JP2007194604A5 - - Google Patents

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  1. レーザビームを射出するレーザ発振器と、
    XYステージと、
    前記XYステージ上に設けられる被照射体の表面において前記レーザビームを線状ビームに形成する光学系と、
    前記被照射体の表面に光を照射する照明と、
    前記被照射体表面の前記線状ビームが照射された領域での前記光の反射光を検出するカメラとを有し、
    前記反射光から前記線状ビームの照射位置のずれを補正することを特徴とするレーザ照射装置。
  2. レーザビームを射出するレーザ発振器と、
    XYステージと、
    前記XYステージ上に設けられる少なくとも2つのアライメントマーカーが形成された被照射体の表面において前記レーザビームを線状ビームに形成する光学系と、
    前記2つのアライメントマーカーを撮像するカメラと、
    前記カメラで検出した画像から前記2つのアライメントマーカー間の距離を検出する画像処理装置とを有し、
    前記2つのアライメントマーカー間の距離とあらかじめ決められた前記2つのアライメントマーカー間の距離の差を補正して前記線状ビームの照射位置のずれを補正することを特徴とするレーザ照射装置。
  3. レーザビームを射出するレーザ発振器と、
    XYステージと、
    前記XYステージ上に設けられる少なくとも2つのアライメントマーカーが形成された被照射体の表面において前記レーザビームを線状ビームに形成する光学系と、
    前記被照射体の表面に光を照射する照明と、
    前記2つのアライメントマーカー及び前記被照射体表面の前記線状ビームが照射された領域での前記光の反射光を検出するカメラと、
    前記カメラで検出した画像から前記2つのアライメントマーカー間の距離を検出する画像処理装置とを有し、
    前記2つのアライメントマーカー間の距離とあらかじめ決められた前記2つのアライメントマーカー間の距離の差を補正し、前記カメラで検出した前記反射光から検出された前記線状ビームの照射位置のずれを補正することを特徴とするレーザ照射装置。
  4. 請求項1乃至請求項3のいずれか一項において、
    前記被照射体はガラス基板上に形成された半導体膜であることを特徴とするレーザ照射装置。
  5. 請求項1乃至請求項4のいずれか一項において、
    前記レーザ発振器として、YAGレーザ、YVO4レーザ、GdVO4レーザ、YLFレーザ又はArレーザを用いることを特徴とするレーザ照射装置。
  6. 被照射体表面に線状ビームを照射し、
    前記被照射体表面の前記線状ビームが照射された領域に照射された光の反射光をカメラで検出し、
    前記カメラで検出した前記反射光から検出された前記線状ビームの照射位置のずれを補正することを特徴とするレーザ照射方法。
  7. 少なくとも2つのアライメントマーカーが設けられた被照射体表面をカメラで撮像し、
    前記カメラで撮像した画像から前記2つのアライメントマーカー間の距離を検出し、
    前記2つのアライメントマーカー間の距離とあらかじめ決められた前記2つのアライメントマーカー間の距離の差を補正して前記被照射体表面に照射される線状ビームの照射位置のずれを補正することを特徴とするレーザ照射方法。
  8. 少なくとも2つのアライメントマーカーが設けられた被照射体表面をカメラで撮像し、
    前記カメラで撮像した画像から前記2つのアライメントマーカー間の距離を検出し、
    前記2つのアライメントマーカー間の距離とあらかじめ決められた前記2つのアライメントマーカー間の距離の差を補正して前記被照射体表面に照射される線状ビームの照射位置のずれを補正し、
    前記被照射体表面に線状ビームを照射し、
    前記被照射体表面の前記線状ビームが照射された領域に照射された光の反射光をカメラで検出し、
    前記カメラで検出した前記反射光から検出された前記線状ビームの照射位置のずれを補正することを特徴とするレーザ照射方法。
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