JP2007169643A - 狭い分子量分布を有する合成ゴム、その使用およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】新規な方法を用いて、非常に狭い分子量分布と、それに対応して低い多分散指数値とを特徴とする合成ゴム(B)を製造する。本製造方法は超音波を使った合成ゴムの処理を含み、得られた合成ゴム(B)は、使用した合成ゴム(A)より低い重量平均分子量(Mw)を有する。得られた合成ゴム(B)は、押出法または射出成形法による加工に対して優れた適性を有する。
【選択図】なし
Description
ウルマン工業化学百科事典(Ullmann’s Encyclopedia of Industrial Chemistry)、VCH バインハイム(Weinheim)、1993年、第A23巻、239頁以下 ポリマーサイエンスの進歩(Advances in Polymer Science)、第159巻、シュプリンガー−フェアラーク(Springer−Verlag)、ベルリン、ハイデルベルク、2002年、2〜166頁
NBR ブタジエン−アクリロニトリルのコポリマーまたはターポリマー形態のニトリルゴム、
HNBR 水素化ブタジエン−アクリロニトリルのコポリマーまたはターポリマー形態の部分的にまたは完全に水素化されたニトリルゴム、
XNBR カルボキシル化ニトリルゴム、
HXNBR 部分的にまたは完全に水素化されたカルボキシル化ニトリルゴム、
EVM エチレン−酢酸ビニルコポリマー、
EPDM エチレン−プロピレン−ジエンコポリマー、
ESBR スチレン−ブタジエンコポリマー、
CR ポリクロロプレン、
BR ポリブタジエン、
ACM アクリレートゴム、
FKM フッ素ゴム、
IIR 0.5〜10重量%のイソプレン含量を通常有するイソブチレン−イソプレンコポリマー、
BIIR 0.1〜10重量%の臭素含量を通常有する臭素化イソブチレン−イソプレンコポリマー、
CIIR 0.1〜10重量%の塩素含量を通常有する塩素化イソブチレン−イソプレンコポリマー、
ABR ブタジエン−C1〜4−アルキルアクリレートコポリマー、
IR ポリイソプレン、
X−SBR カルボキシル化スチレン−ブタジエンコポリマー、
EAM エチレン−アクリレートコポリマー、
COおよびECO エピクロロヒドリンゴム、
Q シリコーンゴム、
AU ポリエステルウレタンポリマー、
EU ポリエーテルウレタンポリマー、
ENR エポキシ化天然ゴムまたはこれらの混合物。
本出願の目的において、略語NBRでも知られる「ニトリルゴム」は、繰返し単位を含有し、少なくとも1種の共役ジエンと、少なくとも1種のα,β−不飽和ニトリルと、適切な場合には1種または複数種の他の共重合可能なモノマーとを含有するコポリマーまたはターポリマーである。
本出願の目的において、「水素化ニトリルゴム(HNBR)」は、少なくとも1種の共役ジエンの繰返し単位と、少なくとも1種のα,β−不飽和ニトリルの繰返し単位と、適切な場合には1種または複数種の共重合可能なモノマーの繰返し単位とを含有するコポリマーまたはターポリマーであり、ポリマー中に取り込まれたジエン単位のC=C二重結合は、完全にまたはある程度水素化されている。ポリマー中に取り込まれたジエン単位の水素化度は、通常50〜100%の範囲、好ましくは85〜100%の範囲、特に好ましくは95〜100%の範囲である。
(R1 mB)lRhXn
の触媒を使用することが可能であり、式中、
R1は、同一または異なり、C1〜C8−アルキル基、C4〜C8−シクロアルキル基、C6〜C15−アリール基またはC7〜C15−アラルキル基であり、
Bは、リン、ヒ素、硫黄、またはスルホキシド基S=Oであり、
Xは、水素またはアニオン、好ましくはハロゲン、特に好ましくは塩素または臭素であり、
lは、2、3または4であり、
mは、2または3であり、そして
nは、1、2または3、好ましくは1または3である。
本発明の方法は、モノマーとしてのエチレンおよび酢酸ビニルをベースにしたエチレン−酢酸ビニルコポリマーを使用することもできる。
EPDMゴムは、エチレンと、比較的大きな割合のプロピレンと、ジエン構造を有する数重量%の第3のモノマーとの三元共重合により製造されるポリマーである。ここでジエンモノマーは、次の任意の硫黄加硫に必要とされる二重結合を提供する。主として使用するジエンモノマーは、cis,cis−1,5−シクロオクタジエン(COD)、exo−ジシクロペンタジエン(DCP)、endo−ジシクロペンタジエン(EDCP)、1,4−ヘキサジエン(HX)、および5−エチリデン−2−ノルボルネン(ENB)である。
これは、常に、スチレンモノマーおよびブタジエンモノマーからなるコポリマーを含む。材料は、低温でレドックス開始剤により、あるいは比較的高温で過硫酸塩によって開始される水中での乳化重合によって製造される。ラテックスが得られそのまま使用されるか、あるいは後処理がされ固形ゴムが得られる。ESBRのモル質量は、約250000〜800000g/モルの範囲である。
クロロプレンゴム(CR)は、クロロプレン(クロロ−1,3−ブタジエン)をベースにしたポリマーを含み、これらは、乳化重合により工業的に製造される。CRの製造では、クロロプレンだけでなく、1種または複数種の他のモノマーも使用することができる。
これらは、ポリ(1,3−ブタジエン)、すなわち1,3−ブタジエンをベースにしたポリマーを含む。
アクリレートゴムは、エマルジョン中でフリーラジカル法により製造され、アクリル酸エチルと、他のアクリレート(例えば、アクリル酸ブチル、アクリル酸2−アルコキシエチル、またはポリマー中に取り込まれて加硫中に活性を示す少ない割合の基を有する他のアクリレート等)とからなるコポリマーを含む。
これらは、フッ素化エチレンモノマーと、フッ素化ビニルモノマーと、適切な場合には他のモノマー(これらは、加硫に活性な基を有する)とからなる、エマルジョン中でフリーラジカル法により製造されるコポリマーを含む。
ブチルゴム(IIR)は、イソブテンおよび少ない割合のイソプレンからなるコポリマーである。これらは、カチオン重合法によって製造される。ハロブチルゴム(BIIRおよびCIIR)は、これらから、塩素元素または臭素元素との反応によって製造される。
異なるアクリロニトリル含量のNBR〔実施例1:ペルブナン(登録商標)1846、実施例2:ペルブナン(登録商標)3431、実施例3:クライナック(登録商標)4975F、全てランクセス・ドイチュラント社から市販される製品〕のモノクロロベンゼン中の1重量%溶液160gに、30℃に自動温度調節したステンレス鋼反応器内で、3時間にわたって超音波を照射した。
ESBR〔クライレン(登録商標)1500、スチレン含量23.5重量%、55MUのムーニー粘度(ML1+4、100℃)、ランクセス・ドイチュラント社から市販の製品〕のトルエン中の1重量%溶液160gを、実施例1と同様に処理した。結果を表4に示す。
ESBR〔油展ESBRゴム、クライノール(登録商標)1721のポリマー画分、スチレン含量40重量%、約110MUのムーニー粘度(ML1+4、100℃)、ランクセス・ドイチュラント社から市販の製品〕のトルエン中の1重量%溶液160gを、実施例1と同様に処理した。結果を表5に示す。
CRゴム〔バイプレン(登録商標)230、102MUのムーニー粘度(ML1+4、100℃)、ランクセス・ドイチュラント社から市販の製品〕のトルエン中の1重量%溶液160gを、実施例1と同様に処理した。結果を表6に示す。
EVMゴム〔レバプレン(登録商標)700HV、27MUのムーニー粘度(ML1+4、100℃)、ランクセス・ドイチュラント社から市販の製品〕のクロロベンゼン中の1重量%溶液160gを、実施例1と同様に処理した。結果を表7に示す。
実施例8:
HNBR〔テルバン(登録商標)3446(ランクセス・ドイチュラント社)、60MUのムーニー粘度(ML1+4、100℃)(ASTM標準D1646により決定)、アクリロニトリル含量34重量%、残留二重結合含量(IR分光法により決定)4%〕のモノクロロベンゼン中の1重量%溶液160gに、30℃で自動温度調節したステンレス鋼反応器内で、3時間にわたって超音波を照射した。
実施例8と同一の出発材料および条件を用いて、低温保持装置により温度を0℃に低下させた。結果を表9に示す。
1重量%(実施例10)、3重量%(実施例11)および5重量%(実施例12)のテルバン(登録商標)3446溶液に対して、実施例8と同一の装置設定を40℃の音波照射温度で用いた。結果を、以下の表10〜12に示す。
実施例8と同一の装置設定で、30℃の音波照射温度を用いて、1重量%のテルバン(登録商標)3446溶液を供給容器からポンプで送り出して連続流通反応器を通し、供給容器に戻した。ここで供給容器の容積は、反応空間の容積の4倍であった。ポンプ循環速度は、反応空間において0.25時間の単一パス平均滞留時間を与えるように選択した。一定の時間間隔で供給容器から試料をとり、GPCにより分解反応の進行を確認した。結果を表13に示す。
実施例13と同一の装置設定および実施例13と同一の構成で、5重量%のポリマー溶液を連続流通反応器に循環させた。超音波源の振幅設定を最大出力に設定した。ポンプ循環速度は、反応空間において1分間の単一パス平均滞留時間を与えるように選択した。一定の時間間隔で供給容器から試料をとり、GPCにより分解反応の進行を確認した。結果を表14に示す。
実施例8と同一の装置設定で、30℃の音波照射温度を用いて、1重量%のテルバン(登録商標)3446溶液を供給容器からポンプで送り出して連続流通反応器を通し、次に、別個に捕集した。このタイプの構造は、単一槽連続プラントに相当する。ポンプ速度は、反応空間において15分間の単一パス平均滞留時間を与えるように選択した。結果を表15に示す。
実施例8と同一の装置設定で、30℃の音波照射温度を用いて、1重量%のテルバン(登録商標)3446溶液を供給容器からポンプで送り出して連続流通反応器を通し、次に、別個に捕集した。得られた溶液を、再度反応器に通過させ、均質化した。この手順を全部で6回実行した。このタイプの手順は6槽連続プラントのシミュレーションに相当し、個々の体積要素の同じ滞留時間プロファイルを提供する。ポンプ速度は、反応空間において15分間の単一パス平均滞留時間を与えるように選択した。それぞれのパスの後、試料をとり、GPCによって特性決定した。結果を表16に示す。
Claims (17)
- 合成ゴム(A)に超音波を照射し、得られた合成ゴム(B)が、前記合成ゴム(A)より低い重量平均分子量(Mw)を有することを特徴とする、合成ゴム(B)の製造方法。
- 使用する前記合成ゴム(A)が、BR(ポリブタジエン)、ABR(ブタジエン−C1〜4−アルキルアクリレートコポリマー)、IR(ポリイソプレン)、SBR(ランダムスチレン−ブタジエンコポリマー)、X−SBR(カルボキシル化スチレン−ブタジエンコポリマー)、FKM(フッ素ゴム)、ACM(アクリレートゴム)、NBR(ニトリルゴム)、HNBR(部分的または完全に水素化されたニトリルゴム)、XNBR(カルボキシル化ニトリルゴム)、HXNBR(部分的または完全に水素化されたカルボキシル化ニトリルゴム)、CR(ポリクロロプレン)、IIR(イソブチレン−イソプレンコポリマー)、BIIR(臭素化イソブチレン−イソプレンコポリマー)、CIIR(塩素化イソブチレン−イソプレンコポリマー)、EPDM(エチレン−プロピレン−ジエンコポリマー)、EAM(エチレン−アクリレートコポリマー)、EVM(エチレン−酢酸ビニルコポリマー)、COおよびECO(エピクロロヒドリンゴム)、Q(シリコーンゴム)、AU(ポリエステルウレタンポリマー)、EU(ポリエーテルウレタンポリマー)、ENR(エポキシ化天然ゴム)、またはこれらの混合物を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記合成ゴム(A)が、200000〜1000000の範囲、好ましくは200000〜400000の範囲、特に好ましくは200000〜300000の範囲の重量平均分子量Mwと、1.9〜6の範囲、好ましくは2.2〜5の範囲、特に2.5〜4の範囲の多分散度D=Mw/Mnとを有する、請求項1または2に記載の方法。
- 少なくとも18kHz、好ましくは18〜30kHzの範囲、特に19〜25kHzの範囲の周波数の超音波を用いる、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記超音波によるエネルギー入力を、溶媒中の前記合成ゴム(A)の溶液内に超音波発振器を浸漬することによって行う、請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
- 前記合成ゴム(A)のために使用する溶媒が、ジクロロメタン、ベンゼン、トルエン、シクロヘキサンまたはモノクロロベンゼンを含む、請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。
- バッチ毎に、または連続的に実施する、請求項1〜6のいずれか一項に記載の方法。
- −30〜100℃の範囲、好ましくは−20〜50℃の範囲の温度で実施する、請求項1〜7のいずれか一項に記載の方法。
- ニトリルゴム(NBR)、水素化ニトリルゴム(HNBR)、エチレン−酢酸ビニルコポリマー(EVM)、EPDMゴム、エマルジョンスチレン−ブタジエンゴム(ESBR)、クロロプレンゴム(CR)、ポリブタジエンゴム(BR)、アクリレートゴム(ACM)、フッ素ゴム(FKM)、IIRおよびハロIIR、好ましくはBIIRおよびCIIRからなる群から選択され、2以下、好ましくは2未満、特に好ましくは1.9未満、極めて特に好ましくは1.7未満の多分散度D=Mw/Mnを有する合成ゴム。
- 前記多分散度D=Mw/Mnが、1を超えて2未満、好ましくは1を超えて1.9未満、特に好ましくは1を超えて1.7未満である、請求項9に記載の合成ゴム。
- 30000〜250000の範囲、好ましくは30000〜150000の範囲、特に好ましくは30000〜100000の範囲の重量平均分子量Mwを有する、請求項9または10に記載の合成ゴム。
- ムーニー粘度(ML1+4、100℃)が1〜50の範囲、好ましくは10〜40の範囲である、請求項9〜11のいずれか一項に記載の合成ゴム。
- 成形品を、好ましくは押出法または射出成形法により製造するための、請求項9〜12のいずれか一項に記載の合成ゴムの使用。
- ガスケット、ホース、減衰要素、固定子またはケーブル被覆材の製造のための、請求項13に記載の使用。
- 請求項9〜12のいずれか一項に記載の合成ゴムを含む成形品。
- タイヤの製造のための請求項9〜12のいずれか一項に記載の合成ゴムの使用。
- 請求項9〜12のいずれか一項に記載の合成ゴムを含むタイヤ。
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