JP2007225841A - 偏光子 - Google Patents

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【課題】深紫外領域の照明光を偏光させることができる薄型の偏光子を提供する。
【解決手段】紫外領域の照明光1を偏光させるための偏光子10であって、異方性光学結晶材料である方解石が入射方向に対して厚さdに形成されてなり、異方性光学結晶材料には、深紫外領域において異常光線と常光線の吸収係数(αe,αo)に所定の差を生じる光学材料が選択された。異方性光学結晶材料は、深紫外領域に吸収端を有し、吸収端付近の異方性吸収により異常光線と常光線の吸収係数に所定の差を生じるものが選択された。
【選択図】図4

Description

本発明は、偏光子に係り、特に深紫外領域の照明光を偏光するための偏光子に関する。
近年、半導体露光装置の分野では、微細パターンの解像度を向上させるため、露光波長の短波長化が進められており、例えば、波長193nmのArFエキシマレーザや波長157nmのF2エキシマレーザを用いた露光装置が開発されている。このような深紫外領域の照明光を用いる露光装置のマスク部や対物レンズの前後等に偏光子を配置する場合、偏光子は薄型で高開口である必要がある。
一般に偏光子は、プリズム型の偏光子(グラントムソン型,グランテーラ型,ローションプリズム型等)と、プレート型の偏光子(2色性偏光子,複屈折型,ワイヤーグリッド型)とに大別される。プリズム型の偏光子は、偏光性能が高いが、入射光の入射角が制限されると共に厚みが大きくなるため、上記偏光子として採用することができない。
これに対して、プレート型の偏光子は、一般に偏光性能はプリズム型に劣るものの、薄く形成することができると共に、入射光の制限も小さい(斜め入射も可能)等の利点があるため、上記偏光子に適している。
短波長用のプレート型の偏光子は、例えば特許文献1で紫外線偏光フィルムとして提案されているが、この偏光フィルムは波長250nm以上の照明光に適用されるものであり、深紫外領域の照明光に用いることはできなかった。
特開2001−91737号公報
本発明の目的は、上記問題に鑑み、深紫外領域の照明光を偏光させることができる薄型の偏光子を提供するものである。
前記課題は、本発明によれば、紫外領域の入射光を偏光させるための偏光子であって、異方性光学結晶材料が入射方向に対して所定厚さに形成されてなり、前記異方性光学結晶材料には、深紫外領域において異常光線と常光線の吸収係数に所定の差を生じる光学材料が選択されることより解決される。
このように、深紫外領域において異常光線と常光線の吸収係数に所定の差が生じる異方性光学結晶を所定厚さに形成することにより、深紫外領域の入射光を入射したときに、異常光線と常光線のうち吸収係数が大きい方を入射後に吸収させ、吸収係数が小さい方を所定の透過率で透過させることができる。これにより、深紫外領域の入射光を偏光させるための偏光子を、光学結晶材料にて薄型に形成することが可能となる。
また、前記異方性光学結晶材料は、深紫外領域に吸収端を有する光学材料が選択され、吸収端付近の異方性吸収により異常光線と常光線の吸収係数に所定の差を生じることを利用することができる。
また、異常光の吸収係数をαe,常光の吸収係数をαoとしたときに、消光比E,透過光透過率T,入射方向厚さdが、(a)αe<αoの場合: E/{10・(αo−αe)・log(e)}<d<ln(T)/(−αe)、(b)αe>αoの場合: E/{10・(αe−αo)・log(e)}<d<ln(T)/(−αo)、(ただし、eは自然対数の底を表わす)の関係を満たすと好適である。このように消光比Eおよび透過光透過率Tを設定することにより、所定波長において偏光子の入射方向厚さを決定することができる。
また、前記異方性光学結晶材料は、その吸収軸が入射面と略平行に設定されると好適である。このように設定すると、入射光が効果的に吸収されるので消光比および透過光透過率の大きな偏光子を得ることができる。
また、具体的には、前記異方性光学結晶材料として方解石を用いることができる。
本発明によれば、異方性光学結晶材料の吸収端付近における異方性吸収を利用することにより、深紫外領域の照明光を偏光させることができる偏光子を極めて薄型に形成することができる。
以下、本発明の一実施形態について、図を参照して説明する。なお、以下に説明する構成、手順等は、本発明を限定するものではなく、本発明の趣旨に沿って各種改変することができることは勿論である。
図1〜図6は本発明の一実施形態に係るものであり、図1は偏光子の説明図、図2は方解石の屈折率および吸収係数と波長との関係を示すグラフ、図3は図2の一部を拡大したグラフ、図4は方解石で形成した偏光子の0.193μmにおける透過光透過率および消光比と厚さとの関係を示すグラフ、図5は方解石で形成した偏光子の0.157μmにおける透過光透過率および消光比と厚さとの関係を示すグラフ、図6は偏光子を方解石で厚さ60μmに形成した場合の透過光透過率と波長との関係を示すグラフである。図7は改変例に係る偏光子の説明図である。
本例の偏光子10は、異方性光学結晶材料を薄型に形成したプレート型偏光子である。詳しくは、本例の偏光子10は、図1に示すように異方性光学結晶材料である方解石(CaCO)を照明光1の入射方向に厚さdに形成したものであり、照明光1の入射面10aに沿って略平行にその吸収軸10bが設定されている。吸収軸10bは、吸収係数の大きい方向の結晶軸である。すなわち、吸収軸10bは、入射面10aに対して垂直に設定された偏光子10の光軸に対して、略垂直に設定されている。
次述のように、本例の偏光子10では、照明光1の常光線,異常光線のうち、常光線は吸収され、異常光線のみが略透過可能となっている。
図2は方解石の屈折率nおよび吸収係数Kと波長との関係を示している。グラフ中、Eoは常光屈折率,Eeは異常光屈折率,Foは常光吸収係数,Feは異常光吸収係数の波長に対する変化を表わしている。また、図3は図2の横軸(波長)および縦軸(吸収係数)を拡大したものである。なお、図2,図3で示した吸収係数Kは、いわゆる物質の吸収係数αと以下の関係にある。
[数1]
α=K・4π/λ(ただし、λは波長)
方解石は、可視光領域では常光吸収係数,異常光吸収係数が略同一の値をとるが、図2,図3から分かるように、吸収係数が不連続に急激に大きな値をとるように変化する波長である吸収端付近では顕著な異方性吸収を示して、これらの係数に大きな差が生じる。このように深紫外領域(ここでは、0.20μm以下の紫外領域とする)においては、方解石は常光吸収係数の方が異常光吸収係数よりも大きく、異常光線よりも常光線の方が吸収され易いことが分かる。
ここで、常光線の吸収係数をαo,異常光線の吸収係数をαeとしたとき、一般に方解石に限らず異方性結晶材料で偏光子10を形成した場合の透過光透過率T,消光比E(dB),厚さdの関係は以下のようになる。ただし、透過光透過率Tは0〜1の値,消光比Eは0を含む正の値,eは自然対数の底である。
[数2]
αe<αoの場合
E/{10・(αo−αe)・log(e)}<d<ln(T)/(−αe)
[数3]
αe>αoの場合
E/{10・(αe−αo)・log(e)}<d<ln(T)/(−αo)
例えば、透過光透過率Tが10%以上(T≧0.1)、消光比Eが10(dB)以上(E≧10)であれば、実用上、偏光子として利用可能であるから、これらの値を代入すると[数2],[数3]は以下のようになる。
[数4]
αe<αoの場合
1/{(αo−αe)・log(e)}<d<ln(0.1)/(−αe)
[数5]
αe>αoの場合
1/{(αe−αo)・log(e)}<d<ln(0.1)/(−αo)
方解石の場合は、αe<αoであるから[数2],[数4]が適用される。図4,図5に、それぞれ[数2]に基づいて算出した波長0.193(μm),0.157(μm)における透過光透過率Tおよび消光比Eと厚さdとの関係を示す。
なお、図4,図5では透過光透過率Tをパーセント表示しており、消光比Eは負の値をとるように表示している(絶対値としては同じ)。消光比Eは縦軸の下側ほど高性能となる。
図4では曲線Ge,Goがそれぞれ異常光線,常光線の透過光透過率Tを示しており、曲線Hが消光比Eを示している。また、図5では曲線Ie,Ioがそれぞれ異常光線,常光線の透過光透過率Tを示しており、曲線Jが消光比Eを示している。
[数2]によれば、所望の透過光透過率T,消光比Eを設定した場合に、曲線Geよりも縦軸において上側かつ曲線Hよりも縦軸において下側となる厚さdの範囲が決定され、曲線Ieよりも縦軸において上側かつ曲線Jよりも縦軸において下側となる厚さdの範囲が決定される。すなわち、透過光透過率Tを設定することにより厚さdの下限値が決定され、消光比Eを設定することにより厚さdの上限値が決定される。
偏光子10を波長0.193(μm)用に方解石で形成した場合について述べる。方解石の波長0.193(μm)におけるαeは0.02604(1/μm),αoは0.10418(1/μm)であり、これらを[数4]に代入すると以下のようになる。
[数6]
29.5(μm)<d<88.4(μm)
[数6]で表される厚さdの範囲を図4では範囲aで示している。すなわち、厚さdが範囲a内にあれば、透過光透過率Tを10%以上、消光比Eを10dB以上確保することができる。そして、範囲a内で厚さdを設定した場合、偏光子10を十分薄く形成することができることが分かる。
したがって、本例の偏光子10を形成するには、まず、偏光子10に偏光させる深紫外領域の照明光1の波長を設定すると共に、所望の透過光透過率T,消光比Eを設定する。これら設定した透過光透過率T,消光比Eと、選択した異方性光学結晶の設定波長における吸収係数αo,αeを、吸収係数の大小に応じて[数2]または[数3]に代入することにより、厚さdの範囲を決定する。
さらに、決定された厚さdの範囲から適宜に厚さを決定し、この決定した厚さとなるように異方性光学結晶を研磨する。このとき、吸収軸を入射面と略平行となるように設定する。このようにして、偏光子10を形成することができる。
図6に偏光子10の厚さdを60(μm)としたときの常光線および異常光線の分光透過率を示す。曲線Koは常光線,曲線Keは異常光線の分光透過率を示している。このように厚さdを60(μm)としたときには、例えば、波長0.220(μm)では異常光線の透過率は常光線の透過率の1.1倍程度であるが、波長0.193(μm)では10倍以上となっている。すなわち、吸収端よりも可視光領域側の波長0.220(μm)では消光比Eを十分な程度に確保することができないが、吸収端付近の波長0.193(μm)では消光比Eを十分な程度に確保することができることが分かる。
なお、図4から厚さdを60(μm)とした場合、波長0.193(μm)のときの消光比Eは、20dB程度である。
このように本例の偏光子10では、異方性光学結晶材料として方解石を用いており、吸収端付近での特定の波長範囲で常光線と異常光線の吸収係数が異なることを利用して偏光させている。そして、その際、透過光透過率Tと消光比Eとを設定することによって厚さdの範囲が決定される。換言すれば、厚さdを制御することによって透過光透過率Tと消光比Eを設定できる。
なお、本例では、偏光子10を構成する異方性光学結晶材料として、波長0.193(μm)付近で異方性吸収を示す方解石を用いた例を示したが、これに限らず、異方性光学結晶材料として、例えば波長0.193(μm)付近ではBBO(BaB)を用いてもよい。また、波長0.157(μm)付近では方解石の他、水晶(α‐SiO),Li,LiB,サファイア(Al)を用いてもよい。
なお、上記実施形態では、偏光子10は、照明光1の入射面10aに沿って略平行にその吸収軸10bが設定されていたが、これに限らず、図7(A)に示すように入射面10aに対して傾けて設定してもよい。すなわち、図7(A)の例では、吸収軸10bは光軸と傾斜角度θをなす方向に設定されており、図1は傾斜角度θ=90°に設定された例に相当する。
このように吸収軸10bが入射面10aに対して傾けて設定されている場合、常光吸収係数αoは傾斜角度θに依存しないが、異常光吸収係数αeは傾斜角度θに依存する。傾斜角度θのときの異常光吸収係数をαe(θ)と表記する。なお、傾斜角度θ=90°のときは異常光吸収係数αe(90°)となるが、このときに最も効果的に吸収が行われる。
しかしながら、傾斜角度θが90°に設定されていない場合であっても、実用上は影響の程度はごく小さい。このことを示すために図7(B)に示すように、図1の例と同様に吸収軸10bが入射面10aと略平行に設定されている偏光子10に、入射角θで照明光1を入射させて擬似的に吸収軸10bを傾けた状況とし、この場合の透過光透過率および消光比を測定した。
この測定例では、方解石を厚さd(=60μm)に形成した偏光子10に、波長λ(=193nm)の照明光1を入射角θ(θ=0°,20°)で入射させた。この結果を[表1]に示す。
Figure 2007225841
このように、入射角θを0°,20°とした場合でも、常光透過率,異常光透過率,消光比はほとんど変化がない。したがって、図7(A)のように吸収軸10bが入射面10aと平行に設定されておらず、吸収軸10bに対して照明光1が垂直方向から入射しなかった場合でも、透過光透過率および消光比には実質上ほとんど影響がないことが分かる。このことは、本例の偏光子10が高開口性を有することを意味しており、図1の例のように吸収軸10bが入射面10aと平行に設定されている場合に、照明光1が入射角θで入射しても必要な透過光透過率および消光比を確保することができる。
本発明の一実施形態に係る偏光子の説明図である。 方解石の屈折率および吸収係数と波長との関係を示すグラフである。 図2の一部を拡大したグラフである。 方解石で形成した偏光子の0.193μmにおける透過光透過率および消光比と厚さとの関係を示すグラフである。 方解石で形成した偏光子の0.157μmにおける透過光透過率および消光比と厚さとの関係を示すグラフである。 偏光子を方解石で厚さ60μmに形成した場合の透過光透過率と波長との関係を示すグラフである。 改変例に係る偏光子の説明図である。
符号の説明
1・・照明光
10・・偏光子
10a・・入射面
10b・・吸収軸

Claims (5)

  1. 紫外領域の入射光を偏光させるための偏光子であって、
    異方性光学結晶材料が入射方向に対して所定厚さに形成されてなり、
    前記異方性光学結晶材料には、深紫外領域において異常光線と常光線の吸収係数に所定の差を生じる光学材料が選択されたことを特徴とする偏光子。
  2. 前記異方性光学結晶材料は、深紫外領域に吸収端を有する光学材料が選択され、吸収端付近の異方性吸収により異常光線と常光線の吸収係数に所定の差を生じることを特徴とする請求項1に記載の偏光子。
  3. 異常光線の吸収係数をαe,常光線の吸収係数をαoとしたときに、消光比E,透過光透過率T,入射方向厚さdが、
    (a)αe<αoの場合:
    E/{10・(αo−αe)・log(e)}<d<ln(T)/(−αe)、
    (b)αe>αoの場合:
    E/{10・(αe−αo)・log(e)}<d<ln(T)/(−αo)、
    (ただし、eは自然対数の底を表わす)
    の関係を満たすことを特徴とする請求項1に記載の偏光子。
  4. 前記異方性光学結晶材料は、その吸収軸が入射面と略平行に設定されたことを特徴とする請求項1に記載の偏光子。
  5. 前記異方性光学結晶材料として方解石を用いたことを特徴とする請求項1に記載の偏光子。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015532465A (ja) * 2012-10-10 2015-11-09 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. マーク位置測定装置及び方法、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法
CN109471214A (zh) * 2018-12-18 2019-03-15 福建福晶科技股份有限公司 一种深紫外耦合偏振棱镜
JPWO2022091686A1 (ja) * 2020-10-30 2022-05-05

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11354432A (ja) * 1998-05-28 1999-12-24 Korea Electronics Telecommun 透光性複屈折光学部品を使用した露光装置
JP2003035822A (ja) * 2001-05-22 2003-02-07 Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technologies Ag 偏光器および偏光器を備えたマイクロリソグラフィー投影システム
JP2003227812A (ja) * 2002-02-01 2003-08-15 Hitachi Electronics Eng Co Ltd 電気泳動装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11354432A (ja) * 1998-05-28 1999-12-24 Korea Electronics Telecommun 透光性複屈折光学部品を使用した露光装置
JP2003035822A (ja) * 2001-05-22 2003-02-07 Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technologies Ag 偏光器および偏光器を備えたマイクロリソグラフィー投影システム
JP2003227812A (ja) * 2002-02-01 2003-08-15 Hitachi Electronics Eng Co Ltd 電気泳動装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015532465A (ja) * 2012-10-10 2015-11-09 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. マーク位置測定装置及び方法、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法
US9551939B2 (en) 2012-10-10 2017-01-24 Asml Netherlands B.V. Mark position measuring apparatus and method, lithographic apparatus and device manufacturing method
CN109471214A (zh) * 2018-12-18 2019-03-15 福建福晶科技股份有限公司 一种深紫外耦合偏振棱镜
JPWO2022091686A1 (ja) * 2020-10-30 2022-05-05
JP7193196B2 (ja) 2020-10-30 2022-12-20 フェニックス電機株式会社 配向膜露光装置用の測定機構、および配向膜露光装置の調整方法

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