JP2007220336A - 加熱体、及び、その加熱体を備える加熱装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】被加熱材Pを可撓性部材2を介して加熱する加熱装置107に用いられる加熱体であって、基板と、前記基板の基板面上に形成された発熱体と、前記基板7面上に形成され前記可撓性部材が接触しつつ移動するガラスコート層8の熱伝導率が2W/m・K以上であり、前記ガラスコート層の表面粗さが十点平均粗さRzで0.7μm以上1.4μm以下である。
【選択図】図1
Description
前記ガラスコート層の熱伝導率が2W/m・K以上であり、前記ガラスコート層の表面粗さが十点平均粗さRzで0.7μm以上1.4μm以下であることを特徴とする加熱体である。
前記加熱体の前記ガラスコート層の熱伝導率が2W/m・K以上であり、前記ガラスコート層の表面粗さが十点平均粗さRzで0.7μm以上1.4μm以下であることを特徴とする加熱装置である。
図5は本発明に係る加熱体を備える加熱装置を画像加熱定着装置として搭載できる画像形成装置の一例の構成模型図である。
給紙スタート信号に基づいて給紙ローラ108が駆動されて給紙カセット109内の記録材Pが一枚ずつ分離給紙される。この記録材Pは、搬送ローラ110、レジストローラ111等を含むシートパス112を通って、感光体ドラム101と接触型・回転型の転写部材としての転写ローラ106との当接ニップ部である転写部位に所定のタイミングで導入される。すなわち、感光体ドラム101上のトナー像の先端部が転写部位に到達したとき、記録材Pの先端部もちょうど転写部位に到達するタイミングとなるようにレジストローラ111で記録材Pの搬送が制御される。
図3はフィルム加熱方式の定着装置の一例の要部の構成模型図である。図4は同装置の要部の斜視模型図である。
次に、本実施例における加熱体3について説明する。
図3、4において、加圧ローラ4は回転駆動系Mにより矢印方向に所定の周速度で回転される。
この加圧ローラ4の回転により、ニップ部Nにおける加圧ローラ4とフィルム2表面との摩擦力でフィルム2に回転力が作用する。この回転力によりフィルム2はその内面側がニップ部Nにおいて加熱体3の表面に密着して摺動しながらステー1の外回りを矢印方向に加圧ローラ4の回転周速度とほぼ同じ周速度で従動回転状態になる。
そして、記録材Pがフィルム2と一緒にニップ部Nを挟持搬送されることにより加熱体3の熱がフィルム2を介して記録材Pに付与され、記録材P上の未定着トナー像Tが記録材P面に加熱定着される。ニップ部Nを通った記録材Pはフィルム2表面から分離されて搬送される。
本実施例では、ガラスコート層8の熱伝導率を向上させるために、ガラスに酸化アルミニウムをフィラーとして含有させている。ガラス自体の熱伝導率は約1W/m・K、酸化アルミニウムフィラーの熱伝導率は約20W/m・Kとした。発熱体6と導電パターン14を基板7上に形成した後に、酸化アルミニウムフィラーを含有させたガラスペーストをスクリーン印刷により、基板7上に形成し乾燥・焼成する。本実施例では、酸化アルミニウムフィラーの量を調整し、ガラスコート層8全体の熱伝導率が2.0〜2.4W/m・Kになるようにしている。
・熱伝導率が2W/m・K以上
・表面粗さがRzで0.7μm以上1.4μm以下
上記構成のガラスコート層8を基板7表面に有する加熱体3を定着装置107に用いることで、フィルム2に対し熱効率の向上と摺動性の確保を両立できる。そのため、定着装置107において、熱効率向上による高速化対応とスリップ防止による信頼性向上とを両立することができる。
・熱伝導率が2W/m・K以上
・表面粗さがRzで0.7μm以上1.4μm以下
したがって、上記構成のガラスコート層19を基板20表面に有する加熱体3を定着装置107に用いることで、実施例1と同じ効果を得ることができる。
〔その他〕
本発明に係る加熱体を備える加熱装置は、実施例の画像加熱定着装置に限られず、未定着画像を記録材に仮定着する仮定着装置、定着画像を担持した記録材を再加熱してつや等の画像表面性を改質する表面改質装置等の加熱装置としても有効である。またその他、例えばシート状被加熱材のシワ除去用の熱プレス装置や、熱ラミネート装置、紙等の被加熱材の含水分を蒸発させる加熱乾燥装置など、シート状被加熱材を加熱処理する加熱装置として用いても有効であることは勿論である。
8・19‥‥ガラスコート層、4‥‥加圧ローラ、107‥‥定着装置、N‥‥ニップ部
P‥‥記録材
Claims (6)
- 被加熱材を可撓性部材を介して加熱する加熱装置に用いられる加熱体であって、基板と、前記基板の基板面上に形成された発熱体と、前記基板面上に形成され前記可撓性部材が接触しつつ移動するガラスコート層と、を有する加熱体において、
前記ガラスコート層の熱伝導率が2W/m・K以上であり、前記ガラスコート層の表面粗さが十点平均粗さRzで0.7μm以上1.4μm以下であることを特徴とする加熱体。 - 前記ガラスコート層は主成分であるガラスよりも熱伝導率が高いフィラーを含有していることを特徴とする請求項1に記載の加熱体。
- 前記基板は主成分がセラミックスであることを特徴とする請求項1または2に記載の加熱体。
- 前記基板は主成分が酸化アルミニウムであり、前記発熱体は前記基板の前記ガラスコート層側の基板面上に形成されて前記ガラスコート層により覆われていることを特徴とする請求項1から3の何れか1項に記載の加熱体。
- 前記基板は主成分が窒化アルミニウムであり、前記発熱体は前記基板の前記ガラスコート層側と反対側の基板面上に形成されていることを特徴とする請求項1から3の何れか1項に記載の加熱体。
- 基板と、前記基板の基板面上に形成された発熱体と、前記基板面上に形成されたガラスコート層と、を有する加熱体と、前記ガラスコート層と接触しつつ移動する可撓性部材と、前記可撓性部材を挟んで前記加熱体とニップ部を形成する加圧部材と、を有し、前記ニップ部で被加熱材を挟持搬送しつつ加熱する加熱装置において、
前記加熱体の前記ガラスコート層の熱伝導率が2W/m・K以上であり、前記ガラスコート層の表面粗さが十点平均粗さRzで0.7μm以上1.4μm以下であることを特徴とする加熱装置。
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JP2006036465A JP2007220336A (ja) | 2006-02-14 | 2006-02-14 | 加熱体、及び、その加熱体を備える加熱装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2006
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