JP2007192685A - 面位置検出装置、露光装置及びデバイスの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 光源から供給される検出光を被検面W上に斜め方向から送光して、該被検面W上に所定のパターンを投射する送光光学系SLと、被検面Wにより反射された検出光を集光して受光スリット上に所定のパターンの空間像を形成する受光光学系RLと、受光スリットと所定の空間像とを相対的に走査させる走査手段21と、受光スリットを介した検出光を光電変換する光電変換手段38と、走査手段21による受光スリットと所定の空間像との相対的な走査中の光電変換手段38からの光電変換出力に基づいて、所定の空間像の光強度分布を求める光強度分布算出手段とを備え、所定の空間像の光強度分布に基づいて、被検面Wの少なくとも一点の位置を検出する。
【選択図】 図1
Description
P=A・sin[2π/T(t−t0)]
但し、
P:走査位置
A:換算係数
T:走査周期
t:時間
t0:基準となる振動中心の時間
である。
Claims (13)
- 光源から供給される検出光を被検面上に斜め方向から送光して、該被検面上に所定のパターンを投射する送光光学系と、
前記被検面により反射された前記検出光を集光して受光スリット上に前記所定のパターンの空間像を形成する受光光学系と、
前記受光スリットと前記所定の空間像とを相対的に走査させる走査手段と、
前記受光スリットを介した前記検出光を光電変換する光電変換手段と、
前記走査手段による前記受光スリットと前記所定の空間像との相対的な走査中の前記光電変換手段からの光電変換出力に基づいて、前記所定の空間像の光強度分布を求める光強度分布算出手段と、
を備え、
前記所定の空間像の光強度分布に基づいて、前記被検面の少なくとも一点の位置を検出することを特徴とする面位置検出装置。 - 前記受光スリットの短手方向の幅は、前記受光スリット上に形成される前記所定のパターンの空間像の短手方向の幅より細いことを特徴とする請求項1記載の面位置検出装置。
- 前記送光光学系は、前記被検面と光学的にほぼ共役な位置に設けられた送光スリットを備えることを特徴とする請求項1または請求項2記載の面位置検出装置。
- 前記受光スリットと前記光電変換手段との間の光路中に配置されて、前記検出光を分光する分光手段を備えることを特徴とする請求項1乃至請求項3の何れか一項に記載の面位置検出装置。
- 前記光電変換手段は、前記分光手段を介して分光された前記検出光のうち、第1の波長域の検出光を検出する第1光電変換器と、前記第1の波長域とは相違する第2の波長域の検出光を検出する第2光電変換器とを備えることを特徴とする請求項4記載の面位置検出装置。
- 前記第1及び第2光電変換器は、前記分光手段により分光された前記第1及び第2の波長域の前記検出光を同時に検出することを特徴とする請求項5記載の面位置検出装置。
- 光源から供給される検出光を被検面上に斜め方向から送光する送光光学系と、
前記被検面により反射された前記検出光を受光する受光光学系と、
該受光光学系を介した前記検出光を検出する検出手段と、
前記受光光学系と前記検出手段との間の光路中に前記検出光を分光する分光手段と、
を備え、
前記検出手段は、前記分光手段を介して分光された前記検出光のうち、第1の波長域の検出光を検出する第1検出手段と、前記第1の波長域とは相違する第2の波長域の検出光を検出する第2検出手段とを備え、前記第1及び第2検出手段による検出結果に基づいて、前記被検面の少なくとも一点の位置を検出することを特徴とする面位置検出装置。 - 前記第1及び第2検出手段は、前記分光手段により分光された第1及び第2の波長域の前記検出光を同時に検出することを特徴とする請求項7記載の面位置検出装置。
- 前記送光光学系は、前記被検面上に所定のパターンを投射し、
前記受光光学系と前記分光手段との間の光路中に配置されて、前記所定のパターンからの光を通過させる光通過部を有するスリット部材を更に備えることを特徴とする請求項7または請求項8記載の面位置検出装置。 - 前記光源は白色光を供給することを特徴とする請求項7乃至請求項9の何れか一項に記載の面位置検出装置。
- 前記分光手段は、前記受光光学系の結像面の所定の領域を通過した前記検出光の光束断面に対して2倍以上の光束断面を有する前記検出光を形成することを特徴とする請求項4乃至請求項10の何れか一項に記載の面位置検出装置。
- 所定のパターンを感光性基板上に露光する露光装置において、
前記感光性基板の少なくとも一点を含む面位置を検出するための請求項1乃至請求項11の何れか一項に記載の面位置検出装置を備えることを特徴とする露光装置。 - 請求項12記載の露光装置を用いて所定のパターンを感光性基板上に露光する露光工程と、
前記露光工程により露光された前記感光性基板を現像する現像工程と、
を含むことを特徴とするデバイスの製造方法。
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