JP2007178770A

JP2007178770A - 露光方法

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Publication number: JP2007178770A
Application number: JP2005377926A
Authority: JP
Inventors: Makoto Kawada; 誠川田; Masaru Watanabe; 渡辺　　勝; Atsushi Muneoka; 淳宗岡; Kazumichi Kurumaya; 和道車谷; Toshibumi Nagino; 俊文名木野
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 2005-12-28
Filing date: 2005-12-28
Publication date: 2007-07-12
Anticipated expiration: 2025-12-28
Also published as: JP4556867B2

Abstract

【課題】大画面、大面積に対応して分割して露光する場合でも、パターンのつなぎ部を視認できないレベルとして、例えば、ＰＤＰなどの表示装置において非表示状態での外観を損なうことがなく、さらに、表示状態での画質低下を抑制する。
【解決手段】基板１上に形成された感光性材料層を複数の領域に分割し、複数の領域を各領域に対応したパターンを有するマスク３を介して露光する露光方法であって、隣接する領域の端部においてパターンを重複させて露光する重複部１０を設け、重複部１０において基板１に照射される露光を遮る遮光板４を基板１とマスク３とに対して相対的に移動させ、重複部１０の露光量を変化させている。
【選択図】図１

Description

本発明は、プラズマディスプレイパネルなどを製造する際に用いるフォトリソグラフィプロセスにおいて、フォトマスクを介して基板上に形成された感光性材料層に所定パターンを露光する露光方法に関する。

プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと呼ぶ）は、薄型で大型化に適したディスプレイデバイスとして有望視されており、大画面化に向けた開発が進められている。フォトリソグラフィプロセスを用いて基板上に形成された感光性材料層にパターンを形成する際には、所定パターンを描画したフォトマスクを介して基板上の感光性材料層を露光する露光プロセスが必要である。大画面化の進展に伴い、露光プロセスにおいて露光装置の露光領域に収まらない広い領域を露光する必要がある。このような大面積の露光を実現する方法として、露光領域を複数の小領域に分割して露光する分割露光方法がある。

このような分割露光方法においては、露光装置として高精度の露光装置を用いたとしても、隣接する各分割領域間の端部となるつなぎ部に露光不足の領域や露光過剰の領域が発生し、形成されたパターンの太りまたは細りが発生する。これらのパターンの太りや細りは、人の目で視認されて非点灯時の外観を損なうととともに、ディスプレイデバイスの電気的な特性に影響をおよぼし異常放電などの不良発生を引き起こす。

これらの対策として、フォトマスクにフィルタを重ねて配置することや、フォトマスク自身にフィルタ膜を蒸着することによって減光特性を持たせることなどにより、パターンのつなぎ部への照明光量を台形状に変化させて露光量を均一化させる方法が提案されている（例えば特許文献１参照）。
特開平１０−２５６１４０号公報

しかしながら、パターンのつなぎ部の照明光量を台形状に変化させる方法では、フォトマスクに特別のフィルタを貼付けたり、フォトマスクに近接してフィルタを配置する必要があるためフォトマスクにゴミなどの異物が発生しやすくなるとともにフォトマスクの洗浄工程が複雑化するという課題がある。

ＰＤＰは背面基板と前面基板とを対向配置して構成し、前面基板あるいは背面基板上には複数の電極などが所定パターンで配置形成されている。これらの電極は、導電性を付与する銀ペーストなどの厚膜をフォトリソグラフィプロセスを用いてパターン形成している。しかしながら、このような厚膜をフォトリソグラフィプロセスを用いてパターン形成する場合には、露光プロセスにおいて膜厚方向に露光深度不足が発生し、その後の現像プロセスにおいて過現像によってアンダーカットと呼ばれる現象が発生する。その結果、その後の焼成プロセスにおいてパターン端部が反り上がるエッジカールと呼ばれる現象が発生する。電極にこのようなエッジカールが発生すると、電極上に形成された誘電体層の絶縁破壊を誘発し、表示品質不良を発生させる。

パターンのつなぎ部においてフィルタなどによって露光光量を調節する従来の露光方法では、つなぎ部のパターンに位置ずれなどが発生すると、パターン端部でさらに露光光量が減少してエッジカールを増大させて誘電体層の絶縁破壊を増加させるといった課題を有している。

本発明は、このような従来の課題を解決するもので、露光領域を複数の小領域に分割して露光する場合の、つなぎ部の太りまたは細りを解消して非点灯時の外観を損なわないようにするとともに、つなぎ部におけるエッジカールを小さくすることができる露光方法を提供することを目的とする。

上述したような目的を達成するために、本発明の露光方法は、基板上に形成された感光性材料層を複数の領域に分割し、複数の領域を各領域に対応したパターンを有するマスクを介して露光する露光方法であって、隣接する領域の端部においてパターンを重複させて露光する重複部を設け、重複部において基板に照射される露光を遮る遮光板を基板とマスクとに対して相対的に移動させ、重複部の露光量を変化させている。

このような方法によれば、大画面、大面積に対応して分割して露光する場合でも、パターンのつなぎ部を視認できないレベルとして、例えば、ＰＤＰなどの表示装置において非表示状態での外観を損なうことがなく、さらに、表示状態での画質低下を抑制することができる。

さらに、重複部の重複幅（Ｄ）、相対的に移動する遮光板の移動距離（Ｘ）（但し、０≦Ｘ≦Ｄ）、遮光板がない場合の露光量（ｅ）と、遮光板によって遮られ基板に照射される重複部での露光量（Ｅ）とが（数１）の関係であることが望ましい。

このような方法によれば、重複部における露光量を重複部以外の露光量と同一にして、大面積の全領域において均一にすることができるとともに、重複部の露光量の変化を中央部より両端の方を緩やかにすることができ、つなぎ部をより視認しにくくすることができる。

さらに、重複部は略矩形形状であり、かつ重複部が各領域の隣接する２端部に設けられ、重複部の重複幅（Ｄ）、相対的に移動する遮光板の移動距離（Ｘ）（但し、０≦Ｘ≦√２Ｄ）、遮光板がない場合の露光量（ｅ）と、遮光板によって遮られ基板に照射される重複部での露光量（Ｅ）とが（数２）の関係であることが望ましい。

このような方法によれば、さらに大面積で、分割数を増加させて露光する場合でも、重複部における露光量を重複部以外の露光量と同一にして、大面積の全領域において均一にすることができるとともに、重複部の露光量の変化を中央部より両端の方を緩やかにすることができ、つなぎ部をより視認しにくくすることができる。

さらに、基板はＰＤＰ用ガラス基板であり、感光性材料層が隔壁形成材料層であって、重複部の長さが１０ｍｍ以上であることが望ましい。このような方法によれば、ＰＤＰの隔壁を形成する際に、隔壁の重複部の視認をより困難にしてＰＤＰの画像品質を高めることができる。

さらに、隔壁内には赤色蛍光体層、緑色蛍光体層、青色蛍光体層が順番に配設され、重複部の両端部を青色蛍光体層が形成される位置に配置することが望ましい。このような方法によれば、人間の視感度は青色に対して小さいので青色の輝度変化を検知しにくいため、重複部の視認をより困難にし画像品質を高めることができる。

本発明の露光方法によれば、大画面、大面積に対応して分割して露光する場合でも、パターンのつなぎ部を視認できないレベルとして、例えば、ＰＤＰなどの表示装置において非表示状態での外観を損なうことがなく、さらに、表示状態での画質低下を抑制することができる。

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。

（第１の実施の形態）
図１は、本発明の第１の実施の形態における露光方法での露光装置を示す図である。感光性材料層が形成された基板の露光すべきエリアを、例えば２分割して露光する場合について述べる。図１に示すように、感光性材料層が形成された基板１が基板ステージ２に保持されている。図１（ａ）は、基板１の図面上で右半分の領域を露光する場合について示している。基板１上には所定の距離を離して、所定の開口パターンが形成されたマスク３が配置されている。また、マスク３と基板１間には遮光板４が設けられ、マスク３の上部には露光光源である水銀ランプ５が設けられている。また、図１（ａ）のマスク３の左端部が遮光板４によって遮光されるように構成されている。

水銀ランプ５から照射された露光光は、開口パターンが設けられたマスク３の開口部を通過して基板１に形成された感光性材料層の図面上の右半分に照射される。また、マスク３の図面上の左端部ではマスク３の開口部を通過する露光光が遮光板４によって遮光され、基板１に到達しない領域Ｄ１が形成される。また、上述したように、基板１は基板ステージ２で保持され、基板ステージ２はマスク３及び基板１に照射する露光光に対して垂直面内のＸ方向、及びＹ方向に、連続移動できる構造となっている。さらに、マスク３はマスクステージ（図示せず）で保持され、遮光板４は遮光板ステージ（図示せず）で保持され、マスクステージ及び遮光板ステージも、マスク３及び基板１に照射する露光光に対して垂直面内のＸ方向、及びＹ方向に、連続移動できる構造となっている。

図１（ｂ）は、基板１の図面上で左半分の領域を露光する場合について示している。基板１上には所定の距離を離して、所定の開口パターンが形成されたマスク６が配置されている。また、マスク６と基板１間には遮光板７が設けられ、マスク６の上部には露光光源である水銀ランプ８が設けられている。また、図１（ｂ）のマスク６の右側端部が遮光板７によって遮光されるように構成されている。したがって、水銀ランプ８から照射された露光光は、開口パターンが設けられたマスク６の開口部を通過して基板１に形成された感光性材料層の図面上の左半分に照射される。また、マスク６の図面上の右端部ではマスク３の開口部を通過する露光光が遮光板４によって遮光され、図１（ａ）に示すのと同様に基板１に到達しない領域Ｄ２が形成される。なお、本発明の第１の実施の形態では、領域Ｄ１と領域Ｄ２とは同一幅を有しており、重複部１０を形成している。

なお、図１（ａ）、図１（ｂ）に用いる、マスク３とマスク６とは左右対称で同一の開口パターンを有し、同じく、遮光板４と遮光板７とは左右対称で同一形状であり、水銀ランプ５と水銀ランプ８とは共用であってもよい。

ＰＤＰの隔壁を形成する際の露光プロセスを例にして、本発明の第１の実施の形態における露光方法についてさらに詳細に説明する。図１（ａ）は前述のように、基板１の図面上で右半分の領域を露光する場合について示している。ここでは、遮光板４、７によって露光光が遮光される領域Ｄ１と領域Ｄ２とでは、パターンが左右で重複する重複部１０を形成しておりその幅Ｄとして２００ｍｍと設定した場合について述べる。また、露光量は、水銀ランプ５の種類、光学系、レジスト材料などによって変化するが、ここでは１つの例として、遮光されない場合に必要な露光量ｅを４００ｍＪ／ｃｍ^２、また露光時間Ｔを２０ｓｅｃと設定した。

まず、基板１の右半分を露光するために図１（ａ）に示すように、露光すべき領域にマスク３及び基板１の露光領域が収まるように、マスク３及び基板１の位置決めを行う。また、遮光板４を重複部１０の幅Ｄである２００ｍｍだけマスク３に重なるように位置決めを行う。図２は、ＰＤＰの隔壁と、隔壁内に形成された蛍光体層の構成を示す図であり、横隔壁５０と縦隔壁５１とによって格子状隔壁５２が形成されている。格子状隔壁５２内には、縦隔壁５１の順番に、赤色蛍光体層５３、緑色蛍光体層５４、青色蛍光体層５５が順番に形成されている。本発明の第１の実施の形態では、重複部１０の両端部を図３に示すように青色蛍光体層５５が形成される位置に配置している。

このように、基板１、マスク３、遮光板４を配置して露光する。次に、露光開始と同時に図１（ａ）に示すように、重複部１０の幅Ｄが小さくなるように、遮光板４を所定の速度で矢印Ａに示す方向に移動させ、露光終了と同時に遮光板４を停止させる。したがって、露光開始から露光終了までの間に、遮光板４が距離Ｄだけ移動するようにしている。

次に、重複部１０において基板１の感光性材料層に照射される露光量Ｅの設定方法について説明する。図３は、重複部１０のパターンを示す平面図であり、幅Ｄの重複部１０において遮光板４を移動する方向をＸ軸として、遮光板４が図３のＸ＝０からＸ＝Ｄまで移動させている。本発明の第１の実施の形態では、この場合に、重複部１０に照射される露光量を（数３）のようにしている。なお、次式において、Ｘは０≦Ｘ≦Ｄであり、ｅは遮光板がない場合にマスク３の開口部を通過して照射される露光量である。

したがって、本実施の形態での必要露光量ｅ＝４００ｍＪ／ｃｍ^２、重複部の幅Ｄ＝２００ｍｍとするとを、遮光板４の移動距離に対して露光量Ｅは（数４）のようになる。

但し、Ｘは変数（０≦Ｘ≦２００）である。

上述の（数３）より算出された露光量Ｅの分布を図４に示す。図４において、斜線部領域が重複部の領域を表している。図４に示すように、遮光板４のない領域は、４００ｍＪ／ｃｍ^２一定であり、遮光板４を用いた重複部１０の幅Ｄ＝２００ｍｍの領域では、（数３）の通りＣｏｓｉｎｅカーブ状となり、４００ｍＪ／ｃｍ^２〜０ｍＪ／ｃｍ^２の範囲で露光量が連続的に除々に変化する。つまり、重複部１０の露光量Ｅの変化率は図４の斜線部のように、中央部より両端端の方を緩やかに変化させていることになる。

次に、基板１の左半分を露光するために、図５に示すように露光すべき領域にマスク６及び基板１の露光領域が収まるように、マスク６及び基板１の位置決めを行う。遮光板７を重複部１０の幅Ｄである２００ｍｍだけマスク６に重なるように位置決めを行う。その後、上述と同様の露光方法で露光する。

図６は上述の２回の露光によって露光された露光量分布を示す図である。基板１の右半分を露光したエリア１と左半分を露光したエリア２とが形成され、基板１の全面が露光される。斜線の領域が重複部１０を示し、重複部１０においては２回の露光がされてパターンが接合された領域となる。基板１の右半分が露光された領域の露光量分布は、図６（ｂ）の露光量曲線８１のように重複部１０でＣｏｓｉｎｅカーブを形成して連続的に除々に減少する。一方、基板１の左半分が露光された領域の露光量分布は、図６（ｂ）の露光量曲線８２のように重複部１０でＣｏｓｉｎｅカーブを形成して連続的に除々に減少する。図６（ｂ）に示すように、露光量曲線８１及び露光量曲線８２の重複部１０における曲線は左右対称となり、したがって、これら２つの露光量曲線を合成すると、図６（ｃ）のようになり、重複部１０を含む基板１全面で均一になっている。

一方、図７には、重複部１０の露光量を直線的に変化させた場合について示している。図６（ｂ）と図７と比較してわかるように、本発明の第１の実施の形態によれば、重複部１０において露光量を連続的に、さらに重複部１０の端部において徐々に変化させることができる。したがって、左右のマスク３、６のパターンの差及びマスク位置合せの誤差などがある場合で、例えばＰＤＰの格子状隔壁５２を形成する場合には、重複部１０部分での縦隔壁５１の幅、ピッチの変化も除々に連続的に変化させることが可能となる。そのため、重複部１０でのパターンの接合が視認できなくなり、輝度差を減少させて画像品質が向上する。

次に、本発明の第１の実施の形態では、重複部の両端部を青色蛍光体層が形成される位置に配置している。一般に、人間の色に対する感度は一定ではなく、比視感度を持っている。図８は標準比視感度曲線を示す図である。一方、図９は青色、緑色、赤色の波長と検査閾値の関係を示す図である。図８に示すように、人間の視感度は赤色や緑色に比較して青色は小さいことがわかる。つまり、図９に示すように輝度変化に対しての閾値は青色が高くなるので、青の輝度変化に対しては、他色の赤色や緑色に比較すると検値しにくくなる。そこで、露光領域が重複する重複部１０の両端部を青色蛍光体層５５に位置させることで、他色の蛍光体層に位置させるより、輝度差を視認しにくくなる効果がある。

次に、本発明の第１の実施の形態では、パターンが重複する重複部１０の幅Ｄを１０ｍｍ以上としているが、この理由について説明する。図１０には重複部１０の重複幅と重複部の視認度との関係を示す図である。図２に示す縦隔壁５１の幅は高精細表示のＰＤＰの場合で左右の露光領域で最大１０μｍの差が生じるが、パターンが重複する重複部１０の幅Ｄを１０ｍｍ以上に設定することにより帯状の視認が不可能となる。図１０に示すように、幅Ｄを長く設定する程、重複部の視認度は低下し輝度差が均一になるが、幅Ｄを長く設定する程マスクが拡大することになり、コストアップとなることから、最大幅を２００ｍｍ程度とすることが望ましい。

なお、上述の実施の形態では、基板１の右半分から露光する場合について述べたが、基板１の左半分から露光してもよい。また、本実施の形態では、静止した基板１及びマスク３、６に対して遮光板４、７を移動したが、静止した遮光板４、７に対して基板１及びマスク３、６を移動してもよいし、基板１及びマスク３、６の移動方向と遮光板４、７の移動方向を逆にして各々を移動する方法でもよい。

また、上述の説明では、重複部１０において露光量を変えることで説明したが、露光量を変えるために、遮光板４、７を移動させる移動速度で説明することも可能であることは当然である。

（第２の実施の形態）
第１の実施の形態では、ＰＤＰの隔壁を形成する際に、図２に示す縦隔壁５１に沿って左右２分割する場合について述べた。ＰＤＰの更なる大型化においては、さらに、４分割以上に分割することが必要となる。そこで、第２の実施の形態においては、露光すべき領域を上下左右に４分割して露光する場合の露光方法について述べる。

図１１は本発明の第２の実施の形態における露光方法での露光エリアの配置を示す図である。

図１１において、斜線で示す領域が上下または左右に隣接するパターン同士の一部が重複する領域であり、重複部２０を示す。また、重複部２０では重複する幅をＤ３とし、また図１１に示す中心部分Ｅの対角線長Ｄ４を２００ｍｍと設定している。また、この中心部分Ｅを露光する際には、露光光の５０％を遮光するフィルタを固定して露光するようにしている。

また、露光量は水銀ランプ５の種類、光学系、レジスト材料などによって変化するが、ここでは１つの例として、第１の実施の形態と同様に、遮光されない場合に必要な露光量ｅを４００ｍＪ／ｃｍ^２、また露光時間Ｔを２０ｓｅｃと設定している。

次に、本発明の第２の実施の形態における露光方法について具体的に説明する。まず、図１１に示す領域Ａを露光するために、露光領域にマスク３及び基板１の露光すべき領域が収まるように、マスク３及び基板１の位置決めを行う。図１２は各露光エリアの露光工程を示す図である。まず、領域Ａについての露光方法を説明する。図１２（ａ）に示すように遮光板４を重複部２０の重複幅Ｄである２００ｍｍだけマスク３に重なるように位置決めを行う。また、領域Ａ及び領域Ｂ、領域Ｃ及び領域Ｄが重複する部分の端部のうち、ＰＤＰの縦隔壁５１と平行な端部は、第１の実施の形態と同様に図２に示す青色蛍光体層の位置に設定する。

このように、基板１、マスク３、遮光板４を配置して露光する。露光開始と同時に図１２（ａ）に示すように、重複幅Ｄが小さくなる矢印Ｓ方向に遮光板４を所定の速度で移動させ、露光終了と同時に遮光板４を停止させる。この間に遮光板４は図１２（ｂ）に示すように、露光開始から√２Ｄだけ移動して停止した状態である。

本発明の第２の実施の形態において、重複部２０において基板１の感光性材料層に照射される露光量Ｅの設定方法について説明する。図１２に示すように、幅Ｄの重複部２０において遮光板４を移動する方向をＸ軸として、遮光板４をＸ＝０からＸ＝√２Ｄまで移動させている。したがって、第１の実施の形態と同様に、重複部２０に照射される露光量を（数５）としている。なお、（数５）において、Ｘは０≦Ｘ≦√２Ｄであり、ｅは遮光板がない場合にマスク３の開口部を通過して照射される露光量である。

したがって、本実施の形態での必要露光量ｅ＝４００ｍＪ／ｃｍ^２、重複部の幅Ｄ＝２００ｍｍとすると、遮光板４の移動距離に対して露光量Ｅは（数６）のようになる。

次に、図１１に示す領域Ｂを露光するために、露光すべき領域にマスク３及び基板１の露光領域が収まるように、マスク３及び基板１の位置決めを行う。また、図１２（ｃ）に示すように遮光板４を重複幅Ｄである２００ｍｍだけマスク３に重なるように位置決めを行う。その後、露光する。露光開始と同時に図１２（ｃ）に示すように、重複幅が小さくなる矢印Ｔ方向に遮光板４を所定の速度で移動させ、露光終了と同時に遮光板４を停止させる。この間に遮光板４は図１２（ｄ）に示すように、露光開始から√２Ｄだけ移動して停止した状態である。ここで、重複部２０における露光量Ｅは（数５）および（数６）としている。

上述の２回の露光を実施することによって、図１１に領域Ａと領域Ｂの長方形の領域は必要露光量の１００％の露光量での露光が行われることになる。一方、中心部分Ｅでは、前述のように、露光光の５０％を遮光するフィルタを固定して露光するため、必要露光量の５０％の露光量での露光が行われることになる。

上述と同様の方法で、図１１に示す領域Ｃ及び領域Ｄを露光する。まず、図１１に示す領域Ｃを露光するために、マスク３及び基板１及び遮光板４の位置決めを行い、図１２（ｆ）に示すように遮光板４を矢印Ｕ方向に移動しながら露光する。次に、図１１に示す領域Ｄを露光するために、マスク３及び基板１及び遮光板４の位置決めを行い、図１２（ｈ）に示すように遮光板４を矢印Ｖ方向に移動しながら露光する。その結果、図１１の領域Ｃと領域Ｄの長方形の領域の露光が行われる。

これらの結果、４分割した領域Ａ、領域Ｂ、領域Ｃ、領域Ｄの露光をすることによって、中心部分Ｅの露光量も１００％となり、さらに、重複部２０とその他の領域の露光量が１００％となり、基板１の全面にわたって均一な露光を実現することができる。

また、第１の実施の形態と同様に、重複部は略矩形形状であり、かつ重複部が各領域の隣接する２端部に設けられている場合でも、重複部２０の露光量は、Ｃｏｓｉｎｅカーブ状に連続的に変化しているため、露光量を連続的に、重複部２０の端部において徐々に変化させることができる。したがって、左右のマスクのパターンの差及びマスク位置合せの誤差などがある場合には、重複部２０部分での幅、ピッチの変化を除々に連続的に変化させることが可能となる。そのため、重複部２０でのパターンの接合が視認できなくなり、輝度差を減少させて画像品質が向上する。

第２の実施の形態では、静止した基板１及びマスク３に対して遮光板４を移動したが、静止した遮光板４に対して基板１及びマスク３を移動してもよいし、基板１及びマスク３の移動方向と遮光板４の移動方向を逆にし、各々を移動する方法でもよい。また、本実施の形態では、露光すべきエリアを４個に分割した例を説明したが、９個、１６個と増加しても同様の方法を適用できることはいうまでもない。

上述の第２の実施の形態の説明では、上下左右４個に分割して露光する場合に、中心部分Ｅには、露光光の５０％を遮光するフィルタを固定して使用していた。しかしながら、図１２において、領域Ａと領域Ｂを露光する際には、中心部分Ｅにはフィルタを設けず、領域Ｃと領域Ｄを露光する際に中心部分Ｅに露光光を１００％遮光するフィルタを用いても、露光量を基板１の全面にわたって均一とすることができる。

なお、上述の説明では、ＰＤＰの背面板の隔壁を形成する際の露光方法について述べたが、ＰＤＰの前面板に形成される透明電極、透明電極上に形成されるバス電極、あるいは遮光パターンなどの露光方法にも適用できる。特に、背面板の隔壁と交差するこれらの構成要素のつなぎ部の重複部の端部を、図２に示すように背面板の青色蛍光体層５５と緑色蛍光体層５４の境界に設定することによって、これらのつなぎ部でのエッジ部が解消されて重複部分でのパターンの接合が視認できなくなり、輝度差を減少して画像品質を高めることができる。

さらに、第２の実施の形態で述べたように、上下左右４個に分割して露光する場合は、図１１に示す領域Ａと領域Ｂ、領域Ｃと領域Ｄが重複する部分の端部を背面板の青色蛍光体層と緑色蛍光体層の境界に設定し、図１１に示す領域Ａと領域Ｃ、領域Ｂと領域Ｄが重複する部分の端部を図１３に示すように格子状隔壁によって形成される放電セル６０の中央に設定することによって、重複部の輝度差を減少させて重複部の視認を困難にし画像品質を高めることができる。

本発明の露光方法は、大面積に対応して露光領域を複数に分割して露光する場合でも、表示装置の表示品質を損なうことがなく、大画面の表示装置などに有用であり、さらに、大面積の電子デバイスの露光方法としても有用である。

本発明の第１の実施の形態における露光方法の露光装置を示す図ＰＤＰの隔壁と隔壁内に形成された蛍光体層の構成を示す図本発明の第１の実施の形態の露光方法において重複部のパターンを示す平面図同露光方法による露光量Ｅの分布を示す図同露光方法により基板の左半分を露光する露光装置を示す図同露光方法により２回の露光によって露光された露光量分布を示す図重複部において露光量を直線的に変化させた場合の露光量分布を示す図標準比視感度曲線を示す図青色、緑色、赤色の波長と検査閾値の関係を示す図本発明の第１の実施の形態における露光方法による重複幅と重複部の視認度との関係を示す図本発明の第２の実施の形態における露光方法での露光エリアの配置を示す図同露光方法において各露光エリアの露光工程を示す図同露光方法においてＰＤＰの隔壁と隔壁内に形成された蛍光体層の構成と重複部の端部の位置を示す図

符号の説明

１基板
２基板ステージ
３，６マスク
４，７遮光板
５，８水銀ランプ
１０，２０重複部
５０横隔壁
５１縦隔壁
５２格子状隔壁
５３赤色蛍光体層
５４緑色蛍光体層
５５青色蛍光体層
６０放電セル

Claims

基板上に形成された感光性材料層を複数の領域に分割し、前記複数の領域を各領域に対応したパターンを有するマスクを介して露光する露光方法であって、隣接する領域の端部において前記パターンを重複させて露光する重複部を設け、前記重複部において前記基板に照射される露光を遮る遮光板を前記基板と前記マスクとに対して相対的に移動させ、前記重複部の露光量を変化させることを特徴とする露光方法。
前記重複部の重複幅（Ｄ）、相対的に移動する前記遮光板の移動距離（Ｘ）（但し、０≦Ｘ≦Ｄ）、遮光板がない場合の露光量（ｅ）と、前記遮光板によって遮られ前記基板に照射される前記重複部での露光量（Ｅ）とが（数１）の関係であることを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
前記重複部は略矩形形状であり、かつ重複部が各領域の隣接する２端部に設けられ、前記重複部の重複幅（Ｄ）、相対的に移動する前記遮光板の移動距離（Ｘ）（但し、０≦Ｘ≦√２Ｄ）、遮光板がない場合の露光量（ｅ）と、前記遮光板によって遮られ前記基板に照射される前記重複部での露光量（Ｅ）とが（数２）の関係であることを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
前記基板はプラズマディスプレイパネル用ガラス基板であり、前記感光性材料層が前記プラズマディスプレイパネル用ガラス基板上に形成される隔壁を形成するための隔壁形成材料層であって、前記重複部の長さが１０ｍｍ以上であることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の露光方法。
前記隔壁内には赤色蛍光体層、緑色蛍光体層、青色蛍光体層が順番に配設され、前記重複部の両端部を前記青色蛍光体層が形成される位置に配置したことを特徴とする請求項４に記載の露光方法。