JP2007214408A - ガラス基板端部のレジスト除去方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ガラス基板40の端部と対向する治具55の部位に、捻じり振動子の円筒形ホーン20を端部の辺と平行に設けて、A)スリット内に処理液を充填させた後、端部を処理液貯留部51に位置させる前に、円筒形ホーンから超音波を処理液に照射し気泡を押し出すこと。B)スリット内に処理液を充填させ、端部を処理液貯留部に位置させた後、端部に処理液を接触させた状態で、円筒形ホーンから超音波を端部の塗布膜に照射し塗布膜を溶解除去すること。
【選択図】図2
Description
この表示装置に用いるカラーフィルタは、多くの場合、カラーフィルタは画素として形成されて使用される。この表示装置に用いるカラーフィルタの画素を形成する方法としては、フォトリソグラフィ法が広く用いられている。
図8、及び図9に示すように、液晶表示装置に用いるカラーフィルタは、ガラス基板(40)上にブラックマトリックス(41)、着色画素(42)、及び透明導電膜(43)が順次に形成されたものである。
図8、及び図9はカラーフィルタを模式的に示したもので、着色画素(42)は12個表されているが、実際のカラーフィルタにおいては、例えば、対角17インチの画面に数百μm程度の着色画素が多数個配列されている。
ブラックマトリックス(41)は、遮光性を有するマトリックス状のものであり、着色画素(42)は、例えば、赤色、緑色、青色のフィルタ機能を有するものであり、透明導電膜(43)は、透明な電極として設けられたものである。
たガラス基板上に、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)を用いスパッタ法によって透明導電膜を形成するといった方法がとられている。
すなわち、一例として示す液晶表示装置に用いるカラーフィルタにおいては、透明導電膜を除きフォトリソグラフィ法によって画素として形成されている。
、フォトレジストを延展し、塗布膜の膜厚を定め乾燥するものである。この塗布方法は、スピンコータのみによる塗布方法に比較し、ガラス基板の中央部への十分に過剰なフォトレジストの吐出は必要なくなり、また、形成した塗布膜の膜厚の均一性は向上したものとなる。
図5(ロ)、(ハ)に示すように、ガラス基板(40)上のフォトレジストの塗布膜(2)は、ガラス基板(40)の端部(6)において、その膜厚が他の部分より厚くなる。また、ガラス基板(40)の端面(7)においても、フォトレジストが塗布されてしまう。図5の符号(4)は、端面に塗布された塗布膜の状態を示したものである。
従って、現像処理後にはレジストビーズは残存しないように、例えば、フォトレジストがガラス基板上に塗布され、予備乾燥処理が施された直後において、ガラス基板の端部のレジストビーズを溶解して除去する方法が採用されている。
ガラス基板(40)の端部を処理液に接触させた状態で、ガラス基板(40)は、図6中、紙面垂直方向に揺動し、端部のレジストビーズ(3)や端面部に塗布された塗布膜(4)の溶解を助長する。
て、ガラス基板(40)の端部の表裏を洗浄、乾燥する。
ガラス基板(40)の端部の塗布膜を溶解した処理液、端部を洗浄、乾燥した純水及びクリーンエアーは、実線及び点線で示すように外部へ廃液として排出される。
尚、本願における上記揺動とは、ガラス基板(40)の前後方向、すなわち、図6中、紙面垂直方向への水平なガラス基板の往復運動を指している。
このピンホール(9)は、塗布膜が欠落し、ガラス基板が露出した小孔であるが、この状態の塗布膜(2)に、例えば、着色画素を形成すると、ピンホールの存在した着色画素が形成されてしまうといった問題になる。
例えば、ブラックマトリクスのパターンに位置合わせをして着色画素を形成する際に、位置合わせの基準マークは、この端面処理が施された幅(W1)の領域にあるので、仮に、この位置合わせの基準マーク上にレジスト残り(8)が発生した場合には、着色画素の位置合わせを正常に行うことが困難になってしまうといった問題である。
1)前記ガラス基板の端部が処理液貯留部に位置した際に該端部の塗布膜と対向する前記治具の部位に、ガラス基板の端部の辺長より長い円筒形ホーンを有する捻じり振動子の該円筒形ホーンを、ガラス基板の端部の辺と平行に設けて、
2)前記スリット内に処理液を充填させた後、ガラス基板の端部を処理液貯留部に位置させる前に、円筒形ホーンから超音波を処理液貯留部内の処理液に照射し該処理液内の気泡を押し出すことを特徴とするガラス基板端部のレジスト除去方法である。
1)前記ガラス基板の端部が処理液貯留部に位置した際に該端部の塗布膜と対向する前記治具の部位に、ガラス基板の端部の辺長より長い円筒形ホーンを有する捻じり振動子の該円筒形ホーンを、ガラス基板の端部の辺と平行に設けて、
2)前記スリット内に処理液を充填させ、ガラス基板の端部を処理液貯留部に位置させた後、ガラス基板の端部に処理液を接触させた状態で、円筒形ホーンから超音波をガラス基板の端部の塗布膜に照射し該塗布膜を溶解除去することを特徴とするガラス基板端部のレジスト除去方法である。
とを特徴とするガラス基板端部のレジスト除去方法である。
本発明者は、前記端部レジスト除去装置を用いて、ガラス基板(40)の端部への端面処理を施すと、ガラス基板(40)上の選択的に溶解除去されなかった部分の塗布膜(2)にピンホール(9)が発生する原因を精査した結果、処理液を充填させた処理液貯留部(51)にガラス基板(40)の端部を位置させて、端部の塗布膜を溶解する際に、端部が処理液に接触した瞬間に発生する処理液の飛散によることを突き止めた。
本発明者は、このような処理液貯留部(51)に充填された処理液内の気泡を短時間で処理液から排出するには、超音波、特に、捻じり振動子による超音波を処理液に照射することが有効であることを見出し、本発明における第一の発明をするに至った。
理ヘッド部(50)内に捻じり振動子の円筒形ホーン(20)を設けたものである。円筒形ホーン(20)は、ガラス基板(40)の端部が処理液貯留部(51)に位置した際に、端部の塗布膜が処理液を介して対向する治具(55)の部位、すなわち、端部上面の稜線近傍に対向する部位に設けられている。
そして、ガラス基板(40)の端部の辺長より長い円筒形ホーン(20)が、該辺と平行(図1及び図2中、紙面垂直方向)に設けられている。
図3に示すように、処理ヘッド部(10)内にはガラス基板(40)の端部の辺長(x)よりも、長さ(L)の長い円筒形ホーン(20)が、端部の辺と平行に設けられている。これは、ガラス基板(40)の端部が接触する処理液の全域にわたる気泡を超音波によって効果的に押し出すためである。
このガラス基板(40)の揺動幅(W2)は、20mm程度のものである。尚、図3にては、説明上すべて実線で表している。
推定される原因としては、例えば、1)フォトレジストのロット間におけるガラス基板への密着性の相違、2)フォトレジストの経時によるゲル化に伴う密着性の変化、3)各処理条件の変動などがあげられる。
また、図4に示すように、曲面からの超音波は、ガラス基板(40)の表面、及び治具(55)の表面で反射され、図4中左方へと伝達するので、溶解途上の塗布膜を外部に向けて移動させる作用も有している。
これにより、ガラス基板(40)の端部の全域にわたり、レジスト残り(8)の発生を短時間で効果的に溶解除去することが可能となる。
次に、スリット内に処理液を流量0.8l/minで供給して充填した。処理液が充填された段階(C)で、捻じり振動子の円筒形ホーン(20)から超音波を処理液貯留部(51)の処理液に照射し、処理液内の気泡を押し出した。
図1は、処理ヘッド部(10)が第二待機位置(B)まで移動した段階で、処理液貯留部(51)の処理液に超音波を照射し、気泡を押し出す状態を示したものである。
次に、処理液は処理液貯留部(51)に貯留させ、ガラス基板(40)の端部を処理液貯留部(51)に位置させて処理液を接触させた状態で、捻じり振動子の円筒形ホーン(20)から超音波を処理液貯留部(51)内の端部の塗布膜に照射し、また同時にガラス基板(40)を揺動させて塗布膜を溶解除去した。
ガラス基板(40)の揺動は、揺動幅20mm、1往復1秒の速度で、超音波の照射と同一の4秒間を与えた(表1中、E〜F)。
3・・・レジストビーズ
4・・・端面に塗布された塗布膜
6・・・ガラス基板の端部
7・・・ガラス基板の端面
8・・・レジスト残り
9・・・ピンホール
10・・・本発明における処理ヘッド部
20・・・円筒形ホーン
21・・・捻じり振動子
40・・・ガラス基板
41・・・ブラックマトリックス
41A・・・マトリックス部
41B・・・額縁部
42・・・着色画素
43・・・透明導電膜
50・・・処理ヘッド部
51・・・処理液貯留部
52・・・処理液パイプ
53A、53B・・・純水パイプ
54A、54B・・・エアーパイプ
55・・・コの字状の治具
A・・・第一待機位置
B・・・第二待機位置
C・・・スリット内に処理液を充填された段階
C〜D・・・気泡を押し出す超音波の照射
E・・・ガラス基板の端部を処理液貯留部に位置させた段階
E〜F・・・塗布膜を溶解除去する超音波の照射
L・・・円筒形ホーンの長さ
S・・・ガラス基板の端部の稜線
W1・・・端面処理により溶解除去されるガラス基板の端部の幅
W2・・・ガラス基板の揺動幅
x・・・ガラス基板の端部の辺長
y・・・ガラス基板の幅方向
Claims (5)
- フォトレジストの塗布膜が設けられたガラス基板の厚みよりやや大きめのスリットを有するコの字状の治具を用い、該塗布膜を溶解する処理液を該スリット内に充填させて処理液貯留部とし、前記ガラス基板の端部を該処理液貯留部に位置させてガラス基板の端部に処理液を接触させ、該端部の塗布膜を選択的に溶解除去する端面処理方法において、
1)前記ガラス基板の端部が処理液貯留部に位置した際に該端部の塗布膜と対向する前記治具の部位に、ガラス基板の端部の辺長より長い円筒形ホーンを有する捻じり振動子の該円筒形ホーンを、ガラス基板の端部の辺と平行に設けて、
2)前記スリット内に処理液を充填させた後、ガラス基板の端部を処理液貯留部に位置させる前に、円筒形ホーンから超音波を処理液貯留部内の処理液に照射し該処理液内の気泡を押し出すことを特徴とするガラス基板端部のレジスト除去方法。 - 前記円筒形ホーンの長さが、ガラス基板の端部の辺長にガラス基板の揺動幅を加算した長さより長いことを特徴とする請求項1記載のガラス基板端部のレジスト除去方法。
- フォトレジストの塗布膜が設けられたガラス基板の厚みよりやや大きめのスリットを有するコの字状の治具を用い、該塗布膜を溶解する処理液を該スリット内に充填させて処理液貯留部とし、前記ガラス基板の端部を該処理液貯留部に位置させてガラス基板の端部に処理液を接触させ、該端部の塗布膜を選択的に溶解除去する端面処理方法において、
1)前記ガラス基板の端部が処理液貯留部に位置した際に該端部の塗布膜と対向する前記治具の部位に、ガラス基板の端部の辺長より長い円筒形ホーンを有する捻じり振動子の該円筒形ホーンを、ガラス基板の端部の辺と平行に設けて、
2)前記スリット内に処理液を充填させ、ガラス基板の端部を処理液貯留部に位置させた後、ガラス基板の端部に処理液を接触させた状態で、円筒形ホーンから超音波をガラス基板の端部の塗布膜に照射し該塗布膜を溶解除去することを特徴とするガラス基板端部のレジスト除去方法。 - 前記円筒形ホーンの長さが、ガラス基板の端部の辺長にガラス基板の揺動幅を加算した長さより長いことを特徴とする請求項3記載のガラス基板端部のレジスト除去方法。
- 請求項1又は請求項2記載のガラス基板端部のレジスト除去方法より前記処理液内の気泡を押し出し、続いて請求項3又は請求項4記載のガラス基板端部のレジスト除去方法より前記ガラス基板の端部の塗布膜を溶解除去することを特徴とするガラス基板端部のレジスト除去方法。
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