CN115210357A - 带臭氧去污的培养器摇床和用于对培养器摇床去污的方法 - Google Patents

Abstract

公开了一种用于细胞培养的培养器摇床(1)，其包括培养室(10)、设置在培养室(10)中的振荡台(21)和用于在包括振荡台(21)下方的空间的培养室(10)中分布臭氧的臭氧分布装置(100)。振荡台(21)被配置用以在培养过程中在其上放置培养容器。该培养器摇床(1)可用于进一步公开的用于对培养器摇床(1)去污的方法，该方法包括如下步骤：将臭氧分布装置(100)放入培养室(10)中；将臭氧引导到培养室(10)中；以及在包括振荡台(21)下方的空间的培养室(10)内传送臭氧。

Description

带臭氧去污的培养器摇床和用于对培养器摇床去污的方法

技术领域

本发明涉及一种带臭氧去污的培养器摇床和用于对培养器摇床去污的方法。具体地，本发明涉及一种包括振荡台和用于整个培养室中及振荡台下方的均匀的臭氧分布的臭氧分布装置的培养器摇床，以及一种用于培养器摇床的自动去污的方法，该方法包括将臭氧引导到振荡台下方的空间中。

背景技术

用于细胞培养(例如哺乳动物细胞)的培养器摇床包括培养室，该培养室通常保持在最适合培养搅动的细胞的特定气氛下。例如，温度可以保持在37℃左右，相对湿度约为80％到95％，这可以防止培养基(液体)大量蒸发。此外，为了保持培养基的pH值恒定，培养室中的气氛的二氧化碳(CO₂或CO2)水平可以保持在大约5％左右。然而，特别是高相对湿度会增加培养室内的冷凝，因此增加霉菌堆积的风险。

因此，培养室需要定期去污。清洁和消毒是遵循良好生产规范(GMP)指南的药品生产中污染控制策略的一个组成部分。所有表面的手动去污通常通过擦拭清洁来实现。为了有效消毒，必须首先进行清洁以去除表面上的污垢、灰尘和泥土。此外，应使用消毒剂并定期使用杀孢子剂。

使用例如过氧化氢(H2O2)的化学品、干热或湿热进行自动去污是用于静态细胞培养的培养器(即没有集成的(轨道)振荡机构)的共同特征。静态CO2培养器中的自动去污通常是通过将培养室内部在大约120℃以上，优选在大约160℃或180℃，加热几个小时进行。用于静态培养器的另一种已知的有效方法是示例中的使用稀释到浓度为6％的H2O2蒸汽。

在WO 2016/161155 A2中描述了一种去污方式，其包括具有转移室和内室的培养器柜，转移室和内室中的一个或两个可以填充有灭菌气体，例如臭氧气体或过氧化氢气体/蒸汽或两者。同样，在WO 2005/060385 A2中描述了一种蒸汽去污系统，该系统具有用于产生要被引入载气中的汽化过氧化氢的第一发生器和用于将臭氧引入载气中的装置，以及用于将汽化的过氧化氢和载气供应到室的闭环循环系统。

然而，过氧化氢(H2O2)被分解成水性H2O和O2气体，从而湿气将在培养器中产生，并可能进入振荡驱动器的电机。此外，培养器内的振荡机构的电子和/或电气零件不可暴露在高温下。

发明内容

因此，本发明的目的是提供一种能够以高效且容易的方式去污的培养器摇床，并且进一步提供一种用于对培养器摇床去污的增强的方法。

该目的通过具有权利要求1的特征的培养器摇床和具有权利要求14的特征的方法的形式的发明实现。

根据用以更好地理解本公开的示例，一种用于细胞培养(例如在悬浮液中)的培养器摇床包括培养室、设置在培养室中的振荡台，和用于在包括振荡台下方的空间的培养室中分布臭氧的臭氧分布装置。振荡台可配置用以在其上放置培养容器。

臭氧分布装置提供臭氧在整个培养室中的均匀分布和整体均匀浓度。特别地，通过在振荡台下方提供指定的臭氧浓度和均匀分布，可以实现整个培养室中的有效去污。指定的臭氧浓度是指臭氧浓度在培养室的各区域中是相同的。

培养器中的常规去污过程要求必须移除内部部件，例如用于静态培养的架子和搁板。然而，具有内置振荡驱动电机的培养器摇床的振荡台不能从培养室中移除。如果这类内部部件不被移除，则灭菌气体可能无法到达被这些内部部件覆盖的区域，特别是被通常具有几乎等于培养室底部的尺寸的振荡台覆盖的区域，从而阻挡了消毒气体。因此，消毒气体无法到达振荡台下方的空间，或者仅以不能有效地使培养室的该区域去污的低的浓度到达。

根据本公开，由于臭氧在整个培养室中的分布，在整个培养室中实现了均等的臭氧浓度。即使在带有集成旋转振荡驱动电机的培养器摇床的情况下，例如用于振荡台的轨道运动的电机，也可以在包括振荡台下方和电机周围的整个培养室中实现均等的臭氧浓度。与常规设备相比，这进一步减少了去污过程的时间，因为处理时间不取决于特定区域(即，灭菌气体不能很好到达的区域)中灭菌气体的最小浓度。

臭氧(O₃或O3)具有高反应性，具有非常高的氧化电位，这源于其从其他分子中提取电子并在此过程中释放其自身氧原子之一的能力。由于这种强大的氧化特性，臭氧具有远远超过例如氯化物或过氧化氢的杀菌、杀病毒、杀孢子和灭菌能力。用于培养室去污的合适的臭氧浓度为30至100ppm，优选50至70ppm，最优选约60ppm。因此，在本公开中，对传送臭氧或传送的臭氧的任何提及均指传送具有这种臭氧浓度的气体，例如空气。因此，传送/传送的臭氧是指臭氧本身分布遍及培养室的内部空间，并到达培养室的所有表面以及安装在培养室中的内部部件。

在一实施方式变型中，臭氧分布装置可以包括具有多个开口并且被布置成与培养室的侧壁相邻的侧板。虽然培养室侧壁在其一侧界定培养室，但侧板位于侧壁的前面，即培养室的内部。

臭氧分布装置可进一步包括传送装置，该传送装置被配置用以将臭氧传送到侧板与培养室的侧壁之间的第一空间中。因此，传送装置在培养室的内部实现了携带臭氧的强制气流。空气和臭氧的这种强制流动有助于为培养室的内部空间的每个部分和区域提供臭氧，即使复杂的内部结构布置在培养室内部也是如此。

传送的臭氧必须离开第一空间，这至少部分地通过侧板上的多个开口来实现。因此，传送的臭氧流过第一空间并通过多个开口远离培养室的侧壁，即朝向培养室的中心。因此，培养室中侧板的布置有助于培养室中臭氧的均匀分布。

在进一步的实施方式变型中，多个开口中的至少一个开口在振荡台下方的高度处布置在侧板中。由于侧板与培养室的侧壁相邻布置，即以基本上竖直的方式设置，并且由于振荡台通常以基本水平的方式布置在培养室的内部，因此培养室的内部空间的一部分位于振荡台下方，并且侧板的对应部分因此可以布置在培养室的内部空间的这部分中。多个开口中的至少一个开口布置在侧板的该部分中，从而通过第一空间传送的臭氧流入培养室的内部空间中的在振荡台下方的部分中。这有助于臭氧在培养室的整个内部空间中的均等分布。

附加地或可替代地，侧板的面向培养室底部的下边缘可以包括至少一个凹部。换言之，侧板可具有竖立在培养室底部的至少一个支脚，而侧板的下边缘形成为与支脚和升高边缘相邻。由升高边缘形成的这个凹部与侧板上的开口具有相同的功能。

同样附加地或可替代地，侧板可以以下边缘的至少一部分不接触培养室的底部而是与培养室的底部隔开的方式安装到培养室的侧壁。

在一可选的变型中，侧板中的多个开口可以从所述侧板的顶部设置到底部，使得多个开口中的至少一些也布置在侧板的与培养室的内部空间中的在振荡台上方的部分对应的部分中。多个开口可以自上而下排列成一排(基本竖直)，也可以可选地在侧板上二维分布(基本竖直和水平分布或对角线分布)。

在另一实施方式变型中，臭氧分布装置可以进一步包括顶板，该顶板具有开口并且被布置成与培养室的天花板相邻。换言之，类似于侧板被布置成基本上竖直并且基本上平行于培养室的侧壁，顶板可以布置成基本上水平并且基本上平行于培养室的天花板。

此外，传送装置可以配置用以将臭氧通过开口传送到顶板和培养室的天花板之间的第二空间中。因此，传送装置将臭氧从培养室的中心内部空间传送到培养室的内部空间的布置在顶板和培养室的天花板之间的部分，即第二空间。

在一可选的变型中，传送装置可以布置在第二空间中并且将臭氧通过顶板中的开口传送到第二空间中。可替代地或附加地，传送装置可以布置在顶板的开口中。

侧板可以联接到顶板，使得第一空间流体连接到第二空间。换言之，布置有顶板的平面可以与布置有侧板的平面形成角度，其中该角度大于0°且小于180°。第一和第二空间在向外的方向上由培养室的天花板和侧壁界定并且在向内的方向上(朝向培养室的中心)由顶板和侧板界定。因此，由传送装置传送的臭氧流过顶板上的开口、第二空间、第一空间和侧板中的多个开口。之后，臭氧可以再次到达传送装置，从而实现臭氧通过培养室的循环流动。这有助于臭氧在整个培养室中的均等分布，并加快去污过程。

在进一步的变型中，臭氧分布装置可以进一步包括布置在培养室的后侧的传送装置。传送装置被配置用以将臭氧传送通过培养室的内部空间，特别是朝向培养室的中心。

例如，臭氧分布装置可以进一步包括布置成与培养室的后壁相邻的后板。后板可以在后板和培养室的后壁之间形成第三空间。换言之，类似于侧板被布置成基本上竖直并且基本上平行于培养室的侧壁，后板可以布置成基本上竖直并且基本上平行于培养室的后壁。第三空间可以流体连接到第一空间和/或第二空间。

附加地或可替代地，传送装置可以被配置用以将臭氧从培养室的内部空间(例如，培养室的中心)传送到后板后面的第三空间中。例如，后板可以包括开口，臭氧通过该开口被传送到第三空间中。此外，传送装置可以被配置用以将臭氧通过第三空间朝向第一空间和/或第二空间传送。因此，然后可以以类似于关于顶板所描述的方式来操作传送装置。

此外，传送装置可以布置在培养室的外部，即在培养室的后壁之后。它可以连接到在后壁中具有开口的管道，以便从培养室内部吸入臭氧。然后传送装置可以将臭氧通过后壁传送到培养室中。可替代地，可以通过后壁中的相同开口或通过不同开口实现将臭氧传送到培养室中。

在又一实施方式变型中，臭氧分布装置可以进一步包括过滤器，该过滤器布置在传送装置的传送方向的上游，并被配置用以在气体进入传送装置之前过滤气体。这种过滤器可以布置在传送装置的入口处，从而气体特别是臭氧通过过滤器被吸入传送装置。同样，过滤器可以布置在顶板或后板中的开口的前面，例如，覆盖顶板或后板中的整个开口。因此，由传送装置传送并通过开口和顶板或背板吸入的任何气体和臭氧在进入第二空间和第一空间之前被过滤。这防止第一空间和第二空间以及传送装置的污染。例如，过滤器可以是HEPA过滤器(高效微粒空气过滤器)。

在另一实施方式变型中，传送装置可以是风机，例如径流式风机。可替代地或附加地，传送装置可以是文丘里喷嘴。可替代地或附加地，传送装置可以包括泵。传送装置可以具有入口和出口，臭氧通过入口进入传送装置，被传送的臭氧通过出口离开传送装置朝向第一和/或第二空间。例如，过滤器可以布置在传送装置的入口的前面，而传送装置的出口例如布置在第一空间和/或顶板中的开口的前面或附近。

在进一步的实施方式变型中，传送装置可以包括电机，该电机达布置在培养室的外部。例如，电机可以具有轴，该轴穿过培养室的壁(例如培养室的天花板、侧壁或后壁)伸入培养室的内部空间中。风机或叶片可以布置该轴上，从而构成传送装置。围绕轴的气密密封件将传送装置的电气元件(即电机)与培养室的内部空间隔开，从而臭氧既不会到达电气元件，也不会到达培养器周围的环境大气。

在另一个实施方式变型中，培养器可以进一步包括布置在培养室的如下区域中的紫外光源，传送装置将臭氧传送到该区域中。这种紫外光源可以在对培养室的内部空间进行去污后使用，因为紫外光有助于臭氧的降解或分解。因此，成功去污后的任何残留的臭氧都可以从培养室的内部空间中快速去除。传送装置将臭氧传送到的区域可以是第一空间和/或第二空间。因此，可以在该区域安装紫外光源。

布置在培养室内的紫外光源可以进一步在培养过程中与传送装置一起使用。通过在培养过程中传送培养室内的气氛并开启紫外光源，由于紫外光的消毒特性，传送的气氛被净化。紫外光应以使紫外光不会照射到培养的细胞的方式布置在培养室内，否则可能会损坏细胞。例如，培养室的顶板和天花板或培养室的后板和后壁或培养室的侧板和侧壁可以形成用于传送的气氛的(旁路)通道，其中顶板、后板或侧板阻挡来自紫外光源的任何紫外光进入培养室的内部空间中。

此外或可替代地，培养器可以进一步包括催化剂，例如铂催化剂，其布置在传送装置将臭氧传送到的培养室中的区域中。这种催化剂可以被配置用以降解或分解臭氧，以便在去污过程之后促进从培养室的内部空间中去除任何残留的臭氧。例如，催化剂和紫外光源可以作为结构单元安装在培养室的该区域中。

在进一步的实施方式变型中，振荡台可以包括至少一个开口。这种开口允许臭氧从振荡台下方的空间向培养室的内部空间的中心传送，并进一步返回传送装置。可以改善振荡台下方的臭氧分布，从而可以实现对培养室中所有区域的有效去污。振荡台中的至少一个开口可以被定尺寸和形状以将培养容器放置在开口上并将容器保持就位，例如在培养过程中。在去污过程中可以移除培养容器。可替代地或附加地，至少一个开口可以被定尺寸和形状以促进振荡台下方的臭氧的流动，从而到达振荡台下方的培养室的每个部分。例如，至少一个开口可以被定尺寸和形状以优化臭氧的流动/流。

在又一实施方式变型中，培养器可以进一步包括配置用以移动振荡台的振荡装置。例如，振荡装置可以包括用于轨道运动的旋转驱动电机。因此，振荡装置与振荡台一起可以形成轨道振荡台。这种振荡台可用于培养需要与培养基混合的细胞。

在进一步的实施方式变型中，培养器摇床的振荡装置可以包括连接到振荡台的轴，其中桨叶或叶片连接到该轴。轴可以旋转或进行旋转运动，以形成允许(轨道)振荡台振荡的偏心件。这种旋转或旋转运动可用于进一步迫使振荡台下方的臭氧移动。例如，连接到轴的桨叶与轴一起运动。这种桨叶的运动也使空气运动，因此也使振荡台下方的臭氧运动。

轴可以由布置在培养室内的电机驱动。在这种情况下，壳体被提供以将电机，特别是其电气和电子部件与培养室内的气氛隔离开。这防止湿气和臭氧分别在培养过程和去污过程中到达电机。这种壳体可以由例如不锈钢的易于去污的材料制造或在外部由该材料覆盖。可选地，壳体和电机可以以它们与振荡台一起偏心运动的方式安装。在这种情况下，除了或替代与轴连接的气体传送部件，桨叶或叶片可以连接到电机的壳体上。

可替代地，电机可以布置在培养室外部。在这种情况下，轴延伸穿过培养器的壳体或至少穿过培养室的底部，这需要围绕轴的流体密封式密封件(防止气体和液体离开培养室)。在这种情况下，电机不需要设置在培养室内的特定的壳体，这避免了振荡台下方的空间中的多个不同形状的表面，并有利于对振荡台下方的空间去污和清洁。

在又一实施方式变型中，培养器可以进一步包括进气口，该进气口被配置用以将气体引导到培养室中。这种进气口可以简单地是在培养室内具有出口的管道。此外，进气口可以与臭氧源和二氧化碳源流体连通。例如，进气口可以连接到与臭氧源流体连通的管道，并且可以进一步连接到与二氧化碳源流体连通的管道(在培养过程中通常需要二氧化碳)。此外，可以在各自的管道中使用可选的阀，以允许臭氧和二氧化碳分别填充到培养室中。因此，进气口可用于将二氧化碳提供到培养室中，尤其是在培养过程中。此外，在去污期间，进气口可进一步用于将臭氧提供到培养室中。

可替代地或附加地，培养器中可以包括臭氧发生器。例如，臭氧发生器可以布置在培养室外部并且可以可选地连接到进气口。根据另一示例，臭氧发生器可以布置在培养室内部。例如，臭氧发生器可以布置在传送装置的上游或下游，使得所产生的臭氧立即分布遍及培养室的内部空间。例如，臭氧发生器可以分别在顶板和/或侧板和/或后板“之后”布置在第一空间和/或第二空间和/或第三空间中。使用臭氧发生器减轻具有臭氧罐或容器的负担，臭氧加压存储在臭氧罐或容器中。

在另一实施方式变型中，培养器可以进一步包括用于关闭培养室通向周围环境的开口的门，以及配置用以将门锁定在关闭位置的锁定机构。培养室的开口可用于将培养容器放置在培养室内部或将它们从培养室中取出。此外，锁定机构可以在去污过程中锁定门。特别地，由于臭氧是一种潜在的有害气体，因此可以将培养室密封(或被制成气密的)，从而在臭氧存在于培养室的内部空间中时，培养室的内部空间被密封和锁定。

锁定机构可以进一步连接到布置在培养室内的传感器。这种传感器可以测量培养室内部气氛中的臭氧浓度。如果臭氧浓度高于指示有害臭氧浓度的阈值，则锁定机构阻止门被打开。

根据用以更好地理解本发明的另一示例，用于对根据第一示例的培养器去污的方法可以包括以下步骤。

去污过程可选地从移除培养室的内部部件开始，特别是可以容易地移除的内部组件，例如托盘、架子等。然而，更难移除的内部结构，例如带有振荡台的固定振荡机构，可以留在培养室中。在已执行适当的手动清洁技术去除培养室的内表面的所有物理污物之后，可以开始消毒过程。

例如根据上述第一示例的臭氧分布装置将被提供在培养器摇床的培养室中。然后，臭氧可以被引导到培养室中或者可以在培养室中生成/产生，并且臭氧在培养室内被传送，其中传送包括将臭氧引导到振荡台下方的空间中。传送臭氧意味着传送存在于培养室内的补充有臭氧的气体，例如空气。臭氧遍及培养室内部的这种传送，特别是在振荡台下方的空间中的传送，实现培养室的内部空间的去污。更详细地，培养室的内表面和留在培养室中的内部部件的表面与臭氧接触。任何污染，例如细菌细胞、细菌和真菌孢子以及对细胞培养过程有污染风险的其他生物材料，也会与臭氧接触。由于臭氧的高反应性，这种污染被灭活，即培养室的内部空间被消毒。

在一实施方式变型中，去污过程可以由计时器控制，例如大约3小时，和/或由轮廓函数控制，结合诸如温度的附加参数。附加地或可替代地，可以将试管或传感器放置在培养室中，以测试臭氧去污的效率。例如，试管或传感器可以包括生物指示剂，指示生物材料的量，该量在开始时将是高的，且在去污过程中减少。然后可以根据从试管或传感器得到的信号来控制去污过程，特别是当这些信号表明足够的去污，即灭活到可接受的杀灭率水平时。

例如，去污过程参数，例如在特定臭氧浓度下的去污循环的次数和持续时间、臭氧浓度、暴露时间和环境条件，可以由控制单元(例如，微处理器)自动控制。

在一实施方式变型中，去污过程可以由臭氧传感器控制，该臭氧传感器放置在培养室内，向微处理器控制单元提供传感器数据。

去污过程参数，例如臭氧浓度和暴露时间，可以根据最终用户的特定风险评估标准进行测试、优化、记录和存储。可接受的常规参数可以形成认可的协议，即标准操作程序(S.O.P.)，它是验证特定过程即GMP规则下的生产过程的基础。完全自动化的去污过程可以以完全可重现的质量执行，从而最大限度地减少人为错误的风险。

在进一步的实施方式变型中，去污过程可以进一步包括控制培养室内的温度，例如，在30℃至60℃之间。

在另一实施方式变型中，该方法可以包括：在将臭氧引导到培养室中之前，锁定培养室的门，将二氧化碳引导到培养室中，以及在预定时间跨度之后确定培养室中的二氧化碳水平。这个过程允许检查培养室是否密封，门是否关闭和锁定，或者是否有泄漏。

在泄漏的情况下，二氧化碳将从培养室中逸出。因此，该方法进一步包括：如果二氧化碳水平低于阈值，则中止该方法。如果二氧化碳从培养室泄漏，臭氧也会泄漏。虽然臭氧对培养器附近的任何人都非常有害，但二氧化碳的危害较小。因此，在开始去污过程之前，可以用二氧化碳进行培养室的泄漏的测试。只有当培养室通过测试时，才开始去污过程，即在培养室中引入和/或产生臭氧。

否则，去污方法将中止，即实际去污不开始。此外，如果培养室未通过二氧化碳泄漏测试，则可发出警报(视觉和/或听觉)。

本公开不限于所描述的形式和顺序的示例和变型。具体而言，示例和实施方式变型的描述不应被理解为特征的特定限制性分组。应当理解，本公开还涵盖未明确描述的示例和变型的组合。因此，每个变型或可选特征可以与任何其他示例、变型、可选特征或甚至它们的组合来组合。

附图说明

现在参考所附示意图更详细地解释本发明的优选实施例，其中

图1示意性地例示培养器摇床的主视图或截面；

图2示意性地例示培养器摇床的侧视图或横截面；

图3示意性地例示具有用于优化臭氧循环的开口的振荡台的透视图；

图4示意性地例示具有内置振荡装置的培养器的底部的主视图或截面；

图5示意性地例示去污方法的流程图。

具体实施方式

图1示意性地例示用于细胞培养的培养器摇床1的主视图或截面。培养器摇床1包括培养室10，培养室10由外壳体5和内室10限定。内室10优选地由不锈钢制成，其中侧壁、后壁、底部和天花板形成具有半径为20mm或更大的圆边的封闭表面。这允许容易地擦拭清洁内室10的表面。

振荡台21放置在培养室10内，其在图3中单独地例示。振荡台21允许在其上放置培养容器28(图4)。例如，培养容器28可以是容纳细胞培养物的锥形瓶或微量滴定板或专用细胞培养瓶。培养容器28可以直接放置在振荡台21上，或者可替代地，在振荡台21的上方放置托盘(未图示)，培养容器28固定在该托盘上。

培养器摇床1可进一步包括臭氧分布装置100，用于在培养室10中分布臭氧，包括在振荡台21下方分布臭氧。参考图1和图2，后者示意性地例示培养器摇床的侧视图或横截面，臭氧分布装置100将被说明。

臭氧分布装置100的最基本形式是具有多个开口104且布置为与培养室10的侧壁相邻的侧板102。两个侧板102在图1中示出为布置与培养室10的相应侧壁相邻。此外，传送装置110将臭氧传送到侧板102与培养室的侧壁之间的第一空间中。尽管图1将传送装置110例示为与侧板102间隔开，但是传送装置110可以布置在培养室10的内部，使得由传送装置110传送的臭氧被直接传送到第一空间中。然后，传送的臭氧能够通过开口104离开第一空间并向培养室10的中心传送。

侧板102中的多个开口104中的至少一个设置在振荡台21下方的高度处。如图1中指示通过多个开口104中的每一个的气流的多个箭头所示，流过开口104的臭氧的至少一部分被引导到培养室10的在振荡台21下方的空间中。这样，通过臭氧分布装置100实现了对振荡台下方的有效去污。

臭氧分布装置100可以进一步包括布置为与培养室10的天花板相邻的顶板106。顶板106还可以具有开口108。传送装置110可配置成通过顶板106中的开口108将臭氧传送到顶板106和培养室10的天花板之间的第二空间。例如，传送装置110可以将臭氧(例如具有预定臭氧浓度的空气)从培养室10的内部空间传输到第二空间。侧板102可以以第一空间流体连接到第二空间的方式连接到顶板106，使得。这样，由传送装置110传送到第二空间中的任何气体/臭氧都必须流向第一空间和侧板102中的开口104。

过滤器118可以布置在传送装置110的上游，以便在臭氧进入传送装置110、第二空间和第一空间之前从臭氧中过滤任何颗粒。如从图1和图2中描绘的箭头可以得知，实现了强制气流穿过培养室10。为了提高去污效率，培养器摇床1可以包括一个以上的传送装置110，其中两个在图1中示出。结合第二侧板102，可以实现对称的强制气流以及因此臭氧流，以进行有效的去污。

除了侧板102之外，可以进一步布置与在培养室10的后壁相邻的后板103，从而在后板103和培养室10的后壁之间形成第三空间。与侧板102一样，臭氧可以通过传送装置110从第二空间传送到第三空间中，臭氧可以从第三空间通过设置在后板103中的相应开口105再次进入培养室10的内部空间。

在可选配置中，后板103还可以具有开口(未示出)，例如顶板106中的开口108。传送装置110可以被配置用以将臭氧通过后板103中的开口传送到后板103和培养室10的后壁之间的第三空间中。例如，传送装置110可以将臭氧(例如具有预定臭氧浓度的空气)从培养室10的内部空间输送到第三空间中。侧板102可以以第一空间流体连接到第三空间的方式连接到后板103。这样，由传送装置110传送到第三空间中的任何气体/臭氧都必须流向第一空间和侧板102中的开口104。

同样，过滤器(未示出)，例如顶板106处的过滤器118，可以布置在布置于后板103处的传送装置110的上游，以便在臭氧进入传送装置110、第三空间和第一空间之前从臭氧中过滤任何颗粒。如从图1和图2中的箭头可以得知，实现了强制气流通过培养室10。为了提高去污效率，培养器摇床1可以包括一个以上的传送装置110，优选地，两个，在后板的左右。结合第二侧板102，可以实现对称的强制气流以及因此臭氧流，以进行有效的去污。

振荡台21可以包括至少一个开口22(图1和3)，其允许臭氧从振荡台21下方的空间流向培养室10的中心，并因此流向传送装置110。因此，振荡台21下方的空间可以像在培养室10的其余区域中那样以最佳臭氧浓度通风，这允许振荡台21下方的有效去污。

传送装置110的电机112可以布置在培养室10的外部，例如，在外壳体5和培养室10之间的空间中。这防止任何电气部件在去污期间与臭氧接触。可替代地，电机112也可以布置在外壳体5外部。

培养器摇床1可以进一步包括配置用以使振荡台21振荡的振荡装置20。示例性振荡装置20在图3(可移动振荡装置)和图4(内置振荡装置)中示出，而另一个示例性安装在图1和图2中示出。例如，振荡台21可以安装在连接到电机驱动转子24的偏心件25上，从而振荡台21可以在轨道或圆上移动。这允许布置在振荡台21上的任何烧瓶28的振荡。

这种旋转运动可以进一步用于传送振荡台21下方的空间中的臭氧。例如，电机驱动转子24可以配备有至少一个气体传送构件120，例如桨叶或叶片。这种气体传送构件120与电机驱动转子24一起运动，从而使在振荡台21下方的空间中的臭氧运动，因此实现了良好的通风，并且臭氧基本上均匀地流过振荡台21下方的空间的每一部分。

电机驱动转子24围绕固定轴26转动，固定轴26起定子的作用，如图1和图2所示。振荡装置20在培养室10内部的这种示例性布置允许培养室10具有平坦的底壁。因此，培养室10的底壁可以容易地清洁。由于振荡台21下方和振荡装置20下方的臭氧通风良好，因此振荡装置20下方的空间仍然可以被有效地去污。电机驱动转子24可具有围绕电机的壳体(未单独示出)的功能，将电机，特别是其电气和电子部件与培养室10内的气氛隔离开。这种壳体，例如由易于清洁的不锈钢制成，防止湿气和臭氧到达电机。然后，气体传送构件120可以附加地或替代地安装在壳体上，特别是当壳体在去污过程期间以高速围绕轴26转动时。可移动振荡装置20(图3)的可选支架27可以在去污过程期间放置在培养室10的外部，或者可以放置在培养室10的底壁上(未示出)。

可替代地，如图4所示，培养室10的底壁可以包括覆盖电机30的突起，使得电机30位于培养室10的外部。这允许电机30在没有专用流体密封壳体的情况下被安装。旋转轴31应至少包括延伸穿过培养室10或穿过培养室10和壳体5的部分(如图4所示)。在任何情况下，将采用流体密封式密封件29来密封连接电机30和振荡台21的旋转轴31。尽管培养室10的底壁的表面具有更复杂的结构和/或在旋转轴31和/或振荡台21处需要密封元件，但由于良好的通风和在振荡台21下方提供臭氧，去污仍然有效。此外，可以不需要用于振荡装置20(如图3中)的支架27，因为培养室10的底壁的突起可以形成为对振荡装置20提供足够的结构稳定性。

培养器1可以进一步包括进气口130，进气口130被配置用以将气体引导到培养室10中。该进气口130可以与臭氧源131流体连通，臭氧源131被例示为阀。除此之外，进气口130可以与二氧化碳源132流体连通，二氧化碳源132同样被例示为阀。这样，用于培养过程的二氧化碳引入所需的进气口130也可以用于在去污过程中引入臭氧。因此，不需要额外的进气口和相关的密封。

臭氧可在臭氧发生器133中产生。在图1中，臭氧发生器133被例示为位于培养器1外部的装置。例如，臭氧发生器133可通过阀131与进气口流体连通。可替代地，可以使用压力储存件形式的臭氧源代替臭氧发生器133。

可替代地或附加地，如图2所示，臭氧发生器135可以包括在培养器1中。因此，不需要额外的臭氧储存件，并且臭氧可以直接从存在于空气中的氧气和培养器1中和周围的气氛中产生。

作为进一步的示例性变型，臭氧发生器135可以布置在培养室10的内部(而不是图2中所示的培养室10和外壳体5之间的位置)。这甚至将允许避免用于臭氧通过培养室10的进气口。例如，臭氧发生器135可以布置在第二空间中，即在顶板106和培养室10的天花板之间，和/或布置在第一空间或第三空间中，即分别位于侧板102和培养室10的侧壁之间或后板103和培养室10的后壁之间。

培养室10的内部空间可以通过关闭培养室10通向周围环境的开口的门7到达。为了防止臭氧在去污过程中离开培养室10，门7可以由锁定机构15锁定。该锁定机构15可以受一个或多个传感器控制，该一个或多个传感器测量培养室内的臭氧浓度。

为了在去污过程之后分解臭氧，并为了释放锁定机构15而使门7可以再次打开，可以在培养器1内部安装紫外光源116。特别地，紫外光源116可以布置在培养室10的内部。优选地，传送装置110传送的臭氧经过紫外光源116，从而臭氧在传送通过培养室10的同时被分解。

另外或可替代地，催化剂(未示出)可以以类似方式布置在培养器1内部或培养室10内部。如果催化剂是被动催化剂，则在去污过程中应将其与传送的臭氧隔离并且在去污过程后对臭氧开放使臭氧经过/通过催化剂，以分解臭氧。例如，可以在培养器1中设置旁路(未示出)，该旁路可以(通过阀或门)与培养室10隔离开，并且可以对由传送装置110引起的臭氧流开放以用于臭氧的分解。

臭氧分布装置100可以被设计成至少部分地从培养室10能移除。这允许例如在使用臭氧的消毒过程开始之前对培养室10进行擦拭清洁。此外，臭氧分布装置100的至少一部分可以是能移除的。为了到达紫外光源或臭氧发生器，在一定数量的去污过程后，二者都可能需要更换。

图5示意性地例示使用培养器摇床1的去污方法的流程图。在第一步骤201中，提供臭氧分布装置，例如提供到培养器。然后开始去污过程。例如，工艺参数可以由用户设定和确认。此后，臭氧分布装置110能够在培养室10中提供臭氧并产生通过培养室10的强制气流，其中空气可以包括臭氧。这种臭氧的提供和传送可以完全自动化，特别是在预先设定工艺参数时。

在步骤210中，臭氧被引导到培养室10中。这可以通过打开与臭氧源133流体连接的阀131和通向培养室10的内部空间的进气口130来实现。可替代地，臭氧发生器135可以被操作以直接在培养器1内部和/或培养室10内部产生臭氧。

之后，在步骤220中，将臭氧(富含臭氧的空气)传送遍及培养室10的内部空间。该传送包括将臭氧平均地分布在布置在培养室10中的振荡台21下方的空间中。在步骤220期间，另外的臭氧仍然可以被引导到培养室10中或在培养室10中产生(步骤210)。

在预定的时间跨度之后，去污过程停止，即停止在培养室10中引导或产生臭氧(步骤210)。只要臭氧被分解，就可以继续臭氧和空气的传送(步骤220)。通过打开紫外光源和/或通过引导臭氧通过催化剂，可以加速臭氧的这种分解。

为了保护培养器1周围的环境免受有害臭氧的影响，可以在将臭氧引导到培养室10之前进行测试(步骤210)。特别是，可选步骤(参见图5中的虚线方块)可以代表这种测试。首先，在步骤205中，培养室10的门7被锁定，在步骤206中，二氧化碳被引导到培养室10中。

在步骤207中，确定培养室10内的二氧化碳水平并与阈值进行比较。如果二氧化碳水平高于阈值，则培养室10很可能是气密的，即不泄漏气体，如二氧化碳或臭氧。然而，如果二氧化碳水平低于阈值，则在步骤208中中止去污过程，即不执行步骤210和220，因为低二氧化碳水平指示泄漏。

Claims (15)

1.一种用于细胞培养的培养器摇床(1)，包括：

培养室(10)；

设置在所述培养室(10)中的振荡台(21)，其中所述振荡台(21)被配置用以在其上放置培养容器；和

臭氧分布装置(100)，用于在包括所述振荡台(21)下方的空间的所述培养室(10)中分布臭氧。

2.根据权利要求1所述的培养器摇床(1)，其中所述臭氧分布装置(100)包括：

侧板(102)，具有多个开口(104)并布置为与所述培养室(10)的侧壁相邻；和

传送装置(110)，被配置用以将臭氧传送到所述侧板(102)和所述培养室(10)的侧壁之间的第一空间中。

3.根据权利要求2所述的培养器摇床(1)，其中所述多个开口(104)中的至少一个在所述振荡台(21)下方的高度处被布置在所述侧板(102)中。

4.根据权利要求2或3所述的培养器摇床(1)，其中所述臭氧分布装置(100)进一步包括：

顶板(106)，具有开口(108)并布置为与所述培养室(10)的天花板相邻，

其中所述传送装置(110)被配置用以将臭氧通过所述开口(108)传送到所述顶板(106)和所述培养室(10)的天花板之间的第二空间中，并且

其中所述侧板(102)连接到所述顶板(106)，以使所述第一空间流体连接于所述第二空间。

5.根据权利要求2至4中任一项所述的培养器摇床(1)，其中所述臭氧分布装置(100)进一步包括：

过滤器(118)，布置在所述传送装置(110)的传送方向的上游，并配置用以在气体进入所述传送装置(110)之前过滤所述气体。

6.根据权利要求2至5中任一项所述的培养器摇床(1)，其中所述传送装置(110)包括电机(112)，其中所述电机(112)被布置在所述培养室(10)的外部。

7.根据权利要求2至6中任一项所述的培养器摇床(1)，进一步包括：

紫外光源(116)，布置在所述培养室(10)中所述传送装置(110)将臭氧传送到的区域中。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的培养器摇床(1)，其中所述振荡台(21)包括至少一个开口(22)。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的培养器摇床(1)，进一步包括：

振荡装置(20)，配置用以移动所述振荡台(21)。

10.根据权利要求9所述的培养器摇床(1)，其中所述振荡装置(20)包括连接到所述振荡台(21)的偏心件(25)，并且其中桨叶(120)连接到所述偏心件(25)。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的培养器摇床(1)，进一步包括：

进气口(130)，配置用以将气体引导到所述培养室(10)中，

其中所述进气口(130)与臭氧源(131)和二氧化碳源(132)流体连通。

12.根据权利要求1至11中任一项所述的培养器摇床(1)，进一步包括：

臭氧发生器(133)，布置在所述培养室的内部。

13.根据权利要求1至12中任一项所述的培养器摇床(1)，进一步包括：

关闭所述培养室(10)通向周围环境的开口的门(7)；以及

配置用以将所述门(7)锁定在关闭位置的锁定机构(15)。

14.一种对根据权利要求1至13中任一项所述的培养器摇床(1)去污的方法，所述方法包括：

提供(201)所述臭氧分布装置(100)；

将臭氧引导(210)到所述培养室(10)中；和

在所述培养室(10)的内部传送(220)臭氧，其中传送包括将臭氧引导到所述振荡台(21)下方的空间中。

15.根据权利要求14所述的方法，其中所述方法包括：在将臭氧引导(210)到所述培养室(10)中之前，

锁定(205)所述培养室(10)的门；

将二氧化碳引导(206)到所述培养室(10)中；

在预定的时间跨度之后，确定(207)所述培养室(10)中的二氧化碳水平；和

如果所述二氧化碳水平低于阈值，中止(208)所述方法。

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