JP2007180185A - 洗浄装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】被加工物を保持して回転するスピンナーテーブルと、スピンナーテーブルに保持された被加工物に洗浄水を供給する洗浄ノズルを備えた洗浄水供給手段と、スピンナーテーブルに保持された被加工物にエアーを供給するエアーノズルを備えたエアー供給手段とを具備する洗浄装置であって、 エアー供給手段はエアーノズルをスピンナーテーブルに保持された被加工物の回転中心から被加工物に存在する洗浄水が遠心力によって飛散する位置までの範囲でエアーを供給するように移動する。
【選択図】図5
Description
(例えば、特許文献1参照。)
該エアー供給手段は、該エアーノズルを該スピンナーテーブルに保持された被加工物の回転中心から被加工物に存在する洗浄水が遠心力によって飛散する位置までの範囲でエアーを供給するように移動する、
ことを特徴とする洗浄装置が提供される。
図示の実施形態における切削装置は、略直方体状の装置ハウジング2を具備している。この装置ハウジング2内には、被加工物を保持する被加工物保持手段としてのチャックテーブル3が切削送り方向である矢印Xで示す方向に移動可能に配設されている。チャックテーブル3は、吸着チャック支持台31と、該吸着チャック支持台31上に装着された吸着チャック32を具備しており、該吸着チャック32の表面である載置面上に被加工物である例えば円盤状の半導体ウエーハを図示しない吸引手段によって保持するようになっている。また、チャックテーブル3は、図示しない回転機構によって回動可能に構成されている。このように構成されたチャックテーブル3の吸着チャック支持台31には、後述する環状のフレームを固定するためのクランプ34が配設されている。
図示の実施形態における洗浄装置7は、スピンナーテーブル機構71と、該スピンナーテーブル機構71を包囲して配設された洗浄水受け手段72を具備している。スピンナーテーブル機構71は、スピンナーテーブル711と、該スピンナーテーブル711を回転駆動する電動モータ712と、該電動モータ712を上下方向に移動可能に支持する支持機構713を具備している。スピンナーテーブル711は多孔性材料から形成された吸着チャック711aを具備しており、この吸着チャック711aが図示しない吸引手段に連通されている。従って、スピンナーテーブル711は、吸着チャック711aに被加工物を載置し図示しない吸引手段により負圧を作用せしめることにより吸着チャック711a上に被加工物を保持する。なお、スピンナーテーブル711には、後述する環状のフレームを固定するためのクランプ714が配設されている。電動モータ712は、その駆動軸712aの上端に上記スピンナーテーブル711を連結する。この電動モータ712は、回転速度を適宜調整することができるように構成されている。上記支持機構713は、複数本(図示の実施形態においては3本)の支持脚713aと、該支持脚713aをそれぞれ連結し電動モータ712に取り付けられた複数本(図示の実施形態においては3本)のエアシリンダ713bとからなっている。このように構成された支持機構713は、エアシリンダ713bを作動することにより、電動モータ712およびスピンナーテーブル711を図3に示す上方位置である被加工物搬入・搬出位置と、図4に示す下方位置である作業位置に位置付ける。
洗浄水供給手段74は、スピンナーテーブル711に保持された切削加工後の被加工物に向けて洗浄水を噴出する洗浄水ノズル741と、該洗浄水ノズル741を揺動せしめる正転・逆転可能な電動モータ742を備えており、該洗浄水ノズル741が図示しない洗浄水供給源に接続されている。洗浄水ノズル741は、水平に延び先端部が下方に屈曲されたノズル部741aと、該ノズル部741aの基端から下方に延びる支持部741bとからなっており、支持部741bが上記洗浄液回収容器721を構成する底壁721bに設けられた図示しない挿通穴を挿通して配設され図示しない洗浄水供給源に接続されている。なお、洗浄水ノズル741の支持部741bが挿通する図示しない挿通穴の周縁には、支持部741bとの間をシールするシール部材(図示せず)が装着されている。以上のように構成された洗浄装置7は、洗浄水ノズル741から洗浄水を例えば1分間に1リットル(1リットル/分)の割合で供給する。
図1に示すように環状のフレーム11に保護テープ12を介して支持された切削加工前の半導体ウエーハ10(以下、単に半導体ウエーハ10という)は、表面を上側にしてカセット13の所定位置に収容されている。カセット13の所定位置に収容された切削加工前の半導体ウエーハ10は、図示しない昇降手段によってカセットテーブル131が上下動することにより搬出位置に位置付けられる。次に、被加工物搬出・搬入手段15が進退作動して搬出位置に位置付けられた半導体ウエーハ10を仮置き部14aに配設された位置合わせ手段14に搬出する。位置合わせ手段14に搬出された半導体ウエーハ10は、位置合わせ手段14によって所定の位置に位置合せされる。次に、位置合わせ手段14によって位置合わせされた切削加工前の半導体ウエーハ10は、被加工物搬送手段16によってチャックテーブル3の吸着チャック32上に搬送され、該吸着チャック32に保護テープ12側が吸引保持される。また、環状のフレーム11がクランプ34によって固定される。
3:チャックテーブル
4:スピンドルユニット
41:スピンドルハウジング
42:回転スピンドル
43:切削ブレード
44:ブレードカバー
45:切削水供給ノズル
5:撮像機構
6:表示手段
7:洗浄装置
71:スピンナーテーブル機構
711:スピンナーテーブル
712:電動モータ
72:洗浄水受け手段
721:洗浄水受け容器
723:カバー部材
74:洗浄水供給手段
741:洗浄水ノズル
742:電動モータ
75:エアー供給手段
751:エアーノズル
10:半導体ウエーハ
11:環状のフレーム
12:保護テープ
13:カセット
14:位置合わせ手段
15:被加工物搬出・搬入手段
16:被加工物搬送手段
18:洗浄搬送手段
Claims (2)
- 被加工物を保持して回転するスピンナーテーブルと、該スピンナーテーブルに保持された被加工物に洗浄水を供給する洗浄ノズルを備えた洗浄水供給手段と、該スピンナーテーブルに保持された被加工物にエアーを供給するエアーノズルを備えたエアー供給手段と、を具備する洗浄装置において、
該エアー供給手段は、該エアーノズルを該スピンナーテーブルに保持された被加工物の回転中心から被加工物に存在する洗浄水が遠心力によって飛散する位置までの範囲でエアーを供給するように移動する、
ことを特徴とする洗浄装置。 - 該被加工物に存在する洗浄水が遠心力によって飛散する位置は、100Gの遠心力が生成される位置に設定されている、請求項1記載の洗浄装置。
Priority Applications (1)
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Citations (3)
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JPH0283927A (ja) * | 1988-09-21 | 1990-03-26 | Shibaura Eng Works Co Ltd | ガラス基板の乾燥装置 |
JPH1064875A (ja) * | 1996-08-23 | 1998-03-06 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 回転式基板乾燥装置および基板乾燥方法 |
JP2001135610A (ja) * | 1999-05-25 | 2001-05-18 | Ebara Corp | 基板処理装置及び運転方法 |
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2005
- 2005-12-27 JP JP2005375505A patent/JP2007180185A/ja active Pending
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JPH0283927A (ja) * | 1988-09-21 | 1990-03-26 | Shibaura Eng Works Co Ltd | ガラス基板の乾燥装置 |
JPH1064875A (ja) * | 1996-08-23 | 1998-03-06 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 回転式基板乾燥装置および基板乾燥方法 |
JP2001135610A (ja) * | 1999-05-25 | 2001-05-18 | Ebara Corp | 基板処理装置及び運転方法 |
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