JP2007234144A - 光ディスク装置 - Google Patents

Abstract

【課題】光ディスク上の指紋を検出することができ、指紋に対する再生性能を向上させることができる光ディスク装置を提供する。
【解決手段】エンベロープ検波回路１１ｂはＡＧＣ回路１１ａから入力されたＲＦ信号のエンベロープ信号を生成し、ハイパスフィルタ１１ｃはエンベロープ信号の高周波成分信号を抽出し、ローパスフィルタ１１ｄはエンベロープ信号の低周波成分信号を抽出し、インバータ１１ｅは低周波成分信号を反転させ反転信号を生成し、可変ゲインアンプ１１ｆは反転信号をゲインとして高周波成分信号を増幅し増幅信号を生成し、コンパレータ１１ｇは増幅信号を所定のしきいレベルと比較しパルス信号を生成し、モノマルチ回路１１ｈはパルス信号の立ち上がりと立ち下がりとのいずれか一方をトリガとして所定時間幅の一発のパルスを出力しディフェクト検出信号を生成する。
【選択図】図２

Description

本発明は、光ディスク装置によるディフェクト検出に関する。

従来から、光ディスク装置において光ディスク上のディフェクト（欠陥）を検出する方法が様々開発されてきている。ディフェクトを検出できれば、検出に基づいて再生性能を悪化させないような動作を光ディスク装置にさせることができ、ディフェクトによる再生性能の悪化を防げる。

このようなディフェクト検出方法としては、例えば、光ディスクの再生信号であるいわゆるＲＦ信号の直流成分信号を生成し、これと予め設定しておいたしきいレベルとを比較して、しきいレベルに対する高低を２値化検出するものがある。

ここで、光ディスク上のディフェクトが、光ディスク上のビームスポットよりもサイズが大きく光を透過しない紙屑のようなものであるである場合の、ＲＦ信号のエンベロープ信号を図６（ａ）に示す。このように、光ディスク上にディフェクトが存在する部分でＲＦ信号のレベルが落ち込む。ここで、図６（ａ）のように、ＲＦ信号のレベルの落ち込み部が横切るようなしきいレベルが設定される。そして、ＲＦ信号の直流成分信号が生成され、上記しきいレベルと比較され、直流成分信号のレベルがしきいレベルよりも高ければローレベル、逆に低ければハイレベルとなる２値化信号が図６（ｂ）のように生成される。よって、この２値化信号のハイレベルによりディフェクトを検出することができる。

なお、ディフェクト検出については、例えば、下記特許文献１〜３に開示されている。
特開２００５−２０９２４２号公報 特開２００２−９２８８３号公報 特開平１１−１４９６３６号公報

しかし、上記のような従来のディフェクト検出方法には次のような問題点がある。ここで図７（ａ）に、光ディスク上のディフェクトが指紋である場合のＲＦ信号のエンベロープ信号を示す。このように、光ディスク上に指紋が存在する部分においてＲＦ信号の平均レベルは落ち込まないが、光ディスクが有する最大長ピット（光ディスクが記録層に有機色素や相変化材料を用いるものの場合は最大長記録マークの意、以下同じ）の空間周波数以上かつ光ディスクが有する最小長ピット（光ディスクが記録膜に有機色素や相変化材料を用いるものの場合は最小長記録マークの意、以下同じ）の空間周波数以下の周波数で、ＲＦ信号のエンベロープ信号は変動する。例えば、光ディスクがＢｌｕ−ｒａｙ Ｄｉｓｃである場合は、最大長ピット（８Ｔ）の空間周波数は４ＭＨｚであり、最小長ピット（２Ｔ）の空間周波数は１６．５ＭＨｚである。

このようにディフェクトが指紋である場合に上記のような従来のディフェクト検出方法を適用すると、光ディスク上に指紋が存在する部分においてＲＦ信号の直流成分信号は上記のしきいレベルよりも高いレベルであるため、２値化信号は図７（ｂ）のようにローレベルとなり、ディフェクトを検出できない。よって、従来のディフェクト検出方法では光ディスク上の指紋は検出できず、光ディスク上に指紋が存在しても再生性能を悪化させないための動作を光ディスク装置にさせることができず、光ディスクの再生性能が悪化してしまう。

本発明は上記問題点を鑑みてなされたものであり、光ディスク上の指紋を検出することができ、指紋に対する再生性能を向上させることができる光ディスク装置を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために本発明の光ディスク装置は、光ディスクが有する最大長ピットの空間周波数以上かつ光ディスクが有する最小長ピットの空間周波数以下の周波数でエンベロープ信号が変動するようなＲＦ信号を検出する検出手段を備えることを特徴としている。

本構成によれば、光ディスク上の指紋を検出することができ、この検出に基づいて再生性能を悪化させないための動作を行うことができ、指紋に対する再生性能を向上させることができる。

ここで、前記検出手段は、ＲＦ信号に基づきエンベロープ信号を生成するエンベロープ信号生成回路と、光ディスクが有する最大長ピットの空間周波数以上かつ光ディスクが有する最小長ピットの空間周波数以下の周波数の信号を通過させるように設定され前記エンベロープ信号に基づき高周波成分信号を生成するハイパスフィルタまたはバンドパスフィルタと、を備え、前記高周波成分信号に基づき検出信号を生成する構成とすればよい。

該構成においてバンドパスフィルタを用いる場合は、エンベロープ信号生成回路が生成したエンベロープ信号の高周波ノイズを除去することができ、光ディスク上に指紋が存在しない部分でのエンベロープ信号の高周波ノイズによる誤検出を防ぐことができ、確実に指紋のみを検出できる。

該構成において、前記検出手段は、光ディスクが有する最大長ピットの空間周波数以上かつ光ディスクが有する最小長ピットの空間周波数以下の周波数の信号を通過させないように設定され前記エンベロープ信号に基づき低周波成分信号を生成するローパスフィルタをさらに備え、前記高周波成分信号および前記低周波成分信号に基づき検出信号を生成するようにしてもよい。

また、前記検出手段は、
ＲＦ信号に基づき上側エンベロープ信号を生成する上側エンベロープ信号生成回路と、ＲＦ信号に基づき下側エンベロープ信号を生成する下側エンベロープ信号生成回路と、の少なくとも一つと、
光ディスクが有する最大長ピットの空間周波数以上かつ光ディスクが有する最小長ピットの空間周波数以下の周波数で変動する上側エンベロープ信号が横切るように設定されている所定のしきいレベルと前記生成された上側エンベロープ信号とを比較し第一のパルス信号を生成する第一のコンパレータと、光ディスクが有する最大長ピットの空間周波数以上かつ光ディスクが有する最小長ピットの空間周波数以下の周波数で変動する下側エンベロープ信号が横切るように設定されている所定のしきいレベルと前記生成された下側エンベロープ信号とを比較し第二のパルス信号を生成する第二のコンパレータと、の少なくとも一つと、を備え、
前記第一のパルス信号と前記第二のパルス信号との少なくとも一つに基づき検出信号を生成するようにしてもよい。

また、本発明の光ディスク装置はより具体的に、ＲＦ信号に基づきエンベロープ信号を生成するエンベロープ信号生成回路と、
光ディスクが有する最大長ピットの空間周波数以上かつ光ディスクが有する最小長ピットの空間周波数以下の周波数の信号を通過させるように設定され前記エンベロープ信号に基づき高周波成分信号を生成するハイパスフィルタまたはバンドパスフィルタと、
光ディスクが有する最大長ピットの空間周波数以上かつ光ディスクが有する最小長ピットの空間周波数以下の周波数の信号を通過させないように設定され前記エンベロープ信号に基づき低周波成分信号を生成するローパスフィルタと、
前記低周波成分信号を反転し反転信号を生成するインバータと、
前記反転信号をゲインとして前記高周波成分信号を増幅させ増幅信号を生成する可変ゲインアンプと、
前記増幅信号と所定のしきいレベルとを比較しパルス信号を生成するコンパレータと、
前記パルス信号の立ち上がりと立ち下がりとのいずれか一方をトリガとして所定時間幅の一発のパルスを出力し検出信号を生成するモノマルチ回路と、
を備える構成としている。

また、本発明の光ディスク装置の別の具体的な構成としては、ＲＦ信号に基づき上側エンベロープ信号を生成する上側エンベロープ信号生成回路と、
光ディスクが有する最大長ピットの空間周波数以上かつ光ディスクが有する最小長ピットの空間周波数以下の周波数で変動する上側エンベロープ信号が横切るように設定されている所定のしきいレベルと前記生成された上側エンベロープ信号とを比較し第一のパルス信号を生成する第一のコンパレータと、
ＲＦ信号に基づき下側エンベロープ信号を生成する下側エンベロープ信号生成回路と、
光ディスクが有する最大長ピットの空間周波数以上かつ光ディスクが有する最小長ピットの空間周波数以下の周波数で変動する下側エンベロープ信号が横切るように設定されている所定のしきいレベルと前記生成された下側エンベロープ信号とを比較し第二のパルス信号を生成する第二のコンパレータと、
前記第一のパルス信号および前記第二のパルス信号に基づき第三のパルス信号を生成するＯＲ回路と、
前記第三のパルス信号の立ち上がりと立ち下がりとのいずれか一方をトリガとして所定時間幅の一発のパルスを出力し検出信号を生成するモノマルチ回路と、
を備える構成としている。

本構成によれば、上下のエンベロープ信号が対称でない場合でも、指紋の全体を確実に検出することができる。

本発明の光ディスク装置によれば、光ディスク上の指紋を検出することができ、指紋に対する再生性能を向上させることができる。

以下、本発明に係る実施形態について図面を参照しつつ説明する。図１に、本発明に係る光ディスク装置の構成を示すブロック図を示す。

光ピックアップ３は、不図示のレーザダイオード、コリメータレンズ、対物レンズ、対物レンズアクチュエータ、光検出器等を有し、対物レンズにより光ディスク１上にレーザビームが集光され、光ディスク１で反射したレーザビームが対物レンズを介し光検出器で受光され、電流信号に変換される。スピンドルモータ制御部１２は、スピンドルモータ２に駆動信号を送出しスピンドルモータ２の軸を回転させ、光ディスク１上のビームスポットと光ディスク１の相対速度である線速度が一定となるよう光ディスク１を回転制御する。

マトリクスアンプ５は、光ピックアップ３が有する光検出器からの電流信号を電圧信号に変換し増幅し、トラッキングエラー信号を演算生成する。トラッキング制御部８は、マトリクスアンプ５からのトラッキングエラー信号に基づき制御信号を生成しアクチュエータ駆動部４に送出し、アクチュエータ駆動部４は、該制御信号に基づき駆動信号を光ピックアップ３が有する対物レンズアクチュエータに送出し、対物レンズが光ディスク１のディスク面半径方向に駆動される。これにより、光ディスク１上のビームスポットをトラックに追従させるトラッキングサーボがされる。

また、マトリクスアンプ６は、光ピックアップ３が有する光検出器からの電流信号を電圧信号に変換し増幅し、フォーカスエラー信号を演算生成する。フォーカス制御部９は、マトリクスアンプ６からのフォーカスエラー信号に基づき制御信号を生成しアクチュエータ駆動部４に送出し、アクチュエータ駆動部４は、該制御信号に基づき駆動信号を光ピックアップ３が有する対物レンズアクチュエータに送出し、対物レンズが光ディスク１のディスク面垂直方向に駆動される。これにより、レーザビームを光ディスク１の記録面に合焦させるフォーカスサーボがされる。

また、マトリクスアンプ７は、光ピックアップ３が有する光検出器からの電流信号を電圧信号に変換し増幅し、ＲＦ信号を演算生成する。波形整形部１０は、マトリクスアンプ７からのＲＦ信号の波形歪み、ノイズを取り除き、２値化信号を生成する。ＰＬＬ部１４は、位相比較器、ローパスフィルタ、電圧制御発振器等を有し、ＰＬＬ制御により波形整形部１０からの２値化信号に同期した再生クロック信号を生成する。復調部１３は、波形整形部１０からの２値化信号とＰＬＬ部１４からの再生クロック信号とに基づき復調およびエラー訂正を行い、再生情報を生成する。

また、ディフェクト検出部１１は、マトリクスアンプ７からのＲＦ信号に基づきディフェクト検出信号を生成し、光ディスク上のディフェクトを検出する。本発明は該ディフェクト検出部１１に特徴を有するものであり、詳細については後述する。

光ディスク１のリード中にディフェクト検出部１１がディフェクトを検出すると、ホールド制御部１５は、トラッキング制御部８に一定レベルの制御信号をアクチュエータ駆動部４に送出するよう指示し、光ピックアップ３が有する対物レンズのトラッキング方向位置が固定される。また、光ディスク１のリード中にディフェクト検出部１１がディフェクトを検出すると、ホールド制御部１５は、フォーカス制御部９に一定レベルの制御信号をアクチュエータ駆動部４に送出するよう指示し、光ピックアップ３が有する対物レンズのフォーカス方向位置が固定される。これらはいわゆるサーボホールド動作であり、ディフェクトによる異常なトラッキングエラー信号およびフォーカスエラー信号を用いてトラッキングサーボおよびフォーカスサーボがエラーとなることを防げる。

また、光ディスク１のリード中にディフェクト検出部１１がディフェクトを検出すると、ホールド制御部１５はＰＬＬ部１４に指示信号を送出し、ＰＬＬ部１４が有する電圧制御発振器に一定の電圧が印加され、ＰＬＬ部１４は一定の周波数の再生クロック信号を復調部１３に送出する。これはいわゆるＰＬＬホールド動作であり、ディフェクトによる異常なＲＦ信号に基づいたＰＬＬ制御により異常な再生クロック信号が生成されることを防ぎ、リードエラーとなることを防げる。

また、光ディスク１のリード中にリードエラーやサーボエラーとなった場合、エラーとなったアドレスの最初からＲＦ信号が読み出され、ディフェクト検出部１１によりディフェクトが検出されるとそのときのセクタを表すセクタ情報が不図示のメモリに記憶され、記憶されたセクタ情報のセクタにおいて上記のサーボホールド動作やＰＬＬホールド動作が行われながら再びリードされる。これはいわゆるリトライ動作であり、一度再生が不可能であったアドレスについて再生が可能となる。

次に、ディフェクト検出部１１について以下詳細を説明する。図２に、ディフェクト検出部１１の第１の構成例を示す。また、図３に、光ディスク上にディフェクトとして指紋が存在する場合の図２における各位置の信号のタイミングチャートを示す。

マトリクスアンプ７（図１）からのＲＦ信号は、振幅を一定にするためのＡＧＣ回路１１ａに入力され、ＡＧＣ回路１１ａから出力されたＲＦ信号がエンベロープ検波回路１１ｂに入力される。エンベロープ検波回路１１ｂは、図３（ａ）のようなＲＦ信号の上側エンベロープである上側エンベロープ信号を生成する。光ディスク上に指紋が存在する部分においては、光ディスクが有する最大長ピットの空間周波数以上かつ光ディスクが有する最小長ピットの空間周波数以下の周波数で、上側エンベロープ信号は変動する。また、光ディスク上に指紋が存在しない部分においては、光ディスクの反射率変動およびサーボ変動によるＲＦ信号の振幅変動により、上記光ディスクが有する最大長ピットの空間周波数よりも低い周波数で上側エンベロープ信号は変動する。

エンベロープ検波回路１１ｂから出力された上側エンベロープ信号はハイパスフィルタ１１ｃに入力され高周波成分が抽出され、図３（ｂ）のような高周波成分信号が生成される。ハイパスフィルタ１１ｃのカットオフ周波数は、光ディスクが有する最大長ピットの空間周波数よりも低く、かつ、光ディスク上に指紋が存在しない部分での上記上側エンベロープ信号の変動周波数にかからない程度の周波数に設定されており、光ディスクが有する最大長ピットの空間周波数以上かつ光ディスクが有する最小長ピットの空間周波数以下の周波数の信号を通過させる。よって、上記高周波成分信号は、光ディスク上に指紋が存在する部分での信号変動が強調された波形となる。

また、エンベロープ検波回路１１ｂから出力された上側エンベロープ信号はローパスフィルタ１１ｄに入力され低周波成分が抽出され、図３（ｃ）のような低周波成分信号が生成される。ローパスフィルタ１１ｄのカットオフ周波数は、前述したハイパスフィルタ１１ｃと同様に設定されており、光ディスクが有する最大長ピットの空間周波数以上かつ光ディスクが有する最小長ピットの空間周波数以下の周波数の信号を通過させない。また、光ディスク上に指紋が存在しない部分に比べ指紋が存在する部分ではＲＦ信号の振幅の平均が小さくなるため、光ディスク上に指紋が存在しない部分に比べ指紋が存在する部分では上側エンベロープ信号のレベルの平均が小さくなる。よって、上記低周波成分信号は、光ディスク上に指紋が存在しない部分に比べ指紋が存在する部分でレベルが持ち下がる波形となる。

そして、ローパスフィルタ１１ｄから出力された低周波成分信号はインバータ１１ｅに入力され、インバータ１１ｅで信号が反転され、図３（ｄ）のような反転信号が生成される。反転信号は、光ディスク上に指紋が存在しない部分に比べ指紋が存在する部分でレベルが持ち上がる波形となる。

そして、ハイパスフィルタ１１ｃから出力された高周波成分信号と、インバータ１１ｅから出力された反転信号が可変ゲインアンプ１１ｆに入力され、高周波成分信号は反転信号をゲインとして増幅され、図３（ｅ）のような増幅信号が生成される。増幅信号は、光ディスク上に指紋が存在する部分での信号変動が高周波成分信号（図３（ｂ））よりもさらに強調された波形となる。

そして、可変ゲインアンプ１１ｆから出力された増幅信号はコンパレータ１１ｇに入力される。コンパレータ１１ｇは、増幅信号を所定のしきいレベルと比較し、増幅信号のレベルがしきいレベルよりも大きければハイレベル、増幅信号のレベルがしきいレベルよりも小さければローレベルとなる図３（ｆ）のようなパルス信号を生成する。

そして、コンパレータ１１ｇから出力されたパルス信号はモノマルチ回路１１ｈに入力される。モノマルチ回路１１ｈは、入力されるパルス信号の立ち上がりをトリガとして、所定時間幅の一発のパルスを出力する回路である。図３（ｇ）のようにコンパレータ１１ｇから出力されたパルス信号の初めのパルスの立ち上がりによりモノマルチ回路１１ｈは所定時間幅のパルスを一発出力する。そして、このパルス出力が立ち下がる前に、コンパレータ１１ｇから出力されたパルス信号の２つ目のパルスの立ち上がりによりモノマルチ回路１１ｈは新たな所定時間幅のパルスを一発出力する。結果として、モノマルチ回路１１ｈの出力は図３（ｈ）のような一つのパルスをもつパルス信号となり、これがディフェクト検出信号となる。

なお、コンパレータ１１ｇが上記図３（ｆ）とハイレベル、ローレベルを逆としたパルス信号を生成する場合は、モノマルチ回路１１ｈは、入力されるパルス信号の立ち下がりをトリガとして、所定時間幅の一発のパルスを出力するようにすれば、ディフェクト検出信号が生成できる。

従って、本構成のディフェクト検出部１１により光ディスク上の指紋を検出することができ、この検出により前述したようなサーボホールド動作、ＰＬＬホールド動作、リトライ動作を行うことができ、指紋に対する再生性能を向上させることができる。

なお、本構成のディフェクト検出部１１（図２）において、ハイパスフィルタ１１ｃをバンドパスフィルタとしてもよい。バンドパスフィルタの低い側のカットオフ周波数は、上記ハイパスフィルタ１１ｃのカットオフ周波数と同様に設定し、バンドパスフィルタの高い側のカットオフ周波数は、光ディスクが有する最小長ピットの空間周波数よりも高い周波数に設定し、光ディスクが有する最大長ピットの空間周波数以上かつ光ディスクが有する最小長ピットの空間周波数以下の周波数の信号を通過させるようにすればよい。これにより、エンベロープ検波回路１１ｂから出力される上側エンベロープ信号の高周波ノイズを除去することができ、光ディスク上に指紋が存在しない部分での上側エンベロープ信号の高周波ノイズによる誤検出を防ぐことができ、確実に指紋のみを検出できる。

次に、ディフェクト検出部１１の別の実施形態について説明する。図４に、ディフェクト検出部１１の第２の構成例を示す。また、図５に、光ディスク上にディフェクトとして指紋が存在する場合の図４における各位置の信号のタイミングチャートを示す。

マトリクスアンプ７（図１）からのＲＦ信号は、振幅を一定にするためのＡＧＣ回路１１ｉに入力され、ＡＧＣ回路１１ｉから出力されたＲＦ信号が上側エンベロープ検波回路１１ｊに入力される。上側エンベロープ検波回路１１ｊは、図５（ａ）のようなＲＦ信号の上側エンベロープである上側エンベロープ信号を生成する。光ディスク上に指紋が存在する部分においては、光ディスクが有する最大長ピットの空間周波数以上かつ光ディスクが有する最小長ピットの空間周波数以下の周波数で、上側エンベロープ信号は変動する。また、光ディスク上に指紋が存在しない部分においては、光ディスクの反射率変動およびサーボ変動によるＲＦ信号の振幅変動により、上記光ディスクが有する最大長ピットの空間周波数よりも低い周波数で上側エンベロープ信号は変動する。

上側エンベロープ信号検波回路１１ｊから出力された上側エンベロープ信号は、コンパレータ１１ｋに入力される。コンパレータ１１ｋは、光ディスクが有する最大長ピットの空間周波数以上かつ光ディスクが有する最小長ピットの空間周波数以下の周波数で変動する上側エンベロープ信号が横切るように設定されている所定のしきいレベル（図５（ａ）中のしきいレベル１）と、入力された上側エンベロープ信号とを比較し、上側エンベロープ信号のレベルがしきいレベルよりも低ければハイレベル、上側エンベロープ信号のレベルがしきいレベルよりも高ければローレベルとなる図５（ｂ）のようなパルス信号を生成する。

また、ＡＧＣ回路１１ｉから出力されたＲＦ信号は下側エンベロープ検波回路１１ｌに入力される。下側エンベロープ検波回路１１ｌは、図５（ａ）のようなＲＦ信号の下側エンベロープである下側エンベロープ信号を生成する。光ディスク上に指紋が存在する部分においては、光ディスクが有する最大長ピットの空間周波数以上かつ光ディスクが有する最小長ピットの空間周波数以下の周波数で、下側エンベロープ信号は変動する。また、光ディスク上に指紋が存在しない部分においては、光ディスクの反射率変動およびサーボ変動によるＲＦ信号の振幅変動により、上記光ディスクが有する最大長ピットの空間周波数よりも低い周波数で下側エンベロープ信号は変動する。

下側エンベロープ信号検波回路１１ｌから出力された下側エンベロープ信号は、コンパレータ１１ｍに入力される。コンパレータ１１ｍは、光ディスクが有する最大長ピットの空間周波数以上かつ光ディスクが有する最小長ピットの空間周波数以下の周波数で変動する下側エンベロープ信号が横切るように設定されている所定のしきいレベル（図５（ａ）中のしきいレベル２）と、入力された下側エンベロープ信号とを比較し、下側エンベロープ信号のレベルがしきいレベルよりも高ければハイレベル、下側エンベロープ信号のレベルがしきいレベルよりも低ければローレベルとなる図５（ｃ）のようなパルス信号を生成する。

そして、コンパレータ１１ｋとコンパレータ１１ｍからそれぞれ出力された各パルス信号はＯＲ回路１１ｎに入力される。ＯＲ回路１１ｎは、コンパレータ１１ｋとコンパレータ１１ｍから出力された各パルス信号のうちいずれか一つでもハイレベルであればハイレベルとする図５（ｄ）のようなパルス信号を生成する。

そして、ＯＲ回路１１ｎから出力されたパルス信号はモノマルチ回路１１ｏに入力される。モノマルチ回路１１ｏは、ＯＲ回路１１ｎから入力されるパルス信号の立ち上がりをトリガとして、所定時間幅の一発のパルスを出力し、結果的に図５（ｅ）のような一つのパルスをもつパルス信号を生成する。これがディフェクト検出信号となる。

なお、コンパレータ１１ｋおよびコンパレータ１１ｍが図５（ｂ）（ｃ）とハイレベル、ローレベルを逆としたパルス信号を生成し、ＯＲ回路１１ｎがコンパレータ１１ｋとコンパレータ１１ｍから出力された各パルス信号のうちいずれか一つでもローレベルであればローレベルとする図５（ｄ）とハイレベル、ローレベルを逆としたパルス信号を生成するように構成した場合は、モノマルチ回路１１ｏはＯＲ回路１１ｎから入力されるパルス信号の立ち下がりをトリガとして、所定時間幅の一発のパルスを出力するようにすれば、ディフェクト検出信号を生成できる。

従って、本構成のディフェクト検出部１１によっても光ディスク上の指紋を検出することができ、この検出により前述したようなサーボホールド動作、ＰＬＬホールド動作、リトライ動作を行うことができ、指紋に対する再生性能を向上させることができる。

なお、本構成のディフェクト検出部１１（図４）において、下側エンベロープ検波回路１１ｌ、コンパレータ１１ｍ、ＯＲ回路１１ｎを省略し、コンパレータ１１ｋの出力をモノマルチ回路１１ｏに入力させた構成か、または、上側エンベロープ検波回路１１ｊ、コンパレータ１１ｋ、ＯＲ回路１１ｎを省略し、コンパレータ１１ｍの出力をモノマルチ回路１１ｏに入力させた構成としても、ディフェクト検出信号を生成でき、光ディスク上の指紋を検出することができる。ただ、図５（ａ）のようにＲＦ信号のエンベロープ信号が上下で対称でない場合、上記構成では、図５（ｂ）または図５（ｃ）のようなパルス信号からモノマルチ回路１１ｏによりディフェクト検出信号を生成することとなり、指紋の一部を検出することができない。このような場合でも、第２の構成例（図４）であれば、図５のように指紋の全体を確実に検出することができる。

は、本発明に係る光ディスク装置の構成を示すブロック図である。 は、本発明に係るディフェクト検出部の第１の構成例を示す図である。 は、光ディスク上に指紋が存在する場合の図２における各位置の信号のタイミングチャートである。 は、本発明に係るディフェクト検出部の第２の構成例を示す図である。 は、光ディスク上に指紋が存在する場合の図４における各位置の信号のタイミングチャートである。 は、従来のディフェクト検出方法を説明するための図である。 は、従来のディフェクト検出方法の問題点を説明するための図である。

符号の説明

１ 光ディスク
２ スピンドルモータ
３ 光ピックアップ
４ アクチュエータ駆動部
５、６、７ マトリクスアンプ
８ トラッキング制御部
９ フォーカス制御部
１０ 波形整形部
１１ ディフェクト検出部
１２ スピンドルモータ制御部
１３ 復調部
１４ ＰＬＬ部
１５ ホールド制御部

Claims (6)

1. ＲＦ信号に基づきエンベロープ信号を生成するエンベロープ信号生成回路と、
   光ディスクが有する最大長ピットの空間周波数以上かつ光ディスクが有する最小長ピットの空間周波数以下の周波数の信号を通過させるように設定され前記エンベロープ信号に基づき高周波成分信号を生成するハイパスフィルタまたはバンドパスフィルタと、
   光ディスクが有する最大長ピットの空間周波数以上かつ光ディスクが有する最小長ピットの空間周波数以下の周波数の信号を通過させないように設定され前記エンベロープ信号に基づき低周波成分信号を生成するローパスフィルタと、
   前記低周波成分信号を反転し反転信号を生成するインバータと、
   前記反転信号をゲインとして前記高周波成分信号を増幅させ増幅信号を生成する可変ゲインアンプと、
   前記増幅信号と所定のしきいレベルとを比較しパルス信号を生成するコンパレータと、
   前記パルス信号の立ち上がりと立ち下がりとのいずれか一方をトリガとして所定時間幅の一発のパルスを出力し検出信号を生成するモノマルチ回路と、
   を備えることを特徴とする光ディスク装置。
2. ＲＦ信号に基づき上側エンベロープ信号を生成する上側エンベロープ信号生成回路と、
   光ディスクが有する最大長ピットの空間周波数以上かつ光ディスクが有する最小長ピットの空間周波数以下の周波数で変動する上側エンベロープ信号が横切るように設定されている所定のしきいレベルと前記生成された上側エンベロープ信号とを比較し第一のパルス信号を生成する第一のコンパレータと、
   ＲＦ信号に基づき下側エンベロープ信号を生成する下側エンベロープ信号生成回路と、
   光ディスクが有する最大長ピットの空間周波数以上かつ光ディスクが有する最小長ピットの空間周波数以下の周波数で変動する下側エンベロープ信号が横切るように設定されている所定のしきいレベルと前記生成された下側エンベロープ信号とを比較し第二のパルス信号を生成する第二のコンパレータと、
   前記第一のパルス信号および前記第二のパルス信号に基づき第三のパルス信号を生成するＯＲ回路と、
   前記第三のパルス信号の立ち上がりと立ち下がりとのいずれか一方をトリガとして所定時間幅の一発のパルスを出力し検出信号を生成するモノマルチ回路と、
   を備えることを特徴とする光ディスク装置。
3. 光ディスクが有する最大長ピットの空間周波数以上かつ光ディスクが有する最小長ピットの空間周波数以下の周波数でエンベロープ信号が変動するようなＲＦ信号を検出する検出手段を備えることを特徴とする光ディスク装置。
4. 前記検出手段は、ＲＦ信号に基づきエンベロープ信号を生成するエンベロープ信号生成回路と、光ディスクが有する最大長ピットの空間周波数以上かつ光ディスクが有する最小長ピットの空間周波数以下の周波数の信号を通過させるように設定され前記エンベロープ信号に基づき高周波成分信号を生成するハイパスフィルタまたはバンドパスフィルタと、を備え、前記高周波成分信号に基づき検出信号を生成することを特徴とする請求項３に記載の光ディスク装置。
5. 前記検出手段は、光ディスクが有する最大長ピットの空間周波数以上かつ光ディスクが有する最小長ピットの空間周波数以下の周波数の信号を通過させないように設定され前記エンベロープ信号に基づき低周波成分信号を生成するローパスフィルタを備え、前記高周波成分信号および前記低周波成分信号に基づき検出信号を生成することを特徴とする請求項４に記載の光ディスク装置。
6. 前記検出手段は、
   ＲＦ信号に基づき上側エンベロープ信号を生成する上側エンベロープ信号生成回路と、ＲＦ信号に基づき下側エンベロープ信号を生成する下側エンベロープ信号生成回路と、の少なくとも一つと、
   光ディスクが有する最大長ピットの空間周波数以上かつ光ディスクが有する最小長ピットの空間周波数以下の周波数で変動する上側エンベロープ信号が横切るように設定されている所定のしきいレベルと前記生成された上側エンベロープ信号とを比較し第一のパルス信号を生成する第一のコンパレータと、光ディスクが有する最大長ピットの空間周波数以上かつ光ディスクが有する最小長ピットの空間周波数以下の周波数で変動する下側エンベロープ信号が横切るように設定されている所定のしきいレベルと前記生成された下側エンベロープ信号とを比較し第二のパルス信号を生成する第二のコンパレータと、の少なくとも一つと、を備え、
   前記第一のパルス信号と前記第二のパルス信号との少なくとも一つに基づき検出信号を生成する、
   ことを特徴とする請求項３に記載の光ディスク装置。

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