JP2007242237A - 光情報記録媒体および光情報記録媒体の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】透明基板20の厚さは、1.2mmより薄く、基板保護膜30の厚さは、薄膜保護膜50より薄くなっていると共に、記録再生時の光情報記録媒体の断面部を、n層はりに置換した場合に、光情報記録媒体に変化温度Tを与えたときの反り角の変化量が定常状態値をとった場合における各層の各物性値を、式(1)〜(5)の対応する各パラメータに代入し、位置yをt1+t2≦y≦t1+t2+t3に設定して得られた、n層はりの反り角の変化量の近似値が1mrad以下となっており、薄膜保護膜50のヤング率及び線膨張係数の少なくとも一方が透明基板20よりも大きくなっている。
【選択図】図1
Description
以下、本実施の形態の光情報記録媒体について説明するが、まず、本発明の原理を説明する。
従来の技術の項で説明したように、特開平4−195745号公報(図7参照)に記載の光情報記録媒体では、透明基板20に対して対称になるよう層を構成することで、光情報記録媒体の反りを抑制していた。
次に、上記原理に基づき形成した光情報記録媒体の実施例について説明する。なお、本実施例は、薄膜層40が窒化アルミニウム1層のみからなると仮定している。これは、薄膜層40の変形は一般に窒化アルミニウム等の誘電体層が主にその原因となる場合が多いからである。また、本実施例では基板保護膜30が無い例を示している。基板保護膜30が存在する場合にはそれをも考慮して各層(特に薄膜保護膜50)の設定を行う必要がある。
本実施の形態では、湿度変化による変形を防止できる光情報記録媒体について説明する。
上述した図1に記載の光情報記録媒体10は、透明基板20としてポリカーボネート等からなる基板を用いているため、周辺が高湿となったとき、透明基板20が吸湿により膨張する。そして、これにより光情報記録媒体10に変形が生じる。特に、基板保護膜30の透湿度が薄膜保護膜50の透湿度に比較して大きい場合は、基板20の変形速度が薄膜保護膜50の変形速度より大きくなるため、実際の湿度変化時に大きな変位のオーバーシュートが起き実用上において大きな問題となっていた。
実施例3として上述の実施例1に記載の媒体にUV硬化樹脂4からなる基板保護膜30を付加した媒体を形成した。また、比較のため、比較例2として、上述の実施例1に記載の媒体にUV硬化樹脂5からなる基板保護膜30を付加した媒体を形成した。この実施例3,比較例2における各UV硬化樹脂の透湿度について表4に示す。
さらに、前記薄膜保護膜の膜厚を、20μm以下としても良い。
20 透明基板
30 基板保護膜
40 薄膜層
41 第1誘電体膜
42 記録膜
43 第2誘電体膜
44 反射膜
50 薄膜保護膜
Claims (5)
- 樹脂を主成分とした基板保護膜層、透明基板層、記録膜または反射膜のいずれか一方を少なくとも含む薄膜層、及び樹脂を主成分とする薄膜保護膜層がこの順で積層されており、前記透明基板層をひとつだけ有するn(nは4以上の自然数)層の光情報記録媒体において、
前記透明基板層の厚さは、1.2mmより薄く、前記基板保護膜層の厚さは、前記薄膜保護層膜層より薄くなっていると共に、
記録再生時の前記光情報記録媒体の断面部を、はりの幅(単位長とする)b、はりの長さL、及び各層の曲率半径を同一の曲率半径Rとしたn層はりに置換した場合に、
前記n層はりに25℃から70℃までの範囲内の変化温度Tを与えたときに生じる前記n層はりの最大変位部における長さ4mmでの反り角の変化量をθとし、前記変化温度Tを与えたときの前記反り角の変化量が定常状態値をとった場合における第i層(i=1,2,…,n)の線膨張係数をαi、ヤング率をEi、厚さをti、及び断面2次モーメントをIi、並びに、第i層における軸力及び曲げモーメントをそれぞれPi及びMiとするとき、
前記光情報記録媒体における前記断面部のはりの幅、はりの長さ、及び前記変化温度T、並びに各層の線膨張係数、ヤング率、厚さ、及び断面2次モーメントの値を、次式
変形前における前記透明基板層の、前記薄膜保護膜層と異なる側の表面に相当する位置を基準面とする位置yを、t1+t2≦y≦t1+t2+t3(t1:基板保護膜層の厚さ、t2:透明基板層の厚さ、t3:薄膜層の厚さ)を満たす位置に設定して得られた、前記n層はりの前記反り角の変化量の近似値が1mrad以下となっており、
前記光情報記録媒体の前記薄膜保護膜層のヤング率及び線膨張係数の少なくとも一方が前記透明基板層よりも大きくなっていることを特徴とする光情報記録媒体。 - 前記薄膜保護膜層の厚さが、20μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の光情報記録媒体。
- 樹脂を主成分とした基板保護膜層、透明基板層、記録膜または反射膜のいずれか一方を少なくとも含む薄膜層と、樹脂を主成分とする薄膜保護膜層とがこの順で積層されており、前記透明基板層をひとつだけ有するn(nは4以上の自然数)層の光情報記録媒体の製造方法において、
前記透明基板層の厚さを、1.2mmより薄く、前記基板保護膜層の厚さを、前記薄膜保護層膜層より薄くすると共に、
記録再生時の前記光情報記録媒体の断面部を、はりの幅(単位長とする)b、はりの長さL、及び各層の曲率半径を同一の曲率半径Rとしたn層はりに置換した場合に、
前記n層はりに25℃から70℃までの範囲内の変化温度Tを与えたときに生じる前記n層はりの最大変位部における長さ4mmでの反り角の変化量をθとし、前記変化温度Tを与えたときの前記反り角の変化量が定常状態値をとった場合における第i層(i=1,2,…,n)の線膨張係数をαi、ヤング率をEi、厚さをti、及び断面2次モーメントをIi、並びに、第i層における軸力及び曲げモーメントをそれぞれPi及びMiとするとき、
前記光情報記録媒体における前記断面部のはりの幅、はりの長さ、及び前記変化温度T、並びに各層の線膨張係数、ヤング率、厚さ、及び断面2次モーメントの値を、次式
変形前における前記透明基板層の、前記薄膜保護膜層と異なる側の表面に相当する位置を基準面とする位置yを、t1+t2≦y≦t1+t2+t3(t1:基板保護膜層の厚さ、t2:透明基板層の厚さ、t3:薄膜層の厚さ)を満たす位置に設定して得られた、前記n層はりの前記反り角の変化量の近似値を1mrad以下とすることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。 - 前記薄膜保護膜層のヤング率及び線膨張係数の少なくとも一方を、前記透明基板層よりも大きくすることを特徴とする請求項3に記載の光情報記録媒体の製造方法。
- 前記薄膜保護膜層の厚さを、20μm以下とすることを特徴とする請求項3又は4に記載の光情報記録媒体の製造方法。
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