JP2007232607A - 細胞電気生理センサの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板1の片面にレジストマスク11を形成する第一の工程と、第一のエッチングガスと第二のエッチングガスを導入して所望の形状の貫通孔4を形成する第二の工程と、基板1の他面にウエル2を形成する端部から中央部に向かってテーパー状に薄くしたレジストマスク12を形成する第三の工程と、第一のエッチングガスと第二のエッチングガスを導入してウエル2を形成する第四の工程を含み、且つ前記第一〜第四の工程のいずれかの工程で外形のエッチングによる切り出しを同時に行う。
【選択図】図1
Description
以下、本発明の実施の形態1における細胞電気生理センサの製造方法について、図面を参照しながら説明する。
1a 基板の表面
1b 基板の裏面
2 ウエル
3 ダイアフラム
4 貫通孔
5 被験体細胞
6a 細胞外液
6b 細胞内液
7 電極
8 電極
11 レジストマスク
12 レジストマスク
Claims (5)
- 基板の一面に少なくとも一つ以上のウエルを設け、このウエルの底面には少なくとも一つ以上の貫通孔を有するダイアフラムを設け、前記ウエルの壁面をダイアフラム側へテーパー状とした細胞電気生理センサの製造方法であって、
基板の片面にレジストマスクを形成する第一の工程と、
その後第一のエッチングガスと第二のエッチングガスを導入して前記レジストマスクを利用して所望の形状の貫通孔を形成する第二の工程と、
前記基板の他面にウエルを形成する端部から中央部に向かってテーパー状に薄くしたレジストマスクを形成する第三の工程と、
第一のエッチングガスと第二のエッチングガスを導入してエッチングによってウエルを形成する第四の工程を含み、且つ前記第二の工程および/または第四の工程で外形のエッチングによる切り出しを同時に行う細胞電気生理センサの製造方法。 - 化学エッチングによって、センサ全体の表面を平滑にする工程を含む請求項1に記載の細胞電気生理センサの製造方法。
- 基板の一面に少なくとも一つ以上のウエルを設け、このウエルの底面には少なくとも一つ以上の貫通孔を有するダイアフラムを設け、前記ウエルの壁面をダイアフラム側へテーパー状とした細胞電気生理センサの製造方法であって、
基板の片面にレジストマスクを形成する第一の工程と、
その後第一のエッチングガスと第二のエッチングガスを導入して前記レジストマスクを利用して所望の形状の貫通孔を形成する第二の工程と、
ウエルの中央部から同心縞状に、且つレジストマスクの開口幅がウエルの中央部から端部にかけて段階的に狭くなる縞状にレジストマスクを形成する第三の工程と、
第一のエッチングガスと第二のエッチングガスを導入して逆テーパー状にエッチングすることによってウエルを形成する第四の工程を含み、且つ前記第二の工程および/または第四の工程で外形のエッチングによる切り出しを同時に行う細胞電気生理センサの製造方法。 - アルゴンガスを用いたプラズマエッチングによって、ウエルの壁面を平滑にする工程を含む請求項3に記載の細胞電気生理センサの製造方法。
- 化学エッチングによって、表面を平滑にする工程を含む請求項3に記載の細胞電気生理センサの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Applications Claiming Priority (1)
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Publications (2)
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JP2007232607A true JP2007232607A (ja) | 2007-09-13 |
JP4830545B2 JP4830545B2 (ja) | 2011-12-07 |
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Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP4830545B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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2006
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---|---|
JP4830545B2 (ja) | 2011-12-07 |
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