JP2007214539A - 基板搬送装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】従来の基板搬送装置において、応力のばらつきによってガラス基板が割れたり搬送装置自身が長時間にわたり作動し続けることができないという問題点を解決して、リニア走行の技術を用いて磁性の吸引力と反発力によって搬送装置を設計して、ガラス基板の大型化による問題点を解決する基板搬送装置を提供する。
【解決手段】基板搬送装置において、両側に異なる複数の磁性固定の第1磁気ブロックが交互に配置されるキャリアと、両側に2組の磁性可変の第2磁気ブロックが基板の幅より大きく配置されるレールとを含み、前記第1磁気ブロックと前記第2磁気ブロックの間の反発力によって前記キャリアを前記レールの上に浮かせる。
【選択図】図2
【解決手段】基板搬送装置において、両側に異なる複数の磁性固定の第1磁気ブロックが交互に配置されるキャリアと、両側に2組の磁性可変の第2磁気ブロックが基板の幅より大きく配置されるレールとを含み、前記第1磁気ブロックと前記第2磁気ブロックの間の反発力によって前記キャリアを前記レールの上に浮かせる。
【選択図】図2
Description
本発明は寸法の大きい基板を搬送する基板搬送装置に関する。
近年、フラットディスプレイ(例えば液晶ディスプレイやOLEDディスプレイ)のコストを抑えるために、ガラス基板を大型化して、最も経済的な方式で切断することが考えられた。しかしながら、ガラス基板は寸法が大型化し重量が増加したが、厚みが薄くなって、脆く割れやすくなってしまった。このような基板を搬送するには基板の搬送にとって更なる課題となる。
図1は生産プロセスに応じて基板を積載して前後方向に搬送したり揺らしたりする従来の基板搬送装置の構成を示す平面図である。搬送装置100はモータ102、ギア104及びシャフト106からなり、モータ102はギア104によってシャフト106を時計回りか逆時計回り方向に回転させる。シャフト106の両側に支持部108が設けられ、搬送装置100は支持部108によって、基板110(ガラス基板)を支持する。モータ102の回転によってシャフト106が時計回り方向に回転するときは、支持部108に支持されている基板110を片方向に搬送することができる。逆にモータ102の回転によってシャフト106が逆時計回り方向に回転するときは、支持部108に支持されている基板110を逆の方向に搬送することができる。また、モータ102が瞬間的に回転方向を変える場合は、支持部108に支持されてる基板110を揺らすことができる。
しかしながら、基板110は寸法が大きくなるに従って、従来の搬送装置100の欠点が浮かび上がる。搬送装置100は基板110と支持部108の間の摩擦力によって基板110を移動したり揺らしたりするので、基板110の寸法が増加すると重量が増加し、基板を移動したり揺らしたりするときに、応力のばらつきや過重な重量によって、従来のシャフト式の搬送装置にとって過重な負担になって、長期間に作動できない恐れがあった。
例えば、応力のばらつきによって割れやすい大きい寸法のガラス基板を用いてディスプレイパネルを生産する場合は、生産プロセスに応じてシャフト式の基板搬送装置の各パーツを大きくする必要があるが、パーツは寸法が大きくなるに従って重量も重くなる。それらのパーツが自身の重量で変形や磨耗によって損傷して搬送不良に至って、搬送装置を長期に作動させることができない恐れがあった。
そのため、本発明は、従来の基板搬送装置において、応力のばらつきによってガラス基板が割れたり、搬送装置自身が長時間にわたり作動し続けることができないという問題点を解決するため、リニア走行の技術を用いて磁性の吸引力と反発力によって搬送装置を設計して、ガラス基板の大型化による問題点を解決する基板搬送装置を提供することを課題とする。
前記課題を解決するために、本発明は、基板搬送装置において、両側に異なる複数の磁性固定の第1磁気ブロックが交互に配置されるキャリアと、両側に2組の磁性可変の第2磁気ブロックが基板の幅より大きく配置されるレールとを含み、前記第1磁気ブロックと前記第2磁気ブロックの間の反発力によって前記キャリアを前記レールの上に浮かせることを特徴とする基板搬送装置を提供する。
また、前記磁性可変の第2磁気ブロックの磁性は前記キャリアを所定の方向に加速,減速,等速,往復移動させる動作や停止させることを特徴とする。
また、前記第1磁気ブロックは、磁性がN極の第1磁気ブロックと、S極の第1磁気ブロックとを含むことを特徴とする。
また、前記N極の第1磁気ブロックと前記S極の第1磁気ブロックは交互に配置されることを特徴とする。
また、前記第2磁気ブロックは、磁性がN極の第2磁気ブロックと、S極の第2磁気ブロックとを含むことを特徴とする。
また、前記N極の第2磁気ブロックと前記S極の第2磁気ブロックは交互に配置されることを特徴とする。
また、複数の前記N極の第2磁気ブロックと単一の前記S極の第2磁気ブロックは交互に配置されることを特徴とする。
また、複数の前記S極の第2磁気ブロックと単一の前記N極の第2磁気ブロックは交互に配置されることを特徴とする。
また、複数の前記S極の第2磁気ブロックと複数の前記N極の第2磁気ブロックは交互に配置されることを特徴とする。
また、前記キャリアは複数の貫通穴を有し、さらに前記貫通穴に対応して複数の突起が設けられる突上げ台座が前記キャリアの下に設けられることを特徴とする。
また、前記突起の形状は針状、ブロック状、ストライプ状のいずれかであることを特徴とする。
これにより、従来の基板搬送装置は、基板がシャフトに設けられる支持部によって支持されて、ギアによってモータからの駆動力が伝達されて、特に基板を前後方向に揺らす場合は、不規則の振動の発生が避けられないため、ガラス基板上の薬液(例えば現像プロセスにおいて用いられる現像剤)の分布にばらつきが発生して、後の露光プロセスにおいてフォトレジストのパターンの成形に影響を及ぼしていたが、本発明に係る基板搬送装置によれば、機械的な不規則の振動が発生しないため、薬液の分布にばらつきなく、生産プロセスをスムーズに進行することができる。
本発明に係る基板搬送装置であれば、キャリアの下の磁力システム(2組の磁性可変の第2磁気ブロックを有するレール)による反発力及び基板とキャリア自身の重量によって垂直方向のつりあいを取り、第2磁気ブロックの磁性によってキャリアを所定の方向に加速,減速,等速,往復移動する動作をさせたり停止させたりして、基板をスムーズに各プロセスに搬送して生産を進行させることができる。
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。
図2は本発明に係る基板搬送装置の実施形態の側面図である。ガラス基板搬送装置200はガラス基板210を支持するキャリア202及びレール208から構成される。キャリア202の下には異なる磁性の磁性固定の磁気ブロック204,206が交互に配置される。本実施形態において、磁気ブロック204は磁性がN極で磁気ブロック206は磁性がS極であるが、勿論、逆にしてもよい。レール208には磁性可変の磁気ブロック212,214が配置される。磁気ブロック212,214は異なる磁性を有することができる。
図2は本発明に係る基板搬送装置の実施形態の側面図である。ガラス基板搬送装置200はガラス基板210を支持するキャリア202及びレール208から構成される。キャリア202の下には異なる磁性の磁性固定の磁気ブロック204,206が交互に配置される。本実施形態において、磁気ブロック204は磁性がN極で磁気ブロック206は磁性がS極であるが、勿論、逆にしてもよい。レール208には磁性可変の磁気ブロック212,214が配置される。磁気ブロック212,214は異なる磁性を有することができる。
図3は図2のI−I’の間の断面図である。磁気ブロック204はキャリア202の両側に設けられ、磁気ブロック212は、相対の磁気ブロック212の間の幅がキャリア202の幅より広く、キャリア202の外側の下に配置される。このような設計は、磁気ブロック212と磁気ブロック204の間の反発力Fを水平(垂直)面に所定の角度をつけて、反発力Fを水平分力Fxと垂直分力Fyに分解する。垂直分力Fyはキャリア202をレール208の上に浮かせ、水平分力Fxはキャリア202をレール208の上に安定させる役目を果たす。
図4は他の実施形態の異なる磁気ブロックの配置構造を有するレールを示す図である。図4に示すように、磁気ブロック212を二つに分けることができる。磁気ブロック212aと磁気ブロック204の間の反発力Fyはキャリア202をレール208の上に浮かせ、磁気ブロック212bと磁気ブロック204の間の反発力Fxはキャリア202をレール208の上に安定させる。また、上下と左右方向の反発力を発生させて、キャリアを安定してレールの上に浮かせることができるならば、磁気ブロックを他の配置方法でレールに配置することもできる。
図5(A)と図5(B)はレールの磁気ブロックの磁性を変化させて、キャリアを所定の方向に移動させる方法を示す図である。基板210がキャリア202の上に積載され、キャリア202には異なる磁性の磁性固定の磁気ブロック204,206が配置される。本実施形態において、磁気ブロック204は磁性がN極で磁気ブロック206は磁性がS極である。レール208には磁性可変の磁気ブロック212,214が配置される。
まず、図5(A)に示すように、この段階では、磁気ブロック212は磁性がN極で磁気ブロック214は磁性がS極である。磁気ブロック212と磁気ブロック204の間の反発力及び磁気ブロック214と磁気ブロック204の間の吸引力によってキャリア202を矢印の方向に移動させて、同様に、磁気ブロック214と磁気ブロック206の間の反発力及び磁気ブロック212と磁気ブロック206の間の吸引力によってキャリア202を矢印の方向に移動させる。
次に、図5(B)に示すように、キャリア202の磁気ブロック204,206が移動して磁気ブロック212,214を通過するときに、磁気ブロック212,214は磁性が変化して、磁気ブロック212は磁性がS極に、磁気ブロック214は磁性がN極になる。このときに、磁気ブロック214と磁気ブロック204の間の反発力及び磁気ブロック212と磁気ブロック204の間の吸引力によってキャリア202を矢印の方向に移動させて、同様に、磁気ブロック212と磁気ブロック206の間の反発力及び磁気ブロック214と磁気ブロック206の間の吸引力によってキャリア202を矢印の方向に移動させる。
図5(A)に示す矢印の方向に移動中のキャリア202を減速させる場合は、図5(A)に示す磁気ブロック212,214の磁性を交換して、磁気ブロック212と磁気ブロック204の間の吸引力及び磁気ブロック214と磁気ブロック204の間の反発力によってキャリア202を減速させて、停止させることもできる。
また、図5(A)に示すように、磁気ブロック212,214に所定の磁性を加えて磁力を提供する場合は、キャリア202は再び矢印の方向に加速して移動することができる。前記操作を繰り返して操作するとキャリア202がレール208の上に往復移動することになる。
また、キャリア202が所定の速度で移動中に、磁気ブロック212,214を同時に同じ磁性に変化させて、キャリア202を磁力でレール208の上に浮かせると、キャリア202とレール208の間に摩擦力がないため、キャリア202はそのままレール208に沿って等速移動することができる。
図6(A)と図6(B)は基板をキャリアの表面に積載/キャリアから取り去るための装置を示す図である。図6(A)に示すように、複数の突起218を有する突上げ台座216はキャリア202の下に設けられる。突起218はキャリア202の貫通穴220を貫通してキャリア202の表面に突出することができる。
ロボット(図示せず)が積載ラックから基板210を取り出してキャリア202に積載する時に、突上げ台座216が上昇して、突上げ台座216の突起218がキャリア202の貫通穴220を通ってキャリア202の表面から突出し、基板210が突起218の上に置かれる。図6(B)に示すように、突上げ台座216を降下させ、突起218の頂点がキャリア202の表面より低く降下したときに、基板210はキャリア202の表面にのせられる。突上げ台座216は突起218が完全に貫通穴220から離れるまで降下する。
基板210をキャリア202から取り去る場合は、突上げ台座216を上昇させ、突起218をキャリア202の貫通穴220を通ってキャリア202の表面から突出させて、基板210を突き上げる。そして、ロボットによって基板210が所定の場所に搬送される。突起218は針状、ブロック状、ストライプ状のいずれかでもよく、貫通穴220は突起218の形状に対応する大きさや突起218より大きくてもよい。
本発明に係る基板搬送装置によれば、ガラス基板全面がキャリアに積載され、キャリアによってガラス基板の応力が均一に保たれるため、応力のばらつきでガラス基板が割れることはない。キャリアは磁力によってレールの上に浮き、遠隔力でレールの上に支持されるため、従来の接触力(摩擦力)によって搬送する搬送装置において存在するパーツの磨耗による損傷の問題を解決することができ、たとえガラス基板の重量が増加しても本発明に係る基板搬送装置にとって支障にならない。
本発明では好適な実施形態を前述の通り開示したが、これは決して本発明を限定するものではなく、当該分野の技術を熟知しているものであれば、本発明の精神と領域を離脱しない範囲内で、多様の変動や修正を加えることができ、例えば磁気ブロックの配置位置を調節したり、異なる磁力強度の異なる磁気ブロックを用いたりすることによって、キャリアを所定の方式で移動させることができる。また、前記実施形態はガラス基板を例として本発明の応用例を説明したが、他のいかなる基板でも本発明に係る基板搬送装置を適用することができる。従って本発明の保護範囲は、特許請求の範囲で指定した内容を基準とする。
100,200…搬送装置
102…モータ
104…ギア
106…シャフト
108…支持部
110,210…基板
202…キャリア
204,206,212,212a,212b,214…磁気ブロック
208…レール
216…上げ台座
218…突起
220…貫通穴
102…モータ
104…ギア
106…シャフト
108…支持部
110,210…基板
202…キャリア
204,206,212,212a,212b,214…磁気ブロック
208…レール
216…上げ台座
218…突起
220…貫通穴
Claims (11)
- 基板搬送装置において、
両側に異なる複数の磁性固定の第1磁気ブロックが交互に配置されるキャリアと、両側に2組の磁性可変の第2磁気ブロックが基板の幅より大きく配置されるレールとを含み、前記第1磁気ブロックと前記第2磁気ブロックの間の反発力によって前記キャリアを前記レールの上に浮かせることを特徴とする基板搬送装置。 - 請求項1に記載の基板搬送装置において、前記磁性可変の第2磁気ブロックの磁性は前記キャリアを所定の方向に加速,減速,等速,往復移動させる動作や停止させることを特徴とする基板搬送装置。
- 請求項1に記載の基板搬送装置において、前記第1磁気ブロックは、磁性がN極の第1磁気ブロックと、S極の第1磁気ブロックとを含むことを特徴とする基板搬送装置。
- 請求項3に記載の基板搬送装置において、前記N極の第1磁気ブロックと前記S極の第1磁気ブロックは交互に配置されることを特徴とする基板搬送装置。
- 請求項1に記載の基板搬送装置において、前記第2磁気ブロックは、磁性がN極の第2磁気ブロックと、S極の第2磁気ブロックとを含むことを特徴とする基板搬送装置。
- 請求項5に記載の基板搬送装置において、前記N極の第2磁気ブロックと前記S極の第2磁気ブロックは交互に配置されることを特徴とする基板搬送装置。
- 請求項5に記載の基板搬送装置において、複数の前記N極の第2磁気ブロックと単一の前記S極の第2磁気ブロックは交互に配置されることを特徴とする基板搬送装置。
- 請求項5に記載の基板搬送装置において、複数の前記S極の第2磁気ブロックと単一の前記N極の第2磁気ブロックは交互に配置されることを特徴とする基板搬送装置。
- 請求項5に記載の基板搬送装置において、複数の前記S極の第2磁気ブロックと複数の前記N極の第2磁気ブロックは交互に配置されることを特徴とする基板搬送装置。
- 請求項1に記載の基板搬送装置において、前記キャリアは複数の貫通穴を有し、さらに前記貫通穴に対応して複数の突起が設けられる突上げ台座が前記キャリアの下に設けられることを特徴とする基板搬送装置。
- 請求項10に記載の基板搬送装置において、前記突起の形状は針状、ブロック状、ストライプ状のいずれかであることを特徴とする基板搬送装置。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW095104449A TWI314129B (en) | 2006-02-09 | 2006-02-09 | Substrate delivery apparatus |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007214539A true JP2007214539A (ja) | 2007-08-23 |
Family
ID=38492662
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006315345A Pending JP2007214539A (ja) | 2006-02-09 | 2006-11-22 | 基板搬送装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007214539A (ja) |
KR (1) | KR20070081068A (ja) |
TW (1) | TWI314129B (ja) |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI314129B (en) | 2009-09-01 |
KR20070081068A (ko) | 2007-08-14 |
TW200730419A (en) | 2007-08-16 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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