JP2007178602A - 光部品及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】光の反射による光の伝達性能の低下を防ぐことである。
【解決手段】光スプリッタは、クラッド51、53及び光路としてのコア52からなる光ファイバ5と、クラッド71、73及び光路としてのコア72からなるスプリッタ部7であって、前記光ファイバ5と同一基板2上に実装され、その端面が前記光ファイバ5の端面と接続されて光路結合するスプリッタ部7と、前記光ファイバ5及びスプリッタ部7間の光路結合部において、それぞれのコア52、72を光学的に連結する光導波路9と、を備えている。
【選択図】図3
【解決手段】光スプリッタは、クラッド51、53及び光路としてのコア52からなる光ファイバ5と、クラッド71、73及び光路としてのコア72からなるスプリッタ部7であって、前記光ファイバ5と同一基板2上に実装され、その端面が前記光ファイバ5の端面と接続されて光路結合するスプリッタ部7と、前記光ファイバ5及びスプリッタ部7間の光路結合部において、それぞれのコア52、72を光学的に連結する光導波路9と、を備えている。
【選択図】図3
Description
本発明は、光路結合部を有する光部品及びその製造方法に関する。
従来から、光スプリッタや光スイッチ等の光部品においては光導波路が利用されている。図5(a)に光導波路を利用した従来の光スプリッタA1を示す。図5(a)に示す光スプリッタA1は、1つの光ファイバa1からの入力を光導波路a21により4つの出力に分離して光信号を出力するものである。従来の光スプリッタA1は、光信号を入力する光ファイバa1が搭載されたファイバアレイa4と、その入力信号を4つの出力に分岐する光導波路アレイa5と、光導波路アレイa5から出力された光信号を外部へ伝送する4つのファイバa3が搭載されたファイバアレイa6の3つのアレイa4〜a6が結合された構成となっている。この構成では、各アレイa4〜a6を結合する際にファイバ−光導波路間の光路結合をアクティブアライメントにより行う必要がある。
光路結合部分では、図6(a)に示すようにファイバ−光導波路の端面を接続し、かつファイバa1、a3、光導波路a2の各コアa11、a21間の光路の屈折率を調整するために、コアa11、a21の屈折率に近い屈折率を有する光路結合用の接着剤kが充填されていた。また、ファイバ−光導波路の端面はフラット(基板と直交する垂直軸に対し平行)に形成されていた。
しかし、コアa11、a21と接着剤kの屈折率は若干差が生じるため、コアa11、a21と接着剤k層との境界において少なからず反射が生じる。端面がフラットである場合、ファイバからの入射光L1がコアと接着剤k層との境界面に対し垂直に入射することとなるため、境界面において反射した反射光L3は境界面に対して垂直に反射して、ファイバa1側のコアa11に戻ってしまう場合があった。この戻り光はレーザの発振の安定性に影響を及ぼしたり、多重反射による影響等を及ぼすこととなってしまう。
例えば光スプリッタの場合、実用化できる反射減衰量(Return Loss:RL)として一般的には−50dB以下のものが要求されているが、上記のような反射光が発生すると、RLは−20〜−30dB程度と大きかった。
このような問題を避けるためには、図6(b)に示すように接続する光ファイバa1及び光導波路a2の接続端面に角度を設け、コアa11、a21と接着剤k層との境界面での反射光L3をファイバa1のコアa11以外の方向へ導くことが考えられる。すなわち、入射光L1の入射角度を調整することにより、反射光L3の進行方向を入射側の光路へ戻らないよう誘導するものである。
従来からも、光結合部分においてファイバの端面を傾斜させる方法(例えば、特許文献1、2参照)が開示されている。
特開平7−20342号公報(第11図)
特開平10−227940号公報(第12図)
従来からも、光結合部分においてファイバの端面を傾斜させる方法(例えば、特許文献1、2参照)が開示されている。
一方、近年では、図5(a)に示すようなアレイ結合型の光スプリッタA1に代えて、図5(b)に示すようにファイバ−光導波路−ファイバの3者間で基板a7を共通として一体化した集積型のものが開発されている。これは、従来のアレイ結合型では、アレイ毎に部品化するためコスト高であったこと、各アレイを結合する際にファイバ−光導波路間の光路をアクティブアライメントで結合しなければならず作業が煩雑であったこと等によるものである。
この集積型の光スプリッタA2の場合、予め基板a7上に光導波路a2を形成しておき、この光導波路コアa21と光路結合する位置に光ファイバa1、a3を実装用のV溝を形成するため、このV溝に光ファイバa1、a3を配置することで光導波路a2とファイバa1、a3の光路結合をパッシブアライメントで行うことができる。
もっとも、集積型であっても光導波路a21、光ファイバa1、a3の端面がフラットであれば反射減衰量の問題が生じるのは同じであり、やはり端面を傾斜させてこれを抑制することが必要である。しかし、集積型においてはファイバa1、a3を後付する工程となるため、上記特許文献1、2に記載の方法は適用できない。
本発明の課題は、光の反射による光の伝搬性能の低下を防ぐことである。
請求項1に記載の発明は、光部品において、
クラッド及び光路としてのコアからなる第1の光伝達手段と、
クラッド及び光路としてのコアからなる第2の光伝達手段であって、前記第1の光伝達手段と同一基板上に実装され、その端面が前記第1の光伝達手段の端面と接続されて光路結合する第2光伝達手段と、
前記第1及び第2の光伝達手段間の光路結合部において、各光伝達手段のコアを光学的に連結する光導波路と、
を備えていることを特徴とする。
クラッド及び光路としてのコアからなる第1の光伝達手段と、
クラッド及び光路としてのコアからなる第2の光伝達手段であって、前記第1の光伝達手段と同一基板上に実装され、その端面が前記第1の光伝達手段の端面と接続されて光路結合する第2光伝達手段と、
前記第1及び第2の光伝達手段間の光路結合部において、各光伝達手段のコアを光学的に連結する光導波路と、
を備えていることを特徴とする。
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の光部品において、
前記第1及び第2の光伝達手段間の光路結合部において、各光伝達手段の接続端面を傾斜させることを特徴とする。
前記第1及び第2の光伝達手段間の光路結合部において、各光伝達手段の接続端面を傾斜させることを特徴とする。
請求項3に記載の発明は、請求項1又は2に記載の光部品において、
前記光導波路は、前記光路結合部に光路形成材が充填され、この光路形成材から自己形成されたものであることを特徴とする。
前記光導波路は、前記光路結合部に光路形成材が充填され、この光路形成材から自己形成されたものであることを特徴とする。
請求項4に記載の発明は、請求項3に記載の光部品において、
前記光路形成材は、前記自己形成された光導波路部分の屈折率が前記光伝達手段のコアにおける屈折率と略同等となるようにその材料が選択されることを特徴とする。
前記光路形成材は、前記自己形成された光導波路部分の屈折率が前記光伝達手段のコアにおける屈折率と略同等となるようにその材料が選択されることを特徴とする。
請求項5に記載の発明は、光部品の製造方法において、
基板上にクラッド及び光路としてのコアからなる第1の光伝達手段及び第2の光伝達手段を実装し、その第1の光伝達手段の端面を第2の光伝達手段の端面と接続する接続工程と、
前記接続された第1及び第2の光伝達手段間に、当該第1及び第2の光伝達手段のコアを光学的に連結する光導波路を形成する導波路形成工程と、
を含むことを特徴とする。
基板上にクラッド及び光路としてのコアからなる第1の光伝達手段及び第2の光伝達手段を実装し、その第1の光伝達手段の端面を第2の光伝達手段の端面と接続する接続工程と、
前記接続された第1及び第2の光伝達手段間に、当該第1及び第2の光伝達手段のコアを光学的に連結する光導波路を形成する導波路形成工程と、
を含むことを特徴とする。
請求項6に記載の発明は、請求項5に記載の光部品の製造方法において、
前記第1及び第2の光伝達手段の接続後、当該接続された接続端面が基板と直交する垂直軸に対して傾斜するように当該接続端面を切削する切削工程を含み、
前記導波路形成工程では、前記切削により生じた間隙に、前記第1及び第2の光伝達手段のコアを光学的に連結する光導波路を形成することを特徴とする。
前記第1及び第2の光伝達手段の接続後、当該接続された接続端面が基板と直交する垂直軸に対して傾斜するように当該接続端面を切削する切削工程を含み、
前記導波路形成工程では、前記切削により生じた間隙に、前記第1及び第2の光伝達手段のコアを光学的に連結する光導波路を形成することを特徴とする。
請求項7に記載の発明は、請求項6に記載の光部品の製造方法において、
前記導波路形成工程では、前記切削により生じた間隙に光路結合材を充填し、この光路結合材を用いて光導波路を形成することを特徴とする。
前記導波路形成工程では、前記切削により生じた間隙に光路結合材を充填し、この光路結合材を用いて光導波路を形成することを特徴とする。
請求項8に記載の発明は、請求項7に記載の光部品の製造方法において、
前記光路結合材は、光が照射されるとその照射部分の屈折率が変化する材料が用いられ、
前記導波路形成工程では、前記第1及び第2の光伝達手段のコアに光を入射させ、この入射光により前記光路結合材の屈折率を変化させて光導波路を自己形成することを特徴とする。
前記光路結合材は、光が照射されるとその照射部分の屈折率が変化する材料が用いられ、
前記導波路形成工程では、前記第1及び第2の光伝達手段のコアに光を入射させ、この入射光により前記光路結合材の屈折率を変化させて光導波路を自己形成することを特徴とする。
請求項1、5に記載の発明によれば、光導波路を設けることにより第1及び第2の光伝達手段の光路結合部分に入射する際に生じる光の反射を防ぎ、反射光を抑制することができる。これにより、光部品における光の伝達性能の低下を防ぐことができる。
請求項2、6に記載の発明によれば、第1及び第2の光伝達手段の接続端面に入射する光の入射角度を接続端面に対し傾斜させることができ、接続端面において生じる反射光が入射側のコアに戻ることを防止することができる。よって、戻り光による光の伝搬性能の低下を防止することが可能となる。
請求項3、4、7、8に記載の発明によれば、光路結合材により光導波路を自己形成することができる。よって、第1及び第2の光伝達手段のコア間を直接連結する最適な光路を形成することが可能となる。よって、第1及び第2の光伝達手段の接続時に光路の光軸がずれた場合であっても、光導波路によりそのズレを解消することができる。
本実施形態では、光部品として光スプリッタの例を挙げ、光スプリッタが有する光導波路及び光ファイバの各光伝達手段を接続し、それらの光路を結合する場合について説明する。
図1に、本実施形態における光スプリッタ1の構成を示す。
図1に示す光スプリッタ1は、基板2上に光ファイバ5、スプリッタ部7、光ファイバ6a〜6dが搭載されて構成されている。各光ファイバ5、6a〜6dはその上部がカバー3、4により、固定されている。
図1に示す光スプリッタ1は、基板2上に光ファイバ5、スプリッタ部7、光ファイバ6a〜6dが搭載されて構成されている。各光ファイバ5、6a〜6dはその上部がカバー3、4により、固定されている。
基板2は、シリコン基板等が適用可能である。
基板2の両端部には、図2に示すように光ファイバ5、6a〜6dの搭載位置を固定、保持するためのV溝21が形成されている。V溝21は基板2の表面にV字形状の溝が基板2の延在方向に沿って筋状に設けられたものである。このV溝21はV溝21に光ファイバ5、6a〜6dを実装した際に、スプリッタ部7のコア72と光ファイバ5、6a〜6dのコアとの光軸が一致するように設計され、形成されている。
基板2の両端部には、図2に示すように光ファイバ5、6a〜6dの搭載位置を固定、保持するためのV溝21が形成されている。V溝21は基板2の表面にV字形状の溝が基板2の延在方向に沿って筋状に設けられたものである。このV溝21はV溝21に光ファイバ5、6a〜6dを実装した際に、スプリッタ部7のコア72と光ファイバ5、6a〜6dのコアとの光軸が一致するように設計され、形成されている。
光ファイバ5、6a〜6dは、光路となるコアを中心軸としてその周囲にクラッド層が形成された円筒状の光伝達手段である。
スプリッタ部7は、内部に光導波路としてのコア72が形成されたものである。
コア72は、光ファイバ5からの1つの光信号の入力を4つの出力に分岐して各ファイバ6a〜6dに出力するための光路を形成するものである。
コア72は、光ファイバ5からの1つの光信号の入力を4つの出力に分岐して各ファイバ6a〜6dに出力するための光路を形成するものである。
各光ファイバ5、6a〜6dとスプリッタ部7は、互いの端面が当接するように接続され、基板2上に固定されている。
図3に、スプリッタ部7と光ファイバ5の接続部分における拡大断面図を示す。
図3に、スプリッタ部7と光ファイバ5の接続部分における拡大断面図を示す。
図3に示すように、光ファイバ5はクラッド層に挟まれるようにしてコア52が形成されている。ここでは便宜上、コア52の下部、つまり基板2に接しているクラッド層を下部クラッド51、コア52の上部のクラッド層を上部クラッド53とする。
スプリッタ部7は、下部クラッド71及び上部クラッド73間にコア72が形成されている。各コア52、72は、それぞれの上部クラッド51、71及び下部クラッド53、73とは異なる屈折率となるように材料が調整されている。このように、コア52、72の周囲を屈折率の異なる材料により包囲することによって、コア52、72に送出された光を損なうことなく、光を伝達する光路を形成することができる。
光ファイバ5とスプリッタ部7間には各々のコア52、72を光学的に連結する光路として光導波路9が形成されているとともに、その周囲には光路形成材8が充填されている。光路形成材8は、光導波路9を形成するための材料が用いられ、例えば光硬化性樹脂等が適用可能である。
光導波路9は、光路形成材8により自己形成される光導波路である。例えば、光硬化性樹脂を光路形成材8として適用した場合、光路形成材8の一部に光を照射すると、照射強度が大きい光軸上から光重合反応により樹脂が硬化し、屈折率が増加する。硬化部と未硬化部の屈折率差により、伝搬光は徐々に光軸上に閉じこめられ、光路が形成されることとなる。このような導波路構造は照射光自身によって形成されることから、自己形成されるという。
光路形成材8は自己形成された光導波路9の屈折率が光ファイバ5のコア52、スプリッタ部7のコア72と略同等となるような材料が選択される。光ファイバ5、スプリッタ部7と光導波路9との境界における伝搬光の反射率を低減させるためである。
光ファイバ5、スプリッタ部7の端面は、基板2と直交する垂直軸に対して傾斜させて形成されている。光ファイバ5のコア52、光導波路9、スプリッタ部7のコア72における各屈折率は、各部の境界における光の反射を低減するため略同一に調整されるが、若干屈折率に差が生じる場合がある。その場合、屈折率差のため、図3に示すように光ファイバ5から入射した入射光L1は光ファイバ5と光導波路9の境界、光導波路9とスプリッタ部7の境界で反射光L3を生じ、スプリッタ部7への入射光L2は小さくなる。このとき、光ファイバ5及びスプリッタ部7の各端面が傾斜していることから入射光L1の入射角度は端面に対して垂直とはならない。反射光L3は入射角分だけ反射するため、反射光L3の進行方向をファイバ5のコア52からずらすことができる。これにより、ファイバ5への戻り光を低減させることができる。
反射光による光損失の指標として反射減衰量がある。
反射減衰量とは、入射光L1に対する反射光L3の割合をdB単位で表したものであり、反射減衰量の値が小さいほど、反射光L3の発生量が小さい、或いは反射光L3による戻り光の弊害が小さいことを示す。
一般に、接続する各光伝達手段、つまり光ファイバ5、スプリッタ部7の端面の傾斜角度を基板2と直交する垂直軸に対して8度としたとき、最も小さい反射減衰量を実現できることが実験的に知られている。
反射減衰量とは、入射光L1に対する反射光L3の割合をdB単位で表したものであり、反射減衰量の値が小さいほど、反射光L3の発生量が小さい、或いは反射光L3による戻り光の弊害が小さいことを示す。
一般に、接続する各光伝達手段、つまり光ファイバ5、スプリッタ部7の端面の傾斜角度を基板2と直交する垂直軸に対して8度としたとき、最も小さい反射減衰量を実現できることが実験的に知られている。
なお、上述した説明では、スプリッタ部7と光ファイバ5との接続部分を例に挙げたが、スプリッタ部7と各光ファイバ6a〜6dとの関係においても同様な構成とされている。すなわち、スプリッタ部7と各光ファイバ6a〜6dの接続部分では、光路形成材8及び光導波路9が設けられており、その端面は基板2と直行する垂直軸に対して傾斜して設けられている。
また、光スプリッタ1は双方向通信が可能であり、図3においては矢印L1〜L3により光の伝達方向を一方向のみ示しているが、その逆方向へも光は伝達される。
また、光スプリッタ1は双方向通信が可能であり、図3においては矢印L1〜L3により光の伝達方向を一方向のみ示しているが、その逆方向へも光は伝達される。
次に、図4を参照して、光スプリッタ1の製造方法について説明する。
まず、基板2上にスプリッタ部7を形成する。なお、基板2の端部には予めV溝21が形成されていることとする。
初めに基板2上に下部クラッド71層を形成する。次いで、その下部クラッド71層上にコア72の材料を塗布し、フォトリソグラフィにより1入力4出力の分岐構造を形成するコア72以外のコア層を除去する。その上面へ上部クラッド73層を形成する。
まず、基板2上にスプリッタ部7を形成する。なお、基板2の端部には予めV溝21が形成されていることとする。
初めに基板2上に下部クラッド71層を形成する。次いで、その下部クラッド71層上にコア72の材料を塗布し、フォトリソグラフィにより1入力4出力の分岐構造を形成するコア72以外のコア層を除去する。その上面へ上部クラッド73層を形成する。
スプリッタ部7が形成されると、基板2の端部のV溝21にスプリッタ部7と接続する光ファイバ5を載置し、図4(a)に示すように各々の端面を接続する。この互いに接続する端面を接続端面という。このとき、各接続端面は基板2の垂直軸に対し平行となるように形成されている。そして、接続した状態で光ファイバ5の側面を接着剤等により基板2に固定する。なお、接続した光ファイバ5及びスプリッタ部7間は密接状態となるが、厳密には図4(a)に示すように各部の接続端面間にはわずかに空気が介在することとなる。
次いで、接続した光ファイバ5及びスプリッタ部7の接続端面をダイサーによりダイシング(溝入れ加工)し、図4(a)に示す点線で囲まれる部分を切削する。このとき、光ファイバ5及びスプリッタ部7の切削面が基板2と直交する垂直軸に対して傾斜するようダイシング条件が調整される。傾斜角度は、予め実験的に求めた最良のものを選択すればよい。上述したように、基板の垂直軸に対して8度傾斜させることが一般的に知られている。
接続端面を切削した後の状態を図4(b)に示す。
図4(b)に示すように、切削により光ファイバ5とスプリッタ部7間には間隙fが生じている。なお、図4(a)、4(b)では光ファイバ5及びスプリッタ部7のみならず、基板2の一部が切削されているが、これは基板2の厚みに対して光ファイバ5及びスプリッタ部7の厚みは非常に小さく、実際のダイシング精度からいって切削を光ファイバ5等のみにとどめることはできず、基板2まで切削するであろうという事情を考慮したものである。コア52、72部分の接続端面を切削できれば本発明の作用効果は達成できるので、精密なダイシングを行うことができる環境下であれば、そのような切削を行えばよい。
図4(b)に示すように、切削により光ファイバ5とスプリッタ部7間には間隙fが生じている。なお、図4(a)、4(b)では光ファイバ5及びスプリッタ部7のみならず、基板2の一部が切削されているが、これは基板2の厚みに対して光ファイバ5及びスプリッタ部7の厚みは非常に小さく、実際のダイシング精度からいって切削を光ファイバ5等のみにとどめることはできず、基板2まで切削するであろうという事情を考慮したものである。コア52、72部分の接続端面を切削できれば本発明の作用効果は達成できるので、精密なダイシングを行うことができる環境下であれば、そのような切削を行えばよい。
次いで、図4(c)に示すように、光ファイバ5とスプリッタ部7間に設けられた間隙fに光路形成材8が充填される。ここでは、光路形成材8としてある特定の波長光に対する光硬化性を有する樹脂を適用したこととする。間隙fの幅(光ファイバ5とスプリッタ部7間の距離)はダイシングブレード幅であるので、光路形成材8は容易に充填することができる。
充填した光路形成材8を乾燥させた後、光ファイバ5及びスプリッタ部7の両方に特定波長光(例えば赤外光)を入射する。光路形成材8は特定波長光(例えば赤外光)が照射された部分が硬化するので、光ファイバ5のコア52に接する部分と、スプリッタ部7のコア72に接する部分から徐々に硬化し、当該硬化部分は、図4(d)に示すようにコア52とコア72間を光学的に連結する光導波路9を形成することとなる。すなわち、光路形成材8は硬化するとその硬化部分の屈折率が上昇するので、硬化部分と未硬化部分との屈折率差により、伝搬光が硬化部分内に閉じこめられるようになり、光路が形成されるものである。光導波路9は、その屈折率がコア52、72と略同等となるように光路形成材8の材料が選択されている。
光ファイバ6a〜6dとスプリッタ部7との光路結合部分においても、上記と同様の形成方法により光路結合を行う。そして、各光ファイバ5、6a〜6d上にカバー3、4を設置し、その位置を固定すると、光スプリッタ1が完成する。
以上のように、本実施形態によれば、光ファイバ5、6a〜6dとスプリッタ部7の各光伝達手段間の光路結合部分において、各々のコアに光学的に連結する光導波路9を形成するので、光伝搬の際に光路結合部分において光の反射が発生するのを抑制し、反射減衰量(RL)を低減させることができる。
さらに、各光伝達手段の接続端面を基板2の垂直軸に対して傾斜させるので、光伝達手段と光導波路9との境界で反射が生じた場合でもその反射光が入射側の光伝達手段へ進入しないよう、抑制することができる。
また、光導波路9は、光路結合する両端の光伝達手段側から光路形成材8に光を照射することにより自己形成されるので、各光伝達手段のコアを直接連結する最適な光路を形成することができる。スプリッタ部7と光ファイバ5、6a〜6dの光路を結合する際には、V溝21によってパッシブアライメントにより光路結合を行うことが可能であるが、V溝21自体の精度が不十分だったり、アライメント時の誤差により光軸ズレが生じる場合が考えられる。また、本実施形態の光スプリッタ1は、同一基板上2に光ファイバ5、6a〜6dを搭載する集積型であるが、この集積型において各光伝達手段の接続端面に傾斜を設けるためには、光ファイバ5、6a〜6dを基板2上に配置した後に切削することとなるが、この切削の際に光ファイバ5、6a〜6dの光軸がずれることが考えられる。しかしながら、前述のように光導波路9は各光伝達手段のコアを直接連結するよう自己形成されるので、アライメント時に光軸ズレが生じている場合でも、光導波路9によりその光軸ズレを解消することができる。
なお、本実施形態は、本発明を適用した好適な一例であり、これに限定されない。
例えば、上記説明では、集積型の光スプリッタ1に本発明を適用した例を説明したが、2つの光伝達手段間で光路結合部分があるのであれば集積型に限らず、その他の形式の光スプリッタ、或いはコネクタ等の他の光部品においても適用することが可能である。
例えば、上記説明では、集積型の光スプリッタ1に本発明を適用した例を説明したが、2つの光伝達手段間で光路結合部分があるのであれば集積型に限らず、その他の形式の光スプリッタ、或いはコネクタ等の他の光部品においても適用することが可能である。
また、本実施形態では、光路結合部分において光導波路9を形成した例を説明したが、光路結合部分に各光伝達手段のコアと略同等の屈折率を有する光屈折媒質を充填するのみとしてもよい。この場合でも、コアと光屈折媒質との境界における光の反射率を抑制することが可能である。
また、接続する光伝達手段の接続端面を切削していたが、密接状態であっても各光伝達手段間には僅かに間隙が存在するので、ここに光路形成材8を充填し、光導波路9を自己形成することとしてもよい。
1 光スプリッタ
2 基板
5、6a、6b、6c、6d 光ファイバ
51 下部クラッド
52 コア
53 上部クラッド
7 スプリッタ部
71 下部クラッド
72 コア
73 上部クラッド
8 光路形成材
9 導波路
2 基板
5、6a、6b、6c、6d 光ファイバ
51 下部クラッド
52 コア
53 上部クラッド
7 スプリッタ部
71 下部クラッド
72 コア
73 上部クラッド
8 光路形成材
9 導波路
Claims (8)
- クラッド及び光路としてのコアからなる第1の光伝達手段と、
クラッド及び光路としてのコアからなる第2の光伝達手段であって、前記第1の光伝達手段と同一基板上に実装され、その端面が前記第1の光伝達手段の端面と接続されて光路結合する第2光伝達手段と、
前記第1及び第2の光伝達手段間の光路結合部において、各光伝達手段のコアを光学的に連結する光導波路と、
を備えていることを特徴とする光部品。 - 前記第1及び第2の光伝達手段間の光路結合部において、各光伝達手段の接続端面を傾斜させることを特徴とする請求項1に記載の光部品。
- 前記光導波路は、前記光路結合部に光路形成材が充填され、この光路形成材から自己形成されたものであることを特徴とする請求項1又は2に記載の光部品。
- 前記光路形成材は、前記自己形成された光導波路部分の屈折率が前記光伝達手段のコアにおける屈折率と略同等となるようにその材料が選択されることを特徴とする請求項3に記載の光部品。
- 基板上にクラッド及び光路としてのコアからなる第1の光伝達手段及び第2の光伝達手段を実装し、その第1の光伝達手段の端面を第2の光伝達手段の端面と接続する接続工程と、
前記接続された第1及び第2の光伝達手段間に、当該第1及び第2の光伝達手段のコアを光学的に連結する光導波路を形成する導波路形成工程と、
を含むことを特徴とする光部品の製造方法。 - 前記第1及び第2の光伝達手段の接続後、当該接続された接続端面が基板と直交する垂直軸に対して傾斜するように当該接続端面を切削する切削工程を含み、
前記導波路形成工程では、前記切削により生じた間隙に、前記第1及び第2の光伝達手段のコアを光学的に連結する光導波路を形成することを特徴とする請求項5に記載の光部品の製造方法。 - 前記導波路形成工程では、前記切削により生じた間隙に光路結合材を充填し、この光路結合材を用いて光導波路を形成することを特徴とする請求項6に記載の光部品の製造方法。
- 前記光路結合材は、光が照射されるとその照射部分の屈折率が変化する材料が用いられ、
前記導波路形成工程では、前記第1及び第2の光伝達手段のコアに光を入射させ、この入射光により前記光路結合材の屈折率を変化させて光導波路を自己形成することを特徴とする請求項7に記載の光部品の製造方法。
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WO2020209365A1 (ja) * | 2019-04-11 | 2020-10-15 | アダマンド並木精密宝石株式会社 | 光コネクタと、光コネクタの製造方法 |
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