JP2007245004A - 基板処理装置、基板搬送装置、基板処理方法、基板搬送方法、カラーフィルタ製造装置、カラーフィルタ製造方法、表示装置の製造装置、表示装置の製造方法 - Google Patents
基板処理装置、基板搬送装置、基板処理方法、基板搬送方法、カラーフィルタ製造装置、カラーフィルタ製造方法、表示装置の製造装置、表示装置の製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【課題】保守点検スペースを確保すると共に、装置全体の小型化及び軽量化を実現する基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置1は、吸着テーブル16に支持固定する基板17を、移動機構7−1〜7−3に沿って直線移動させてプロセスユニット13に備えるインクジェットヘッド等からインクを吐出させて基板17に加工処理を行う。移動機構7−1〜7−3はそれぞれベース3−1、可動ベース5、ベース3−2に支持される。可動ベース5と移動機構7−2は、ベース9の移動機構8に沿ってY軸方向に移動可能に構成される。プロセスユニット13の保守点検時に、可動ベース5と移動機構7−2をY軸方向に所定距離だけ移動して、プロセスユニット13の下部に保守点検用の空間を確保する。可動ベース5を移動するため、装置全体の安定性を維持し装置の小型化及び軽量化を実現する。
【選択図】図1
【解決手段】基板処理装置1は、吸着テーブル16に支持固定する基板17を、移動機構7−1〜7−3に沿って直線移動させてプロセスユニット13に備えるインクジェットヘッド等からインクを吐出させて基板17に加工処理を行う。移動機構7−1〜7−3はそれぞれベース3−1、可動ベース5、ベース3−2に支持される。可動ベース5と移動機構7−2は、ベース9の移動機構8に沿ってY軸方向に移動可能に構成される。プロセスユニット13の保守点検時に、可動ベース5と移動機構7−2をY軸方向に所定距離だけ移動して、プロセスユニット13の下部に保守点検用の空間を確保する。可動ベース5を移動するため、装置全体の安定性を維持し装置の小型化及び軽量化を実現する。
【選択図】図1
Description
本発明は、基板等を搬送しつつ基板検査又は基板加工等の処理を行う基板処理装置に関する。
従来、カラーフィルタは、液晶ディスプレイやPDP(Plasma Display Panel)や有機EL(organic ElectroLuminescence)等の表示装置に用いられる。また、表示装置の画面の大型化や、コストダウンを目的とした多面付けの必要性から、カラーフィルタの基板サイズが大型化(G6世代(1500mm×1800mm)、G7世代(1870mm×2200mm)等)してきている。そのため、基板加工や検査を行うためのステージ構成を用いた基板処理装置の装置サイズも大型化する傾向にある。
基板上にカラーフィルタのパターンを形成する方法として、R(赤)、G(緑)、B(青)の3色のインクをインクジェット方式により基板上に吐出して着色層パターンを形成するパターン形成装置がある([特許文献1]参照。)。また、スピンコート法やダイコート法により各色を塗布した後にフォトリソグラフィ法によるパターニング工程を経て着色層パターンを形成することもできる。
そして、インクジェットヘッド等の部品交換やメンテナンスの際には、インクジェットヘッド等を備えるプロセスユニットを基板搬送位置からオフセットした位置に移動させ、当該プロセスユニットの下部に空間を設けてメンテナンスを行っている。
しかしながら、インクジェットヘッド等を備えるプロセスユニットの保守用空間を確保するために当該プロセスユニットの退避機構を設けると、基板の大型化に伴い、更にパターン形成装置(以降、基板処理装置と記す。)全体のサイズと重量が増大する問題点が生じる。重量増となるため、基板処理装置を設置する建屋の補強や搬送などの費用のコストも増大する。
また、大型基板に対応する基板処理装置は、その装置幅が可搬サイズ(幅:約3000mm)を超えると、分割して搬送する必要がある。分割搬送された装置を組み立てる際、ディスプレイ分野等の工場では殆どがクリーン環境下であるためクレーン等を用いることが困難であり、組立作業及び調整作業に労力を要するという問題点がある。
また、インクジェットヘッド等を備えるプロセスユニットを保守点検のために移動退避するためには、当該プロセスユニットに供給する薬液や材料の配管長を長くして可動化できる構成にする必要があり、配管長の長尺化によりプロセスの安定性が悪化する。またプロセスユニットに必要な配線等も、プロセスユニットの移動に対応できる構成とする必要があり、信号の減衰やノイズに対する安定性が悪化する問題がある。
また、インクジェットヘッドの他、各ヘッドを制御するモータ、アライメントカメラ、各配線、及び配管等の複雑な機構を備えるプロセスユニットを一旦移動退避した後、元の位置に戻す場合に、戻り位置を高精度に再現する必要があり、装置の機械剛性を高くする必要がある。また、プロセスユニットの移動退避後に元の位置に戻した際、インクジェットヘッドの位置調整、アライメントカメラの位置調整等の労力的負担が生じる場合もある。
本発明は、このような問題を鑑みてなされたもので、保守点検スペースを確保すると共に、装置全体の小型化及び軽量化を実現する基板処理装置を提供することを目的とする。
前述した目的を達成するための第1の発明は、基板に対して所定の処理を行う処理部と前記基板が載置される載置部とベースと前記ベース上で前記載置部を移動させる移動部とを備え、前記基板を搬送して前記所定の処理を行う基板処理装置であって、前記ベースは複数の分割ベースから構成され、前記分割ベースの少なくとも1つを移動させる分割ベース移動部を具備することを特徴とする基板処理装置である。
基板処理装置は、ガラス基板等にカラーフィルタ等のパターンを形成する装置である。カラーフィルタは、LCD(液晶ディスプレイパネル)、有機EL(Electroluminescence Display)、PDP(Plasma Display Panel)等の表示装置に用いられる。
また、基板処理装置は、ガラス基板等に形成されたカラーフィルタ等のパターン等の検査を行う検査装置であっても良い。
また、基板処理装置は、ガラス基板等に形成されたカラーフィルタ等のパターン等の検査を行う検査装置であっても良い。
所定の処理とは、基板の加工処理、或いは基板の検査を行う検査処理等である。例えば基板の加工処理とは、基板にインクジェット方式等によりカラーフィルタなどのパターンを形成する処理等である。
処理部は、加工処理を行う場合はインクジェットヘッドやレーザ照射ヘッド等を備えるプロセスユニットである。また、検査処理を行う場合は、処理部はカメラや検査装置等を備える。
処理部は、加工処理を行う場合はインクジェットヘッドやレーザ照射ヘッド等を備えるプロセスユニットである。また、検査処理を行う場合は、処理部はカメラや検査装置等を備える。
載置部は、基板を支持固定する吸着テーブルである。
ベースは、複数の分割ベースから構成され、当該分割ベースの少なくとも1つを移動させる分割ベース移動部を備える。複数の分割ベースは、基板の搬送方向に配列される。
移動部は、分割ベース上に敷設されるスライド機構(スライドレール、スライダ等)と駆動部(ステップモータ、サーボモータ、リニアモータ等の制御可能なモータ)を備え、載置部(吸着テーブル等)を搭載して載置部に固定された基板を搬送方向に移動させる。
分割ベース移動部は、移動可能に構成される分割ベースを搭載して、当該分割ベースを基板の搬送方向とは異なる方向に移動させる。分割ベース移動部は、分割ベースを移動させるスライド機構と駆動部とを備える。
ベースは、複数の分割ベースから構成され、当該分割ベースの少なくとも1つを移動させる分割ベース移動部を備える。複数の分割ベースは、基板の搬送方向に配列される。
移動部は、分割ベース上に敷設されるスライド機構(スライドレール、スライダ等)と駆動部(ステップモータ、サーボモータ、リニアモータ等の制御可能なモータ)を備え、載置部(吸着テーブル等)を搭載して載置部に固定された基板を搬送方向に移動させる。
分割ベース移動部は、移動可能に構成される分割ベースを搭載して、当該分割ベースを基板の搬送方向とは異なる方向に移動させる。分割ベース移動部は、分割ベースを移動させるスライド機構と駆動部とを備える。
分割ベース移動部は、基板の搬送方向と異なる方向に分割ベースを移動退避させることが望ましい。分割ベース移動部は、分割ベースを基板の搬送方向に対して垂直な方向に移動させるようにしても良いし、基板の搬送方向に対して斜め方向に移動させるようにしても良い。分割ベースの移動退避方向と基板の搬送方向との成す角度は限定されない。尚、両端部分の分割ベースに関しては、基板の搬送方向に移動可能とすることもできる。
また、分割ベース移動部は、処理部の近傍に位置する分割ベースを移動させることが望ましい。処理部の近傍とは、例えば処理部の下部であり、処理部の下部に位置する分割ベースを基板の搬送方向と異なる方向に移動退避させることにより、処理部の下部に保守用の空間を形成することが望ましい。
また、分割ベース移動部は、処理部の近傍に位置する分割ベースを移動させることが望ましい。処理部の近傍とは、例えば処理部の下部であり、処理部の下部に位置する分割ベースを基板の搬送方向と異なる方向に移動退避させることにより、処理部の下部に保守用の空間を形成することが望ましい。
第1の発明による基板処理装置は、ベースが複数の分割ベースから構成され、少なくとも1つの分割ベースを処理部の下部から移動させるので、簡単に処理部を保守する為の空間を確保することが可能である。処理部側(プロセスユニット側)でなく分割ベースを移動させることで、基板処理装置の小型化及び軽量化を実現し、基板処理装置の安定性を維持する効果がある。
また、分割ベースを移動させることにより基板の投入及び排出を行うこともできる。すなわち、分割ベースを移動させることにより、分割ベースに載置された基板の搬送を行うことができる。
また、分割ベースを移動させることにより基板の投入及び排出を行うこともできる。すなわち、分割ベースを移動させることにより、分割ベースに載置された基板の搬送を行うことができる。
第2の発明は、前記基板が載置される載置部とベースと前記ベース上で前記載置部を移動させる移動部とを備え、前記基板を搬送する基板搬送装置であって、前記ベースは複数の分割ベースから構成され、前記分割ベースの少なくとも1つを移動させる分割ベース移動部を具備することを特徴とする基板搬送装置である。
第2の発明は、基板を搬送する基板搬送装置に関する発明である。
第2の発明は、基板を搬送する基板搬送装置に関する発明である。
第3の発明は、基板に所定の処理を行う基板処理方法であって、前記基板に対して所定の処理を行うステップと、ベースに対して前記基板が載置される載置部を移動させる移動ステップと、前記ベースを構成する複数の分割ベースの少なくとも1つを移動させる分割ベース移動ステップと、を具備することを特徴とする基板処理方法である。
第4の発明は、基板の搬送を行う基板搬送方法であって、ベースに対して前記基板が載置される載置部を移動させる移動ステップと、前記ベースを構成する複数の分割ベースの少なくとも1つを移動させる分割ベース移動ステップと、を具備することを特徴とする基板搬送方法である。
第5の発明は、カラーフィルタを製造するカラーフィルタ製造装置であって、基板に前記カラーフィルタのパターン形成処理を行う処理部と前記基板が載置される載置部とベースと前記ベース上で前記載置部を移動させる移動部とを備え、前記ベースは複数の分割ベースから構成され、前記分割ベースの少なくとも1つを移動させる分割ベース移動部を具備することを特徴とするカラーフィルタ製造装置である。
第6の発明は、カラーフィルタを製造するカラーフィルタ製造方法であって、前記基板に前記カラーフィルタのパターンを形成するステップと、ベースに対して前記基板が載置される載置部を移動させる移動ステップと、前記ベースを構成する複数の分割ベースの少なくとも1つを移動させる分割ベース移動ステップと、を具備することを特徴とするカラーフィルタ製造方法である。
第7の発明は、カラーフィルタを備える表示装置の製造装置であって、基板に前記カラーフィルタのパターン形成処理を行う処理部と前記基板が載置される載置部とベースと前記ベース上で前記載置部を移動させる移動部とを備え、前記ベースは複数の分割ベースから構成され、前記分割ベースの少なくとも1つを移動させる分割ベース移動部を具備することを特徴とする表示装置の製造装置である。
表示装置は、例えば、LCD(液晶ディスプレイパネル)、LCD(液晶ディスプレイパネル)、有機EL(Electroluminescence Display)、PDP(Plasma Display Panel)である。
第8の発明は、カラーフィルタを備える表示装置の製造方法であって、基板に前記カラーフィルタのパターンを形成するステップと、ベースに対して前記基板が載置される載置部を移動させる移動ステップと、前記ベースを構成する複数の分割ベースの少なくとも1つを移動させる分割ベース移動ステップと、を具備することを特徴とする表示装置の製造方法である。
本発明によれば、保守点検スペースを確保すると共に、装置全体の小型化及び軽量化を実現する基板処理装置を提供することができる。
以下に、図面に基づいて本発明の実施の形態を詳細に説明する。尚、基板処理装置は、基板にインクジェット方式等を用いてパターンを形成する基板加工装置であるとして説明する。
(1.構成)
最初に、図1、図2を参照しながら、基板処理装置1の構成について説明する。
図1は、基板処理装置1の斜視図である。Z軸は鉛直方向の回転軸を示し、θ方向はその回転方向を示す。X軸は基板17の搬送方向を示し、Y軸は基板17の搬送方向と垂直な方向を示す。θ軸、Y軸、X軸は互いに直角を成す。
最初に、図1、図2を参照しながら、基板処理装置1の構成について説明する。
図1は、基板処理装置1の斜視図である。Z軸は鉛直方向の回転軸を示し、θ方向はその回転方向を示す。X軸は基板17の搬送方向を示し、Y軸は基板17の搬送方向と垂直な方向を示す。θ軸、Y軸、X軸は互いに直角を成す。
(1−1.基板処理装置1)
基板処理装置1は、ベース3−1、3−2、可動ベース5、移動機構7−1〜7−3、移動機構8、ベース9、フレーム11−1、11−2、プロセスユニット13、支持フレーム15、吸着テーブル17等から構成される。
基板処理装置1は、ベース3−1、3−2、可動ベース5、移動機構7−1〜7−3、移動機構8、ベース9、フレーム11−1、11−2、プロセスユニット13、支持フレーム15、吸着テーブル17等から構成される。
基板処理装置1は、例えばインクジェット方式によりカラーフィルタを製造する装置である。基板処理装置1は、R(赤)、G(緑)、B(青)の3色の色素を含有するインクをプロセスユニット13からインクジェット方式で光透過性の基板17上に吐出し、各インクを硬化させて着色画素部を形成し、当該基板17上にカラーフィルタパターンを形成する。
基板処理装置1は、加工対象である基板17を、装置内をX軸方向に移動させて加工処理(パターン形成処理)を行う。
基板処理装置1は、加工対象である基板17を、装置内をX軸方向に移動させて加工処理(パターン形成処理)を行う。
ベース3−1、3−2、可動ベース5、ベース9は、石製、鋳物製、セラミック製などの高平坦精度を要する盤である。可動ベース5は、移動可能に構成されるが詳細については後述する。ベース3−1、3−2、ベース9は、分離不能に一体として構成してもよいし、分離可能な各ベースを連結するようにしてもよい。
移動機構7−1、7−2、7−3は、それぞれベース3−1、可動ベース5、ベース3−2上に設置される直線移動機構であり、基板17及び吸着テーブル16を支持しX軸方向に直線移動させて位置決めする装置である。
移動機構8は、ベース9上に設置される直線移動機構であり、可動ベース5を支持し、基板17の移動方向とは異なる方向(A方向)に当該可動ベース5を移動させる装置である。
移動機構8は、ベース9上に設置される直線移動機構であり、可動ベース5を支持し、基板17の移動方向とは異なる方向(A方向)に当該可動ベース5を移動させる装置である。
尚、移動機構7及び移動機構8としては、汎用のものを用いることができる。例えば、ガイド機構として、リニアガイド、エアースライド等を用い、移動用アクチュエータとして、ステップモータ、サーボモータ、リニアモータ等を用いることができる。
フレーム11−1、11−2は、ベース3−1、3−2等に固定される門型フレームであり、支持フレーム15を支持する。支持フレーム15は、基板17に加工処理を行うプロセスユニット13をY軸移動機構(図示しない)を介して支持する。Y軸移動機構は、ガイド機構及び移動用アクチュエータから構成される。
尚、プロセスユニット13を構成するインクジェットヘッドを個別に移動させたり、基板17側をXY平面上で移動させることにより加工処理を行う場合には、プロセスユニット13を支持フレーム15に固定するようにしてもよい。
尚、プロセスユニット13を構成するインクジェットヘッドを個別に移動させたり、基板17側をXY平面上で移動させることにより加工処理を行う場合には、プロセスユニット13を支持フレーム15に固定するようにしてもよい。
プロセスユニット13には、位置調整の行われた複数のインクジェットヘッド(図示しない)が配列されており、当該プロセスユニット13は基板17に対して相対的に移動しつつインクを吐出して加工処理(パターン形成)を行う。
吸着テーブル16は、カラーフィルタパターンが形成される基板17を吸着して固定する。基板17の吸着は、例えば吸着テーブル16と基板17との間の空気を減圧、真空にすることにより実現される。この場合、吸着テーブル16には空気を吸引するための小孔(図示しない)が設けられ、吸着の際には当該孔を通じて真空ポンプ(図示しない)等により空気の吸引が行われる。
尚、図示していないが、基板17等の位置検出用のアライメントカメラや、各移動機構を制御する制御部等が、基板17やプロセスユニット13等の位置制御を行いつつ、インク吐出制御を行って基板17の加工処理を行う。
(1−2.ベースの詳細構成)
図2は、基板処理装置1のベース3−1、3−2、可動ベース5等を上面から見た図である。
基板17の加工処理時には、ベース3−1、可動ベース5、ベース3−2は、基板17の搬送方向に配列される。
ベース3−1、可動ベース5、ベース3−2は、それぞれの上面に設置される移動機構7−1、7−2、7−3の位置を高精度に支持固定する。ベース3−1、可動ベース5、ベース3−2は、高平坦精度を要する盤であり高位置精度を維持することが可能であるので、それぞれの上面に設置される移動機構7−1、7−2、7−3の位置も高精度で維持することができる。また、A方向に移動後の可動ベース5と移動機構7−2の戻り位置を高精度で再現することが可能である。
図2は、基板処理装置1のベース3−1、3−2、可動ベース5等を上面から見た図である。
基板17の加工処理時には、ベース3−1、可動ベース5、ベース3−2は、基板17の搬送方向に配列される。
ベース3−1、可動ベース5、ベース3−2は、それぞれの上面に設置される移動機構7−1、7−2、7−3の位置を高精度に支持固定する。ベース3−1、可動ベース5、ベース3−2は、高平坦精度を要する盤であり高位置精度を維持することが可能であるので、それぞれの上面に設置される移動機構7−1、7−2、7−3の位置も高精度で維持することができる。また、A方向に移動後の可動ベース5と移動機構7−2の戻り位置を高精度で再現することが可能である。
(1−3.加工処理)
基板処理装置1は、吸着テーブル16に支持固定された基板17を、順に移動機構7−1、7−2、7−3に沿ってX軸方向に移動させつつ、当該基板17にプロセスユニット13からインクジェット方式でインクを吐出し加工処理(パターン形成処理)を施す。尚、プロセスユニット13は支持フレーム15に沿ってY軸方向に移動しつつ基板17に加工処理を行っても良い。
基板処理装置1は、吸着テーブル16に支持固定された基板17を、順に移動機構7−1、7−2、7−3に沿ってX軸方向に移動させつつ、当該基板17にプロセスユニット13からインクジェット方式でインクを吐出し加工処理(パターン形成処理)を施す。尚、プロセスユニット13は支持フレーム15に沿ってY軸方向に移動しつつ基板17に加工処理を行っても良い。
(2.プロセスユニット13の保守点検)
次に、図3〜図5を参照しながら、基板処理装置1の維持管理について説明する。
図3は、プロセスユニット13の保守点検を行う際の基板処理装置1を示す図である。
図4は、保守点検時のベース3−1、3−2、可動ベース5、ベース9等を上方から見た図である。
次に、図3〜図5を参照しながら、基板処理装置1の維持管理について説明する。
図3は、プロセスユニット13の保守点検を行う際の基板処理装置1を示す図である。
図4は、保守点検時のベース3−1、3−2、可動ベース5、ベース9等を上方から見た図である。
プロセスユニット13の保守点検を行う際は、図1に示す位置にある可動ベース5を移動機構8に沿って方向Aに所定距離だけ移動させ、プロセスユニット13の下方に保守点検用の空間を確保する。
作業者は、可動ベース5を移動させてプロセスユニット13の下方に保守点検のための空間を確保し、当該プロセスユニット13の下方に確保された空間を利用してヘッドユニット等の交換、点検、修理等の作業を行う。
尚、図3、図4では、可動ベース5が完全にフレーム11−2の外側の位置に移動退避する場合を示したが、可動ベース5全体でなく一部分が支持フレーム11−2の外側に位置するように移動させてもよい。可動ベース5の退避距離は、プロセスユニット13の下方に保守点検のための空間が確保できる最低限の距離であっても良い。
図5は、従来の基板処理装置101の斜視図である。
基板処理装置101のフレーム105−1〜105−3は、支持フレーム107−1、107−2とプロセスユニット109等を支持する。基板処理装置101では、プロセスユニット109の保守点検を行う際、当該プロセスユニット109をベース103の外側に退避移動させるため、支持フレーム107−2とフレーム105−3を設けている。尚、プロセスユニット109を方向Aに移動させ、メンテナンス位置111(支持フレーム107−2の下部)で、当該プロセスユニット109の保守点検作業を行う。
基板処理装置101のフレーム105−1〜105−3は、支持フレーム107−1、107−2とプロセスユニット109等を支持する。基板処理装置101では、プロセスユニット109の保守点検を行う際、当該プロセスユニット109をベース103の外側に退避移動させるため、支持フレーム107−2とフレーム105−3を設けている。尚、プロセスユニット109を方向Aに移動させ、メンテナンス位置111(支持フレーム107−2の下部)で、当該プロセスユニット109の保守点検作業を行う。
図5に示す基板処理装置101では、プロセスユニット109を移動退避可能にするため、プロセスユニット109を構成するインクジェットヘッド等に供給する薬液や材料の配管長を延長する必要がある。また、プロセスユニット109を制御する配線等もプロセスユニット109の移動退避に対応できる構成とする必要がある。
一方、図1〜図4に示す基板処理装置1では、可動ベース5を移動させることによりメンテナンス空間を確保するので、プロセスユニット退避用の支持フレームや配管及び配線等を設ける必要がない。
一方、図1〜図4に示す基板処理装置1では、可動ベース5を移動させることによりメンテナンス空間を確保するので、プロセスユニット退避用の支持フレームや配管及び配線等を設ける必要がない。
(3.効果)
以上説明したように、基板処理装置1は、ベースを複数の分割ベース(ベース3−1、3−2、可動ベース5)に分割してその一部の分割ベース(可動ベース5)を移動退避させ、メンテナンス空間を形成する。
基板処理装置1は、プロセスユニット13を保守点検作業のために移動退避させる必要がないので、当該プロセスユニット13に接続される配管や配線等を移動可能な構成に設計する手間やコストを削減することができる。また、簡単な機能や機構を有する可動ベース5とガイドレール7−2を移動退避させる構成であるので、機械的安定性を維持する効果がある。また、高精度を維持することができる。
以上説明したように、基板処理装置1は、ベースを複数の分割ベース(ベース3−1、3−2、可動ベース5)に分割してその一部の分割ベース(可動ベース5)を移動退避させ、メンテナンス空間を形成する。
基板処理装置1は、プロセスユニット13を保守点検作業のために移動退避させる必要がないので、当該プロセスユニット13に接続される配管や配線等を移動可能な構成に設計する手間やコストを削減することができる。また、簡単な機能や機構を有する可動ベース5とガイドレール7−2を移動退避させる構成であるので、機械的安定性を維持する効果がある。また、高精度を維持することができる。
また、装置全体を小型化することができ、設置スペースを節約することができる。
また、装置全体の重量を抑制することができるので、装置を設置する設置場所の補強コストや搬送コスト等も削減する効果がある。
また、ベース3−1、3−2、ベース9をそれぞれ分離可能である場合には、これらを分離することにより、移送及び設置に係る作業負担を軽減することができる。
また、装置全体の重量を抑制することができるので、装置を設置する設置場所の補強コストや搬送コスト等も削減する効果がある。
また、ベース3−1、3−2、ベース9をそれぞれ分離可能である場合には、これらを分離することにより、移送及び設置に係る作業負担を軽減することができる。
(4.その他)
図1乃至図4では、基板処理装置1として、インクジェット方式でカラーフィルタを製造する基板加工装置(パターン形成装置)について説明したが、基板検査装置にも適用することができる。基板検査装置の場合には、図1におけるプロセスユニット13はカメラ等の検査装置等に相当し、当該検査装置を移動退避させて保守点検を行うことができる。
図1乃至図4では、基板処理装置1として、インクジェット方式でカラーフィルタを製造する基板加工装置(パターン形成装置)について説明したが、基板検査装置にも適用することができる。基板検査装置の場合には、図1におけるプロセスユニット13はカメラ等の検査装置等に相当し、当該検査装置を移動退避させて保守点検を行うことができる。
本実施の形態では、可動ベース5の移動方向を、基板17の搬送方向と直角を成す方向として説明したが、可動ベース5の形状や移動方向は本実施の形態の例に限定されず、例えば可動ベース5を斜め方向に移動退避する形状及び機構にしても良い。また、両端部分の分割ベースに関しては、基板の搬送方向に移動可能とすることもできる。
尚、本発明の技術的範囲は、前述した実施の形態に限られるものではない。当業者であれば、本願で開示した技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
1………基板処理装置
3−1、3−2………ベース
5………可動ベース
7−1〜7−3………移動機構(吸着テーブル16の移動用)
8………移動機構(可動ベース5の移動用)
9………ベース
11−1、11−2………フレーム
13………プロセスユニット
15………支持フレーム
16………吸着テーブル
17………基板
3−1、3−2………ベース
5………可動ベース
7−1〜7−3………移動機構(吸着テーブル16の移動用)
8………移動機構(可動ベース5の移動用)
9………ベース
11−1、11−2………フレーム
13………プロセスユニット
15………支持フレーム
16………吸着テーブル
17………基板
Claims (12)
- 基板に対して所定の処理を行う処理部と前記基板が載置される載置部とベースと前記ベース上で前記載置部を移動させる移動部とを備え、前記基板を搬送して前記所定の処理を行う基板処理装置であって、
前記ベースは複数の分割ベースから構成され、
前記分割ベースの少なくとも1つを移動させる分割ベース移動部を具備することを特徴とする基板処理装置。 - 前記分割ベース移動部は、前記基板の搬送方向と異なる方向に前記分割ベースを移動させることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記分割ベース移動部は、前記処理部の近傍に位置する前記分割ベースを移動させることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の基板処理装置。
- 前記基板が載置される載置部とベースと前記ベース上で前記載置部を移動させる移動部とを備え、前記基板を搬送する基板搬送装置であって、
前記ベースは複数の分割ベースから構成され、
前記分割ベースの少なくとも1つを移動させる分割ベース移動部を具備することを特徴とする基板搬送装置。 - 前記分割ベース移動部は、前記基板の搬送方向と異なる方向に前記分割ベースを移動させることを特徴とする請求項4に記載の基板搬送装置。
- 前記分割ベース移動部は、前記処理部の近傍に位置する前記分割ベースを移動させることを特徴とする請求項4又は請求項5に記載の基板搬送装置。
- 基板に所定の処理を行う基板処理方法であって、
前記基板に対して所定の処理を行うステップと、
ベースに対して前記基板が載置される載置部を移動させる移動ステップと、
前記ベースを構成する複数の分割ベースの少なくとも1つを移動させる分割ベース移動ステップと、
を具備することを特徴とする基板処理方法。 - 基板の搬送を行う基板搬送方法であって、
ベースに対して前記基板が載置される載置部を移動させる移動ステップと、
前記ベースを構成する複数の分割ベースの少なくとも1つを移動させる分割ベース移動ステップと、
を具備することを特徴とする基板搬送方法。 - カラーフィルタを製造するカラーフィルタ製造装置であって、
基板に前記カラーフィルタのパターン形成処理を行う処理部と前記基板が載置される載置部とベースと前記ベース上で前記載置部を移動させる移動部とを備え、
前記ベースは複数の分割ベースから構成され、
前記分割ベースの少なくとも1つを移動させる分割ベース移動部を具備することを特徴とするカラーフィルタ製造装置。 - カラーフィルタを製造するカラーフィルタ製造方法であって、
前記基板に前記カラーフィルタのパターンを形成するステップと、
ベースに対して前記基板が載置される載置部を移動させる移動ステップと、
前記ベースを構成する複数の分割ベースの少なくとも1つを移動させる分割ベース移動ステップと、
を具備することを特徴とするカラーフィルタ製造方法。 - カラーフィルタを備える表示装置の製造装置であって、
基板に前記カラーフィルタのパターン形成処理を行う処理部と前記基板が載置される載置部とベースと前記ベース上で前記載置部を移動させる移動部とを備え、
前記ベースは複数の分割ベースから構成され、
前記分割ベースの少なくとも1つを移動させる分割ベース移動部を具備することを特徴とする表示装置の製造装置。 - カラーフィルタを備える表示装置の製造方法であって、
基板に前記カラーフィルタのパターンを形成するステップと、
ベースに対して前記基板が載置される載置部を移動させる移動ステップと、
前記ベースを構成する複数の分割ベースの少なくとも1つを移動させる分割ベース移動ステップと、
を具備することを特徴とする表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP2006072064A JP2007245004A (ja) | 2006-03-16 | 2006-03-16 | 基板処理装置、基板搬送装置、基板処理方法、基板搬送方法、カラーフィルタ製造装置、カラーフィルタ製造方法、表示装置の製造装置、表示装置の製造方法 |
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JP2006072064A JP2007245004A (ja) | 2006-03-16 | 2006-03-16 | 基板処理装置、基板搬送装置、基板処理方法、基板搬送方法、カラーフィルタ製造装置、カラーフィルタ製造方法、表示装置の製造装置、表示装置の製造方法 |
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Family
ID=38589853
Family Applications (1)
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Country Status (1)
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JP (1) | JP2007245004A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009279470A (ja) * | 2008-05-19 | 2009-12-03 | Ulvac Japan Ltd | ステージ |
JP2011177681A (ja) * | 2010-03-03 | 2011-09-15 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出装置 |
JP2013234069A (ja) * | 2012-05-04 | 2013-11-21 | Xerox Corp | 基材媒体の空気ベアリング式移送 |
KR101807102B1 (ko) * | 2016-06-28 | 2017-12-08 | 한국항공우주산업 주식회사 | 항공기 부품 장착 위치 자동 레이아웃 장치 |
-
2006
- 2006-03-16 JP JP2006072064A patent/JP2007245004A/ja active Pending
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