JP2007206461A - 重合性化合物、液晶性組成物、重合体、光記録媒体用フィルタ、光記録媒体、並びに、光記録方法及び光再生方法 - Google Patents

Abstract

【課題】光学活性化合物の作用によりコレステリック相を形成できる重合性化合物、液晶性組成物及びその重合体、フィルタ、光記録媒体、並びに、光記録方法及び光再生方法の提供。
【解決手段】下記一般式（１）で表される。

ただし、前記一般式（１）中、Ａｒ^１〜Ａｒ^４は、１，４−フェニレン基等の置換基を表す。Ｚ^１及びＺ^２はそれぞれ独立に結合を表す。ｍ及びｎは、０及び１の整数を表す。 また、Ａ^１及びＡ^２は特定の置換基を表す。
【選択図】なし

Description

本発明は光重合架橋性を有する重合性化合物、それを含有する液晶性組成物及びその重合体に関し、特に、架橋状態において光学構成成分、パターニングされた構造体、又は光記録媒体構成成分として使用できる液晶性組成物に関する。
また本発明は、今までにない高密度画像記録が可能なホログラム型の光記録媒体における波長選択反射膜として好適に用いられる光記録媒体用フィルタ、光記録媒体、並びに、該光記録媒体を用いた光記録方法及び光再生方法に関する。

高密度画像データ等の大容量の情報を書き込み可能な記録媒体の一つとして光記録媒体が挙げられる。この光記録媒体としては、例えば、光磁気ディスク、相変化型光ディスク等の書換型光記録媒体やＣＤ−Ｒ等の追記型光記録媒体については既に実用化されているが、光記録媒体の更なる大容量化に対する要求は高まる一方である。しかし、従来より提案されている光記録媒体は全て二次元記録であり、記録容量の増大化には限界があった。そこで、近時、三次元的に情報を記録可能なホログラム型の光記録媒体が注目されている。

前記ホログラム型光記録媒体は、一般に、二次元的な強度分布が与えられた情報光と、該情報光と強度がほぼ一定な参照光とを感光性の記録層内部で重ね合わせ、それらが形成する干渉パターンを利用して記録層内部に光学特性の分布を生じさせることにより、情報を記録する。一方、書き込んだ情報を読み出す（再生する）際には、記録時と同様の配置で参照光のみを記録層に照射し、記録層内部に形成された光学特性分布に対応した強度分布を有する再生光として記録層から出射される。
このホログラム型光記録媒体では、記録層内に光学特性分布が三次元的に形成されるので、一の情報光により情報が書き込まれた領域と、他の情報光により情報が書き込まれた領域とを部分的に重ね合わせること、即ち多重記録が可能である。デジタルボリュームホログラフィを利用した場合には、１スポットの信号対雑音比（ＳＮ比）は極めて高くなるので、重ね書きによりＳＮ比が多少低くなっても元の情報を忠実に再現できる。その結果、多重記録回数が数百回までに及び、光記録媒体の記録容量を著しく増大させることができる（特許文献１参照）。

このようなホログラム型の光記録媒体としては、例えば、図１に示すように、第二の基板１表面にサーボピットパターン３を設け、このサーボピットパターン表面にアルミニウム等からなる反射膜２と、この反射膜上に記録層４と、この記録層上に第一の基板５とを有するものが提案されている（特許文献２参照）。

しかし、図１に示す構成の光記録媒体２０では、サーボゾーンと記録ゾーンとが面内で分かれており、その分、記録密度が半減してしまうという問題がある。
このため、特許文献３では、情報光及び参照光として円偏光を用い、記録層と反射膜との間に、フィルタ層としてのコレステリック液晶層又はダイクロイックミラーを設け、記録層とサーボ層を厚み方向に重ねている。この手法により記録密度は倍増する。また、前記フィルタ層として情報光の円偏光と同じ旋回方向を螺旋構造に持つ単層のコレステリック液晶層を用いると、生産性に優れ、光記録媒体を安価に大量生産することができ、垂直入射０°におけるフィルタ効果は良好となる。しかし、この提案では、入射角が変化すると選択反射波長にずれが生じ、入射光が１０°以上傾くと情報光及び参照光がフィルタ層を通過して反射膜まで到達して反射され、ノイズが生じる。このことは、レンズで絞った±１０°以上の通常の光記録媒体におけるレンズ光学系の入射光には使用できないことを意味する。
したがって入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、情報光及び参照光による光記録媒体の反射膜からの乱反射を防止し、ノイズの発生を防止することが可能なホログラム型の光記録媒体を効率よく低コストに大量生産することは未だ実現されておらず、その速やかな提供が望まれているのが現状である。

このような問題を解決するためにはコレステリック液晶の選択反射波長幅を広げることが有効と考えられている（特許文献４参照）。コレステリック液晶の選択反射波長幅Δλは、下記数式１で表され、（ｎｅ−ｎｏ）、すなわちΔｎを大きくすればΔλを上げられる事が分かる。
＜数式１＞
Δλ＝２λ・（ｎｅ−ｎｏ）／（ｎｅ＋ｎｏ）
ただし、前記数式１中、ｎｏは、コレステリック液晶層に含有される液晶分子の正常光に対する屈折率を表す。ｎｅは、該液晶分子の異常光に対する屈折率を表す。λは、選択反射の中心波長を表す。
しかしながら、Δｎを大きくすると、配向特性、液晶温度などの液晶としての他の機能が損なわれことが多かった。
Δｎの大きい液晶化合物としてＭＢＢＡに代表されるアゾメチン構造を有するものが知られている。（非特許文献１参照）しかしながら、この用途にとっては液晶の流動性が不具合となるため、これを固体化することが必要である。このための一手段として二官能以上のモノマー化によりネットワーク構造を形成することが知られているが、このような化合物ではスメクチック相をとりやすく（非特許文献２参照）、二官能以上の重合性基とアゾメチン構造を有し、キラル剤（光学活性化合物）の作用によりコレステリック相を形成する液晶化合物は、知られていなかった。

特開２００２−１２３９４９号公報 特開平１１−３１１９３６号公報 特開２００４−２６５４７２号公報 特開２００４−２１９５５９号公報 Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，３４，６５（１９７６） Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．Ｐａｒｔ Ａ，３８，４４６６（２０００）

本発明は、従来における前記問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、光学活性化合物の作用によりコレステリック相を形成できる重合性化合物、該重合性化合物を含む液晶性組成物及びその重合体を提供することを目的とする。
また、前記重合体をコレステリック液晶層として用いたときに、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、情報光及び参照光による光記録媒体の反射膜からの乱反射を防止し、ノイズの発生を防止することが可能な光記録媒体用フィルタ、該光記録媒体用フィルタを用いた今までにない高密度記録可能なホログラム型の光記録媒体、並びに、該光記録媒体を用いた光記録方法及び光再生方法を提供することを目的とする。

前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞ 下記一般式（１）で表されることを特徴とする重合性化合物である。
ただし、前記一般式（１）中、Ａｒ^１、Ａｒ^２、Ａｒ^３、及びＡｒ^４は、それぞれ独立に置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基、及び置換基を有していてもよいナフタレン−２，６−ジ−イル基のいずれかを表す。Ｚ^１及びＺ^２はそれぞれ独立に単結合、−ＣＯＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、及び−Ｃ≡Ｃ−のいずれかを表す。ｍ及びｎは、それぞれ独立に０及び１のいずれかの整数を表す。
また、Ａ^１及びＡ^２はそれぞれ独立に下記一般式（２）で表される置換基、−ＣＨ＝ＣＨ_２、−Ｐ^２、−Ｌ^２−Ｐ^２、及び−Ｘ^２−Ｌ^２−Ｐ^２のいずれかを表し、Ａ^１及びＡ^２の少なくとも一方は、該一般式（２）で表される置換基を表す。該Ｐ^２は、重合性基を表し、該Ｌ^２は、アルキレン基、アルケニレン基、及びアラルキレン基のいずれかを表し、該Ｘ^２は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、及び−ＮＨＣＯ−のいずれかを表す。
ただし、前記一般式（２）中、Ａ^３は−ＣＨ＝ＣＨ_２、−Ｐ^１、−Ｌ^１−Ｐ^１、及び−Ｘ^１−Ｌ^１−Ｐ^１のいずれかを表し、該Ｐ¹は、重合性基を表し、該Ｌ^１は、アルキレン基、アルケニレン基、及びアラルキレン基のいずれかを表し、該Ｘ^１は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、及び−ＮＨＣＯ−のいずれかを表す。Ｙは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、及びアルコキシ基のいずれかを表す。
＜２＞ 一般式（１）中のＡ^１が、一般式（２）で表される置換基である前記＜１＞に記載の重合性化合物である。
＜３＞ 前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の重合性化合物を少なくとも含有することを特徴とする液晶性組成物である。
＜４＞光学活性化合物を含有する前記＜３＞に記載の液晶性組成物である。
＜５＞ 前記３から４のいずれかに記載の液晶性組成物を重合硬化してなることを特徴とする重合体である。
＜６＞ コレステリック液晶重合体である前記＜５＞に記載の重合体である。
＜７＞ コレステリック液晶層を有し、該コレステリック液晶層が、請求項３から４のいずれかに記載の液晶性組成物を用いて形成されたことを特徴とする光記録媒体用フィルタである。
＜８＞ 第一の波長の光を透過し、該第一の波長の光と異なる第二の波長の光を反射する前記＜７＞に記載の光記録媒体用フィルタである。
＜９＞ 第一の波長の光が３５０〜６００ｎｍであり、かつ第二の波長の光が６００〜９００ｎｍである前記＜８＞に記載の光記録媒体用フィルタである。
＜１０＞ ホログラフィを利用して情報を記録する光記録媒体の選択反射膜として用いられ、
前記光記録媒体が、情報光及び参照光を同軸光束として該光記録媒体に照射し、前記情報光と前記参照光との干渉による干渉パターンによって情報を記録する前記＜７＞から＜９＞のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタである。
＜１１＞ 第一の基板と、第二の基板と、該第二の基板上にホログラフィを利用して情報を記録する記録層と、前記第二の基板と該記録層との間にフィルタ層とを有してなり、該フィルタ層が、前記＜７＞から＜１０＞のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタであることを特徴とする光記録媒体である。
＜１２＞ 前記＜１１＞に記載の光記録媒体に対し情報光及び参照光を同軸光束として照射し、該情報光と参照光との干渉による干渉パターンによって情報を記録層に記録することを特徴とする光記録方法である。
＜１３＞ 前記＜１２＞に記載の光記録方法により記録層に記録された干渉パターンに参照光を照射して情報を再生することを特徴とする光再生方法である。

本発明によると、従来における諸問題を解決でき、光学活性化合物の作用によりコレステリック相を形成できる重合性化合物、該重合性化合物を含む液晶性組成物及びその重合体を提供することができる。
また、前記重合体をコレステリック液晶層として用いたときに、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、情報光及び参照光による光記録媒体の反射膜からの乱反射を防止し、ノイズの発生を防止することが可能な光記録媒体用フィルタ、該光記録媒体用フィルタを用いた今までにない高密度記録可能なホログラム型の光記録媒体、並びに、該光記録媒体を用いた光記録方法及び光再生方法を提供することができる。

（重合性化合物）
本発明の重合性化合物は、下記一般式（１）で表される、アゾメチン構造を有する重合性化合物である。
ただし、前記一般式（１）中、Ａｒ^１、Ａｒ^２、Ａｒ^３、及びＡｒ^４は、それぞれ独立に置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基、及び置換基を有していてもよいナフタレン−２，６−ジ−イル基のいずれかを表す。
前記置換基としては、ハロゲン原子、水酸基、炭素原子数１〜６のアルキル基、及び炭素原子数１〜６のアルコキシ基のいずれかが好ましく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、水酸基、炭素原子数１〜３のアルキル基、及び炭素原子数１〜３のアルコキシ基のいずれかがより好ましい。これらの置換基の数としては１〜２が好ましく、１がより好ましい。
これらの中でも、前記Ａｒ^１、Ａｒ^２、Ａｒ^３、及びＡｒ^４としては、無置換のナフタレン−２，６−ジ−イル基、及び置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基のいずれかが好ましく、置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基がより好ましい。更にＡｒ^２及びＡｒ^３の少なくとも一方が置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基であることが好ましい。

また、前記一般式（１）中、Ｚ^１及びＺ^２はそれぞれ独立に単結合、−ＣＯＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、及び−Ｃ≡Ｃ−のいずれかを表す。これらの中でも、単結合、−ＣＯＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、又は−Ｃ≡Ｃ−が好ましく、−ＣＯＯ−がより好ましい。なお、上記の二価結合基において、一般式（１）中のＡｒ^１及びＡｒ^４には左側の結合手で連結するものとする。
前記一般式（１）中、ｍ及びｎは０及び１のいずれかの整数を表し、０が好ましい。

また、Ａ^１及びＡ^２はそれぞれ独立に下記一般式（２）で表される置換基、−ＣＨ＝ＣＨ_２、−Ｐ^２、−Ｌ^２−Ｐ^２、及び−Ｘ^２−Ｌ^２−Ｐ^２のいずれかを表し、Ａ^１及びＡ^２の少なくとも一方は、該一般式（２）で表される置換基を表す。該Ｐ^２は、重合性基を表し、該Ｌ^２は、アルキレン基、アルケニレン基、及びアラルキレン基のいずれかを表し、該Ｘ^２は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、及び−ＮＨＣＯ−のいずれかを表す。
ただし、前記一般式（２）中、Ａ^３は−ＣＨ＝ＣＨ_２、−Ｐ^１、−Ｌ^１−Ｐ^１、及び−Ｘ^１−Ｌ^１−Ｐ^１のいずれかを表し、該Ｐ¹は、重合性基を表し、該Ｌ^１は、アルキレン基、アルケニレン基、及びアラルキレン基のいずれかを表し、該Ｘ^１は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、及び−ＮＨＣＯ−のいずれかを表す。Ｙは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、及びアルコキシ基のいずれかを表す。

前記Ｘ^１としては、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、及び−Ｏ−ＣＯ−のいずれかが好ましく、−Ｏ−がより好ましい。
前記Ｌ^１のアルキレン基としては、置換基を有していてもよく、炭素数が１〜２０のアルキレン基が好ましく、炭素数が１〜８のアルキレン基がより好ましい。該置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリール基、アルケニル基等が挙げられる。また、アルキレン基中の１つの炭素原子又は隣接しない２以上の炭素原子は、酸素原子又は硫黄原子に置き換えられてもよい。このようなアルキレン基の例としては、例えば、メチレン基、エチレン基、ブチレン基、１−メチル−エチレン基、−（ＣＨ_２）_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−等が挙げられる。
前記Ｌ^１のアルケニレン基としては、置換基を有していてもよく、炭素数が２〜２０のアルケニレン基が好ましく、炭素数が２〜８のアルケニレン基がより好ましい。該置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリール基等が挙げられる。このようなアルケニレン基の例としては、例えば、−ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨＣＨ_２−等が挙げられる。
前記Ｌ^１のアラルキレン基としては、置換基を有していてもよく、炭素数が８〜３０のアラルキレン基が好ましく、炭素数が８〜１５のアラルキレン基がより好ましい。該置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニル基等が挙げられる。このようなアラルキレン基の例としては、例えば、下記の式に示すアラルキレン基が挙げられる。
これらの中でも、前記Ｌ^１としては、アルキレン基が好ましい。

前記Ｐ¹の重合性基としては、例えば、下記の式に示す重合性基が挙げられる。
ただし、上記式中、Ｒ^４で表されるアルキル基は、置換基を有していてもよく、炭素数が１〜２０のアルキル基が好ましく、炭素数が１〜１２のアルキル基がより好ましい。該置換基としては、例えば、アリール基、アルコキシ基等が挙げられる。
また、上記式中のＲ^５で表されるアルキル基は、置換基を有していてもよく、炭素数が１〜２０のアルキル基が好ましく、炭素数が１〜１２のアルキル基がより好ましい。該置換基としては、例えば、アリール基、アルコキシ基等が挙げられる。
これらの中でも、前記Ｐ¹の重合性基としては、付加重合し得る重合性基が好ましく、特に、アクリロイルオキシ基、メタクリルオキシ基、及びＮ−アクリロイル−Ｎ−アルキル−カルバモイル基のいずれかが好ましい。
これらの中でも、前記一般式（２）中、Ａ^３としては、−ＣＨ＝ＣＨ_２、及び−Ｐ^１のいずれかが好ましく、−ＣＨ＝ＣＨ_２がより好ましい。

前記Ｙのハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、又は臭素原子が好ましく、フッ素原子、又は塩素原子がより好ましい。
前記Ｙのアルキル基としては、置換基を有していてもよく、炭素数が１〜１２のアルキル基が好ましく、炭素数が１〜６のアルキル基がより好ましい。該置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基等が挙げられる。
前記Ｙのアルコキシ基としては、置換基を有していてもよく、炭素数が１〜１２のアルコキシ基が好ましく、炭素数が１〜６のアルコシキ基がより好ましい。該置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基等が挙げられる。

前記一般式（２）で表される置換基の具体的な例を下記に示す。

前記−Ｘ^２−Ｌ^２−Ｐ^２中、Ｘ^２としては、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、及び−Ｏ−ＣＯ−のいずれかが好ましく、−Ｏ−がより好ましい。
前記−Ｘ^２−Ｌ^２−Ｐ^２及び−Ｌ^２−Ｐ^２中、Ｌ^２のアルキレン基、アルケニレン基、及びアラルキレン基としては、前述のＬ^１と同義である。これらの中でも、Ｌ^２としては、アルキレン基が好ましく、アルキレン基が好ましい。
前記−Ｘ^２−Ｌ^２−Ｐ^２、−Ｌ^２−Ｐ^２及び−Ｐ^２中、Ｐ^２の重合性基は、前述のＰ^１と同義である。これらの中でも、Ｐ^２の重合性基としては、付加重合し得る重合性基が好ましく、特にアクリロイルオキシ基、メタクリルオキシ基、Ｎ−アクリロイル−Ｎ−アルキル−カルバモイル基が好ましい。
これらの−ＣＨ＝ＣＨ_２、−Ｐ^２、−Ｌ^２−Ｐ^２、及び−Ｘ^２−Ｌ^２−Ｐ^２の中でも、Ａ^１及びＡ^２としては、−Ｘ^２−Ｌ^２−Ｐ^２、−Ｌ^２−Ｐ^２及び−Ｐ^２のいずれかが好ましく、−Ｘ^２−Ｌ^２−Ｐ^２及び−Ｌ^２−Ｐ^２のいずれかがより好ましい。
このようなＡ^１、Ａ^２のうち、特にＡ^１が一般式（２）で表される置換基であることが好ましい。

本発明の前記一般式（１）で表される重合性化合物の具体例としては、下記構造式（１−１）〜（５−２）で表される化合物が挙げられる。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。

＊ただし、Ｍｅは、メチル基を表す。

＊ただし、Ｍｅは、メチル基を表す。

＊ただし、Ｍｅは、メチル基を表す。

＊ただし、Ｍｅは、メチル基を表す。

＊ただし、Ｍｅは、メチル基を表す。

＊ただし、Ｍｅは、メチル基を表す。

−重合性化合物の製造方法−
本発明の前記一般式（１）で表される重合性化合物は、例えば下記に示す反応式（１）に従う方法により製造することができる。

ただし、前記反応式（１）中、Ａｒ^１、Ａｒ^２、Ａｒ^３、Ａｒ^４、Ｚ^１、Ｚ^２、ｍ、ｎ、Ａ^１、及びＡ^２は、前記一般式（１）中のものと同じ置換基を表す。
即ち、前記一般式（１）で表される重合性化合物は、化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）との脱水縮合反応で合成することができ、好適にはエタノール等のアルコールやトルエン等の非水溶性溶媒中で室温で反応するか、又は還流することにより合成することができる。本反応には触媒を用いてもよく、酢酸やｐ−トルエンスルホン酸が好適に用いられる。また反応中の熱重合を抑えるためにハイドロキノン誘導体などの重合禁止剤を用いてもよい。化合物（Ａ）は芳香族アルデヒドであり、市販品又は公知の方法により合成したものを用いることができる。化合物（Ｂ）は、アニリン誘導体であり、市販品又は公知の方法により合成したものを用いることができる。

本発明の一般式（１）の重合性化合物はクロロホルム、テトラヒドロフラン、Ｎ−メチルピロリドン等の通常の溶媒によく溶解し又その際の粘度もあまり高くないので、スピンコート法等の方法により容易に基板に被覆することができる。更に、本発明の重合性化合物は光重合性を有するので、紫外線を照射することにより容易に重合させることができる。
また、本発明の重合性化合物を含む組成物を液晶相を示す温度において重合（例えば、光重合）させると、得られる重合体は光学異方性等の異方性を示し、そしてこの重合体は、従来の重合性液晶化合物からの重合体に比べ光学異方性が高いので、従来のものより良好な光学フィルムが得られる。

本発明の前記一般式（１）で表される重合性化合物は、重合性、特に光重合性を有し、重合性モノマー、特に光重合性モノマーとして一般的に用いられる用途に適用可能である。例えば、本発明の重合性化合物は、その重合性（光重合性）を利用して印刷回路板製造用、マイクロリソグラフィー用、光ファイバーコーティング用、磁気記録媒体塗料用、インク用、接着剤用、歯科材用、医科材用等に応用することができる。その際、適宜他の重合性モノマーを組み合せて使用することができる。更に、本発明の重合性化合物は従来の重合性液晶化合物との相溶性も良好であり、両者の混合物は、広い温度範囲にわたり液晶の性質を示すので、該混合物を重合させた場合、良好な光学異方性（複屈折）が得られる。
また、本発明の重合性化合物、又はこれを含む組成物から、カラーフィルター、位相差膜、ＳＴＮ素子用光学補償膜、拡散フィルム等の光学フィルムを作製することができる。該光学フィルムは、本発明の重合性化合物、又はこれを含む組成物の粘度を適宜溶剤により調節し、更に必要に応じ重合触媒を加えた後、基体上に塗布し重合させるなどによって作製される。

（液晶性組成物）
本発明の液晶性組成物は、本発明の一般式（１）で表される重合性化合物を少なくとも含有してなることを特徴とし、好ましくは光学活性化合物を含有してなり、重合性モノマー、更に必要に応じて適宜選択したその他の成分を含有してなる。
前記液晶性組成物が含有する、前記重合性化合物としては、それ自身液晶性を示すことは必ずしも必要ではなく、他の液晶性化合物との混合物において、液晶性を示すような組成比で混合することにより、液晶性組成物として好適に使用することができる。更に、高分子液晶が用いられる用途にも適用可能である。
前記重合性化合物の含有量としては、液晶性組成物の全固形分（質量）の１０〜１００質量％が好ましく、２０〜９８質量％がより好ましい。該含有量が１０質量％未満であると十分な選択反射波長幅Δλがえられないことがある。
前記重合性化合物を他の液晶性化合物と混合して用いる場合には、該液晶性化合物としては、その屈折率異方性Δｎが、０．１０〜０．４０の液晶化合物、高分子液晶化合物、重合性基を１又は２個有する液晶性化合物の中から適宜選択することができる。例えば、スメクチック液晶化合物、ネマチック液晶化合物などを挙げることができ、中でも、ネマチック液晶化合物が好ましい。前記液晶性化合物は、溶融時の液晶状態にある間に、例えばラビング処理等の配向処理を施した配向基板を用いる等により配向させることができる。また、液晶状態を固相にして固定化する場合には、冷却、重合等の手段を用いることができる。
前記重合性基を１又は２個有する液晶性化合物の具体例としては、ＷＯ９５／２２５８６、特願２０００−５１０８９、特願２０００−６８４７９、特願平１１−９１１６２に記載の化合物を挙げることができる。またこのような重合性液晶としては、市販品を用いることができ、例えば、ＢＡＳＦ社製の商品名ＰＡＬＩＯＣＯＬＯＲ ＬＣ２４２；Ｍｅｒｃｋ社製の商品名Ｅ７；Ｗａｃｋｅｒ−Ｃｈｅｍ社製の商品名ＬＣ−Ｓｌｌｉｃｏｎ−ＣＣ３７６７；高砂香料株式会社製の商品名Ｌ３５、Ｌ４２、Ｌ５５、Ｌ５９、Ｌ６３、Ｌ７９、Ｌ８３などが挙げられる。
前記液晶性化合物の具体例を下記に示す。ただし、本発明においては、これらに制限されるものではない。
前記液晶性化合物の含有量としては、液晶性組成物の全固形分（質量）の１０〜９０質量％が好ましく、２０〜８０質量％がより好ましい。

−光学活性化合物−
本発明の前記重合性化合物を含む液晶性組成物は、光学活性化合物を添加することにより、コレステリック相或いはカイラルスメクチック相を誘起することができる。
前記光学活性化合物としては、公知の光学活性化合物を使用することができ、例えば、特開２０００−４４４５１号公報、特表平１０−５０９７２６号公報、ＷＯ９８／００４２８、特表２０００−５０６８７３号公報、特表平９−５０６０８８号公報、特願２０００−３８２５１６号公報等に記載されている光学活性化合物を用いることができる。また、該光学活性化合物としては、市販品を用いることもでき、該市販品としては、例えば、Ｍｅｒｃｋ社製の商品名Ｓ１０１、Ｒ８１１、ＣＢ１５；ＢＡＳＦ社製の商品名ＰＡＬＩＯＣＯＬＯＲ ＬＣ７５６などが挙げられる。
前記光学活性化合物の含有量としては、液晶性組成物の全固形分（質量）の０．１〜２０質量％が好ましく、特に２〜１５質量％が好ましい。

−重合性モノマー−
前記液晶性組成物には、例えば、膜強度等の硬化の程度を向上させる目的で重合性モノマーを併用することができる。
前記重合性モノマーとしては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エチレン性不飽和結合を持つモノマーなどが挙げられ、具体的には、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の多官能モノマーなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記重合性モノマーの含有量としては、前記液晶性組成物の全固形分質量に対し０〜５０質量％が好ましく、１〜２０質量％がより好ましい。前記含有量が５０質量％を超えると、液晶層の配向を阻害することがある。

−その他の成分−
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光重合開始剤、増感剤、バインダー樹脂、重合禁止剤、溶媒、界面活性剤、増粘剤、色素、顔料、紫外線吸収剤、ゲル化剤などが挙げられる。

−−光重合開始剤−−
前記光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ｐ−メトキシフェニル−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル１，３，４−オキサジアゾール、９−フェニルアクリジン、９，１０−ジメチルベンズフェナジン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン、ヘキサアリールビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール、ベンジルジメチルケタール、アシルホスフィン誘導体、チオキサントン／アミン、チタノセンなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
また、前記光重合開始剤としては、市販品を用いてもよく、該市販品としては、例えば、チバスペシャルティケミカルズ社製の商品名イルガキュア９０７、イルガキュア３６９、イルガキュア７８４、イルガキュア８１４；ＢＡＳＦ社製の商品名ルシリンＴＰＯなどが挙げられる。

前記光重合開始剤の含有量としては、前記液晶性組成物の全固形分質量に対し０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜５質量％がより好ましい。前記含有量が０．１質量％未満であると、光照射時の硬化効率が低いため長時間を要することがあり、２０質量％を超えると、紫外線領域から可視光領域での光透過率が劣ることがある。

−−増感剤−−
前記増感剤は、必要に応じて液晶性組成物の感度を上げるために添加される。
前記増感剤としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントンなどが挙げられる。
前記増感剤の含有量としては、前記液晶性組成物の全固形分質量に対し０．００１〜１．０質量％が好ましい。

−−バインダー樹脂−−
また、液晶性組成物の粘度を調整する目的で、バインダー樹脂を添加することができる。
前記バインダー樹脂としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリビニルアルコール；ポリスチレン、ポリ−α−メチルスチレン等のポリスチレン化合物；メチルセルロース、エチルセルロース、アセチルセルロース等のセルロース樹脂；側鎖にカルボキシル基を有する酸性セルロース誘導体；ポリビニルフォルマール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂；メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体；アクリル酸アルキルエステルのホモポリマー又はメタアクリル酸アルキルエステルのホモポリマー；その他の水酸基を有するポリマーなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記アクリル酸アルキルエステルのホモポリマー又はメタアクリル酸アルキルエステルのホモポリマーにおけるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、２−エチルヘキシル基などが挙げられる。
前記その他の水酸基を有するポリマーとしては、例えば、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタアクリル酸のホモポリマー）アクリル酸共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／他のモノマーの多元共重合体などが挙げられる。

前記バインダー樹脂の含有量としては、前記液晶性組成物の全固形質量に対し０〜５０質量％が好ましく、０〜２０質量％がより好ましい。前記含有量が５０質量％を超えると、液晶層の配向が不十分となることがある。

−−重合禁止剤−−
前記重合禁止剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、フェノチアジン、ベンゾキノン、又はこれらの誘導体などが挙げられる。
前記重合禁止剤の含有量としては、前記重合性モノマーの固形分に対し０〜１０質量％が好ましく、１００ｐｐｍ〜１質量％がより好ましい。

−−溶媒−−
前記溶媒としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、３−メトキシプロピオン酸メチルエステル、３−メトキシプロピオン酸エチルエステル、３−メトキシプロピオン酸プロピルエステル、３−エトキシプロピオン酸メチルエステル、３−エトキシプロピオン酸エチルエステル、３−エトキシプロピオン酸プロピルエステル等のアルコキシプロピオン酸エステル類；２−メトキシプロピルアセテート、２−エトキシプロピルアセテート、３−メトキシブチルアセテート等のアルコキシアルコールのエステル類；乳酸メチル、乳酸エチル等の乳酸エステル類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン類；γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、クロロホルム、テトラヒドロフランなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

本発明の前記一般式（１）で表される重合性化合物を含む液晶性組成物は、液晶相を示す温度において重合（例えば、光重合）させると、得られる重合体は光学異方性等の異方性を示し、そしてこの重合体は、従来の重合性液晶化合物からの重合体に比べ光学異方性が高いので、該組成物は光記録媒体用フィルタ、ホログラム記録媒体用フィルタ、コレステリックカラーフィルター、位相差膜、オーバーコート層等の他、前記の本発明の重合性化合物の用途において述べた用途にも使用することができる。

（重合体）
本発明の重合体は、本発明の液晶性組成物を重合硬化させてなる。該重合体は、コレステリック液晶重合体であるのが好ましい。
本発明の重合体の製造方法としては特に制限はなく、公知の方法から目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、前記液晶性組成物を基材上に塗布し、乾燥させて、例えば紫外線照射することにより、形成することができる。前記液晶性組成物に光学活性化合物が添加されている場合はコレステリック液晶重合体とすることができる。
前記液晶性組成物及び重合体がコレステリック相を形成していることは、該コレステリック相由来の選択反射色や、顕微鏡観察時の該コレステリック相固有の模様等で確認することができる。
最も量産適性のよい手法としては、前記基材をロール状に巻いた形で準備しておき、該基材上に液晶性組成物をバーコート、ダイコート、ブレードコート、カーテンコートのような長尺連続コーターにて塗布する形式が好ましい。

前記基材としては、後述する光記録媒体用フィルタに用いる基材と同様なものを用いることができる。
前記塗布方法としては、例えば、スピンコート法、キャスト法、ロールコート法、フローコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法などが挙げられる。
前記紫外線照射の条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、照射紫外線は、１６０〜３８０ｎｍが好ましく、２５０〜３８０ｎｍがより好ましい。照射時間としては、例えば、０．１〜６００秒が好ましく、０．３〜３００秒がより好ましい。また、前記光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
紫外線の光源としては、例えば、低圧水銀ランプ（殺菌ランプ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト）、高圧放電ランプ（高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ）及びショートアーク放電ランプ（超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ）などを挙げることができる。

前記重合体の厚みとしては、例えば、１〜１０μｍが好ましく、２〜７μｍがより好ましい。前記厚みが１０μｍを超えると、液晶の均一配向が乱れてしまうことがあり、１μｍ未満であると、例えば、コレステリック液晶層として用いる場合は選択反射率が十分でなくなることがある。

（光記録媒体用フィルタ）
本発明の光記録媒体用フィルタは、コレステリック液晶層を有してなり、基材、更に必要に応じてその他の部材を有してなる。
前記コレステリック液晶層としては、本発明の液晶性組成物からなる。

本発明の光記録媒体用フィルタは、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、情報光及び参照光による光記録媒体の反射膜からの乱反射を防止し、ノイズの発生を防止する機能がある。前記光情報記録媒体に前記光記録媒体用フィルタを積層することにより、高解像度、回折効率の優れた光情報記録をえることができる。

前記光記録媒体用フィルタは、第一の波長の光を透過し、該第一の波長の光と異なる第二の波長の光を反射することが好ましく、前記第一の波長の光が３５０〜６００ｎｍであり、かつ第二の波長の光が６００〜９００ｎｍであることが好ましい。
また、前記光記録媒体用フィルタは、入射角度±４０°における、６５５ｎｍでの光透過率が５０％以上であり、８０％以上が好ましく、かつ５３２ｎｍでの光反射率が３０％以上であり、４０％以上が好ましい。
また色材含有層を有していてもよい。色材含有層については特願２００４−３５２０８４号明細書を参考にすることができる。

−基材−
前記基材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、後記する基板と同じ材料を用いることができる。

前記基材としては、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
前記基材の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１０〜５００μｍが好ましく、５０〜３００μｍがより好ましい。前記基材の厚みが、１０μｍ未満であると、基板の撓みにより密着性が低下することがある。一方、５００μｍを超えると、情報光と参照光の焦点位置を大きくずらさなければならなくなり、光学系サイズが大きくなってしまう。

−光記録媒体用フィルタの製造方法−
前記光記録媒体用フィルタの製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記基材上にコレステリック液晶層を塗布形成する方法、前記基材上に色材含有層を塗布形成し、次いで該色材含有層上にコレステリック液晶層を塗布形成する方法、などが挙げられる。
ここで、前記基材上にコレステリック液晶層を塗布形成する方法については、前記重合体の形成方法の説明において上述した通りである。
前記光記録媒体用フィルタは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、基材ごとディスク形状に加工（例えば打ち抜き加工）されて、光記録媒体の第二の基板上に配置されるのが好ましい。また、光記録媒体のフィルタ層に用いる場合には、基材を介さず直接第二の基板上に設けることもできる。

前記光記録媒体用フィルタの厚み（基材を除く色材含有層及びコレステリック液晶層の合計厚み）は、例えば２〜２００μｍが好ましく、３〜１００μｍがより好ましい。前記厚みが２μｍ未満であると、十分な色材含有層の厚みが取れなくなって、記録時のノイズ光が増大することがあり、２００μｍを超えると、フィルタ層の厚みが大きくなりすぎて光学系を過大なものにしてしまうことがある。

本発明の光記録媒体用フィルタは、各種分野において使用することができるが、ホログラム型の光記録媒体の形成乃至製造に好適に使用することができ、以下の本発明のホログラム型の光記録媒体、並びに光記録媒体の記録方法及び光記録媒体の再生方法に特に好適に使用することができる。このとき、前記光記録媒体用フィルタは、直接記録層など共に、後記する基板等の上に塗布などにより積層してもよく、フィルムなどの基材上に積層して光記録媒体用フィルタを作製した後、該光情報記録媒体用フィルタを、基板等の上に貼り合わせてもよい。

（光記録媒体）
前記光記録媒体は、第一の基板と、第二の基板と、該第二の基板上にホログラフィを利用して情報を記録する記録層と、前記第二の基板と前記記録層との間に前記フィルタ層とを有してなり、反射膜、第一ギャップ層、第二ギャップ層、更に必要に応じてその他の層を有してなる。
前記フィルタ層としては、本発明の前記光記録媒体用フィルタが用いられる。

本発明の光記録媒体は、２次元などの情報を記録する比較的薄型の平面ホログラムや立体像など多量の情報を記録する体積ホログラムであってもよく、透過型及び反射型のいずれであってもよい。また、ホログラムの記録方式もいずれであってもよく、例えば、振幅ホログラム、位相ホログラム、ブレーズドホログラム、複素振幅ホログラムなどでもよい。
本発明の光記録媒体を記録及び再生する方法、装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、米国特許第５，７１９，６９１号明細書、同第５，８３８，４６７号明細書、同第６，１６３，３９１号明細書、同第６，４１４，２９６号明細書、米国特許出願公開第２００２−１３６１４３号明細書、特開２０００−９８８６２号公報、同２０００−２９８８３７号公報、同２００１−２３１６９号公報、同２００２−８３４３１号公報、同２００２−１２３９４９号公報、同２００２−１２３９４８号公報、同２００３−４３９０４号公報、同２００４−１７１６１１号公報、国際公開第９９／５７７１９号パンフレット、同第０２／０５２７０号パンフレット、第０２／７５７２７号パンフレットなどに記載された光記録方法、光記録装置などが挙げられる。
本発明の光記録媒体としては、上述のように第一の基板と、第二の基板と、該第二の基板上に記録層と、前記第二の基板と該記録層との間にフィルタ層とを有しており、情報光及び参照光の照射が、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸になるようにして行われるコリニア方式に好適である。

−基板−
前記基板は、その形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記形状としては、例えば、ディスク形状、カード形状などが挙げられ、光記録媒体の機械的強度を確保できる材料のものを選定する必要がある。また、記録及び再生に用いる光が基板を通して入射する場合は、用いる光の波長領域で十分に透明であることが必要である。
前記基板材料としては、通常、ガラス、セラミックス、樹脂、などが用いられるが、成形性、コストの点から、樹脂が特に好適である。
前記樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ＡＢＳ樹脂、ウレタン樹脂、トリアセチルセルロース等のアセテート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリ乳酸系樹脂、などが挙げられる。これらの中でも、成形性、光学特性、コストの点から、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂が特に好ましい。
前記基板としては、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。

前記基板には、半径方向に線状に延びる複数の位置決め領域としてのアドレス−サーボエリアが所定の角度間隔で設けられ、隣り合うアドレス−サーボエリア間の扇形の区間がデータエリアになっている。アドレス−サーボエリアには、サンプルドサーボ方式によってフォーカスサーボ及びトラッキングサーボを行うための情報とアドレス情報とが、予めエンボスピット（サーボピット）等によって記録されている（プリフォーマット）。なお、フォーカスサーボは、反射膜の反射面を用いて行うことができる。トラッキングサーボを行うための情報としては、例えば、ウォブルピットを用いることができる。なお、光記録媒体がカード形状の場合には、サーボピットパターンは無くてもよい。

前記基板の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、０．１〜５ｍｍが好ましく、０．３〜２ｍｍがより好ましい。前記基板の厚みが、０．１ｍｍ未満であると、ディスク保存時の形状の歪みを抑えられなくなることがあり、５ｍｍを超えると、ディスク全体の重量が大きくなってドライブモーターに過剰な負荷をかけることがある。

−記録層−
前記記録層は、ホログラフィを利用して情報が記録され得るものであり、所定の波長の電磁波を照射すると、その強度に応じて吸光係数や屈折率などの光学特性が変化する材料が用いられる。

前記記録層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、（１）光照射で重合反応が起こり高分子化するフォトポリマー、（２）フォトリフラクティブ効果（光照射で空間電荷分布が生じて屈折率が変調する）を示すフォトリフラクティブ材料、（３）光照射で分子の異性化が起こり屈折率が変調するフォトクロミック材料、（４）ニオブ酸リチウム、チタン酸バリウム等の無機材料、（５）カルコゲン材料、などが挙げられる。

前記（１）のフォトポリマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、モノマー、及び光開始剤を含有してなり、更に必要に応じて増感剤、オリゴマー等のその他の成分を含有してなる。

前記フォトポリマーとしては、例えば、「フォトポリマーハンドブック」（工業調査会、１９８９年）、「フォトポリマーテクノロジー」（日刊工業新聞社、１９８９年）、ＳＰＩＥ予稿集 Ｖｏｌ．３０１０ ｐ３５４−３７２（１９９７）、及びＳＰＩＥ予稿集 Ｖｏｌ．３２９１ ｐ８９−１０３（１９９８）に記載されているものを用いることができる。また、米国特許第５,７５９,７２１号明細書、同第４,９４２,１１２号明細書、同第４,９５９,２８４号明細書、同第６,２２１,５３６号明細書、国際公開第９７／４４７１４号パンフレット、同第９７／１３１８３号パンフレット、同第９９／２６１１２号パンフレット、同第９７／１３１８３号パンフレット、特許第２８８０３４２号公報、同第２８７３１２６号公報、同第２８４９０２１号公報、同第３０５７０８２号公報、同第３１６１２３０号公報、特開２００１−３１６４１６号公報、特開２０００−２７５８５９号公報、などに記載されているフォトポリマーを用いることができる。

前記フォトポリマーに記録光を照射して光学特性を変化させる方法としては、低分子成分の拡散を利用した方法などが挙げられる。また、重合時の体積変化を緩和するため、重合成分とは逆方向へ拡散する成分を添加してもよく、或いは、酸開裂構造を有する化合物を重合体のほかに別途添加してもよい。なお、前記低分子成分を含むフォトポリマーを用いて記録層を形成する場合には、記録層中に液体を保持可能な構造を必要とすることがある。また、前記酸開裂構造を有する化合物を添加する場合には、その開裂によって生じる膨張と、モノマーの重合によって生じる収縮とを補償させることにより体積変化を抑制してもよい。

前記モノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリル基やメタクリル基のような不飽和結合を有するラジカル重合型のモノマー、エポキシ環やオキセタン環のようなエーテル構造を有するカチオン重合型系モノマーなどが挙げられる。これらのモノマーは、単官能であっても多官能であってもよい。また、光架橋反応を利用したものであってもよい。

前記ラジカル重合型のモノマーとしては、例えば、アクリロイルモルホリン、フェノキシエチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、１,６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールＰＯ変性ジアクリレート、１,９−ノナンジオールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ＥＯ変性グリセロールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、２−ナフト−１−オキシエチルアクリレート、２−カルバゾイル−９−イルエチルアクリレート、（トリメチルシリルオキシ）ジメチルシリルプロピルアクリレート、ビニル−１−ナフトエート、Ｎ−ビニルカルバゾール、などが挙げられる。
前記カチオン重合型系モノマーとしては、例えば、ビスフェノールＡエポキシ樹脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂、グリセロールトリグリシジルエーテル、１,６−ヘキサングリシジルエーテル、ビニルトリメトキシシラン、４−ビニルフェニルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、下記構造式（Ａ）〜（Ｅ）で表される化合物、などが挙げられる。
これらモノマーは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

前記光開始剤としては、記録光に感度を有するものであれば特に制限はなく、光照射によりラジカル重合、カチオン重合、架橋反応などを引き起こす材料などが挙げられる。
前記光開始剤としては、例えば、２,２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４,４’，５，５’−テトラフェニル−１，１’−ビイミダゾール、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（ｐ−メトキシフェニルビニル）−１，３，５−トリアジン、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、４，４’−ジ−ｔ−ブチルジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、４−ジエチルアミノフェニルベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、ベンゾイン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−２−オン、ベンゾフェノン、チオキサントン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルアシルホスフィンオキシド、トリフェニルブチルボレートテトラエチルアンモニウム、下記構造式で表されるチタノセン化合物、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。また、照射する光の波長に合わせて増感色素を併用してもよい。

前記フォトポリマーは、前記モノマー、前記光開始剤、更に必要に応じてその他の成分を攪拌混合し、反応させることによって得られる。得られたフォトポリマーが十分低い粘度ならばキャスティングすることによって記録層を形成することができる。一方、キャスティングできない高粘度フォトポリマーである場合には、ディスペンサーを用いて第二の基板にフォトポリマーを盛りつけ、このフォトポリマー上に第二の基板Ａで蓋をするように押し付けて、全面に広げて記録層を形成することができる。

前記（２）のフォトリフラクティブ材料としては、フォトリフラクティブ効果を示すものであるならば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電荷発生材、及び電荷輸送材を含有してなり、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。

前記電荷発生材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニン、又はそれらの誘導体等のフタロシアニン色素／顔料；ナフタロシアニン色素／顔料；モノアゾ、ジスアゾ、トリスアゾ等のアゾ系色素／顔料；ペリレン系染料／顔料；インジゴ系染料／顔料；キナクリドン系染料／顔料；アントラキノン、アントアントロン等の多環キノン系染料／顔料；シアニン系染料／顔料；ＴＴＦ−ＴＣＮＱで代表されるような電子受容性物質と電子供与性物質とからなる電荷移動錯体；アズレニウム塩；Ｃ_６０及びＣ_７０で代表されるフラーレン並びにその誘導体であるメタノフラーレン、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

前記電荷輸送材は、ホール又はエレクトロンを輸送する材料であり、低分子化合物であってもよく、又は高分子化合物であってもよい。
前記電荷輸送材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、インドール、カルバゾール、オキサゾール、インオキサゾール、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール、オキサアジアゾール、ピラゾリン、チアチアゾール、トリアゾール等の含窒素環式化合物、又はその誘導体；ヒドラゾン化合物；トリフェニルアミン類；トリフェニルメタン類；ブタジエン類；スチルベン類；アントラキノンジフェノキノン等のキノン化合物、又はその誘導体；Ｃ_６０及びＣ_７０等のフラーレン並びにその誘導体；ポリアセチレン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン等のπ共役系高分子又はオリゴマー；ポリシラン、ポリゲルマン等のσ共役系高分子又はオリゴマー；アントラセン、ピレン、フェナントレン、コロネン等の多環芳香族化合物、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

前記フォトリフラクティブ材料を用いて記録層を形成方法としては、例えば、前記フォトリフラクティブ材料を溶媒中に溶解乃至は分散させてなる塗布液を用いて塗膜を形成し、この塗膜から溶媒を除去することにより記録層を形成することができる。また、加熱して流動化させた前記フォトリフラクティブ材料を用いて塗膜を形成し、この塗膜を急冷することにより記録層を形成することもできる。

前記（３）のフォトクロミック材料は、フォトクロミック反応を起こす材料であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アゾベンゼン化合物、スチルベン化合物、インジゴ化合物、チオインジゴ化合物、スピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物、フルキド化合物、アントラセン化合物、ヒドラゾン化合物、桂皮酸化合物、などが挙げられる。これらの中でも、光照射によりシス−トランス異性化により構造変化を起こすアゾベンゼン誘導体、スチルベン誘導体、光照射により開環−閉環の構造変化を起こすスピロピラン誘導体、スピロオキサジン誘導体が特に好ましい。

前記（５）のカルコゲン材料としては、例えば、カルコゲン元素を含むカルコゲナイドガラスと、このカルコゲナイドガラス中に分散されており光の照射によりカルコゲナイドガラス中に拡散可能な金属からなる金属粒子とを含む材料、などが挙げられる。
前記カルコゲナイドガラスは、Ｓ、Ｔｅ又はＳｅのカルコゲン元素を含む非酸化物系の非晶質材料から構成されるものであり、金属粒子の光ドープが可能なものであれば特に限定されない。
前記カルコゲン元素を含む非晶質材料としては、例えば、Ｇｅ−Ｓ系ガラス、Ａｓ−Ｓ系ガラス、Ａｓ−Ｓｅ系ガラス、Ａｓ−Ｓｅ−Ｃｅ系ガラス等が挙げられ、これらの中ではＧｅ−Ｓ系ガラスが好ましい。前記カルコゲナイドガラスとしてＧｅ−Ｓ系ガラスを用いる場合には、ガラスを構成するＧｅ及びＳの組成比は照射する光の波長に応じて任意に変化させることができるが、主としてＧｅＳ_２で表される化学組成を有するカルコゲナイドガラスが好ましい。
前記金属粒子は、光の照射によりカルコゲナイドガラス中に光ドープされる特性を有するものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ａｌ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｐｄ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｔａ、Ｗ、Ｚｎ、Ａｇ等が挙げられる。これらの中では、Ａｇ、Ａｕ又はＣｕが光ドープをより生じやすい特性を有しており、Ａｇは光ドープを顕著に生じるため特に好ましい。
前記カルコゲナイドガラスに分散されている金属粒子の含有量としては、前記記録層の全体積基準で０．１〜２体積％が好ましく、０．１〜１．０体積％がより好ましい。前記金属粒子の含有量が０．１体積％未満であると、光ドープによる透過率変化が不充分となって記録の精度が低下することがあり、２体積％を超えると、記録材料の光透過率が低下して光ドープを充分に生じさせることが困難となることがある。

前記記録層は、材料に応じて公知の方法に従って形成することができ、例えば、蒸着法、湿式成膜法、ＭＢＥ（分子線エピタキシー）法、クラスターイオンビーム法、分子積層法、ＬＢ法、印刷法、転写法、などにより好適に形成することができる。また、米国特許６，７４３，５５２号に記載されている２成分ウレタンマトリックス形成方法でもよい。

前記蒸着法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができるが、例えば、真空蒸着法、抵抗加熱蒸着、化学蒸着法、物理蒸着法、などが挙げられる。該化学蒸着法としては、例えば、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、ガスソースＣＶＤ法、などが挙げられる。

前記湿式成膜法による前記記録層の形成は、例えば、前記記録層材料を溶剤に溶解乃至分散させた溶液（塗布液）を用いる（塗布し乾燥する）ことにより、好適に行うことができる。該湿式成膜法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、インクジェット法、スピンコート法、ニーダーコート法、バーコート法、ブレードコート法、キャスト法、ディップ法、カーテンコート法などが挙げられる。

前記記録層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１〜１，０００μｍが好ましく、１００〜７００μｍがより好ましい。
前記記録層の厚みが、前記好ましい数値範囲であると、１０〜３００多重のシフト多重を行っても十分なＳ／Ｎ比を得ることができ、前記より好ましい数値範囲であるとそれが顕著である点で有利である。

−反射膜−
前記反射膜は、前記基板のサーボピットパターン表面に形成される。
前記反射膜の材料としては、記録光や参照光に対して高い反射率を有する材料を用いることが好ましい。使用する光の波長が４００〜７８０ｎｍである場合には、例えば、Ａｌ、Ａｌ合金、Ａｇ、Ａｇ合金、などを使用することが好ましい。使用する光の波長が６５０ｎｍ以上である場合には、Ａｌ、Ａｌ合金、Ａｇ、Ａｇ合金、Ａｕ、Ｃｕ合金、ＴｉＮ、などを使用することが好ましい。
なお、前記反射膜として、光を反射すると共に、追記及び消去のいずれかが可能な光記録媒体、例えば、ＤＶＤ（ディジタル ビデオ ディスク）などを用い、ホログラムをどのエリアまで記録したかとか、いつ書き換えたかとか、どの部分にエラーが存在し交替処理をどのように行ったかなどのディレクトリ情報などをホログラムに影響を与えずに追記及び書き換えすることも可能となる。

前記反射膜の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、各種気相成長法、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、電子ビーム蒸着法などが用いられる。これらの中でも、スパッタリング法が、量産性、膜質等の点で優れている。
前記反射膜の厚みとしては、十分な反射率を実現し得るように、５０ｎｍ以上が好ましく、１００ｎｍ以上がより好ましい。

−第一ギャップ層−
前記第一ギャップ層は、必要に応じて前記フィルタ層と前記反射膜との間に設けられ、第二の基板表面を平滑化する目的で形成される。また、記録層内に生成されるホログラムの大きさを調整するのにも有効である。即ち、前記記録層は、記録用参照光及び情報光の干渉領域をある程度の大きさに形成する必要があるので、前記記録層とサーボピットパターンとの間にギャップを設けることが有効となる。
前記第一ギャップ層は、例えば、サーボピットパターンの上から紫外線硬化樹脂等の材料をスピンコート等で塗布し、硬化させることにより形成することができる。また、フィルタ層として透明基材の上に塗布形成したものを使用する場合には、該透明基材が第一ギャップ層としても働くことになる。
前記第一ギャップ層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１〜２００μｍが好ましい。

−第二ギャップ層−
前記第二ギャップ層は、必要に応じて記録層とフィルタ層との間に設けられる。
前記第二ギャップ層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリスルホン（ＰＳＦ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリメタクリル酸メチル＝ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等のような透明樹脂フィルム、又は、ＪＳＲ社製商品名ＡＲＴＯＮフィルムや日本ゼオン社製商品名ゼオノアのような、ノルボルネン系樹脂フィルム、などが挙げられる。これらの中でも、等方性の高いものが好ましく、ＴＡＣ、ＰＣ、商品名ＡＲＴＯＮ、及び商品名ゼオノアが特に好ましい。
前記第二ギャップ層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１〜２００μｍが好ましい。

ここで、本発明の光記録媒体の具体例について、図面を参照して更に詳しく説明する。
＜第一の実施形態＞
図２は、本発明の第一の実施形態における光記録媒体の構成を示す概略断面図である。この第一の実施形態に係る光記録媒体２１では、第二の基板１（ポリカーボネート樹脂製基板又はガラス基板）にサーボピットパターン３が形成され、該サーボピットパターン３上にアルミニウム、金、白金等でコーティングして反射膜２が設けられている。なお、図２では第二の基板１全面にサーボピットパターン３が形成されているが、図１に示すように周期的に形成されていてもよい。また、このサーボピットパターン３の高さは、通常１，７５０Å（１７５ｎｍ）であり、基板を始め他の層の厚さに比べて充分に小さいものである。

第１ギャップ層８は、紫外線硬化樹脂等の材料を第二の基板１の反射膜２上にスピンコート等により塗布して形成される。第１ギャップ層８は、反射膜２を保護すると共に、記録層４内に生成されるホログラムの大きさを調整するためにも有効である。つまり、記録層４において記録用参照光と情報光の干渉領域をある程度の大きさに形成する必要があるため、記録層４とサーボピットパターン３との間にギャップを設けると有効である。
第１ギャップ層８上にはフィルタ層６が設けられ、該フィルタ層６と第一の基板５（ポリカーボネート樹脂基板やガラス基板）によって記録層４を挟むことによって光記録媒体２１が構成される。

図２において、フィルタ層６は、赤色光のみを透過し、それ以外の色の光を通さないものである。従って、情報光、記録及び再生用参照光は緑色又は青色の光であるので、フィルタ層６を透過せず、反射膜２まで達することなく、戻り光となり、入出射面Ａから出射することになる。
このフィルタ層６は、本発明のコレステリック液晶層からなる。このコレステリック液晶層からなるフィルタ層６は、第１ギャップ層８上に塗布によって直接形成してもよいし、基材上にコレステリック液晶層を形成したフィルムを光記録媒体形状に打ち抜いて配置してもよい。本発明のコレステリック液晶層によって、λ_０〜λ_０／ｃｏｓ２０°、特にλ_０〜λ_０／ｃｏｓ４０°（ただし、λ_０は照射光波長を表す）における光反射率が４０％以上となり、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることがなくなる。

本実施形態における光記録媒体２１は、ディスク形状でもいいし、カード形状であってもよい。カード形状の場合にはサーボピットパターンは無くてもよい。また、この光記録媒体２１では、第二の基板１は０．６ｍｍ、第１ギャップ層８は１００μｍ、フィルタ層６は２〜３μｍ、記録層４は０．６ｍｍ、第一の基板５は０．６ｍｍの厚さであって、合計厚みは約１．９ｍｍとなっている。

次に、図４を参照して、光記録媒体２１周辺での光学的動作を説明する。まず、サーボ用レーザから出射した光（赤色光）は、ダイクロイックミラー１３でほぼ１００％反射して、対物レンズ１２を通過する。対物レンズ１２によってサーボ用光は反射膜２上で焦点を結ぶように光記録媒体２１に対して照射される。つまり、ダイクロイックミラー１３は緑色や青色の波長の光を透過し、赤色の波長の光をほぼ１００％反射させるようになっている。光記録媒体２１の光の入出射面Ａから入射したサーボ用光は、第一の基板５、記録層４、フィルタ層６、及び第１ギャップ層８を通過し、反射膜２で反射され、再度、第１ギャップ層８、フィルタ層６、記録層４、及び第一の基板５を透過して入出射面Ａから出射する。出射した戻り光は、対物レンズ１２を通過し、ダイクロイックミラー１３でほぼ１００％反射して、サーボ情報検出器（不図示）でサーボ情報が検出される。検出されたサーボ情報は、フォーカスサーボ、トラッキングサーボ、スライドサーボ等に用いられる。記録層４を構成するホログラム材料は、赤色の光では感光しないようになっているので、サーボ用光が記録層４を通過したり、サーボ用光が反射膜２で乱反射したとしても、記録層４には影響を与えない。また、サーボ用光の反射膜２による戻り光は、ダイクロイックミラー１３によってほぼ１００％反射するようになっているので、サーボ用光が再生像検出のための検出器１４（ＣＭＯＳセンサ又はＣＣＤ）で検出されることはなく、再生光に対してノイズとなることもない。

また、記録用／再生用レーザーから生成された情報光及び記録用参照光は、偏光板１６を通過して線偏光となりハーフミラー１７を通過して１／４波長板１５を通った時点で円偏光になる。ダイクロイックミラー１３を透過し、対物レンズ１１によって情報光と記録用参照光が記録層４内で干渉パターンを生成するように光記録媒体２１に照射される。情報光及び記録用参照光は入出射面Ａから入射し、記録層４で干渉し合って干渉パターンをそこに生成する。その後、情報光及び記録用参照光は記録層４を通過し、フィルタ層６に入射するが、該フィルタ層６の底面までの間に反射されて戻り光となる。つまり、情報光と記録用参照光は反射膜２までは到達しない。フィルタ層６は、本発明のコレステリック液晶層から形成され、赤色光のみを透過する性質を有するからである。或いは、フィルタ層を漏れて通過する光を入射光強度の２０％以下に抑えていれば、たとえその漏れ光が底面に到達して戻り光となっても、再度フィルタ層で反射されるので再生光へ混じる光強度は２０％×２０％＝４％以下となり、実質的に問題とはならない。

＜第二の実施形態＞
図３は、本発明の第二の実施形態における光記録媒体の構成を示す概略断面図である。この第二の実施形態に係る光記録媒体２２では、第二の基板１（ポリカーボネート樹脂製基板又はガラス基板）にサーボピットパターン３が形成され、該サーボピットパターン３表面にアルミニウム、金、白金等でコーティングして反射膜２が設けられている。また、このサーボピットパターン３の高さは、通常１，７５０Å（１７５ｎｍ）である点については、第一の実施形態と同様である。

第二の実施形態と第一の実施形態の構造の差異は、第二の実施形態に係る光記録媒体２２では、フィルタ層６と記録層４との間に第２ギャップ層７が設けられていることである。

本発明のコレステリック液晶層からなるフィルタ層６は、第１ギャップ層８を形成した後、該第１ギャップ層８上に形成され、前記第一実施形態と同様のものを用いることができる。

第２ギャップ層７は、情報光及び再生光がフォーカシングするポイントが存在する。このエリアをフォトポリマーで埋めていると過剰露光によるモノマーの過剰消費が起こり多重記録能が下がってしまう。そこで、無反応で透明な第２ギャップ層を設けることが有効となる。

また、光記録媒体２２では、第二の基板１は１．０ｍｍ、第１ギャップ層８は１００μｍ、フィルタ層６は３〜５μｍ、第２ギャップ層７は７０μｍ、記録層４は０．６ｍｍ、第一の基板５は０．４ｍｍの厚さであって、合計厚みは約２．２ｍｍとなっている。

情報の記録又は再生を行う場合、このような構造を有する光記録媒体２２に対して、赤色のサーボ用光及び緑色の情報光並びに記録及び再生用参照光が照射される。サーボ用光は、入出射面Ａから入射し、記録層４、第２ギャップ層７、フィルタ層６、及び第１ギャップ層８を通過して反射膜２で反射して戻り光となる。この戻り光は、再度、第１ギャップ層８、フィルタ層６、第２ギャップ層７、記録層４及び第一の基板５をこの順序で通過して、入出射面Ａより出射する。出射した戻り光は、フォーカスサーボやトラッキングサーボ等に用いられる。記録層４を構成するホログラム材料は、赤色の光では感光しないようになっているので、サーボ用光が記録層４を通過したり、サーボ用光が反射膜２で乱反射したとしても、記録層４には影響を与えない。緑色の情報光等は、入出射面Ａから入射し、記録層４、第２ギャップ層７を通過して、フィルタ層６で反射して戻り光となる。この戻り光は、再度、第２ギャップ層７、記録層４及び第一の基板５をこの順序で通過して、入出射面Ａより出射する。また、再生時についても再生用参照光はもちろん、再生用参照光を記録層４に照射することによって発生する再生光も反射膜２に到達せずに入出射面Ａから出射する。なお、光記録媒体２２周辺（図４における対物レンズ１２、フィルタ層６、検出器１４たるＣＭＯＳセンサ又はＣＣＤ）での光学的動作は、第一の実施形態（図２）と同様なので説明を省略する。

（光記録媒体の製造方法）
本発明の光記録媒体の製造方法は、フィルタ層形成工程を少なくとも含んでなり、反射膜形成工程、記録層形成工程、更に必要に応じてその他の工程を含んでなる。

−フィルタ層形成工程−
前記フィルタ層形成工程は、本発明の前記光記録媒体用フィルタを光記録媒体形状に加工し、該加工したフィルタを前記第二の基板等に貼り合わせてフィルタ層を形成する工程、または直接前記基板等の上に塗布などにより積層する工程である。
ここで、本発明の前記光記録媒体用フィルタの製造方法については、上述した通りである。
前記光記録媒体形状としては、ディスク形状、カード形状、などが挙げられる。
前記加工としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、プレスカッターによる切り出し加工、打ち抜きカッターによる打ち抜き加工、などが挙げられる。
前記貼り合わせでは、例えば、接着剤、粘着剤、などを用いて気泡が入らないようにフィルタを基板に貼り付ける。
前記接着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ＵＶ硬化型、エマルジョン型、一液硬化型、二液硬化型等の各種接着剤が挙げられ、それぞれ公知の接着剤を任意に組み合わせて使用することができる。
前記粘着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤、などが挙げられる。
前記接着剤又は前記粘着剤の塗布厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、光学特性や薄型化の観点から、接着剤の場合、０．１〜１０μｍが好ましく、０．１〜５μｍがより好ましい。また、粘着剤の場合、１〜５０μｍが好ましく、２〜３０μｍがより好ましい。

（光記録方法及び再生方法）
本発明の光記録方法は、前記光記録媒体に情報光及び参照光を同軸光束として照射し、該情報光と参照光との干渉による干渉パターンによって情報を記録層に記録するいわゆるコリニア方式による光記録方法である。

本発明の光再生方法は、前記光記録方法により記録層に形成された前記干渉パターンに参照光と同じ光を照射して該干渉パターンに対応した記録情報を再生する方法である。前記光を前記光記録媒体の記録層に形成された干渉パターンに照射すると、該干渉パターンに対応した記録情報としての回折光が生成され、該回折光を受光することにより再生することができる。

本発明の光記録方法及び再生方法では、二次元的な強度分布が与えられた情報光と、該情報光と強度がほぼ一定な参照光とを感光性の記録層内部で重ね合わせ、それらが形成する干渉パターンを利用して記録層内部に光学特性の分布を生じさせることにより、情報を記録する。一方、書き込んだ情報を読み出す（再生する）際には、記録時と同様の配置で参照光のみを記録層に照射し、記録層内部に形成された光学特性分布に対応した強度分布を有する再生光として記録層から出射される。
ここで、本発明の光記録方法及び再生方法は、以下に説明する光記録再生装置を用いて行われる。

本発明の光記録方法及び再生方法に使用される光記録再生装置について図５を参照して説明する。
図５は、本発明の一実施形態に係る光記録再生装置の全体構成図である。なお、光記録再生装置は、光記録装置と再生装置を含んでなる。
この光記録再生装置１００は、光記録媒体２０が取り付けられるスピンドル８１と、このスピンドル８１を回転させるスピンドルモータ８２と、光記録媒体２０の回転数を所定の値に保つようにスピンドルモータ８２を制御するスピンドルサーボ回路８３とを備えている。
また、光記録再生装置１００は、光記録媒体２０に対して情報光と記録用参照光とを照射して情報を記録すると共に、光記録媒体２０に対して再生用参照光を照射し、再生光を検出して、光記録媒体２０に記録されている情報を再生するためのピックアップ３１と、このピックアップ３１を光記録媒体２０の半径方向に移動可能とする駆動装置８４とを備えている。

光記録再生装置１００は、ピックアップ３１の出力信号よりフォーカスエラー信号ＦＥ、トラッキングエラー信号ＴＥ、及び再生信号ＲＦを検出するための検出回路８５と、この検出回路８５によって検出されるフォーカスエラー信号ＦＥに基づいて、ピックアップ３１内のアクチュエータを駆動して対物レンズ（不図示）を光記録媒体２０の厚み方向に移動させてフォーカスサーボを行うフォーカスサーボ回路８６と、検出回路８５によって検出されるトラッキングエラー信号ＴＥに基づいてピックアップ３１内のアクチュエータを駆動して対物レンズを光記録媒体２０の半径方向に移動させてトラッキングサーボを行うトラッキングサーボ回路８７と、トラッキングエラー信号ＴＥ及び後述するコントローラからの指令に基づいて駆動装置８４を制御してピックアップ３１を光記録媒体２０の半径方向に移動させるスライドサーボを行うスライドサーボ回路８８とを備えている。

光記録再生装置１００は、更に、ピックアップ３１内の後述するＣＭＯＳ又はＣＣＤアレイの出力データをデコードして、光記録媒体２０のデータエリアに記録されたデータを再生したり、検出回路８５からの再生信号ＲＦより基本クロックを再生したりアドレスを判別したりする信号処理回路８９と、光記録再生装置１００の全体を制御するコントローラ９０と、このコントローラ９０に対して種々の指示を与える操作部９１とを備えている。
コントローラ９０は、信号処理回路８９より出力される基本クロックやアドレス情報を入力すると共に、ピックアップ３１、スピンドルサーボ回路８３、及びスライドサーボ回路８８等を制御するようになっている。スピンドルサーボ回路８３は、信号処理回路８９より出力される基本クロックを入力するようになっている。コントローラ９０は、ＣＰＵ（中央処理装置）、ＲＯＭ（リード オンリ メモリ）、及びＲＡＭ（ランダム アクセス メモリ）を有し、ＣＰＵが、ＲＡＭを作業領域として、ＲＯＭに格納されたプログラムを実行することによって、コントローラ９０の機能を実現するようになっている。

前記第２の光源６２から出射する定着光５３を生成する装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光記録再生装置１００とは別個に、光源制御装置を具備し、該光記録再生装置１００と同期を確保しつつ、定着光５３を出射するようコントロールすることもでき、光記録再生装置１００の内部に第２の光源６２を設け、前記情報光、前記参照光及び前記定着光を該光記録再生装置により同時に制御することもできる。

本発明の光記録方法及び再生方法に使用される光記録再生装置は、本発明の前記光記録媒体を用い、情報光及び参照光による干渉縞の記録後、前記記録層の任意の箇所において、定着露光がなされ、必要に応じて適宜選択したその他の手段かつ十分な定着がなされ、かつ未記録部分の感度に影響を与えず、高密度の回折効率の高い光記録媒体が得られる。

−情報光及び参照光−
前記情報光及び前記参照光の光としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光源から出射される可干渉性のあるレーザ光などが好ましい。
前記レーザ光としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、波長が、３６０〜８５０ｎｍから選択される１種以上の波長からなるレーザ光などが挙げられる。該波長は、３８０〜８００ｎｍが好ましく、４００〜７５０がより好ましく、可視領域の中心が最も見え易い５００〜６００ｎｍが最も好ましい。
前記波長が、３６０ｎｍ未満であると、鮮明な立体画像が得られないことがあり、８５０ｎｍを超えると、前記干渉縞が微細となり、それに対応する感光材料が得られないことがある。

前記レーザ光の光源としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、固体レーザ光発振器、青色領域の半導体レーザ光発振器、液体レーザ光発振器、アルゴンなどの気体レーザ光発振器、Ｈｅ−Ｃｄレーザ発振器、周波数２倍ＹＡＧレーザ発振器、Ｈｅ−Ｎｅレーザ発振器、Ｋｒレーザ発振器などが挙げられる。これらの中でも、気体レーザ光発振器、青色領域の半導体レーザ光発振器などが好ましい。

前記情報光及び前記参照光の照射方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、同一の光源から出射される一のレーザ光などを分割して、該情報光及び該参照光として照射してもよく、異なる光源から出射される二つのレーザ光などを照射してもよい。

−定着光−
前記定着光の照射領域としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層の任意の箇所における前記情報光及び前記参照光による記録対象部分と同じ領域か、該記録対象部分の外延よりも広くかつ該外延から少なくとも１μｍ外側まで延設された領域であることが好ましい。前記記録対象部分の外延から１μｍを超えた領域まで定着光を照射すると、隣接する記録領域にも照射され、過剰な照射エネルギーとなり非効率的である。

前記定着光の照射時間としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層の任意の箇所において、１ｎｓ〜１００ｍｓが好ましく、１ｎｓ〜８０ｍｓがより好ましい。前記照射時間が、１ｎｓ未満であると、定着が不十分なことがあり、１００ｍｓを超えると過剰なエネルギーの照射となる。
前記定着光の照射方向としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層の任意の箇所における前記情報光及び前記参照光と同じ方向でもよく、異なった方向でもよい。また、照射角度としては、記録層の層面に対して０〜６０°が好ましく、０〜４０°がより好ましい。前記照射角度が、上記以外の角度であると、定着が非効率となることがある。
前記定着光の波長としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層の任意の箇所において、３５０〜８５０ｎｍであることが好ましく、４００〜６００ｎｍであることがより好ましい。
前記波長が、３５０ｎｍ未満であると、材料が分解してしまうことがあり、８５０ｎｍを超えると、温度が上がり材料が劣化することがある。

前記定着光の光源としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、インコヒーレントな光を照射することが好ましく、蛍光灯、高圧水銀灯、キセノンランプ、発光ダイオード、コヒーレント光に位相をランダムに変える操作（例えば、すりガラスを光路に入れる。）をした光などが挙げられる。これらの中でも、発光ダイオード、コヒーレント光に位相をランダムに変える操作（例えば、すりガラスを光路に入れる。）をした光などが好ましい。
前記定着光の照射量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層の任意の箇所において、０．００１〜１Ｊ／ｃｍ^２であることが好ましく、０．０１〜３００ｍJ/ｃｍ^２であることがより好ましい。

前記定着光の照射方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層の任意の箇所における前記情報光及び前記参照光と同一の光源から出射される光を照射してもよく、異なる光源から出射される光などを照射してもよい。

以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。なお、本実施例において「部」及び「％」は全て、「質量部」及び「質量％」を表す。

（実施例１）：構造式（１−２）で表される重合性化合物の合成
４−（４−ビニルベンジルオキシ）ベンズアルデヒド４．７６ｇ、４−（４−アクリロイルオキシブトキシ）−２−メチルアニリン５．５３ｇ、エタノール２０ｍｌ、酢酸０．０５ｍｌを混合し、３時間還流した。溶媒を留去した後に、酢酸エチルを加え不溶物をろ別した。ろ液を濃縮し得られた固体をエタノールから再結晶し、上記構造式（１−２）で表される重合性化合物を５．７６ｇ得た（収率６１％）。
上記により得られた重合性化合物を、ＣＨＣｌ_３を溶媒として^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して同定した結果を、下記に示す。
δ（ｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ）：８．３０(１Ｈ，ｓ)，７．８４(２Ｈ，ｄ)，７．４４(２Ｈ，ｄ)，７．４１(２Ｈ，ｄ)，７．０４（２Ｈ，ｄ)，６．９０(１Ｈ，ｄ)，６．７８(１Ｈ，ｓ)，６．７６(１Ｈ，ｄ)，６．７０(１Ｈ，ｄｄ)，６．４１(１Ｈ，ｄｄ)，６．１３(１Ｈ，ｄｄ)，５．８２(１Ｈ，ｄｄ)，５．７７(１Ｈ，ｄ)，５．２７(１Ｈ，ｄ)，５．１２(２Ｈ，ｓ)，４．２５(２Ｈ，ｔ)，４．００(２Ｈ，ｔ)，２．３６(３Ｈ，ｓ)，１．９０−１．８６(４Ｈ，ｍ)

（実施例２）：構造式（１−５）で表される重合性化合物の合成
４−(４−ビニルベンジルオキシ)ベンズアルデヒド０．５１ｇ、アクリル酸２-（４-アミノ-３-フルオロフェニルオキシ）ブチル０．４８ｇ及びエタノール４０ｍＬを混合し、酢酸１０ｍｇを添加した。室温で５時間攪拌した後、エタノールを溶媒として用い、二度の再結晶を行うことにより、白色結晶として構造式（１−５）で表される重合性化合物を０．２８ｇ得た（収率３０％）。
上記により得られた重合性化合物を、ＣＨＣｌ_３を溶媒として^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して同定した結果を、下記に示す。
δ（ｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ）：８．３５(１Ｈ，ｓ)，７．８２(２Ｈ，ｄ)，７．４２(４Ｈ，ｍ)，７．１７(１Ｈ，ｓ)，７．０３(２Ｈ，ｄ)，６．７３(３Ｈ，ｍ)，６．４２(１Ｈ，ｄ)，６．１６(１Ｈ，ｄｄ)，５．８２(１Ｈ，ｄ)，５．７８(１Ｈ，ｄ)，５．２８(１Ｈ，ｄ)，５．１６(２Ｈ，ｓ)，４．２８(２Ｈ，ｔ)，４．０３(２Ｈ，ｔ)，１．９７(４Ｈ，ｍ)

（実施例３）：構造式（１−６）で表される重合性化合物の合成
４−(４−ビニルベンジルオキシ)ベンズアルデヒド０．９６ｇ、アクリル酸４-（４-アミノ-２-クロロフェニルオキシ）ブチル０．８５ｇ及びエタノール７０ｍＬを混合し、酢酸１０ｍｇを添加した。室温で５時間攪拌した後、エタノールを溶媒として用い、二度の再結晶を行うことにより、白色結晶として上記構造式（１−６）で表される重合性化合物を０．９７ｇ得た（収率６３％）。
上記により得られた重合性化合物を、ＣＨＣｌ_３を溶媒として^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して同定した結果を、下記に示す。
δ（ｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ）：８．４１(１Ｈ，ｓ)，７．８１(２Ｈ，ｄ)，７．４２(２Ｈ，ｄ)，７．４１(２Ｈ，ｄ)，７．２８(１Ｈ，ｄ)，７．１２(１Ｈ，ｄｄ)，７．０２(２Ｈ，ｄ)，６．９７(１Ｈ，ｄ)，６．７５(１Ｈ，ｄｄ)，６．４１(１Ｈ，ｄ)，６．１７(１Ｈ，ｄｄ)，５．８５(１Ｈ，ｄ)，５．７８(１Ｈ，ｄ)，５．２７(１Ｈ，ｄ)，５．１３(２Ｈ，ｓ)，４．１(２Ｈ，ｔ)，４．１８(２Ｈ，ｔ)，２．２１(４Ｈ，ｍ)

（実施例４）：構造式（１−７）で表される重合性化合物の合成
４−(４−ビニルベンジルオキシ)ベンズアルデヒド０．８２ｇ、アクリル酸３-（４-アミノ-２-クロロフェニルオキシ）プロピル０．８８ｇ及びエタノール７０ｍＬを混合し、酢酸１０ｍｇを添加した。室温で５時間攪拌した後、エタノールを溶媒として用い、二度の再結晶を行うことにより、白色結晶として構造式（１−７）で表される重合性化合物を０．８５ｇ得た（収率３２％）。
上記により得られた重合性化合物を、ＣＨＣｌ_３を溶媒として^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して同定した結果を、下記に示す。
δ（ｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ）：８．４２(１Ｈ，ｓ)，７．８２(２Ｈ，ｄ)，７．４３（２Ｈ，ｄ)，７．４１(２Ｈ，ｄ)，７．２９(１Ｈ，ｄ)，７．１２(１Ｈ，ｄｄ)，７．０３(２Ｈ，ｄ)，６．９７(１Ｈ，ｄ)，６．７５(１Ｈ，ｄｄ)，６．４２(１Ｈ，ｄ)，６．１６(１Ｈ，ｄd)，５．８５(１Ｈ，ｄ)，５．７８(１Ｈ，ｄ)，５．２７(１Ｈ，ｄ)，５．１３(２Ｈ，s)，４．４１(２Ｈ，ｔ)，４．１７(２Ｈ，ｔ)，２．２１(２Ｈ，ｔｔ)

（実施例５）：構造式（１−８）で表される重合性化合物の合成
４−(４−ビニルベンジルオキシ)ベンズアルデヒド１．３２ｇ、アクリル酸２-（４-アミノ-３-フルオロフェニルオキシ）エチル１．２５ｇ及びエタノール１００ｍＬを混合し、酢酸１０ｍｇを添加した。室温で５時間攪拌した後、エタノールを溶媒として用い、二度の再結晶を行うことにより、白色結晶として構造式（１−８）で表される重合性化合物を１．４７ｇ得た（収率５９％）。
上記により得られた重合性化合物を、ＣＨＣｌ_３を溶媒として^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して同定した結果を、下記に示す。
δ（ｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ）：８．３９(１Ｈ，ｓ)，７．８２(２Ｈ，ｄ)，７．４３(２Ｈ，ｄ)，７．４１(２Ｈ，ｄ)，７．１４(１Ｈ，ｓ），７．０２(２Ｈ，ｄ)，６．７３（３Ｈ，ｍ)，６．４１(１Ｈ，ｄ)，６．１５(１Ｈ，ｄｄ)，５．８３(１Ｈ，ｄ)，５．７８(１Ｈ，ｄ)，５．２８(１Ｈ，ｄ)，５．１６(２Ｈ，ｓ)，４．５９(２Ｈ，ｔ)，４．３１(２Ｈ，ｔ)

（実施例６）：構造式（１−１０）で表される重合性化合物の合成
４−(４−ビニルベンジルオキシ)ベンズアルデヒド０．４８ｇ、アクリル酸４-（４-アミノ-２，６-ジクロロフェニルオキシ）ブチル０．６１ｇ及びエタノール４０ｍＬを混合し、酢酸１０ｍｇを添加した。室温で５時間攪拌した後、エタノールを溶媒として用い、二度の再結晶を行うことにより、白色結晶として構造式（１−１０）で表される重合性化合物を０．２０ｇ得た（収率３９％）。
上記により得られた重合性化合物を、ＣＨＣｌ_３を溶媒として^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して同定した結果を、下記に示す。
δ（ｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ）：８．３２(１Ｈ，ｓ)，７．８２(２Ｈ，ｄ)，７．４３(２Ｈ，ｄ)，７．４１(２Ｈ，ｄ)，７．１７(２Ｈ，ｓ)，７．０３(２Ｈ，ｄ)，６．７４(１Ｈ，ｄｄ)，６．４２(１Ｈ，ｄ)，６．１５(１Ｈ，ｄｄ)，５．８２(１Ｈ，ｄ)，５．７７(１Ｈ，ｄ)，５．２７(１Ｈ，ｄ)，５．１５(２Ｈ，ｓ)，４．２９(２Ｈ，ｔ)，４．０３(２Ｈ，ｔ)，１．９８(４Ｈ，ｍ)

（実施例７）：構造式（１−１１）で表される重合性化合物の合成
４−（４−ビニルベンジルオキシ)ベンズアルデヒド０．４８ｇ、アクリル酸２-（４-アミノ−２−クロロフェニルオキシ）エチル０．５４ｇおよびエタノール４０ｍＬを混合し、酢酸１０ｍｇを添加した。室温で５時間攪拌した後、エタノールを溶媒として用い、二度の再結晶を行うことにより、白色結晶として構造式（１−１１）で表される重合性化合物を０．３０ｇ得た（収率３２％）。
上記により得られた重合性化合物を、ＣＨＣｌ_３を溶媒として^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して同定した結果を、下記に示す。
δ（ｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ）：８．３８(１Ｈ，ｓ)，７．８２(２Ｈ，ｄ)，７．４３(２Ｈ，ｄ)，７．４１(２Ｈ，ｄ)，７．２９(１Ｈ，ｄ)，７．１２(１Ｈ，ｄｄ)，７．０３(２Ｈ，ｄ)，６．９８(１Ｈ，ｄ)，６．７５(１Ｈ，ｄｄ)，６．４５(１Ｈ，ｄ)，６．１９(１Ｈ，ｄｄ)，５．８５(１Ｈ，ｄ)，５．７８(１Ｈ，ｄ)，５．２７(１Ｈ，ｄ)，５．１３(２Ｈ，ｓ)，４．５８(２Ｈ，ｔ)，４．３０(２Ｈ，ｔ)

（実施例８）：構造式（１−１５）で表される重合性化合物の合成
４−（４−ビニルベンジルオキシ)ベンズアルデヒド０．９６ｇ、アクリル酸２-（４-アミノフェニル）エチル０．４８ｇ及びエタノール４０ｍＬを混合し、酢酸１０ｍｇを添加した。室温で５時間攪拌した後、エタノールを溶媒として用い、二度の再結晶を行うことにより、白色結晶として構造式（１−１５）で表される重合性化合物を０．４０ｇ得た（収率４９％）。
上記により得られた重合性化合物を、ＣＨＣｌ_３を溶媒として^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して同定した結果を、下記に示す。
δ（ｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ）：８．３９(１Ｈ，ｓ)，７．８２(２Ｈ，ｄ)，７．４３(２Ｈ，ｄ)，７．４１(２Ｈ，ｄ)，７．２５(２Ｈ，ｄ)，７．１３(２Ｈ，ｄ)，７．０３(２Ｈ，ｄ)，６．７５(１Ｈ，ｄｄ)，６．４０(１Ｈ，ｄ)，６．１２(１Ｈ，ｄｄ)，５．８２(１Ｈ，ｄ)，５．７８(１Ｈ，ｄ)，５．２６(１Ｈ，ｄ)，５．１２(２Ｈ，ｓ)，４．３９(２Ｈ，ｔ)，２．９９(２Ｈ，ｔ)

（実施例９）：構造式（１−１８）で表される重合性化合物の合成
４−（４−ビニルベンジルオキシ)ベンズアルデヒド０．４８ｇ、４−（４−ビニルベンジルオキシ）アニリン０．４５ｇおよびエタノール８ｍＬを混合し、酢酸５ｍｇを添加した。３０分間還流した後、エタノールを溶媒として用い、再結晶を行うことにより、白色結晶として構造式（１−１８）で表される重合性化合物を０．７７ｇ得た（収率８７％）。
上記により得られた重合性化合物を、ＣＨＣｌ_３を溶媒として^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して同定した結果を、下記に示す。
δ（ｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ）：８．４０(１Ｈ，ｓ)，７．８３(２Ｈ，ｄ)，７．４６‐６．９７(１０Ｈ，ｍ)，６．７３(２Ｈ，ｄｄ)，５．７７(２Ｈ，ｄ)，５．２７(２Ｈ，ｄ)，５．１２(２Ｈ，ｓ)，５．０７(２Ｈ，ｓ)

（実施例１０）：構造式（１−２７）で表される重合性化合物の合成
３−クロロ−４−(４−ビニルベンジルオキシ)ベンズアルデヒド０．３５ｇ、アクリル酸４-（４-アミノ-フェニルオキシ）ブチル０．３０ｇ及びエタノール１００ｍＬを混合し、酢酸１０ｍｇを添加した。室温で５時間攪拌した後、エタノールを溶媒として用い、二度の再結晶を行うことにより、白色結晶として構造式（１−２７）で表される重合性化合物を０．１８ｇ得た（収率３７％）。
上記により得られた重合性化合物を、ＣＨＣｌ_３を溶媒として^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して同定した結果を、下記に示す。
δ（ｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ）：８．３８(１Ｈ，ｓ)，７．９９(１Ｈ，ｄ)，７．６４(１Ｈ，ｄ)，７．４２(４Ｈ，ｓ)，７．２０(２Ｈ，ｄ)，７．０２(１Ｈ，ｄ)，６．９０(２Ｈ，ｄ)，６．７４(１Ｈ，ｄｄ)，６．４１(１Ｈ，ｄ)，６．１２(１Ｈ，ｄｄ)，５．８１(１Ｈ，ｄ)，５．７８(１Ｈ，ｄ)，５．２４(１Ｈ，ｄ)，５．２０(２Ｈ，ｓ)，４．２３(２Ｈ，ｂｒｓ)，４．０１(２Ｈ，ｂｒｓ)，１．８９(４Ｈ，ｂｒｓ)

（実施例１１）：構造式（１−２９）で表される重合性化合物の合成
３−クロロ−４−(４−ビニルベンジルオキシ)ベンズアルデヒド０．５４ｇ、アクリル酸４-（４-アミノ-３-フルオロフェニルオキシ）ブチル０．５１ｇ及びエタノール１００ｍＬを混合し、酢酸１０ｍｇを添加した。室温で５時間攪拌した後、エタノールを溶媒として用い、二度の再結晶を行うことにより、白色結晶として構造式（１−２９）で表される重合性化合物を０．２１ｇ得た（収率２１％）。
上記により得られた重合性化合物を、ＣＨＣｌ_３を溶媒として^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して同定した結果を、下記に示す。
δ（ｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ）：８．４１(１Ｈ，ｓ)７．９９(１Ｈ，ｄ)，７．６７(１Ｈ，ｄ)，７．４２(４Ｈ，ｂｒｓ)，７．１０(１Ｈ，ｔ)，７．０１(１Ｈ，ｄ)，６．７４(３Ｈ，ｍ)，６．４１(１Ｈ，ｄ)，６．１２(１Ｈ，ｄｄ)，５．８１(１Ｈ，ｄ)，５．７８(１Ｈ，ｄ)，５．２４(１Ｈ，ｄ)，５．２０(２Ｈ，ｓ)，４．２３(２Ｈ，ｂｒｓ)，４．０１(２Ｈ，ｂｒｓ)，１．８９(４Ｈ，ｂｒｓ)

（実施例１２）：構造式（１−３６）で表される重合性化合物の合成
４−（４−ビニルベンジルオキシ)ベンズアルデヒド０．８ｇ、アクリル酸 ３-（４-アミノ−３−フルオロフェニルオキシ）プロピル０．８ｇおよびエタノール４０ｍＬを混合し、酢酸１０ｍｇを添加した。室温で５時間攪拌した後、エタノールを溶媒として用い、二度の再結晶を行うことにより、白色結晶として構造式（１−３６）で表される重合性化合物を０．８８ｇ得た（収率５４％）。
上記により得られた重合性化合物を、ＣＨＣｌ_３を溶媒として^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して同定した結果を、下記に示す。
δ（ｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ）：８．４４(１Ｈ，ｓ)，７．８２(２Ｈ，ｄ)，７．４３(２Ｈ，ｄ)，７．４１(２Ｈ，ｄ)，７．１４(１Ｈ，ｓ)，７．０２(２Ｈ，ｄ)，６．７２(３Ｈ，ｍ)，６．４２(１Ｈ，ｄ)，６．１５(１Ｈ，ｄｄ)，５．８３(１Ｈ，ｄ)，５．７８(１Ｈ，ｄ)，５．２８(１Ｈ，ｄ)，５．１６(２Ｈ，ｓ)，４．３９(２Ｈ，ｔ)，４．０３(２Ｈ，ｔ)，１．９７(２Ｈ，ｔｔ)

（実施例１３）：構造式（１−３８）で表される重合性化合物の合成
４−（４−ビニルベンジルオキシ）ベンズアルデヒド０．４８ｇ、アクリル酸 ４-（４-アミノ−３−フルオロフェニルオキシ）‐１−メチルブチル０．５３ｇおよびエタノール４０ｍＬを混合し、酢酸１０ｍｇを添加した。室温で５時間攪拌した後、エタノールを溶媒として再結晶を行い、白色結晶として構造式（１−３８）で表される重合性化合物を０．８５ｇ得た（収率８７％）。
上記により得られた重合性化合物を、ＣＨＣｌ_３を溶媒として^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して同定した結果を、下記に示す。
δ（ｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ）：８．４７(１Ｈ，ｓ)，７．８２（２Ｈ，ｄ），７．４２(４Ｈ，ｍ)，７．１２（１Ｈ，ｔ），７．０３(２Ｈ，ｄ)，６．７０(３Ｈ，ｍ)，６．４２(１Ｈ，ｄ)，６．１３(１Ｈ，ｄｄ)，５．８２(１Ｈ，ｄ)，５．７８(１Ｈ，ｄ)，５．２８(１Ｈ，ｄ)，５．１０(２Ｈ，ｓ)，５．０８(１Ｈ，ｍ)，３．９８(２Ｈ，ｔ)，１．９２(４Ｈ，ｍ)，１．３０(３Ｈ，ｄ)

（実施例１４）：構造式（２−２）で表される重合性化合物の合成
４−（６−アクリロイルオキシヘキシルオキシ）ベンズアルデヒド０．５５ｇ、４−（４−ビニルベンジルオキシ）アニリン０．４５ｇおよびエタノール５ｍＬを混合し、酢酸５ｍｇを添加した。１時間還流した後、エタノールを溶媒として用い、再結晶を行うことにより、白色結晶として構造式（２−２）で表される重合性化合物を０．８２ｇ得た（収率８５％）。
上記により得られた重合性化合物を、ＣＨＣｌ_３を溶媒として^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して同定した結果を、下記に示す。
δ（ｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ）：８．４０(１Ｈ，ｓ)，７．８１(２Ｈ，ｄ)，７．４３(２Ｈ，ｄ)，７．４０(２Ｈ，ｄ)，７．２０(２Ｈ，ｄ)，６．９９(２Ｈ，ｄ)，６．９６(２Ｈ，ｄ)，６．７３(１Ｈ，ｄｄ)，６．５６(１Ｈ，ｄ)，６．１３(１Ｈ，ｄ)，５．８２(１Ｈ，ｄ)，５．７８(１Ｈ，ｄ)，５．２６(１Ｈ，ｄ)，５．０７(２Ｈ，ｓ)，４．１８(２Ｈ，ｔ)，４．０２(２Ｈ，ｔ)，１．８５−１．４６(８Ｈ，ｍ)

（実施例１５）：構造式（２−６）で表される重合性化合物の合成
４−アクリロイルオキシベンズアルデヒド０．３５ｇ、４−（４−ビニルベンジルオキシ）アニリン０．４５ｇおよびエタノール５ｍＬを混合し、酢酸５ｍｇを添加した。１時間還流した後、エタノールを溶媒として用、再結晶を行うことにより、白色結晶として構造式（２−６）で表される重合性化合物を０．６５ｇ得た（収率８５％）。
上記により得られた重合性化合物を、ＣＨＣｌ_３を溶媒として^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して同定した結果を、下記に示す。
δ（ｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ）：８．４７(１Ｈ，ｓ)，７．９３(２Ｈ，ｄ)，７．４４(２Ｈ，ｄ)，７．４１(２Ｈ，ｄ)，７．２７−７．２０(４Ｈ，ｍ)，７．０２(２Ｈ，ｄ)，６．７３(１Ｈ，ｄｄ)，６．６４(１Ｈ，ｄ)，６．３４(１Ｈ，ｄｄ)，６．０７(１Ｈ，ｄ)，５．７７(１Ｈ，ｄ)，５．２６(１Ｈ，ｄ)，５．０８(２Ｈ，ｓ)

（実施例１６）：構造式（２−１７）で表される重合性化合物の合成
４−アクリロイルオキシ−３−メトキシベンズアルデヒド０．４１ｇ、４−（４−ビニルベンジルオキシ）アニリン０．４５ｇおよびエタノール５ｍＬを混合し、酢酸５ｍｇを添加した。１時間還流した後、エタノールを溶媒として用い、再結晶を行うことにより、白色結晶として構造式（２−１７）で表される重合性化合物を０．６９ｇ得た（収率８３％）。
上記により得られた重合性化合物を、ＣＨＣｌ_３を溶媒として^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して同定した結果を、下記に示す。
δ（ｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ）：８．４３(１Ｈ，ｓ)，７．６８(１Ｈ，ｓ)，７．４３−７．１６(８Ｈ，ｍ)，７．００(２Ｈ，ｄ)，６．７３(１Ｈ，ｄｄ)，６．４１(１Ｈ，ｄ)，６．３７(１Ｈ，ｄｄ)，６．０５(１Ｈ，ｄ)，５．７７(１Ｈ，ｄ)，５．２７(１Ｈ，ｄ)，５．０８(２Ｈ，ｓ)
，３．９３(３Ｈ，ｓ)

（実施例１７）：構造式（２−１８）で表される重合性化合物の合成
４−アクリロイルオキシサリチルアルデヒド０．３８ｇ、４−（４−ビニルベンジルオキシ）アニリン０．４５ｇおよびエタノール５ｍＬを混合し、酢酸５ｍｇを添加した。１時間還流した後、エタノールを溶媒として用い、再結晶を行った後に、２−ブタノンで再度再結晶を行うことにより、白色結晶として構造式（２−１８）で表される重合性化合物を０．３８ｇ得た（収率４８％）。
上記により得られた重合性化合物を、ＣＨＣｌ_３を溶媒として^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して同定した結果を、下記に示す。
δ（ｐｐｍ ｆｒｏｍ ＴＭＳ）：８．５９(１Ｈ，ｓ)，７．４６−７．２４(７Ｈ，ｍ)，７．００(２Ｈ，ｄ)，６．７３(１Ｈ，ｄｄ)，６．４１(１Ｈ，ｄ)，６．３７(１Ｈ，ｄｄ)，６．０５(１Ｈ，ｄ)，５．７７(１Ｈ，ｄ)，５．２７(１Ｈ，ｄ)，５．０８(２Ｈ，ｓ)
，３．９３(３Ｈ，ｓ)

（実施例１８）：液晶性組成物の調製及びコレステリック液晶重合体の形成
日立化成デュポン社製のポリイミド配向膜ＬＸ−１４００膜を形成してラビングを行ったガラス基板の該配向膜上に、下記処方にて調製した液晶性組成物をスピンコーターにより塗布し、これを１００℃のオーブンで２分間乾燥して塗布層を形成した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・構造式（１−２）で表される重合性化合物（実施例１） ６０質量部
・パリオカラーＬＣ−２４２（ＢＡＳＦ社製） ３０質量部
・パリオカラーＬＣ−７５６（ＢＡＳＦ社製） ７質量部
・ＬｕｃｕｒｉｎＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製） ３質量部
・メチルエチルケトン ２００質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――

次いで、ガラス基板の表面で接触するように、７０℃のホットプレート上に５分間保持し、塗布層を発色させたところ、コレステリック液晶相由来の選択反射色が得られ、その透過スペクトルの半値幅は６０ｎｍであった。

次に、窒素ガスを吹き付けながら７０℃で超高圧水銀灯により、照射エネルギー５００ｍＪ／ｃｍ^２で全面を露光し、重合硬化することで緑色の選択反射色を固定化した。得られたコレステリック液晶重合体の透過スペクトルの半値幅は６０ｎｍであった。

（実施例１９）：液晶性組成物及びコレステリック液晶重合体の形成
実施例１８において、構造式（１−２）で表される重合性化合物の代わりに、実施例２で合成した構造式（１−５）で表される重合性化合物を用い、８０℃で発色させ８０℃で重合した以外は、実施例１８と同様にして、コレステリック液晶重合体を得た。得られたコレステリック液晶重合体の透過スペクトルの半値幅は６２ｎｍであった。

（実施例２０）：液晶性組成物及びコレステリック液晶重合体の形成
実施例１８において、構造式（１−２）で表される重合性化合物６０質量部、及びパリオカラーＬＣ−２４２ ３０質量部の代わりに、実施例１０で合成した構造式（１−２７）で表される重合性化合物８０質量部、及びパリオカラーＬＣ−２４２ １０質量部を用い、８０℃で発色させ８０℃で重合した以外は、実施例１８と同様にして、コレステリック液晶重合体を得た。得られたコレステリック液晶重合体の透過スペクトルの半値幅は７０ｎｍであった。

（実施例２１）：液晶性組成物及びコレステリック液晶重合体の形成
実施例１８において、構造式（１−２）で表される重合性化合物の代わりに、実施例１５で合成した構造式（２−６）で表される重合性化合物を用い、９０℃で発色させ９０℃で重合した以外は実施例１８と同様にしてコレステリック液晶重合体を得た。得られたコレステリック液晶重合体の透過スペクトルの半値幅は６５ｎｍであった。

（実施例２２）：光記録媒体用フィルタの作製
まず、厚み１００μｍのポリカーボネートフィルム（三菱瓦斯化学株式会社製、商品名ユーピロン）上に、ポリビニルアルコール（株式会社クラレ製、商品名ＭＰ２０３）を厚み１μｍとなるように塗布したベースフィルムを用意した。このベースフィルムをラビング装置に通して、ポリビニルアルコール膜面をラビングし、液晶配向能を付与した。
次に、前記ベースフィルム上に、実施例１８のコレステリック液晶層用塗布液をスピンコーターにより塗布し、これを１００℃のオーブンで２分間乾燥して感光性樹脂層を形成した。
次いで、ポリカーボネート基板の表面で接触するように、７０℃のホットプレート上に５分間保持し、感光性樹脂層を発色させ、窒素ガスを吹き付けながら７０℃で超高圧水銀灯により、照射エネルギー５００ｍＪ／ｃｍ^２で露光して、厚み４．１μｍのコレステリック液晶層硬化膜を形成した。
以上により、実施例２２の光記録媒体用フィルタを作製した。

−光記録媒体の作製−
第二の基板としては、直径１２０ｍｍ、板厚０．６ｍｍのＤＶＤ＋ＲＷ用に用いられている一般的なポリカーボネート樹脂製基板を使用した。この基板表面には、全面にわたってサーボピットパターンが形成されており、そのトラックピッチは０．７４μｍであり、溝深さは１７５ｎｍ、溝幅は３００ｎｍである。
まず、第二の基板のサーボピットパターン表面に反射膜を成膜した。反射膜材料にはアルミニウム（Ａｌ）を用いた。成膜はＤＣマグネトロンスパッタリング法により膜厚２００ｎｍのＡｌ反射膜を成膜した。次いで、前記反射膜の上に第１ギャップ層として、厚み１００μｍのポリカーボネートフィルムを用い、紫外線硬化樹脂にて接着した。

次に、作製した光記録媒体用フィルタを前記基板に設置できるように所定のディスクサイズに打ち抜き、ベースフィルム面をサーボピットパターン側にして貼り付けた。貼り合わせには紫外線硬化性樹脂や粘着剤を用いて気泡が入らないようにして行った。以上によりフィルタ層を形成した。

次に、記録層材料としては、下記組成物を窒素気流下で混合し、フォトポリマー塗布液を調製した。
−フォトポリマー塗布液の組成−
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・ビスシクロヘキシルメタンジイソシアネート ３１．５質量％
・ポリプロピレンオキサイドトリオール（分子量１，０００） ６１．２質量％
・テトラメチレングリコール ２．５質量％
・２，４，６−トリブロモフェニルアクリレート ３．１質量％
・光重合開始剤
（チバ・スペシャルケミカル社製、イルガキュア７８４） ０．６９質量％
・ジブチルジラウレートスズ １．０１質量％
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――

得られたフォトポリマー塗布液を前記フィルタ層上にディスペンサーを用いて盛りつけ、このフォトポリマー上に、直径１２ｃｍ、厚み０．６ｍｍのポリカーボネート樹脂製第一の基板を押し付けながらディスク端部と該第一の基板を接着剤で貼り合せた。なお、ディスク端部には、該フォトポリマー層が厚み５００μｍとなるようにフランジ部が設けてあり、ここに、前記第一の基板を接着することによってフォトポリマー層の厚さは決定され、余分なフォトポリマーはあふれ出て、除去される。以上により、実施例２２の光記録媒体を作製した。なお、図２は、本実施例に類似の形態を示す概略断面図である。

−光記録媒体への記録及び評価−
得られた光記録媒体について、光記録再生装置（パルステック社製、ＳＨＯＴ−１０００）に搭載して、実際に情報の記録を行い、再生し、再生画像のＳＮＲ（Ｓｉｇｎａｌ ｔｏ Ｎｏｉｓｅ Ｒａｔｉｏ）を測定した。結果を表１に示す。

（実施例２３）
−光記録媒体用フィルタの作製−
実施例２２で用いたものと同じベースフィルムをラビング装置に通して、ポリビニルアルコール膜面をラビングし、液晶配向能を付与した。
次に、実施例１９の液晶性組成物を用い、コレステリック液晶層用塗布液を常法により調製した。
次いで、前記ベースフィルム上に、前記コレステリック液晶層用塗布液をスピンコーターにより塗布し、これを１００℃のオーブンで２分間乾燥して感光性樹脂層を形成した。
次に、ベースフィルム面で接触するように８０℃のホットプレート上に５分間保持し、感光性樹脂層を発色させ、窒素ガスを吹き付けながら８０℃で超高圧水銀灯により照射エネルギー５００ｍＪ／ｃｍ^２で全面を露光して、厚み３．９μｍのコレステリック液晶層硬化膜を形成した。
以上により、実施例２３の光記録媒体用フィルタを作製した。

−光記録媒体の作製−
実施例２２と同様にして、実施例２３の光記録媒体を作製した。

−光記録媒体への記録及び評価−
得られた光記録媒体について、光記録再生装置（パルステック社製、ＳＨＯＴ−１０００）に搭載して、実際に情報の記録を行い、再生し、再生画像のＳＮＲ（Ｓｉｇｎａｌ ｔｏ Ｎｏｉｓｅ Ｒａｔｉｏ）を測定した。結果を表１に示す。

（実施例２４）
−光記録媒体用フィルタの作製−
実施例２２で用いたものと同じベースフィルムをラビング装置に通して、ポリビニルアルコール膜面をラビングし、液晶配向能を付与した。
次に、実施例２０の液晶性組成物を用い、コレステリック液晶層用塗布液を常法により調製した。
次いで、前記ベースフィルム上に、前記コレステリック液晶層用塗布液をスピンコーターにより塗布し、これを１００℃のオーブンで２分間乾燥して感光性樹脂層を形成した。
次に、ベースフィルム面で接触するように８０℃のホットプレート上に５分間保持し、感光性樹脂層を発色させ、窒素ガスを吹き付けながら８０℃で超高圧水銀灯により照射エネルギー５００ｍＪ／ｃｍ^２で全面を露光して、厚み４．１μｍのコレステリック液晶層硬化膜を形成した。
以上により、実施例２４の光記録媒体用フィルタを作製した。

−光記録媒体作製−
実施例２２と同様にして、実施例２４の光記録媒体を作製した。

−光記録媒体への記録及び評価−
得られた光記録媒体について、光記録再生装置（パルステック社製、ＳＨＯＴ−１０００）に搭載して、実際に情報の記録を行い、再生し、再生画像のＳＮＲ（Ｓｉｇｎａｌ ｔｏ Ｎｏｉｓｅ Ｒａｔｉｏ）を測定した。結果を表１に示す。

（実施例２５）
−光記録媒体用フィルタの作製−
実施例２２で用いたものと同じベースフィルムをラビング装置に通して、ポリビニルアルコール膜面をラビングし、液晶配向能を付与した。
次に、実施例２１の液晶性組成物を用い、コレステリック液晶層用塗布液を常法により調製した。
次いで、前記ベースフィルム上に、前記コレステリック液晶層用塗布液をスピンコーターにより塗布し、これを１００℃のオーブンで２分間乾燥して感光性樹脂層を形成した。
次に、ベースフィルム面で接触するように９０℃のホットプレート上に５分間保持し、感光性樹脂層を発色させ、窒素ガスを吹き付けながら９０℃で超高圧水銀灯により照射エネルギー５００ｍＪ／ｃｍ^２で全面を露光して、厚み４．０μｍのコレステリック液晶層硬化膜を形成した。
以上により、実施例２５の光記録媒体用フィルタを作製した。

−光記録媒体の作製−
実施例２２と同様にして、実施例２５の光記録媒体を作製した。

−光記録媒体への記録及び評価−
得られた光記録媒体について、光記録再生装置（パルステック社製、ＳＨＯＴ−１０００）に搭載して、実際に情報の記録を行い、再生し、再生画像のＳＮＲ（Ｓｉｇｎａｌ ｔｏ Ｎｏｉｓｅ Ｒａｔｉｏ）を測定した。結果を表１に示す。

（比較例１）
−光記録媒体用フィルタの作製−
実施例２２で用いたものと同じベースフィルムをラビング装置に通して、ポリビニルアルコール膜面をラビングし、液晶配向能を付与した。

次に、下記の液晶性組成物を用い、コレステリック液晶層用塗布液を常法により調製した。
＜コレステリック液晶用塗布液の組成＞
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・パリオカラーＬＣ−２４２（ＢＡＳＦ社製） ９１．５質量部
・パリオカラーＬＣ−７５６（ＢＡＳＦ社製） ５．５質量部
・ＬｕｃｕｒｉｎＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製） ３質量部
・メチルエチルケトン ２００質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――

次いで、前記ベースフィルム上に、前記コレステリック液晶層用塗布液をスピンコーターにより塗布し、これを１００℃のオーブンで２分間乾燥して感光性樹脂層を形成した。次にベースフィルム面で接触するように１００℃のホットプレート上に５分間保持し、感光性樹脂層を発色させ、窒素ガスを吹き付けながら１００℃で超高圧水銀灯により照射エネルギー５００ｍＪ／ｃｍ^２で全面を露光して、厚み４．１μｍのコレステリック液晶層硬化膜を形成した。
以上により、比較例１の光記録媒体用フィルタを作製した。

−光記録媒体の作製−
実施例２２と同様にして、比較例１の光記録媒体を作製した。

−光記録媒体への記録及び評価−
得られた光記録媒体について、光記録再生装置（パルステック社製、ＳＨＯＴ−１０００）に搭載して、実際に情報の記録を行い、再生し、再生画像のＳＮＲ（Ｓｉｇｎａｌ ｔｏ Ｎｏｉｓｅ Ｒａｔｉｏ）を測定した。結果を表１に示す。

表１の結果より、一般式（１）で表される重合性化合物を含有した液晶性組成物を使用して形成した、実施例２２〜２５の光記録媒体では、光記録後に再生を行うと、一般式（１）で表される重合性化合物を含有しない液晶性組成物を使用して形成した、比較例１の光記録媒体に比べて、ノイズの発生を防止することができ、良好な再生像が得られることが判った。

本発明の光記録媒体用フィルタは、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、ノイズの発生を防止でき、今までにない高密度画像記録が可能なホログラム型の光記録媒体における波長選択反射膜として好適に用いられる。
本発明の光記録媒体は、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、ノイズの発生を防止でき、今までにない高密度画像記録が可能なホログラム型の各種光記録媒体として幅広く用いられる。

図１は、従来の光記録媒体の構造を示す概略断面図である。 図２は、本発明による第一の実施形態に係る光記録媒体の一例を示す概略断面図である。 図３は、本発明による第二の実施形態に係る光記録媒体の一例を示す概略断面図である。 図４は、本発明による光記録媒体周辺の光学系の一例を示す説明図である。 図５は、本発明の光記録再生装置の全体構成の一例を表すブロック図である。

符号の説明

１ 第二の基板
２ 反射膜
３ サーボビットパターン
４ 記録層
５ 第一の基板
６ フィルタ層（コレステリック液晶層）
７ 第２ギャップ層
８ 第１ギャップ層
１２ 対物レンズ
１３ ダイクロイックミラー
１４ 検出器
１５ １／４波長板
１６ 偏光板
１７ ハーフミラー
２０ 光記録媒体
２１ 光記録媒体
２２ 光記録媒体
３１ ピックアップ
８１ スピンドル
８２ スピンドルモータ
８３ スピンドルサーボ回路
８４ 駆動装置
８５ 検出回路
８６ フォーカルサーボ回路
８７ トラッキングサーボ回路
８８ スライドサーボ回路
８９ 信号処理回路
９０ コントローラ
９１ 操作部
１００ 光記録再生装置
Ａ 入出射面
ＦＥ フォーカスエラー信号
ＴＥ トラッキングエラー信号
ＲＦ 再生信号

Claims (13)

1. 下記一般式（１）で表されることを特徴とする重合性化合物。
   ただし、前記一般式（１）中、Ａｒ^１、Ａｒ^２、Ａｒ^３、及びＡｒ^４は、それぞれ独立に置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基、及び置換基を有していてもよいナフタレン−２，６−ジ−イル基のいずれかを表す。Ｚ^１及びＺ^２はそれぞれ独立に単結合、−ＣＯＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、及び−Ｃ≡Ｃ−のいずれかを表す。ｍ及びｎは、それぞれ独立に０及び１のいずれかの整数を表す。
   また、Ａ^１及びＡ^２はそれぞれ独立に下記一般式（２）で表される置換基、−ＣＨ＝ＣＨ_２、−Ｐ^２、−Ｌ^２−Ｐ^２、及び−Ｘ^２−Ｌ^２−Ｐ^２のいずれかを表し、Ａ^１及びＡ^２の少なくとも一方は、該一般式（２）で表される置換基を表す。該Ｐ^２は、重合性基を表し、該Ｌ^２は、アルキレン基、アルケニレン基、及びアラルキレン基のいずれかを表し、該Ｘ^２は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、及び−ＮＨＣＯ−のいずれかを表す。
   ただし、前記一般式（２）中、Ａ^３は−ＣＨ＝ＣＨ_２、−Ｐ^１、−Ｌ^１−Ｐ^１、及び−Ｘ^１−Ｌ^１−Ｐ^１のいずれかを表し、該Ｐ¹は、重合性基を表し、該Ｌ^１は、アルキレン基、アルケニレン基、及びアラルキレン基のいずれかを表し、該Ｘ^１は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、及び−ＮＨＣＯ−のいずれかを表す。Ｙは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、及びアルコキシ基のいずれかを表す。
2. 一般式（１）中のＡ^１が、一般式（２）で表される置換基である請求項１に記載の重合性化合物。
3. 請求項１から２のいずれかに記載の重合性化合物を少なくとも含有することを特徴とする液晶性組成物。
4. 光学活性化合物を含有する請求項３に記載の液晶性組成物。
5. 請求項３から４のいずれかに記載の液晶性組成物を重合硬化してなることを特徴とする重合体。
6. コレステリック液晶重合体である請求項５に記載の重合体。
7. コレステリック液晶層を有し、該コレステリック液晶層が、請求項３から４のいずれかに記載の液晶性組成物を用いて形成されたことを特徴とする光記録媒体用フィルタ。
8. 第一の波長の光を透過し、該第一の波長の光と異なる第二の波長の光を反射する請求項７に記載の光記録媒体用フィルタ。
9. 第一の波長の光が３５０〜６００ｎｍであり、かつ第二の波長の光が６００〜９００ｎｍである請求項８に記載の光記録媒体用フィルタ。
10. ホログラフィを利用して情報を記録する光記録媒体の選択反射膜として用いられ、
    前記光記録媒体が、情報光及び参照光を同軸光束として該光記録媒体に照射し、前記情報光と前記参照光との干渉による干渉パターンによって情報を記録する請求項７から９のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタ。
11. 第一の基板と、第二の基板と、該第二の基板上にホログラフィを利用して情報を記録する記録層と、前記第二の基板と該記録層との間にフィルタ層とを有してなり、該フィルタ層が、請求項７から１０のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタであることを特徴とする光記録媒体。
12. 請求項１１に記載の光記録媒体に対し情報光及び参照光を同軸光束として照射し、該情報光と参照光との干渉による干渉パターンによって情報を記録層に記録することを特徴とする光記録方法。
13. 請求項１２に記載の光記録方法により記録層に記録された干渉パターンに参照光を照射して情報を再生することを特徴とする光再生方法。