンガスを含有しない空気として前記送気ライン２１を介して排出される。

そして、前記制御器８は、前記ガス濃度センサ７が一定のガス濃度（たとえば１ppm）以下に低下したことを検知すると、前記循環ポンプ１３および前記ファン２２を停止する。

前記貯留槽９内に貯められた水は、酸化エチレンガスの加水分解によりエチレングリコールを含有する液体になるため、水に対する酸化エチレンガス吸収量が低下する。そこで、前記貯留槽９内のエチレングリコールを含む水は、新しい水と入れ替えるために、前記排水制御弁２０を開き、前記排水ライン１９を介して排出する。排水は、前記制御器８により所定のタイミングで行ってもよいし、前記ガス滅菌器３または前記ガス処理装置４の操作者が適宜行ってもよい。

また、前記のように排水または長時間使用されず水が自然蒸発する等により、前記貯留槽９内の水量が低下した場合、前記制御器８は、前記水位検出器１０が一定水量以下になったことを検知して、前記給水制御弁１８を開いて、前記給水タンク１６から前記給水ライン１７を介して、前記貯留槽９内へ水を所定量まで給水する。

以上の実施例によれば、前記ガス滅菌器３から有害な酸化エチレンガスが前記室１内に漏れ出したとしても、前記処理手段５にて漏洩ガスを速やかに処理することができ、ガス濃度を低下させることが可能となる。

本発明は、上記実施例に限定されるものではない。この実施例の前記貯留槽９とは別に処理部を複数設けることで、有害ガスの処理を促進することができる。たとえば、酸化エチレンガスからエチレングリコールへの加水分解量を増やしたい場合は、前記貯留槽９の後流に、酸性触媒，活性炭，光触媒等を配置することでその分解量を増加させることも可能である。

実施例のガス処理システムの概略構成図である。実施例のガス処理装置を示す具体的構成図である。

符号の説明

１室
３ガス滅菌器
５処理手段
６送気手段
７濃度検出手段（ガス濃度センサ）
８制御器

Claims

室内に設置されたガス滅菌器と、前記室内の空気に含有するガスを処理する処理手段と、前記室内の空気を前記処理手段に通して前記室内へ循環または前記室内から排出する送気手段と、前記室内のガス濃度を検出する濃度検出手段と、前記濃度検出手段が一定濃度に達したとき、前記送気手段を駆動する制御器とを含むことを特徴とするガス処理システム。