JP2007203220A - 純水製造システム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】純水製造システムは、第1の逆浸透膜モジュール3、第2の逆浸透膜モジュール4、第3の逆浸透膜モジュール5の3個の逆浸透膜モジュールを直列的に接続したモジュール群Mと、このモジュール群Mの透過水排出ライン6上に設けた電気脱イオン装置7とを備える。第3の逆浸透膜モジュール5の濃縮水排出ライン5Aに連続するメインライン9は予備的逆浸透膜モジュール13に接続していて、この予備的逆浸透膜モジュール13の透過水排出ライン13Aは原水槽Tに接続されている。
【選択図】図1
Description
図1は、本実施形態に係る純水製造システムを有する超純水製造装置のフロー図を示す。
まず、原水槽Tから供給される原水Wに対し、前処理として活性炭塔1で有機物を除去した後、膜式前処理装置2で濁質成分を除去する。続いて、この前処理後の被処理水を純水製造システムに導入する。
図1に示す純水製造装置において、前処理装置及びサブシステムを設けず、図2に示すように、原水槽T及び純水製造システムのみで装置を構成した。この装置において、モジュール群M(第1の逆浸透膜モジュール3、第2の逆浸透膜モジュール4、及び第3の逆浸透膜モジュール5)及び予備的逆浸透膜モジュール13に8インチのRO膜(商品名:ES−20,日東電工社製)を1本ずつ入れて、電気脱イオン装置7(CDI)として栗田工業社製の「ピュアコンティ」を用い、予備的逆浸透膜モジュール13の透過水W2を原水槽Tに戻しながらシリカ濃度32ppmの原水Wを連続的に処理した。
実施例1において予備的逆浸透膜モジュール13及びこれに接続する構成を設けない以外は同様にして図3に示すような装置を構成し、原水Wを処理した。
3…第1の逆浸透膜モジュール
4…第2の逆浸透膜モジュール
5…第3の逆浸透膜モジュール
M…モジュール群
6…透過水排出ライン
7…電気脱イオン装置
8…水質センサ(水質測定器)
9…メインライン
10…第1の開閉弁
11…サブメインライン
12…第2の開閉弁
13…予備的逆浸透膜モジュール
13A…透過水排出ライン
Claims (5)
- 複数の逆浸透膜モジュールを直列的に設けてモジュール群を構成し、該モジュール群からの透過水排出ラインに電気脱イオン装置を設けた純水製造システムであって、
前記モジュール群を構成する複数の逆浸透膜モジュールのうちのいずれか1の逆浸透膜モジュールの濃縮水排出ラインに予備的逆浸透膜モジュールを設け、該予備的逆浸透膜モジュールの透過水排出ラインを原水側に接続したことを特徴とする純水製造システム。 - 前記モジュール群からの透過水排出ラインに水質測定器を設けるとともに、前記予備的逆浸透膜モジュールを設けた濃縮水排出ラインに前記予備的逆浸透膜モジュールへの開閉弁を設け、
前記水質測定器の計測値が設定値を超えていたら予備的逆浸透膜モジュールへの開閉弁を開成して通水することを特徴とする請求項1に記載の純水製造システム。 - 前記水質測定器の計測値が設定値以下であれば、前記予備的逆浸透膜モジュールへの開閉弁を閉鎖するように制御することを特徴とする請求項2に記載の純水製造システム。
- 前記予備的逆浸透膜モジュールを設けた濃縮水排出ラインが、前記開閉弁側のラインとバイパスラインとに分岐していることを特徴とする請求項3に記載の純水製造システム。
- 前記モジュール群からの透過水排出ラインに水質測定器を設け、
前記水質測定器の計測値が設定値以下であれば前記予備的逆浸透膜モジュールに逆浸透膜を入れずに運転することを特徴とする請求項1に記載の純水製造システム。
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- 2006-02-02 JP JP2006026200A patent/JP5212585B2/ja not_active Expired - Fee Related
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